JP2570121B2 - 固体電解コンデンサの製造方法 - Google Patents

固体電解コンデンサの製造方法

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JP2570121B2 JP5193787A JP19378793A JP2570121B2 JP 2570121 B2 JP2570121 B2 JP 2570121B2 JP 5193787 A JP5193787 A JP 5193787A JP 19378793 A JP19378793 A JP 19378793A JP 2570121 B2 JP2570121 B2 JP 2570121B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は固体電解コンデンサの製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】タンタル、ニオブ、アルミニウムなどの
弁作用を有する金属粉末の焼結体からなる固体電解コン
デンサは、金属粉末の焼結体から弁作用を有する金属線
を陽極リードとして導出し、焼結体に誘電体として酸化
皮膜を形成した後、二酸化マンガンなどの半導体、ある
いはポリピロールなどの導電性高分子を陰極として構成
される。
【0003】陰極に半導体を用いたものは酸化皮膜を形
成した焼結体を半導体母液に一定時間浸漬し、高温で半
導体母液を熱分解することによって半導体層を形成す
る。この際に、半導体母液が陽極リードにはい上がり、
陽極リードに半導体が形成されていると、陽極リードと
外部リードを接続する際に半導体層が外部リードに接触
し、漏れ電流が増加したりショートしたりしてコンデン
サの機能が損なわれる。
【0004】これを防止する方法として、半導体層を形
成するに先立って、陽極リードに溌水性部材を形成して
半導体母液のはい上がりを防ぐ方法が知られている。例
えば、焼結体及び陽極リードを液状撥水性部材に浸漬
し、焼結体のみを洗浄して陽極リードに撥水性部材を残
す方法(特公昭61−27891)や、陽極リードの焼
結体からの導出部にペースト状の撥水性部材を形成する
方法(実開昭58−184834,特開昭58−154
224,特開昭59−135716,特公平1−412
44,特公平1−44008)がある。
【0005】これら従来の固体電解コンデンサの製造方
法のフローチャート図を、図3に示す。まず、ステップ
S1で、焼結体作成後に、ステップS11でそれぞれの
方法で陽極リードに撥水性部材を形成する。その後ステ
ップS2で、化成液に浸漬して酸化皮膜を形成する。次
に、ステップS12で半導体層を形成する。このとき撥
水性部材の撥水作用によって半導体母液は陽極リードに
はい上がらず陽極リードに半導体層は形成されない。そ
の後ステップS6で、半導体層の外側に導電体層を形成
し、ステップS7で外部リードと接続する。
【0006】また、一方で電子部品の外装方法において
は、外装樹脂を付着させたくない部分にあらかじめパラ
フィン等を塗布した後、電子部品全体に外装を施し、熱
処理によってパラフィン等を除去し、電子部品の必要な
部分のみに外装する方法が知られている(特開昭63−
122115,特開平2−251164,特開平1−1
89113)。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】前述の従来技術を応用
して半導体層の形成に先立って陽極リードにパラフィン
を塗布し半導体層を形成した後に、はい上がって形成さ
れた半導体層と共にパラフィンを除去する方法が考えら
れる。しかし、陰極に半導体を用いた固体電解コンデン
サでは、通常、半導体層の形成は、半導体母液への浸
漬、高温での分解を一つのサイクルとしてこれを数回繰
り返すので、高温での分解のたびにパラフィンが除去さ
れるので、パラフィンの塗布を繰り返さねばならないた
め製造コストが高くなる問題がある。
【0008】一方、陰極に導電性高分子を用いたもの
は、例えばポリピロールなどでは、焼結体を導電性高分
子のモノマー液に浸漬した後、酸化剤の溶液に浸漬して
−50℃〜常温付近で酸化重合させることによって陰極
層を形成する。
【0009】この場合、これらの液は前述の半導体母液
よりもぬれ性がよく、前述の撥水性部材でははい上がり
を完全には防ぐことができないため、陽極リード上に導
電性高分子層が形成され、外部リードとの接続の際、漏
れ電流が増加したりショートしたりする問題点があっ
た。
【0010】本発明の目的は、これらの問題を解決し、
製造コストを上げずに、陽極リードへの導電性高分子層
の形成をなくし、漏れ電流やショートをなくした固体電
解コンデンサの製造方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の固体電解コンデ
ンサの製造方法の構成は、弁作用を有する金属粉末の焼
結体から弁作用を有する金属線を陽極リードとして導出
したものに酸化皮膜を形成する工程と、前記酸化皮膜を
形成した陽極リードにパラフィン層を形成する工程と、
前記パラフィン層上に陰極となる導電性高分子層を形成
する工程と、前記導電性高分子層を形成した後に、前記
パラフィン層を除去する工程とを有することを特徴とす
る。このパラフィン層の除去工程は、パラフィン層の加
熱により行なわれる。
【0012】
【実施例】図1は本発明の一実施例を工程順に示した固
体電解コンデンサの縦断面図、図2は本実施例の工程を
説明するフローチャートである。まず、図2のステップ
S1で、図1(A)に示すように、弁作用を有する金属
粉末と金属線を所定形状に加圧成形し焼結して焼結体
1,及び陽極リード2を作成する。次に、ステップS2
でその焼結体1を化成液に浸漬し、所定電圧を印加して
酸化皮膜3を形成する。
【0013】そしてステップS3で、パラフィンを80
℃に加熱して溶融させ陽極リード2に筆で塗布し室温で
硬化させてパラフィン層4を形成する。次にステップS
4でポリピロールからなる導電性高分子層5を形成す
る。この形成方法は、焼結体1を、まずピロールのモノ
マー液に浸漬し、ついで酸化剤溶液に浸漬し、室温で重
合させる方法による。このとき焼結体の浸漬は陽極リー
ド2が各液に浸らないような深さにするが、図1(A)
のように各液のはい上がりによって陽極リード2のパラ
フィン層4上に、導電性高分子層5の一部が形成され
る。
【0014】次にステップS5で焼結体を150℃の乾
燥炉に1時間入れる。この際、図1(B)のように、陽
極リード2にはい上がった導電性高分子層5が、パラフ
ィン層4の溶融と共に除去される。その後、ステップS
6で、導電性高分子層5の外側にグラファイト、銀ペー
ストからなる導電体層6を形成し、ステップS7で外部
リード7と陽極リード2は抵抗溶接により、溶接点8で
接続する。
【0015】従来技術では、陽極リード2と外部リード
7との接続時に、陽極リード2にはい上がって形成され
た導電性高分子層5のために、ショート不良が10%、
漏れ電流が大きくなる不良が40%程度発生していた
が、本実施例ではショート不良は発生せず、漏れ電流が
大きくなる不良が10%程度に改善された。
【0016】第2の実施例として、第1の実施例と同様
にして導電性高分子層5まで形成し、パラフィン層4を
除去する方法として、約150℃の熱風を陽極リード2
に当てることによった。これによって第1の実施例よ
り、はい上がって形成された導電性高分子層5の除去が
より完全になり、外部リードとの接続工程での漏れ電流
が大きくなる不良がさらに5%に減少し、第1の実施例
より歩留まりを向上させることができた。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、弁作用を
有する金属粉末の焼結体から弁作用を有する金属線を陽
極リードとして導出したものに酸化皮膜を形成した後、
陰極となる導電性高分子層を形成するに先立って、陽極
リードにパラフィン層を形成する工程と、導電性高分子
層を形成した後に、このパラフィン層を除去する工程を
設けることにより、陽極リードへはい上がって形成され
た導電性高分子層を除去し、陽極リードと外部リードの
接続時におけるショート不良を、従来の約10%から0
%に、漏れ電流が大きくなる不良を、従来の約40%か
ら5〜10%に改善できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例により製作された固体電解コ
ンデンサを工程順に説明した縦断面図。
【図2】図1の実施例の製造方法を説明するフローチャ
ート。
【図3】従来の固体電解コンデンサを説明するフローチ
ャート。
【符号の説明】
1 焼結体 2 陽極リード 3 酸化皮膜 4 パラフィン層 5 導電性高分子層 6 導電体層 7 外部リード 8 溶接点

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 弁作用を有する金属粉末の焼結体から弁
    作用を有する金属線を陽極リードとして導出したものに
    酸化皮膜を形成する工程と、前記酸化皮膜を形成した陽
    極リードにパラフィン層を形成する工程と、前記パラフ
    ィン層上に陰極となる導電性高分子層を形成する工程
    と、前記導電性高分子層を形成した後に前記パラフィン
    層を除去する工程とを有することを特徴とする固体電解
    コンデンサの製造方法。
  2. 【請求項2】 パラフィン層の除去工程を、このパラフ
    ィン層を溶融可能な温度にした乾燥炉に陽極リードを入
    れるか、このパラフィン層を溶融可能な温度にした熱風
    を前記陽極リードに当てることにより行う請求項1記載
    の固体電解コンデンサの製造方法。
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