JP2548427B2 - ジヒドロキシジフェニルメタンの製造方法 - Google Patents
ジヒドロキシジフェニルメタンの製造方法Info
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- JP2548427B2 JP2548427B2 JP2140085A JP14008590A JP2548427B2 JP 2548427 B2 JP2548427 B2 JP 2548427B2 JP 2140085 A JP2140085 A JP 2140085A JP 14008590 A JP14008590 A JP 14008590A JP 2548427 B2 JP2548427 B2 JP 2548427B2
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- dihydroxydiphenylmethane
- catalyst
- phenol
- resin
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はジヒドロキシジフェニルメタンの製造方法に
係り、詳しくはエポキシ樹脂等の原料として、好適な異
性体の成分組成を有し、且つ触媒等の不純物を含まない
高純度のジヒドロキシジフェニルメタンを製造する方法
に関するものである。
係り、詳しくはエポキシ樹脂等の原料として、好適な異
性体の成分組成を有し、且つ触媒等の不純物を含まない
高純度のジヒドロキシジフェニルメタンを製造する方法
に関するものである。
ジヒドロキシジフェニルメタンは強酸性触媒の存在下
にフェノールとホルムアルデヒドとの反応で製造される
ことは知られている。例えば強酸性触媒としてシュウ
酸、塩酸、硫酸、パラトルエンスルホン酸等を溶解状態
で用いての均一反応法、または実質的に水、有機溶剤に
不溶な固体触媒としてスルホン酸基型カチオン交換樹脂
を用いる不均一反応法（特開平１−190713号公報）が提
示されている。
にフェノールとホルムアルデヒドとの反応で製造される
ことは知られている。例えば強酸性触媒としてシュウ
酸、塩酸、硫酸、パラトルエンスルホン酸等を溶解状態
で用いての均一反応法、または実質的に水、有機溶剤に
不溶な固体触媒としてスルホン酸基型カチオン交換樹脂
を用いる不均一反応法（特開平１−190713号公報）が提
示されている。
しかしながら、これら従来法によるジヒドロキシジフ
ェニルメタンの製造方法で、均一反応での触媒の除去方
法としては従来より水洗または中和等の手段で行われて
いるが、方法の煩雑さのみならずジヒドロキシジフェニ
ルメタン中より完全に触媒等を除去するのは困難である
ために所望される高純度品は得られにくい。
ェニルメタンの製造方法で、均一反応での触媒の除去方
法としては従来より水洗または中和等の手段で行われて
いるが、方法の煩雑さのみならずジヒドロキシジフェニ
ルメタン中より完全に触媒等を除去するのは困難である
ために所望される高純度品は得られにくい。
また不均一反応法ではジヒドロキシジフェニルメタン
中の異性体である4,4′−ジヒドロキシジフェニルメタ
ンの含有量が高くなり、エポキシ樹脂の原料として用い
る場合にエポキシ樹脂の前駆体であるグリシジルエーテ
ルが結晶化し取扱いが困難になるため好ましくない。
中の異性体である4,4′−ジヒドロキシジフェニルメタ
ンの含有量が高くなり、エポキシ樹脂の原料として用い
る場合にエポキシ樹脂の前駆体であるグリシジルエーテ
ルが結晶化し取扱いが困難になるため好ましくない。
本発明の目的は従来の技術で満足されなかった、触媒
等の不純物を含まない高純度で且つ好適な異性体の成分
組成を有するジヒドロキシジフェニルメタンの製造方法
を提供することにある。
等の不純物を含まない高純度で且つ好適な異性体の成分
組成を有するジヒドロキシジフェニルメタンの製造方法
を提供することにある。
本発明者らは、上述した如き従来技術の問題点を解決
するために鋭意検討した結果、反応触媒として実質的に
水、有機溶媒に不溶であるカチオン型イオン交換樹脂と
してホスホン型キレート樹脂を使用することによって従
来法より、触媒等の不純物を含まない高純度な、且つエ
ポキシ樹脂用途として好適な成分組成を有するジヒドロ
キシジフェニルメタンが得られることを見出し本発明を
完成するに到ったものである。
するために鋭意検討した結果、反応触媒として実質的に
水、有機溶媒に不溶であるカチオン型イオン交換樹脂と
してホスホン型キレート樹脂を使用することによって従
来法より、触媒等の不純物を含まない高純度な、且つエ
ポキシ樹脂用途として好適な成分組成を有するジヒドロ
キシジフェニルメタンが得られることを見出し本発明を
完成するに到ったものである。
即ち本発明はフェノールとホルムアルデヒドを触媒の
存在下縮合反応させてジヒドロキシジフェニルメタンを
得るに際し、触媒としてホスホン型キレート樹脂を使用
することを特徴とするジヒドロキシジフェニルメタンの
製造方法である。
存在下縮合反応させてジヒドロキシジフェニルメタンを
得るに際し、触媒としてホスホン型キレート樹脂を使用
することを特徴とするジヒドロキシジフェニルメタンの
製造方法である。
本発明において触媒として使用するホスホン型キレー
ト樹脂は、下記式（１）で表され、 例えばRSPOキレート樹脂（三井東圧化学（株）製）の
商品名TS、211−ISなどが挙げられる。
ト樹脂は、下記式（１）で表され、 例えばRSPOキレート樹脂（三井東圧化学（株）製）の
商品名TS、211−ISなどが挙げられる。
本発明におけるホスホン型キレート樹脂の使用量は特
に限定されない。例えば回分方式において使用される触
媒量はフェノールの重量に対して５〜20重量％が好まし
い。触媒量が５％未満では反応速度が遅くなり、また20
％を越えると当該樹脂に吸着されるジヒドロキシジフェ
ニルメタン等が増えるため収率を低下させる原因とな
る。
に限定されない。例えば回分方式において使用される触
媒量はフェノールの重量に対して５〜20重量％が好まし
い。触媒量が５％未満では反応速度が遅くなり、また20
％を越えると当該樹脂に吸着されるジヒドロキシジフェ
ニルメタン等が増えるため収率を低下させる原因とな
る。
本発明においては、フェノール（Ｐ）とホルムアルデ
ヒド（Ｆ）とをモル比（F/P）0.01〜0.5の範囲で縮合反
応させることが好ましい。特に好ましくは0.025〜0.10
の範囲である。モル比が0.5を超えると高次縮合物が多
くなり、また0.01未満では高次縮合物は少なくなるが、
ジヒドロキシジフェニルメタンの収量も少なくなるので
好ましくない。
ヒド（Ｆ）とをモル比（F/P）0.01〜0.5の範囲で縮合反
応させることが好ましい。特に好ましくは0.025〜0.10
の範囲である。モル比が0.5を超えると高次縮合物が多
くなり、また0.01未満では高次縮合物は少なくなるが、
ジヒドロキシジフェニルメタンの収量も少なくなるので
好ましくない。
また、縮合反応の温度としては、50〜90℃が好まし
く、さらに好ましくは60〜80℃である。反応温度が90℃
を超えると当該樹脂の劣化が早まり好ましくなく、50℃
未満では反応速度が遅くなり生産性が悪くなる。
く、さらに好ましくは60〜80℃である。反応温度が90℃
を超えると当該樹脂の劣化が早まり好ましくなく、50℃
未満では反応速度が遅くなり生産性が悪くなる。
本発明においてホスホン型キレート樹脂の存在下にお
けるフェノールとホルムアルデヒドとの反応態様として
特に制限はなく、例えば、３者の混合物を混合撹拌で反
応させる方法等の回分式、またはホスホン型キレート樹
脂の固定層に出発原料の混合物を通過させて反応させる
方法等の連続式が挙げられる。
けるフェノールとホルムアルデヒドとの反応態様として
特に制限はなく、例えば、３者の混合物を混合撹拌で反
応させる方法等の回分式、またはホスホン型キレート樹
脂の固定層に出発原料の混合物を通過させて反応させる
方法等の連続式が挙げられる。
回分反応後の生成物と当該樹脂の分離方法としては、
特に制限はなく生成物の状態に応じて従来からの公知の
分離操作に従って実施すればよい。
特に制限はなく生成物の状態に応じて従来からの公知の
分離操作に従って実施すればよい。
次いで分離後、過剰なフェノール、生成水を蒸留によ
って除去する。蒸留操作として特に制限はなく公知の常
圧蒸留、減圧蒸留のいずれであってもよく、また残留フ
ェノールをより減少させるため水蒸気蒸留を行ってもよ
い。蒸留によって回収したフェノールは再び原料として
使用することが出来るのは勿論である。
って除去する。蒸留操作として特に制限はなく公知の常
圧蒸留、減圧蒸留のいずれであってもよく、また残留フ
ェノールをより減少させるため水蒸気蒸留を行ってもよ
い。蒸留によって回収したフェノールは再び原料として
使用することが出来るのは勿論である。
以下実施例により本発明を説明する。
実施例１ コンデンサー、撹拌機を備えたフラスコにフェノール
100gとホスホン型キレート樹脂（三井東圧化学（株）
製、RSPO樹脂TS）を5gを入れ、内温を75℃に保ち１時間
撹拌後、37重量％のホルマリン8.6gを装入し３時間撹拌
した。次いでホスホン型キレート樹脂を濾別した。濾液
から過剰な水、フェノールを蒸留し、20gのジヒドロキ
シジフェニルメタンを得た。得られたジヒドロキシジフ
ェニルメタンの純度、異性体成分の含有率の値を第１表
に示す。
100gとホスホン型キレート樹脂（三井東圧化学（株）
製、RSPO樹脂TS）を5gを入れ、内温を75℃に保ち１時間
撹拌後、37重量％のホルマリン8.6gを装入し３時間撹拌
した。次いでホスホン型キレート樹脂を濾別した。濾液
から過剰な水、フェノールを蒸留し、20gのジヒドロキ
シジフェニルメタンを得た。得られたジヒドロキシジフ
ェニルメタンの純度、異性体成分の含有率の値を第１表
に示す。
実施例２ コンデンサー、撹拌機を備えたフラスコにフェノール
100gとホスホン型キレート樹脂（三井東圧化学（株）
製、RSPO樹脂TS）を5gを入れ、内温を60℃に保ち１時間
撹拌後、37重量％のホルマリン4.3gを装入し３時間撹拌
した。次いでホスホン型キレート樹脂を濾別した。濾液
から過剰な水、フェノールを蒸留し、11gのジヒドロキ
シジフェニルメタンを得た。得られたジヒドロキシジフ
ェニルメタンの純度、異性体成分の含有率の値を第１表
に示す。
100gとホスホン型キレート樹脂（三井東圧化学（株）
製、RSPO樹脂TS）を5gを入れ、内温を60℃に保ち１時間
撹拌後、37重量％のホルマリン4.3gを装入し３時間撹拌
した。次いでホスホン型キレート樹脂を濾別した。濾液
から過剰な水、フェノールを蒸留し、11gのジヒドロキ
シジフェニルメタンを得た。得られたジヒドロキシジフ
ェニルメタンの純度、異性体成分の含有率の値を第１表
に示す。
比較例１ コンデンサー、撹拌機を備えたフラスコにフェノール
100gとスルホン酸基型カチオン樹脂触媒（西独バイエル
社製SPC−118）を5gを入れ、内温を60℃に保ち１時間撹
拌後、37重量％のホルマリン8.6gを装入し３時間撹拌し
た。次いでスルホン酸基型カチオン樹脂触媒を濾別し
た。濾液から過剰な水、フェノールを蒸留し、19gのジ
ヒドロキシジフェニルメタンを得た。得られたジヒドロ
キシジフェニルメタンの純度と異性体成分の含有率の値
を第１表に示す。
100gとスルホン酸基型カチオン樹脂触媒（西独バイエル
社製SPC−118）を5gを入れ、内温を60℃に保ち１時間撹
拌後、37重量％のホルマリン8.6gを装入し３時間撹拌し
た。次いでスルホン酸基型カチオン樹脂触媒を濾別し
た。濾液から過剰な水、フェノールを蒸留し、19gのジ
ヒドロキシジフェニルメタンを得た。得られたジヒドロ
キシジフェニルメタンの純度と異性体成分の含有率の値
を第１表に示す。
本発明により得られたジヒドロキシジフェニルメタン
は、触媒等の不純物を含まない高純度品が得られ、さら
にスルホン酸基を有するカチオン型樹脂触媒よりジヒド
ロキシジフェニルメタン中の4,4′−ジヒドロキシジフ
ェニルメタンの含有率を低く制御されたエポキシ樹脂の
原料として有用なジヒドロキシジフェニルメタンが提供
される。
は、触媒等の不純物を含まない高純度品が得られ、さら
にスルホン酸基を有するカチオン型樹脂触媒よりジヒド
ロキシジフェニルメタン中の4,4′−ジヒドロキシジフ
ェニルメタンの含有率を低く制御されたエポキシ樹脂の
原料として有用なジヒドロキシジフェニルメタンが提供
される。
Claims (2)
- 【請求項１】フェノールとホルムアルデヒドを触媒存在
下で縮合反応させてジヒドロキシジフェニルメタンを得
るに際し、フェノール（Ｐ）とホルムアルデヒド（Ｆ）
とのモル比（F/P）0.025〜0.10の範囲で、触媒としてホ
スホン型キレート樹脂を使用することを特徴とするジヒ
ドロキシジフェニルメタンの製造方法。 - 【請求項２】縮合反応を50〜90℃の温度で行なう請求項
１のジヒドロキシジフェニルメタンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2140085A JP2548427B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | ジヒドロキシジフェニルメタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2140085A JP2548427B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | ジヒドロキシジフェニルメタンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0436254A JPH0436254A (ja) | 1992-02-06 |
| JP2548427B2 true JP2548427B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=15260612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2140085A Expired - Fee Related JP2548427B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | ジヒドロキシジフェニルメタンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2548427B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06128183A (ja) * | 1992-02-27 | 1994-05-10 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ビスフェノールｆ及びノボラック型フェノール樹脂の併産方法 |
| JPH06211715A (ja) * | 1993-01-22 | 1994-08-02 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ビスフェノールｆの製造方法 |
| JP2006016335A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Asahi Organic Chem Ind Co Ltd | テトラキス（ヒドロキシフェニル）アルカンの製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55124730A (en) * | 1979-03-22 | 1980-09-26 | Ube Ind Ltd | Preparation of dihydroxydiphenylmethane |
| JPH0751611B2 (ja) * | 1988-01-25 | 1995-06-05 | 旭有機材工業株式会社 | フェノール樹脂及びビスフェノールの製造方法 |
-
1990
- 1990-05-31 JP JP2140085A patent/JP2548427B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0436254A (ja) | 1992-02-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |