JPS58182631A - 画像形成用組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプリント配線、平版印刷、凸版印刷あるいはオ
フセット印刷等の目的に有用な光硬化性の画像形成用組
成物に関するものである。
フセット印刷等の目的に有用な光硬化性の画像形成用組
成物に関するものである。
従来、かかる用途に#i幾多の組成物が知られて↓、・
す、その代表的な組#tFi高分子化合物と光菖合件単
蓋体との組合せである。
す、その代表的な組#tFi高分子化合物と光菖合件単
蓋体との組合せである。
しかしいずれの場合においても共通するaWiは尤′@
合性単量体の重合が空気、特に酸素の存在によって阻害
され重合速度が低下したり硬化膜の硬度が充分でない等
の問題がおこり易いことである。
合性単量体の重合が空気、特に酸素の存在によって阻害
され重合速度が低下したり硬化膜の硬度が充分でない等
の問題がおこり易いことである。
かかる硬化阻害は例えばフォトレジスト版の製造時にお
いて基材のエツチング時にレジスト像が腐i用薬剤に侵
され精密な画像の形成を困難にしたり、又フォトレリー
フ版の製造時においてはレジスト像部が消耗され易く鮮
明な印刷を行なうこと2不可能にする等の障害をもたら
すことになるので、実用化に当っては是非解決しなけれ
ばならないものである。
いて基材のエツチング時にレジスト像が腐i用薬剤に侵
され精密な画像の形成を困難にしたり、又フォトレリー
フ版の製造時においてはレジスト像部が消耗され易く鮮
明な印刷を行なうこと2不可能にする等の障害をもたら
すことになるので、実用化に当っては是非解決しなけれ
ばならないものである。
しかるに本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、アリルエ
ーテル基を10〜50モル%含み酸価50〜200の不
飽和ポリエステルIN脂、光重合可能な不飽和単量体、
及び光重合開始剤とからなる両像形成用組成物は、酸素
の存在ドでも容易に光硬化が進行し充分な硬度の画像が
得られるという新規な事実を見出し本発明を完成するに
到った。
ーテル基を10〜50モル%含み酸価50〜200の不
飽和ポリエステルIN脂、光重合可能な不飽和単量体、
及び光重合開始剤とからなる両像形成用組成物は、酸素
の存在ドでも容易に光硬化が進行し充分な硬度の画像が
得られるという新規な事実を見出し本発明を完成するに
到った。
本発明において#i前記の如くアリルエーテル基を含有
する不飽和ポリエステル樹脂を用いる点に特徴点があり
、単に多塩基酸と多価アルコールとの縮重合で製造した
不飽和ポリエステル樹脂では勿論、不飽和ポリエステル
樹FIiI以外の高分子中にアリルエーテル基を導入し
ても、本発明はどの顕著な効果は得難い。
する不飽和ポリエステル樹脂を用いる点に特徴点があり
、単に多塩基酸と多価アルコールとの縮重合で製造した
不飽和ポリエステル樹脂では勿論、不飽和ポリエステル
樹FIiI以外の高分子中にアリルエーテル基を導入し
ても、本発明はどの顕著な効果は得難い。
本発明で用いるアリルエーテル基含有不飽和ポリエステ
ルは多価アルコールのアリルエーテル、多塩基酸、多価
アルコールを反応させて製造される。アリルエーテル基
の含有量tllo〜50モル96に限定しなければなら
ない。アリルエーテル基の含有量が10モル%以下では
本発明の効果は得難く、一方50モル%以上の多量にな
ると硬化膜?(シまりかなくなる等問題が生じる。更に
酸価(KOHVf、以下同様)が50〜200の範囲に
なる様に多塩基酸の使用量を調整しなければならない。
ルは多価アルコールのアリルエーテル、多塩基酸、多価
アルコールを反応させて製造される。アリルエーテル基
の含有量tllo〜50モル96に限定しなければなら
ない。アリルエーテル基の含有量が10モル%以下では
本発明の効果は得難く、一方50モル%以上の多量にな
ると硬化膜?(シまりかなくなる等問題が生じる。更に
酸価(KOHVf、以下同様)が50〜200の範囲に
なる様に多塩基酸の使用量を調整しなければならない。
酸価が50以下でけ光重合可能な不飽和単量体との相溶
性が低tし、かつ硬化性も悪くなり、200以Eでは硬
化膜が脆くなる等の欠陥が生じて実用件に問題がある。
性が低tし、かつ硬化性も悪くなり、200以Eでは硬
化膜が脆くなる等の欠陥が生じて実用件に問題がある。
本発明の不飽和ポリエステル樹脂の成分である多価アル
コールのアリルエーテルとしてはグリセリン、トリメチ
ロールプロパン、トリメチロールエタンなどのモノま九
はジアリルエーテルあ、6いiJベシタエリスリトール
のモノ、ジまたはトリアリルエーテル、アリルグリシジ
ルエーテル、アリロキシジシクロペンタジェン、フェノ
ールーホlレムアルデヒド初期縮合物の部分アリルエー
テル化物の他尿素あるいけメラミンとホルムアルデヒド
との初期縮合物の部分アリルエーテル化物なども包含す
る。
コールのアリルエーテルとしてはグリセリン、トリメチ
ロールプロパン、トリメチロールエタンなどのモノま九
はジアリルエーテルあ、6いiJベシタエリスリトール
のモノ、ジまたはトリアリルエーテル、アリルグリシジ
ルエーテル、アリロキシジシクロペンタジェン、フェノ
ールーホlレムアルデヒド初期縮合物の部分アリルエー
テル化物の他尿素あるいけメラミンとホルムアルデヒド
との初期縮合物の部分アリルエーテル化物なども包含す
る。
つき′に多塩基酸としては無水マレイン酸、77−ル酸
、イタコシ酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、セパチ
シ酸、トリメリット峻などがあげられる。また多価アル
コールとしてはエチレンクIJコール、プロピレングリ
コール、グリセリン、ジグリコール、1,5−ゾチレン
グリコール、ジエチレンクリコー□ル、トリエチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレシグリ
コール、ポリゾロビレジグリコール、トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン、ベシタエリスリトール
などかある。なお不飽和ポリエステルiII/I脂を#
l&lする際の変性剤として上記以外に桐油、亜麻仁油
、脱水ヒマシ油、大豆油などの油あるいけこれらの脂肪
酸が適宜使用される。
、イタコシ酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、セパチ
シ酸、トリメリット峻などがあげられる。また多価アル
コールとしてはエチレンクIJコール、プロピレングリ
コール、グリセリン、ジグリコール、1,5−ゾチレン
グリコール、ジエチレンクリコー□ル、トリエチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレシグリ
コール、ポリゾロビレジグリコール、トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン、ベシタエリスリトール
などかある。なお不飽和ポリエステルiII/I脂を#
l&lする際の変性剤として上記以外に桐油、亜麻仁油
、脱水ヒマシ油、大豆油などの油あるいけこれらの脂肪
酸が適宜使用される。
不飽和ポリエステル樹脂はこれらアリルエーテル類、多
塩基酸、多価アルコール及び必要Kf3じて変性剤など
と共に常法に従って180〜210℃で加熱結合せしめ
ることにより粘稠な液又1[体と17で得られるもので
ある。なおかかる不飽和ポリエステル樹脂の分子量は特
に制限されるものでけないが通常平均分子量が500〜
20000の範囲のものが使用される。
塩基酸、多価アルコール及び必要Kf3じて変性剤など
と共に常法に従って180〜210℃で加熱結合せしめ
ることにより粘稠な液又1[体と17で得られるもので
ある。なおかかる不飽和ポリエステル樹脂の分子量は特
に制限されるものでけないが通常平均分子量が500〜
20000の範囲のものが使用される。
次に、本発明で使用する光重合可能な不飽和単量体は特
[*J限はなくラジカル重合が可能な任意の化合物が用
いられる。好適な単量体はエチレン性不飽和単量体(ビ
ニル系単量体)でしかも水酸基ソはカルボキシル基◆の
官能基を含有する化合物である。官能基としては上記以
外にエポキシ基等も挙げられる。叉官能基を含有しない
エチレン性を飽和単量体も勿論使用可能であり、これら
は光1、合軸そのものの性質を利用するよりも、画像形
VfI膜に弾性をもたせ走り、硬度を調整したりするた
めKBb剤的に官能基含有エチレン性不飽和単量体と併
用される。
[*J限はなくラジカル重合が可能な任意の化合物が用
いられる。好適な単量体はエチレン性不飽和単量体(ビ
ニル系単量体)でしかも水酸基ソはカルボキシル基◆の
官能基を含有する化合物である。官能基としては上記以
外にエポキシ基等も挙げられる。叉官能基を含有しない
エチレン性を飽和単量体も勿論使用可能であり、これら
は光1、合軸そのものの性質を利用するよりも、画像形
VfI膜に弾性をもたせ走り、硬度を調整したりするた
めKBb剤的に官能基含有エチレン性不飽和単量体と併
用される。
LAF′共体的に化合物を説明するが、本発明ではこh
I−)に限定されるものではない。
I−)に限定されるものではない。
水酸基を含有する単量体として
−b ]で示される(メタ)アクリロキシ基含有リシ酸
エステル(ここでR:水素又はメチル基、A;アルキレ
ン基又はヒドロキシル置換アルキレン基、a;1〜5の
整数、b;l〜2の整&)が挙けられる。該エステルは
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと塩化ホスホ
\リル又は五酸化リン又はオル) IJリン酸との反応
で得られるものである。該化合物にはリン酸モノ(2−
アクリロキシエチル)エステル □ リン酸ジ(2−アクリロキシエチル)エステルリン酸モ
ノ(2−メタクリロキシエチル)エステル。
エステル(ここでR:水素又はメチル基、A;アルキレ
ン基又はヒドロキシル置換アルキレン基、a;1〜5の
整数、b;l〜2の整&)が挙けられる。該エステルは
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと塩化ホスホ
\リル又は五酸化リン又はオル) IJリン酸との反応
で得られるものである。該化合物にはリン酸モノ(2−
アクリロキシエチル)エステル □ リン酸ジ(2−アクリロキシエチル)エステルリン酸モ
ノ(2−メタクリロキシエチル)エステル。
られる。
又、カルボキシル基を含有する単量体としてけH)]で
示される(メタ)アクリロイル基含有多塩基酸エステル
(ここでR,m、A、は前記と同様、bijl〜ろの整
数、b + C= 2〜4の整数、)′ハアルキレン基
、フェニレン基、カルボキシル基置換フェニレン基等を
示す。)が挙げられる。
示される(メタ)アクリロイル基含有多塩基酸エステル
(ここでR,m、A、は前記と同様、bijl〜ろの整
数、b + C= 2〜4の整数、)′ハアルキレン基
、フェニレン基、カルボキシル基置換フェニレン基等を
示す。)が挙げられる。
該エステルはヒドロキシ(メタ)アクリレートと多塩基
酸との部分エステル化反応で得られるものである。該化
合物KFi フタル酸モノ(2−ア
クリロキシエチル)エステルコハク酸モノ(2−アクリ
ロキシエチル)エステルマレイン酸モノ(2−アクリロ
キシエチル)エステル0 0 ヘキサヒドロフタル酸モノ(2−アクリロキシエチルエ
ステル) テトラヒト−7タル酸モノ(2−アg・キシエチル)2
箪エステル トリメリド酸モノ(2−アクリロキシエチル)エステル
メチルテトラヒドロトリメリト酸モノ(2−アクリロキ
シエチル)エステル ピロメリト酸モノ(2−アクリロキシエチル)エステル
゛及び上記のアクリロイル基をメタアクリロイル
基に置換した各種エステルが挙げられる。
酸との部分エステル化反応で得られるものである。該化
合物KFi フタル酸モノ(2−ア
クリロキシエチル)エステルコハク酸モノ(2−アクリ
ロキシエチル)エステルマレイン酸モノ(2−アクリロ
キシエチル)エステル0 0 ヘキサヒドロフタル酸モノ(2−アクリロキシエチルエ
ステル) テトラヒト−7タル酸モノ(2−アg・キシエチル)2
箪エステル トリメリド酸モノ(2−アクリロキシエチル)エステル
メチルテトラヒドロトリメリト酸モノ(2−アクリロキ
シエチル)エステル ピロメリト酸モノ(2−アクリロキシエチル)エステル
゛及び上記のアクリロイル基をメタアクリロイル
基に置換した各種エステルが挙げられる。
水酸基を含有する単量体で上記以外のものとしては、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、1.4−ブチレンクリコールモノア
クリレート、ペンクエリスリトールのモノ又はジ又はト
リアクリレート、エチレングリコールモノアクリレート
、ジエチレングリコールモノアクリレート、プロピレン
グリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモ
ノアクリレート、グリセリンのモノ又はジアクリレート
、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタ
クリルアミドが挙げられる。 。
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、1.4−ブチレンクリコールモノア
クリレート、ペンクエリスリトールのモノ又はジ又はト
リアクリレート、エチレングリコールモノアクリレート
、ジエチレングリコールモノアクリレート、プロピレン
グリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモ
ノアクリレート、グリセリンのモノ又はジアクリレート
、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタ
クリルアミドが挙げられる。 。
牛の他、使用可能な単量体としては、リン酸トリ(2−
アクリロキレエチル)エステル、リン酸トリ(2−メタ
クリロキシエチル)エステル、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート、アリルクリシジルエーテ
ル、1−ビニル−6,4−エポキシシクロヘキサン、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、1.4−ゾチレングリコールジアクリレー
ト、1.6−ヘキセングリコールジアクリレート、N−
ビニルピロリドン、スチレン、メチルメタクリレート、
テトラヒトo7ランアクリレート、ブトキシアクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、フェノキシエチルア
クリレート、インボンネルアクリレート等が例示される
。
アクリロキレエチル)エステル、リン酸トリ(2−メタ
クリロキシエチル)エステル、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート、アリルクリシジルエーテ
ル、1−ビニル−6,4−エポキシシクロヘキサン、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、1.4−ゾチレングリコールジアクリレー
ト、1.6−ヘキセングリコールジアクリレート、N−
ビニルピロリドン、スチレン、メチルメタクリレート、
テトラヒトo7ランアクリレート、ブトキシアクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、フェノキシエチルア
クリレート、インボンネルアクリレート等が例示される
。
かかる単量体の中でも、前記した(メタ)アクリロイル
基含有リン酸エステルと(メタ)アクリロイル基含有多
塩基酸部分エステルとを併用する場合、特に有利である
。即ち、本発明の組成物をプリント配線用のレジストイ
ンキとして使用する時かかる単量体の組合せでは銅板等
の基材にインクが良好な接着性量示す上、画像形成後の
アルカリ洗浄が極めて短時間に効果的に行われるからで
ある。
基含有リン酸エステルと(メタ)アクリロイル基含有多
塩基酸部分エステルとを併用する場合、特に有利である
。即ち、本発明の組成物をプリント配線用のレジストイ
ンキとして使用する時かかる単量体の組合せでは銅板等
の基材にインクが良好な接着性量示す上、画像形成後の
アルカリ洗浄が極めて短時間に効果的に行われるからで
ある。
光重合開始剤としてはベンゾインメチルエーテル ベン
ゾインエチルエーテル、ペンソインイソフaピルエーテ
ル等のベンゾインアルキルエーテル、ジグチルスルフィ
ド、ベンジルスルフィド、デシルフェニルスルフィドな
どの有機イオク化合物、ジアゾニクム塩、テトラゾニク
ム塩或いはこれらと塩化亜鉛との複合塩又はその縮合物
、アゾビスイソブチロニトリル、メチレンブル−などの
染料又はこれとp−)ルエンスルホネートイオンなどと
の組合せ、有機過酸化物、過酸化水素、ビリリクム塩又
はチアピリリクム塩、アセトフェノン、ベンゾフェノン
、ベンジル、フェナントレンチオキすントン、ジクロル
プロピルフェニルグトン、アントラキノン、2−クロロ
アントラキノン、2−ブロムアントラキノン、アントツ
キノンβ−スルホン酸ソーダ、1.5−ジニトロアント
ラキノン、1.2−ベンゾントラキノン、フェナントレ
ンキノン、5−ベンゾイルアセナフテン、5−ニトロア
セナフテン、1.4−す7トキノン、1,8−フタロイ
ルナフタリン、2−二トロフルオレン、p−ニトロアニ
リン、ピクラミドなどがあげられ、これらは1種又#−
i2種以上を組合せて用いられる。
ゾインエチルエーテル、ペンソインイソフaピルエーテ
ル等のベンゾインアルキルエーテル、ジグチルスルフィ
ド、ベンジルスルフィド、デシルフェニルスルフィドな
どの有機イオク化合物、ジアゾニクム塩、テトラゾニク
ム塩或いはこれらと塩化亜鉛との複合塩又はその縮合物
、アゾビスイソブチロニトリル、メチレンブル−などの
染料又はこれとp−)ルエンスルホネートイオンなどと
の組合せ、有機過酸化物、過酸化水素、ビリリクム塩又
はチアピリリクム塩、アセトフェノン、ベンゾフェノン
、ベンジル、フェナントレンチオキすントン、ジクロル
プロピルフェニルグトン、アントラキノン、2−クロロ
アントラキノン、2−ブロムアントラキノン、アントツ
キノンβ−スルホン酸ソーダ、1.5−ジニトロアント
ラキノン、1.2−ベンゾントラキノン、フェナントレ
ンキノン、5−ベンゾイルアセナフテン、5−ニトロア
セナフテン、1.4−す7トキノン、1,8−フタロイ
ルナフタリン、2−二トロフルオレン、p−ニトロアニ
リン、ピクラミドなどがあげられ、これらは1種又#−
i2種以上を組合せて用いられる。
又りに列挙したものに限られず、光重合を促進するもの
はいずれも使用可能である。これらの中ではベンゾイン
アルキルエーテルが価格の点、感度の点で特に良い結果
を与える。
はいずれも使用可能である。これらの中ではベンゾイン
アルキルエーテルが価格の点、感度の点で特に良い結果
を与える。
本発明の組成物において光重合可能な不飽和単量体は不
飽和ポリエステル槓脂に対して20〜500重量%の割
合で用いられる。単量体を併用する時その種類、目的に
よって混合比はかなり変動するが特にプリント配線用レ
ジストインキとして用いる時、リン酸エステルと多塩基
酸エステルの混合比率Fi5/ 〜50/1oo
の範囲が適当である。
飽和ポリエステル槓脂に対して20〜500重量%の割
合で用いられる。単量体を併用する時その種類、目的に
よって混合比はかなり変動するが特にプリント配線用レ
ジストインキとして用いる時、リン酸エステルと多塩基
酸エステルの混合比率Fi5/ 〜50/1oo
の範囲が適当である。
00
又、光重合開始剤は該樹脂に対して1〜10重量%の範
囲で混合使用される。
囲で混合使用される。
該組成物は光重合可能な不飽和単量体が溶剤を兼ねてい
るので液状でありそのまま基材に適用出来るが、必要で
あれば揮発性の飽和脂肪酸エステル、ケトン、芳香族炭
化水素等の有機溶媒、例えげ酢酸エチル、メチルエチル
ケトン、トIレニンあるいけキシレン等で希釈して用い
ることも出来る。
るので液状でありそのまま基材に適用出来るが、必要で
あれば揮発性の飽和脂肪酸エステル、ケトン、芳香族炭
化水素等の有機溶媒、例えげ酢酸エチル、メチルエチル
ケトン、トIレニンあるいけキシレン等で希釈して用い
ることも出来る。
t、必要Vcj5じて染料、顔料、熱電合゛禁止剤等の
助剤も併用出来る。
助剤も併用出来る。
該組成物を用いて画像を形成するに際しては、仲鉛板、
アルミニウム板、銅板、鋼板等の基材に組成物を塗布し
陰画を通して紫外線を照射すると感”71′部のみが硬
化するので、未感光部をアIレカリで洗浄除去して像を
形成させるか、スクリーン印刷法にて基板上に画像を形
成させ六〇ち、該画像I(紫外線を照射して硬化させれ
ば良い。前者はレジスト版やレリーフ版の製造に適し、
後者はプリ> )配線等の目的に適する。
アルミニウム板、銅板、鋼板等の基材に組成物を塗布し
陰画を通して紫外線を照射すると感”71′部のみが硬
化するので、未感光部をアIレカリで洗浄除去して像を
形成させるか、スクリーン印刷法にて基板上に画像を形
成させ六〇ち、該画像I(紫外線を照射して硬化させれ
ば良い。前者はレジスト版やレリーフ版の製造に適し、
後者はプリ> )配線等の目的に適する。
L/レジスト版プリント配線等では上記の如くして得ら
れた基材をエツチングして露出した金員部分を腐蝕し、
更に残存する感光部分をアルカリ洗浄、除去すれば良く
、又レリーフ版やオフセット版ではそのまま用いられる
。
れた基材をエツチングして露出した金員部分を腐蝕し、
更に残存する感光部分をアルカリ洗浄、除去すれば良く
、又レリーフ版やオフセット版ではそのまま用いられる
。
なお、基材として前記の如き金属板に限らずたとえば木
綿、レーヨン、羊毛、ポリエステIし系、ポリアミド系
、ポリビニルアルコール系、ポリアクリロニトリル系等
の合成繊維からなる織布、不織布の表面にスクリーンを
通して両像を形成せしめ、ついで紫外線を照射して硬化
させ、適宜染色等を行って生地に模様を付すことも可能
である。
綿、レーヨン、羊毛、ポリエステIし系、ポリアミド系
、ポリビニルアルコール系、ポリアクリロニトリル系等
の合成繊維からなる織布、不織布の表面にスクリーンを
通して両像を形成せしめ、ついで紫外線を照射して硬化
させ、適宜染色等を行って生地に模様を付すことも可能
である。
そのほか基材に紙、合成樹脂シート等を用いることもあ
る。
る。
光源としては低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、
カーボンアーク灯、クセノン灯等が用いられる。
カーボンアーク灯、クセノン灯等が用いられる。
以下、実例を挙げて本発明の組成物を更に詳しく説明す
る。
る。
実例1
無水マレイン酸0.5モル、無水フタル酸0.7モル、
トリエチレングリコール0.8モル、トリメチo −/
L/ 7’ロパンジアリルエーテル0.′5モル、ハイ
ドロキノン0.05%を混合し、鼠素ガス気流下に18
0〜210℃で6時間反応を行ない酸価76のアリルエ
ーテル基含有不飽和ポリエステル樹脂を製造した。
トリエチレングリコール0.8モル、トリメチo −/
L/ 7’ロパンジアリルエーテル0.′5モル、ハイ
ドロキノン0.05%を混合し、鼠素ガス気流下に18
0〜210℃で6時間反応を行ない酸価76のアリルエ
ーテル基含有不飽和ポリエステル樹脂を製造した。
この檎l1i1100部に1コハク酸モノ(2−アクリ
ロキシエチル)エステル4071.2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート50部、リン酸ジ(2−アクリロキシ
エチル)エステル10s1−に加、よく撹拌し均一な溶
液とした。この溶液100部にa−降柱硫酸パリクム1
00部、イルガキュア651(チバガイギー社製アセト
フェノン系光重合開始剤)5g、コロイダルシリカ2部
、メチルバイオレット0.5部を添加混練りし粘度(2
0℃)150ボイズの画像形成用組成物を得た。
ロキシエチル)エステル4071.2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート50部、リン酸ジ(2−アクリロキシ
エチル)エステル10s1−に加、よく撹拌し均一な溶
液とした。この溶液100部にa−降柱硫酸パリクム1
00部、イルガキュア651(チバガイギー社製アセト
フェノン系光重合開始剤)5g、コロイダルシリカ2部
、メチルバイオレット0.5部を添加混練りし粘度(2
0℃)150ボイズの画像形成用組成物を得た。
次にこの組成物を用いてプリント基板の銅箔上Vこスク
リーン印刷法で画像を形成させ、直ちに80 W/cs
の出力のUVランプで1秒間照射を行っC1 1II像塗膜の硬度は鉛筆硬度Hであり基盤目テス00 トによる密着性Vi/100で良好な接着力を示した。
リーン印刷法で画像を形成させ、直ちに80 W/cs
の出力のUVランプで1秒間照射を行っC1 1II像塗膜の硬度は鉛筆硬度Hであり基盤目テス00 トによる密着性Vi/100で良好な接着力を示した。
次にこの試料を塩化第二鉄水溶液で40℃、50分の条
件下にエツチング処理した。画像は充分な耐薬品性を示
した。更に3%水酸化ナトリク云水溶液をスプレーした
ところ8秒後KFi画像部か剥離しすぐれたアルカリ洗
浄性を示し精密なプ1ノント配線回路の像が得られた。
件下にエツチング処理した。画像は充分な耐薬品性を示
した。更に3%水酸化ナトリク云水溶液をスプレーした
ところ8秒後KFi画像部か剥離しすぐれたアルカリ洗
浄性を示し精密なプ1ノント配線回路の像が得られた。
対照例1
アリルエーテル基を含有しない不飽和ポリエステルを用
いた以外#−i実例1と同一の実験を行った画像塗膜の
硬度ViHBであった。
いた以外#−i実例1と同一の実験を行った画像塗膜の
硬度ViHBであった。
又耐薬品性にもやや難点が認められた。
実例2〜6
第1表に示す如き組成物(不飽和ポリエステル樹脂と重
合性単量体のみを変更)を用いて実例1に準じて画像を
形成した。その結果を第1表に示す。
合性単量体のみを変更)を用いて実例1に準じて画像を
形成した。その結果を第1表に示す。
第 1 表
対照例2〜5
実例1において第2表に示す如き不飽和ポリエステル樹
脂を用いた。その結果を第2表に示す。
脂を用いた。その結果を第2表に示す。
第2表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一1 アリルエーテル基を10〜50モル%含み酸価5
0〜200の不飽和ポリエステル樹脂、光重合可能な不
飽和単量体、及び光i1合開始剤とからなる画像形成用
組成物。 2 光重合可能な不飽和単量体が水酸基又はカルボキシ
ル基を有するエチレン性不飽和単量体である特許請求の
範囲第1項記載の組成物。 5、 光重合可能な不飽和単量体としてリン酸(メタ)
アクリロキシアルキルエステルと多塩基酸(メタ)アク
リロキシアルキル部分エステルとを掛川することを特徴
とする特許lit求の範囲第1項記載の組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6658282A JPS58182631A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 画像形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6658282A JPS58182631A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 画像形成用組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58182631A true JPS58182631A (ja) | 1983-10-25 |
Family
ID=13320087
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6658282A Pending JPS58182631A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 画像形成用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58182631A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01263645A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPH04106546A (ja) * | 1990-08-27 | 1992-04-08 | Ind Technol Res Inst | アルカリ溶液で現像可能な液体写真用組成物 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4994787A (ja) * | 1972-09-08 | 1974-09-09 | ||
JPS4997091A (ja) * | 1972-10-20 | 1974-09-13 | ||
JPS5092986A (ja) * | 1973-12-24 | 1975-07-24 | ||
JPS50155303A (ja) * | 1974-06-06 | 1975-12-15 |
-
1982
- 1982-04-20 JP JP6658282A patent/JPS58182631A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4994787A (ja) * | 1972-09-08 | 1974-09-09 | ||
JPS4997091A (ja) * | 1972-10-20 | 1974-09-13 | ||
JPS5092986A (ja) * | 1973-12-24 | 1975-07-24 | ||
JPS50155303A (ja) * | 1974-06-06 | 1975-12-15 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01263645A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPH04106546A (ja) * | 1990-08-27 | 1992-04-08 | Ind Technol Res Inst | アルカリ溶液で現像可能な液体写真用組成物 |
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