JP2557984Y2 - はんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本考案は、はんだ槽近傍のはんだ
付けプロセス環境のみに低酸素濃度の不活性ガス雰囲気
を形成するはんだ付け装置のガス雰囲気形成装置に関す
るもので、特に、チャンバの容積が小さいにもかかわら
ず雰囲気封止性を高くしたものである。

【０００２】

【従来の技術】窒素（Ｎ₂ ）等の不活性ガス雰囲気中で
はんだ付けを行う装置としては、例えば、本出願人によ
る特願平４−３５３８７９号に記載されているように、
予備加熱器およびはんだ槽をトンネル状のチャンバで覆
うとともに、さらに、トンネル状チャンバを配線基板の
搬送路に沿って延長して設けた構成としたものがある。
そして、チャンバの下側および上側の内面には、配線基
板の搬送方向と交差する方向で、かつ配線基板の搬送路
へ向けて複数枚の仕切板を設け、いわゆるラビリンス
（labyrinth ）流路を形成している。

【０００３】このラビリンス流路は、トンネル状のチャ
ンバは管路を形成するので、流体の流通に対して管路の
断面積と長さ等で決まる流通抵抗と、ラビリンス流路固
有の流通抵抗とを有している。したがって、チャンバ内
に供給された不活性ガスがチャンバの外へ流出し難くな
るとともに、チャンバの外の大気がチャンバ内へ流入し
難くなる。その結果、チャンバ内のはんだ付けプロセス
の環境を低酸素濃度の不活性ガス雰囲気に保持すること
を可能としている。

【０００４】また、上記出願には、不活性ガスの供給位
置や不活性ガスの供給・噴出方向が重要であることと、
それらの最適技術を特有のチャンバ構造として実現した
ことが開示されている。

【０００５】すなわち、配線基板のはんだ付けが終了す
る位置から配線基板の搬送方向に対して後方の位置に不
活性ガスを供給するノズルを設け、その際にノズルはラ
ビリンス流路を形成する複数枚の仕切板の間に設けた構
成とし、不活性ガスが仕切板相互の間から配線基板の搬
送路へ向かって噴出する方向を、配線基板の搬送方向と
は逆方向となるように構成している。

【０００６】ところで、配線基板の搬送にともなってチ
ャンバ内の雰囲気は、配線基板や搬送コンベア、または
配線基板を装着したキャリア等の走行方向へ誘引されて
チャンバ外へ引き出される方向へ流動する。そこで、不
活性ガスの噴出方向を配線基板の搬送方向とは逆方向と
なるように構成することで、そのような流出方向の雰囲
気流動を抑制し、雰囲気封止性を高めるようにしてい
る。

【０００７】また、いわゆる無洗浄フラックスや水溶性
フラックス等の開発が急速度に進み、はんだ付け後の残
渣が極めて少ないフラックスや、水で容易に洗浄可能な
フラックス、あるいは、はんだ付け後の残渣が高分子樹
脂膜に変化するフラックス等が実用段階に達し、はんだ
付け工程のみを低酸素濃度の不活性ガス雰囲気に保持す
るだけで、良好なはんだ付け特性を確保しつつ配線基板
のフロン洗浄が不要となりつつある。

【０００８】

【考案が解決しようとする課題】ところで、低酸素濃度
の不活性ガス雰囲気中ではんだ付けを行う目的は、少量
のフラックスで良好なはんだ付け特性を確保することが
でき、はんだ付け作業後に配線基板を洗浄する必要がな
いからであり、また、はんだ融液の表面張力が低下する
ことで、いわゆるマイクロソルダリングを実現する上で
の必須の環境が得られるためである。

【０００９】このようなはんだ付けプロセスの環境を実
現する上では、従来技術の技術思想に顕現されているよ
うに、配線基板の加熱を行う工程全体を不活性ガス雰囲
気にすることが最も望ましい。すなわち、予備加熱工程
およびはんだ付け工程を含めて低酸素濃度の不活性ガス
雰囲気に保持することが望ましい。

【００１０】しかしながら、はんだ付け装置を上記のよ
うな低酸素濃度の不活性ガス雰囲気にすることは大規模
のチャンバが必要となり、このことがはんだ付け装置の
部品および製造コストを押し上げ、装置価格を高騰させ
ることになる。すなわち、不活性ガス雰囲気中でのはん
だ付け工程を実現するためには、従来から使用されてき
たはんだ付け装置を廃棄して新たに高額の設備投資を行
う必要があるという問題点があった。

【００１１】一方、大気中ではんだ付けを行うはんだ付
け装置は装置価格は低廉であるが、はんだ融液が酸化す
る際に鉛が大気中に拡散し、鉛公害の原因となるという
問題点があった。

【００１２】本考案は、上記の問題点を解決するために
なされたもので、はんだ槽のはんだ融液で配線基板には
んだ付けを行う領域に封止性の高いチャンバを設けて不
活性ガスの雰囲気を保持することにより、はんだ付け装
置の低コスト化と、はんだ融液の酸化を防止して鉛公害
の発生を抑えたはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成
装置を得ることを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本考案にかかるはんだ付
け装置の不活性ガス雰囲気形成装置は、チャンバの出口
側に、前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不活性ガ
ス供給室が形成され、この不活性ガス供給室内に前記搬
送コンベアに対して前記チャンバの上部側と下部側に前
記配線基板の搬送方向と交差する方向で前記搬送コンベ
アに向けて突出する断面Ｕ字状の口筐がその開口方向を
回動自在にして設けられ、前記口筐の内部に前記不活性
ガスを噴出するノズルが設けられ、さらに、前記チャン
バ内の前記はんだ槽の領域の上側内壁に前記配線基板の
搬送方向と交差する方向に板面が並び、かつ前記搬送コ
ンベアに向けて突出する方向に複数枚の抑止板が並設さ
れているものである。

【００１４】また、はんだ槽の領域に設けられた抑止板
が回動可能に設けられたものである。

【００１５】また、チャンバは、その入口および出口の
少なくとも一方に配線基板の搬送方向と交差する方向に
板面が並び、かつ搬送コンベアに向けて突出する方向に
複数枚の抑止板が並設されたものである。

【００１６】さらに、チャンバは、搬送コンベアに対し
て上側チャンバと下側チャンバとに分割可能に形成され
たものである。

【００１７】

【作用】本考案においては、不活性ガス供給室内の口筐
のノズルから不活性ガスを配線基板の搬送方向と逆方向
に噴出し、はんだ槽領域に設けた抑止板によりはんだ槽
領域における不活性ガス雰囲気の封止性を向上させるこ
とができる。

【００１８】また、はんだ槽領域の抑止板が回動可能で
あるため、チャンバ内の不活性ガス雰囲気の流動状態を
最適状態に調整することができる。

【００１９】また、チャンバの入口または出口に抑止板
が並設されているので、いわゆるラビリンス流路が形成
されるので、チャンバ内の不活性ガスの流出と、外気が
チャンバ内に流入するのを抑止することができる。

【００２０】また、チャンバを分割して上側チャンバと
下側チャンバに形成したことにより、チャンバの取付工
事とメンテナンスが容易にできる。

【００２１】

【実施例】図１は本考案の第１の実施例を示す側断面図
で、はんだ付け装置のはんだ槽部分のみを示し、予備加
熱装置やフラックス装置等は省略してある。この図にお
いて、１は配線基板、２は前記配線基板１を矢印Ａ方向
に搬送する搬送コンベア、３ははんだ槽で、はんだ融液
４が収容され、はんだ融液４を噴流する１次噴流槽５と
２次噴流槽６が設けられている。なお、はんだ融液４を
噴流せしめる羽根車，モータ等の加圧装置や加熱用のヒ
ータ等の図示は省略してある。７はチャンバで、はんだ
槽３の領域を窒素（Ｎ₂ ）等の不活性ガスによる低酸素
濃度の雰囲気に保持するものであって、上側チャンバ７
Ａと下側チャンバ７Ｂとからなり、かつ搬送コンベア２
が貫通し、配線基板１が搬入，搬出される入口８と出口
９が形成されている。１０は前記はんだ融液４の液面を
封止してチャンバ７内を不活性ガス雰囲気に保持するた
めのスカート部で、はんだ融液４に浸漬されている。１
１は前記チャンバ７の入口８側の上側チャンバ７Ａと下
側チャンバ７Ｂとにそれぞれ固定され、ラビリンス流路
を形成した複数枚の抑止板で、板状部材からなり、配線
基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）と交差する方向に板面
が並び、かつ搬送コンベア２に向けて突出する方向に設
けられている。１２は前記チャンバ７の出口９側に形成
された不活性ガス供給室で、不活性ガスを供給する断面
がＵ字状をして、一方が開口した口筐１３がチャンバ７
の上側チャンバ７Ａと下側チャンバ７Ｂの壁体にそれぞ
れ開口部分と反対側の外側が密接して設けられている。
１４は前記口筐１３内に設けられたノズルで、パイプに
より形成され、不活性ガスを噴出するもので、口筐１３
とノズル１４は後に詳細に説明するが同一軸心を中心と
してそれぞれ別個に回動可能としてある。１５は前記は
んだ槽３の領域にあって、上側チャンバ７Ａに所定の間
隔で複数枚設けられた回動可能の抑止板で、板状部材か
らなり、配線基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）と交差す
る方向に板面が並んで設けられている。１６は回動軸
で、前記抑止板１５と一体に形成され、上側チャンバ７
Ａの壁面に回動可能に支持されている。

【００２２】なお、図１では、はんだ槽３には１次噴流
槽５と２次噴流槽６を設けた例を示したが、１次噴流槽
５または２次噴流槽６のいずれか１つであっても良く、
さらに、フローディップ槽のみであっても良い。また、
搬送コンベア２はキャリアレス式またはキャリア式のい
ずれであっても良い。

【００２３】図２は図１のＩ−Ｉ線による断面図、図３
は図１の口筐１３の詳細を拡大して示す斜視図で、図１
において例示する４つの口筐１３のうちの１つを示す。
これらの図において、図１と同一符号は同一部分を示
す。なお、図２では、一例として配線基板１の保持爪１
７を備えたキャリアレス型の搬送コンベア２を装備した
搬送装置１８を示している。すなわち、チャンバ７は搬
送コンベア２を挟んで上側チャンバ７Ａと下側チャンバ
７Ｂとに分割可能な構造であり、口筐１３に固着された
中空の口筐用支軸２１を挿通する口筐用軸受２２が上側
チャンバ７Ａおよび下側チャンバ７Ｂとにそれぞれ固着
されている。そして口筐用軸受２２には口筐１３の回動
方向を調節した後、口筐用支軸２１を固定するつまみ付
きの固定ネジ２３を設けてある。

【００２４】口筐１３は断面形状がＵ字状、つまり開口
形状が長方形であり、開口部２４の長手方向は搬送コン
ベア２に交差する矢印Ａ方向で、かつ矢印Ａ方向へ向け
て配設する構造のものである。また、図３からも判るよ
うに、口筐１３は垂直断面は「Ｕ」字状の形状で、口筐
１３の底部には不活性ガスを供給するパイプ形のノズル
１４が設けられ、不活性ガスを噴出する噴出孔２５が形
成されている。そして、ノズル１４は中空の口筐用支軸
２１を挿通する構造で保持する構成である。なお、口筐
用支軸２１にはノズル１４の回動方向を調節し固定する
つまみ付きの固定ネジ２６を設けてある。

【００２５】また、口筐１３のチャンバ７への組み立て
を容易にするために、口筐用支軸２１を口筐１３へ固着
するためにねじ込み、あるいはフランジ付としてこのフ
ランジをビスやナットで開口部２４側から固定するよう
にするとよい。口筐用軸受２２のチャンバ７への取り付
けも同様に取り外しできるようにしておくのがよい。

【００２６】図４は図１の抑止板１５の回動機構を示す
斜視図で、図１と同一符号は同一部分を示し、抑止板１
５を固着した回動軸１６は上側チャンバ７Ａに設けた軸
受２７に回動可能に支軸され、回動軸１６は上側チャン
バ７Ａの上壁内面に密接している構造である。他方、回
動軸１６と抑止板１５は、回動軸１６の長手方向に延長
された部分が折り曲げられて形成された操作レバー２８
を回動させることによってその方向を可変・調節するこ
とができる。なお、抑止板１５の軸受２７には、回動軸
１６と抑止板１５の方向を調節した後、固定するつまみ
付きの固定ねじ２９を設けてある。なお、組み立てに際
しては、例えば、回動軸１６を軸受２７に挿通後、回動
軸１６に抑止板１５をビス等（図示せず）で固定すれば
よい。

【００２７】次に、動作について説明する。

【００２８】図１は抑止板１５および口筐１３の第１の
調節例を示してある。

【００２９】すなわち、４個の口筐１３はそれぞれ上下
対称に配線基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）とは逆方向
のはんだ槽３側を向き、それぞれの方向も同一に揃えて
いる。一方、回動可能の抑止板１５は、入口８側の２枚
が配線基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）に対して垂直の
方向へ向き、他の４枚はやや入口８側方向へ向くように
調節してある。

【００３０】以上のように調節することによって、口筐
１３から噴出した不活性ガスは搬送コンベア２に沿って
その搬送方向（矢印Ａ方向）とは逆方向へ流れる層流を
形成し、２次噴流槽６から１次噴流槽５に到達し、配線
基板１とはんだ融液４が接触する領域に、低酸素濃度の
不活性ガス雰囲気を形成する。そして、１次噴流槽５か
ら入口８側へ流れる不活性ガスの層流は、前記垂直方向
に向いている２枚の抑止板１５により減速され、さら
に、入口８側のラビリンス流路を形成する抑止板１１に
よって封止され、チャンバ７内の不活性ガスの流出と、
外気がチャンバ７内に流入するのが防止される。

【００３１】なお、搬送コンベア２の搬送速度がさらに
速くなった場合には、口筐１３の方向を、さらに回動し
てチャンバ７の内側のはんだ槽３側へ向くように調節す
れば、搬送コンベア２や配線基板１による不活性ガスの
雰囲気の引き出しを抑制して平衡し、不活性ガス雰囲気
の封止性を高水準に保持することができる。

【００３２】また、ノズル１４からの不活性ガス噴出量
および噴出速度、さらに口筐１３からの不活性ガス噴出
量および噴出速度によっても、口筐１３の最適方向およ
び抑止板１５の最適方向も変わる。要するに、配線基板
１にはんだ融液４が接触する領域に低酸素濃度の不活性
ガス雰囲気を形成しつつ、チャンバ７内の不活性ガス雰
囲気がチャンバ７の外へ流出する量と、チャンバ７外の
大気がチャンバ７内へ流入する量とが最小となる平衡点
を求めるようにすればよいのである。

【００３３】図５は、図１の実施例の第２の調節例を示
す図で、図１と同一符号は同一部分を示す。

【００３４】第２の調節例が第１の調節例と相違する点
は、出口９側の口筐１３の方向がやや搬送コンベア２寄
りに向いている点である。

【００３５】したがって、出口９側の口筐１３から噴出
する不活性ガスは、その一部がチャンバ７の出口９側へ
流れるようになり、出口９からの大気の流入抑制力を高
めることができる。そのため、はんだ槽３側の口筐１３
から噴出する不活性ガスの噴出量（噴出速度）を増加し
て、配線基板１とはんだ融液４とが接触する領域への不
活性ガス層流の供給量を第１の調節例と同水準に維持す
ることが望ましい。これによって、チャンバ７の出口９
側および入口８側の雰囲気封止性を一層高めることがで
きる。

【００３６】図６は、図１の実施例の第３の調節例を示
す図で、図１と同一符号は同一部分を示す。

【００３７】第３の調節例が第１の調節例と相違する点
は、回動可能な抑止板１５の方向を順次に変えている点
である。

【００３８】したがって、口筐１３から噴出して層流を
形成する不活性ガスは、１次噴流槽５と２次噴流槽６の
噴流波に到達しつつ順次に減速し、最終的に入口８側の
抑止板１１のラビリンス流路によって封止される。この
ような調節例は、配線基板１に大型の部品が搭載されて
いる場合に有効である。

【００３９】すなわち、大型部品はチャンバ７内の雰囲
気を外部へ引き出し易いので、２次噴流槽６の領域にお
ける層流速度を高めて置くことにより、１次噴流槽５の
領域へも十分な不活性ガスを供給し、低酸素濃度の不活
性ガス雰囲気を形成することを可能としている。また、
雰囲気を封止するための平衡点も最適化される。

【００４０】図７は、図１の実施例の第４の調節例を示
す図で、図１と同一符号は同一部分を示す。

【００４１】第４の調節例が第１の調節例と相違する点
は、回動可能な抑止板１５の方向を全て搬送コンベア２
に対して垂直方向に向け、はんだ槽３側の口筐１３は搬
送コンベア２の方向に対向するように向け、出口９側の
口筐１３は配線基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）とは逆
方向を向けた点である。

【００４２】このような調節例は、配線基板１の搬送速
度が一般的な搬送速度（例えば、１ｍ／分）よりも相対
的に遅い場合（例えば、０．６ｍ／分）や配線基板１の
プリヒート（図示せず）の温度が一般的な温度（例え
ば、８０〜１２０℃）よりも相対的に高い場合（例え
ば、１５０℃）、はんだ融液４の温度が一般的な温度
（例えば、２５０℃）よりも相対的に高い場合（例え
ば、３５０℃）、等のときに有効である。すなわち、抑
止板１５によって雰囲気の熱対流抑制力が大きくなるか
らである。また、はんだ槽３側の口筐１３の熱対流抑制
力も増大するので、総体として雰囲気封止性を良好に保
つことができる。

【００４３】そしてこの場合、はんだ槽３側の口筐１３
から噴出する不活性ガスの噴出量（噴出速度）を相対的
に小さく、出口９側の口筐１３から噴出する不活性ガス
の噴出量（噴出速度）を相対的に大きくすることによっ
て、各噴流槽５，６へ向かって流れる不活性ガスの層流
は第１の調節例と同一水準に保持することができる。

【００４４】図８（ａ）〜（ｄ）は、ノズル１４の方向
に対する口筐１３の指向性の例を示す側断面図で、ノズ
ル１４の噴出孔２５から噴出する不活性ガスの噴出方向
を調節した際の、口筐１３から噴出する不活性ガスの指
向性を説明するものである。なお、不活性ガスの指向性
を噴出速度分布で示している。

【００４５】図８（ａ）は、ノズル１４の噴出孔２５が
口筐１３の開口部２４の方向へ向いている例であり、こ
の場合は、放射状の指向性を示す。

【００４６】図８（ｂ）は、ノズル１４の噴出孔２５が
口筐１３の底部方向へ向いている例であり、この場合
は、口筐１３の両側部に指向性を示す。

【００４７】図８（ｃ）は、ノズル１４の噴出孔２５が
口筐１３の開口方向へ斜めに向いている例であり、この
場合は、噴出孔２５側の口筐１３の側面部に指向性を示
す。

【００４８】図８（ｄ）は、ノズル１４の噴出孔２５が
口筐１３の底部方向で斜めに向いている例であり、この
場合は、噴出孔２５側の口筐１３の側面部にやや指向性
を示し、他方の側部には強い指向性は示さない。

【００４９】このように、ノズル１４の不活性ガス噴出
方向を調節することによって、口筐１３から噴出する不
活性ガスの指向性を可変することができる。そのため、
口筐１３の方向調節と併せて不活性ガス噴出指向性を調
節することにより、層流形成と封止性を調節し、選択す
ることができるようになる。

【００５０】例えば、図１の第１の調節例および図６の
第３の調節例においては、はんだ槽３側の口筐１３の指
向性に図８（ｃ）を選択し、出口９側の口筐１３の指向
性に図８（ａ）を選択すれば、はんだ槽３側の口筐１３
から噴出する不活性ガスの流れが出口９側の口筐１３か
ら噴出する不活性ガスの流れを加速させるように作用
し、良好な層流を形成することができる。

【００５１】また、図５の第２の調節例においては、は
んだ槽３側の口筐１３の指向性に図８（ｃ）を選択し、
出口９側の口筐１３の指向性に図８（ｂ）を選択すれ
ば、図８（ｂ）の指向性は２つのピークを有するので、
出口９側の口筐１３から噴出する不活性ガスの一方のピ
ークははんだ槽３側の口筐１３から噴出する不活性ガス
の流れを加速し、他方のピークはチャンバ７の出口９に
封止性を与えることができる。

【００５２】図７の第４の調節例においては、はんだ槽
３側の口筐１３の指向性に図８（ｂ）を選択し、出口９
側の口筐１３の指向性に図８（ｃ）を選択すれば、はん
だ槽３側の口筐１３においては指向性の２つのピークが
２重のガスカーテンを形成するように作動し、出口９側
の口筐１３から噴出する不活性ガスによって層流を形成
することができる。

【００５３】なお、図８（ｄ）の口筐１３の指向性は、
図８（ｂ）の２つのピークの相対比を可変した関係にあ
る。そのため、第２の調節例の出口９側の口筐１３や第
４の調節例のはんだ槽３側の口筐１３の指向性を僅かに
調節する際に有効である。

【００５４】以上のような第１の調節例〜第４の調節例
および図８（ａ）〜（ｄ）に例示する調節例は、調節例
の一例を示しただけであり、結論的には、配線基板１の
搬送速度やプリヒート温度、配線基板１に搭載された部
品形状と大きさ、はんだ融液４の温度、等々のはんだ付
けプロセス環境のパラメータの変化に対応して、不活性
ガス供給室１２から各噴流槽５，６のはんだ融液４と配
線基板１とが接触する領域への不活性ガスの層流形成と
供給、チャンバ７の雰囲気封止性とが最適となるように
調節すればよい。

【００５５】図９は、本考案の第２の実施例を示す側断
面図である。

【００５６】すなわち、図１の第１の実施例と相違する
点は、チャンバ７の入口８に搬送コンベア２を挟んで形
成した図１の抑止板１１によるラビリンス流路を備えて
いない点である。このような構成は、チャンバ７の入口
８の開口面積が小さい場合に有効である。すなわち、配
線基板１に搭載される部品の大きさ（特に高さ）が小さ
い場合には、このような構成の雰囲気形成装置で十分で
ある。ちなみに、表面実装部品で構成される配線基板１
が一般化している今日の状況がこれに当たる。

【００５７】図１０は、本考案の第３の実施例を示す側
断面図である。

【００５８】すなわち、図１の第１の実施例と相違する
点は、チャンバ７の入口８には搬送コンベア２を挟んで
形成した図１の抑止板１１によるラビリンス流路を備え
ていないが、チャンバ７の出口９に搬送コンベア２を挟
んで形成した抑止板１１によるラビリンス流路を備えて
いる点である。

【００５９】このような構成は、配線基板１の搬送速度
が速い場合に有効である。すなわち、配線基板１や搬送
コンベア２により不活性ガスがチャンバ７から流出する
のを大幅に抑制することができるからである。

【００６０】なお、この第３の実施例において、チャン
バ７の入口８側にも搬送コンベア２を挟んで形成した抑
止板１１によるラビリンス流路を備えた構成とすること
もできる。これにより大気がチャンバ７内へ流入するの
を大幅に抑制することができるようになる。

【００６１】図１１は、本考案の第４の実施例を示す側
断面図である。

【００６２】すなわち、図１の第１の実施例と相違する
点は、はんだ融液４と配線基板１とを接触させる領域の
上方のチャンバ７の壁に設けた抑止板３１が回動しない
構成である点である。つまり、抑止板３１をチャンバ７
に直接固定するか、あるいは図１の回動軸１６が回動し
ないように固定されているものである。

【００６３】配線基板１の搬送速度やプリヒート温度、
配線基板１に搭載される部品の大きさ、溶融はんだの温
度、等に極端な変化がない場合はこのような構成で十分
である。

【００６４】本考案は、以上のような第１の実施例〜第
４の実施例を組み合わせて構成できることは、当然であ
る。すなわち、はんだ付けプロセス環境に合わせた最適
構成を選択すればよい。

【００６５】

【考案の効果】以上説明したように本考案は、チャンバ
の出口側に、前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不
活性ガス供給室が形成され、この不活性ガス供給室内に
前記搬送コンベアに対して前記チャンバの上部側と下部
側に前記配線基板の搬送方向と交差する方向で前記搬送
コンベアに向けて突出する断面Ｕ字状の口筐がその開口
方向を回動自在に設けられ、前記口筐の内部に前記不活
性ガスを噴出するノズルがその噴出方向を可変として設
けられ、さらに、前記チャンバ内の前記はんだ槽の領域
の上側内壁に前記配線基板の搬送方向と交差する方向に
板面が並び、かつ前記搬送コンベアに向けて突出する方
向に複数枚の抑止板が並設されているので、口筐の開口
方向とノズルの噴出方向とを調整することで不活性ガス
の層流形成と供給、ならびにチャンバの雰囲気封止性と
を最適に選ぶことができるため、はんだ槽領域における
不活性ガス雰囲気を安定に保持でき、そのためチャンバ
全体を小さくできるため、はんだ付け装置の低コスト化
と在来のはんだ付け装置への適用が可能となる。さら
に、はんだ融液の酸化が防止できるので、鉛公害の発生
を抑制し、正常なはんだ付けの環境を実現できる利点を
有する。

【００６６】また、はんだ槽の領域に設けられた抑止板
が回動可能に設けられたので、チャンバ内の不活性ガス
雰囲気の流動状態を容易に調整が容易にできる利点を有
する。

【００６７】また、チャンバは、その入口および出口の
少なくとも一方に配線基板の搬送方向と交差する方向
で、かつ搬送コンベアに向けて突出する方向に固定され
た複数枚の抑止板が形成されたので、チャンバ内の不活
性ガスの流出とチャンバ内の外気が流入するのを防止で
きチャンバ内の封止性を一層高く保持できる利点を有す
る。

【００６８】さらに、チャンバは、搬送コンベアに対し
て上側チャンバと下側チャンバとに分割可能に形成され
たので、チャンバの取付工事とメンテナンスが容易で、
経費が節減できる利点を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス雰
囲気形成装置の第１の実施例を示す側断面図である。

【図２】図１の実施例のＩ−Ｉ線による断面図である。

【図３】図１の実施例の口筐の詳細を拡大して示す斜視
図である。

【図４】図１の実施例の抑止板の回動機構を示す斜視図
である。

【図５】図１の実施例の第２の調節例を説明するための
面図である。

【図６】図１の実施例の第３の調節例を説明するための
面図である。

【図７】図１の実施例の第４の調節例を説明するための
面図である。

【図８】図１の実施例のノズルの方向と口筐の指向性の
例を示す側断面図である。

【図９】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス雰
囲気形成装置の第２の実施例を示す側断面図である。

【図１０】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス
雰囲気形成装置の第３の実施例を示す側断面図である。

【図１１】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス
雰囲気形成装置の第４の実施例を示す側断面図である。

【符号の説明】

１ 配線基板 ２ 搬送コンベア ３ はんだ槽 ４ はんだ融液 ７ チャンバ ７Ａ 上側チャンバ ７Ｂ 下側チャンバ ８ 入口 ９ 出口 １１ 抑止板 １２ 不活性ガス供給室 １３ 口筐 １４ ノズル １５ 抑止板 １６ 回動軸 ２４ 開口部

Claims (4)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送コンベアで搬送される配線基板には
   んだ付けを行うはんだ槽の領域を不活性ガスの雰囲気に
   保持するチャンバを備えたはんだ付け装置の不活性ガス
   雰囲気形成装置であって、 前記チャンバの出口側に、前記チャンバ内に不活性ガス
   を供給する不活性ガス供給室が形成され、この不活性ガ
   ス供給室内に前記搬送コンベアに対して前記チャンバの
   上部側と下部側に前記配線基板の搬送方向と交差する方
   向で前記搬送コンベアに向けて突出する断面Ｕ字状の口
   筐がその開口方向を回動自在にして設けられ、前記口筐
   の内部に前記不活性ガスを噴出するノズルがその噴出方
   向を可変として設けられ、さらに、前記チャンバ内の前
   記はんだ槽の領域の上側内壁に前記配線基板の搬送方向
   と交差する方向に板面が並び、かつ前記搬送コンベアに
   向けて突出する方向に複数枚の抑止板が並設されている
   ことを特徴とするはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形
   成装置。
2. 【請求項２】 はんだ槽の領域に設けられた抑止板が回
   動可能に設けられたことを特徴とする請求項１に記載の
   はんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置。
3. 【請求項３】 チャンバは、その入口および出口の少な
   くとも一方に配線基板の搬送方向と交差する方向に板面
   が並び、かつ搬送コンベアに向けて突出する方向に複数
   枚の抑止板が並設されたことを特徴とする請求項１また
   は２記載のはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装
   置。
4. 【請求項４】 チャンバは、搬送コンベアに対して上側
   チャンバと下側チャンバとに分割可能に形成されたこと
   を特徴とする請求項１及至３のいずれかに記載のはんだ
   付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置。