JP2560621B2 - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
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- JP2560621B2 JP2560621B2 JP5230355A JP23035593A JP2560621B2 JP 2560621 B2 JP2560621 B2 JP 2560621B2 JP 5230355 A JP5230355 A JP 5230355A JP 23035593 A JP23035593 A JP 23035593A JP 2560621 B2 JP2560621 B2 JP 2560621B2
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- mask
- reticle
- pressure
- projection exposure
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、投影露光装置に関し、
特に画像の湾曲を調整できる投影露光装置に関する。
特に画像の湾曲を調整できる投影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の投影露光装置としては、例えば特
開平１−２９２８２０号公報に示されたものがあり、こ
の従来の装置について図６を用いて説明する。図６
（ａ）は、レチクル表面の曲率を、ウェーハ上のパター
ン内においてデフォーカス部が発生しない曲率にする部
分の構成を示す概略平面図、図６（ｂ），（ｃ）は図６
（ａ）に示すＡ部の拡大平面図及びその側面図である。
開平１−２９２８２０号公報に示されたものがあり、こ
の従来の装置について図６を用いて説明する。図６
（ａ）は、レチクル表面の曲率を、ウェーハ上のパター
ン内においてデフォーカス部が発生しない曲率にする部
分の構成を示す概略平面図、図６（ｂ），（ｃ）は図６
（ａ）に示すＡ部の拡大平面図及びその側面図である。
【０００３】図６（ｂ）に示されるように、レチクル１
の周辺は、複数個の曲率補正用治具７で囲まれている。
また１つの曲率補正用治具７は、ベアリング付ルーロン
６と一体となっており、かつ、レチクル１のレンズ系に
近い表面側には、バキュームホール９の付いた無発じん
性樹脂１０が半球ボール上に接着されている。更に、曲
率補正用治具７がレチクル１の光源側の表面に接する部
分の先端部にはテンションローラー５が付いている。
の周辺は、複数個の曲率補正用治具７で囲まれている。
また１つの曲率補正用治具７は、ベアリング付ルーロン
６と一体となっており、かつ、レチクル１のレンズ系に
近い表面側には、バキュームホール９の付いた無発じん
性樹脂１０が半球ボール上に接着されている。更に、曲
率補正用治具７がレチクル１の光源側の表面に接する部
分の先端部にはテンションローラー５が付いている。
【０００４】上記のような構成において、弾性のあるレ
チクル１をプラテン上にロードした後、レチクル１の周
辺を複数個の曲率補正用治具７で取り囲む。レチクル１
のレンズ系に近い表面と無発じん性樹脂１０とをバキュ
ームを引くことにより密着させる。
チクル１をプラテン上にロードした後、レチクル１の周
辺を複数個の曲率補正用治具７で取り囲む。レチクル１
のレンズ系に近い表面と無発じん性樹脂１０とをバキュ
ームを引くことにより密着させる。
【０００５】次に、曲率補正用治具７と一体となったベ
アリング付ルーロン６がガイドキー８に沿って上下方向
への直線運動をすることにより、レチクル１の光源側の
表面に接触しているテンションローラー５の接点が作用
点となり、レチクル１に慣性モーメントが加わることに
なる。
アリング付ルーロン６がガイドキー８に沿って上下方向
への直線運動をすることにより、レチクル１の光源側の
表面に接触しているテンションローラー５の接点が作用
点となり、レチクル１に慣性モーメントが加わることに
なる。
【０００６】また、テンションローラー５の付いている
曲率補正用治具７の先端部の長さＬを変えることによ
り、慣性モーメントの方向及び大きさを変化させる。
曲率補正用治具７の先端部の長さＬを変えることによ
り、慣性モーメントの方向及び大きさを変化させる。
【０００７】上記動作及び作用をもった曲率補正用治具
７を複数個組み合わせることにより、レチクル１の表面
を任意の曲率に変化させていた。
７を複数個組み合わせることにより、レチクル１の表面
を任意の曲率に変化させていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この従来の投影露光装
置では、機械的にレチクルに力を直接加えているため、
構成が複雑となり、しかも曲率補正用治具に加圧による
金属疲労が生じて曲率補正用治具に発塵が生じ、レチク
ル上にゴミが付着してパターン転写に障害を生じさせて
しまうという問題点があった。
置では、機械的にレチクルに力を直接加えているため、
構成が複雑となり、しかも曲率補正用治具に加圧による
金属疲労が生じて曲率補正用治具に発塵が生じ、レチク
ル上にゴミが付着してパターン転写に障害を生じさせて
しまうという問題点があった。
【０００９】本発明の目的は、気圧差を利用してレチク
ルを湾曲させるようにした投影露光装置を提供すること
にある。
ルを湾曲させるようにした投影露光装置を提供すること
にある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る投影露光装置は、対をなす気圧室と、
圧力調整部とを有し、光源から照射された光をマスク上
のパターンに入射し、該パターンをレンズ系に通してウ
ェーハ上に投影する投影露光装置であって、対をなす気
圧室は、マスクを挾んでその両側に配設され、各気圧室
のマスクと向き合う端壁は、開放されたものであり、気
圧室の開放端壁は、マスクにより気密に閉塞されてお
り、光源からの光が入射する一方の気圧室の端壁、及び
マスクを透過した光が出射する他方の気圧室の端壁は、
光の透過性をもつものであり、圧力調整部は、対をなす
気圧室相互間に圧力差を生じさせ、その圧力差によりマ
スクに所望の屈撓力を付与するものである。
め、本発明に係る投影露光装置は、対をなす気圧室と、
圧力調整部とを有し、光源から照射された光をマスク上
のパターンに入射し、該パターンをレンズ系に通してウ
ェーハ上に投影する投影露光装置であって、対をなす気
圧室は、マスクを挾んでその両側に配設され、各気圧室
のマスクと向き合う端壁は、開放されたものであり、気
圧室の開放端壁は、マスクにより気密に閉塞されてお
り、光源からの光が入射する一方の気圧室の端壁、及び
マスクを透過した光が出射する他方の気圧室の端壁は、
光の透過性をもつものであり、圧力調整部は、対をなす
気圧室相互間に圧力差を生じさせ、その圧力差によりマ
スクに所望の屈撓力を付与するものである。
【００１１】また、前記気圧室の開放端壁の開口縁は、
Ｏリングを介してマスクに密着しているものである。
Ｏリングを介してマスクに密着しているものである。
【００１２】
【作用】レチクルを挾んでその両側に設けた気圧室の気
圧を調整することにより、レチクルの両側に圧力差を生
じさせて該レチクルを湾曲させる。
圧を調整することにより、レチクルの両側に圧力差を生
じさせて該レチクルを湾曲させる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図により説明す
る。図１は、本発明の一実施例を示す断面図、図２は、
レチクルと気圧室との接触部での位置関係を示す図であ
る。尚、本発明では、レチクルとフォトマスクとを総称
してマスクとして取扱うが、実施例ではレチクルについ
てのものとして述べる。本発明はフォトマスクについて
も同様に採用できる。
る。図１は、本発明の一実施例を示す断面図、図２は、
レチクルと気圧室との接触部での位置関係を示す図であ
る。尚、本発明では、レチクルとフォトマスクとを総称
してマスクとして取扱うが、実施例ではレチクルについ
てのものとして述べる。本発明はフォトマスクについて
も同様に採用できる。
【００１４】図において、本発明装置は、対をなす気圧
室Ｒ1，Ｒ2と脱気部１５とを有している。
室Ｒ1，Ｒ2と脱気部１５とを有している。
【００１５】対をなす気圧室Ｒ1，Ｒ2は、マスクとして
のレチクル１１を挾んでその両側に配設されており、本
体１３と石英窓１２とを有している。本体１３は、その
中央部が円筒状にくり抜かれており、本体１３のマスク
１１と向き合う端壁は、開放されており、本体１３の開
放端壁は、マスク１１により気密に閉塞されるようにな
っている。本体１３の開放端壁の開口縁は、Ｏリング１
６を介してマスク１１に密着しており、Ｏリング１６は
気圧室１６の気密性を保持するとともに、レチクル１１
の表面を傷付けないようにしている。
のレチクル１１を挾んでその両側に配設されており、本
体１３と石英窓１２とを有している。本体１３は、その
中央部が円筒状にくり抜かれており、本体１３のマスク
１１と向き合う端壁は、開放されており、本体１３の開
放端壁は、マスク１１により気密に閉塞されるようにな
っている。本体１３の開放端壁の開口縁は、Ｏリング１
６を介してマスク１１に密着しており、Ｏリング１６は
気圧室１６の気密性を保持するとともに、レチクル１１
の表面を傷付けないようにしている。
【００１６】また、石英窓１２は光の透過性をもってお
り、光源からの露光光１４が入射される一方の本体１３
の端壁をなすものであるとともに、マスク１１を透過し
た光が出射する他方の本体１３の端壁をなすものであ
る。
り、光源からの露光光１４が入射される一方の本体１３
の端壁をなすものであるとともに、マスク１１を透過し
た光が出射する他方の本体１３の端壁をなすものであ
る。
【００１７】圧力調整部をなす圧力調整用パイプ１５
は、上下の各気圧室Ｒ1，Ｒ2に接続されており、圧力が
コントロール，モニターされている窒素ガス（又は空
気）を各気圧室Ｒ1，Ｒ2に送り込み、上下の気圧室
Ｒ1，Ｒ2相互間に圧力差を生じさせてマスク１１に屈撓
力を付与してマスク１１を凸又は凹型の曲面形状に屈撓
させるようになっている。
は、上下の各気圧室Ｒ1，Ｒ2に接続されており、圧力が
コントロール，モニターされている窒素ガス（又は空
気）を各気圧室Ｒ1，Ｒ2に送り込み、上下の気圧室
Ｒ1，Ｒ2相互間に圧力差を生じさせてマスク１１に屈撓
力を付与してマスク１１を凸又は凹型の曲面形状に屈撓
させるようになっている。
【００１８】次に図３，図４，図５に、本体１３の内側
円筒部の半径が５７ｍｍ，レチクル１１として、１２７
ｍｍ×１２７ｍｍの大きさで、厚さ２．３ｍｍの石英レ
チクルを使ったときの変位量及びウェーハ面上での像面
特性を示す。
円筒部の半径が５７ｍｍ，レチクル１１として、１２７
ｍｍ×１２７ｍｍの大きさで、厚さ２．３ｍｍの石英レ
チクルを使ったときの変位量及びウェーハ面上での像面
特性を示す。
【００１９】まず、図３に上下レチクル加圧室の圧力差
とレチクル変位量の関係を示す。レチクル中心での変位
及びレチクル中心から半径ｒ＝３５ｍｍの位置での変位
量は、気圧室Ｒ1，Ｒ2相互間の圧力差に対して比例して
いる。
とレチクル変位量の関係を示す。レチクル中心での変位
及びレチクル中心から半径ｒ＝３５ｍｍの位置での変位
量は、気圧室Ｒ1，Ｒ2相互間の圧力差に対して比例して
いる。
【００２０】図４にレチクル中心からの距離対レチクル
の変位量の関係を示す。レチクル変位量は、投影レンズ
側に近づく方向をマイナスとしている。図４では、加圧
量５１×１０-6ｋｇ／ｍｍ2の場合と、１０１×１０-6
ｋｇ／ｍｍ2の場合を例として示している。
の変位量の関係を示す。レチクル変位量は、投影レンズ
側に近づく方向をマイナスとしている。図４では、加圧
量５１×１０-6ｋｇ／ｍｍ2の場合と、１０１×１０-6
ｋｇ／ｍｍ2の場合を例として示している。
【００２１】図５に縮小倍率５対１の投影レンズを使用
したときのレチクルパターン位置、ウェーハ上に転写さ
れたパターンの投影レンズによる像面湾曲による露光フ
ィールド内でのベストフォーカス位置に与える影響、レ
チクルを加圧により変位させた場合の像面への影響につ
いて示す。なお、フォーカス符号は投影レンズに近づく
方向をプラスとして表示している。
したときのレチクルパターン位置、ウェーハ上に転写さ
れたパターンの投影レンズによる像面湾曲による露光フ
ィールド内でのベストフォーカス位置に与える影響、レ
チクルを加圧により変位させた場合の像面への影響につ
いて示す。なお、フォーカス符号は投影レンズに近づく
方向をプラスとして表示している。
【００２２】レチクル１１を単純にセットしただけの状
態、すなわち図５中加圧０ｋｇ／ｍｍ2の状態では、例
えば露光フィールド中心とフィールド中心から半径８ｍ
ｍ離れた位置でのベストフォーカス差は、０．５μｍあ
ることがわかる。加圧が５１×１０-6ｋｇ／ｍｍ2の場
合は、これが０．０５μｍ、加圧が１０１×１０-6ｋｇ
／ｍｍ2の場合は、加圧０ｋｇ／ｍｍ2の時の凹状から逆
の凸状となり、ベストフォーカス差は０．３μｍとな
り、加圧によるレチクル変位がウェーハ上にレチクルパ
ターンを形成する場合に、特にフォーカス位置に大きな
影響を与えていることがわかる。
態、すなわち図５中加圧０ｋｇ／ｍｍ2の状態では、例
えば露光フィールド中心とフィールド中心から半径８ｍ
ｍ離れた位置でのベストフォーカス差は、０．５μｍあ
ることがわかる。加圧が５１×１０-6ｋｇ／ｍｍ2の場
合は、これが０．０５μｍ、加圧が１０１×１０-6ｋｇ
／ｍｍ2の場合は、加圧０ｋｇ／ｍｍ2の時の凹状から逆
の凸状となり、ベストフォーカス差は０．３μｍとな
り、加圧によるレチクル変位がウェーハ上にレチクルパ
ターンを形成する場合に、特にフォーカス位置に大きな
影響を与えていることがわかる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、レチクル
上下の気圧室の圧力差によってレチクルを屈撓させるこ
とにより、レチクルパターンをウェーハ上に転写する場
合に、その露光フィールド内において、ほぼ同じフォー
カス位置で最良のパターンを得ることができる。
上下の気圧室の圧力差によってレチクルを屈撓させるこ
とにより、レチクルパターンをウェーハ上に転写する場
合に、その露光フィールド内において、ほぼ同じフォー
カス位置で最良のパターンを得ることができる。
【００２４】また、露光フィールド中心とフィールド外
周近傍で必要とするフォーカス位置が異なる場合でも、
気圧室相互間の圧力差をコントロールすることにより、
レチクルを任意の曲率に変化させることができるという
効果を有する。
周近傍で必要とするフォーカス位置が異なる場合でも、
気圧室相互間の圧力差をコントロールすることにより、
レチクルを任意の曲率に変化させることができるという
効果を有する。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図である。
【図２】図１に示したレチクル及び気圧室の接触部を示
す平面図である。
す平面図である。
【図３】気圧室とレチクルのＺ方向への変位量の関係を
示す図である。
示す図である。
【図４】レチクル中心からの距離とＺ方向への変位量を
示す図である。
示す図である。
【図５】ウェーハ上でのレチクル変位量によるベストフ
ォーカス一を示す図である。
ォーカス一を示す図である。
【図６】（ａ）は、従来例におけるレチクルを示す平面
図、（ｂ）は、（ａ）のＡ部拡大図、（ｃ）は、（ｂ）
の正面図である。
図、（ｂ）は、（ａ）のＡ部拡大図、（ｃ）は、（ｂ）
の正面図である。
Ｒ1，Ｒ2 気圧室 １１ レチクル １２ 石英窓 １３ 本体 １４ 露光光 １５ 圧力調整用パイプ １６ Ｏリング
Claims (2)
- 【請求項１】 対をなす気圧室と、圧力調整部とを有
し、光源から照射された光をマスク上のパターンに入射
し、該パターンをレンズ系に通してウェーハ上に投影す
る投影露光装置であって、 対をなす気圧室は、マスクを挾んでその両側に配設さ
れ、各気圧室のマスクと向き合う端壁は、開放されたも
のであり、 気圧室の開放端壁は、マスクにより気密に閉塞されてお
り、光源からの光が入射する一方の気圧室の端壁、及び
マスクを透過した光が出射する他方の気圧室の端壁は、
光の透過性をもつものであり、 圧力調整部は、対をなす気圧室相互間に圧力差を生じさ
せ、その圧力差によりマスクに所望の屈撓力を付与する
ものであることを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項２】 前記気圧室の開放端壁の開口縁は、Ｏリ
ングを介してマスクに密着していることを特徴とする請
求項１に記載の投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5230355A JP2560621B2 (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5230355A JP2560621B2 (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | 投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0799146A JPH0799146A (ja) | 1995-04-11 |
| JP2560621B2 true JP2560621B2 (ja) | 1996-12-04 |
Family
ID=16906567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5230355A Expired - Fee Related JP2560621B2 (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2560621B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3450631B2 (ja) * | 1997-02-28 | 2003-09-29 | キヤノン株式会社 | マスク保持装置、露光装置、デバイス製造方法、及びマスク構造体 |
| JP3450648B2 (ja) * | 1997-05-09 | 2003-09-29 | キヤノン株式会社 | 倍率補正装置および倍率補正装置を搭載したｘ線露光装置ならびにデバイス製造方法 |
-
1993
- 1993-09-16 JP JP5230355A patent/JP2560621B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0799146A (ja) | 1995-04-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |