JP2547411Y2

JP2547411Y2 - 弁組立体

Info

Publication number: JP2547411Y2
Application number: JP1991035658U
Authority: JP
Inventors: 川誠石
Original assignee: エスエムシー株式会社
Priority date: 1991-04-19
Filing date: 1991-04-19
Publication date: 1997-09-10
Anticipated expiration: 2006-04-19
Also published as: JPH04121588U

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本考案は、マニホールドベースに
弁を設置した弁組立体に関するものであり、特に詳しく
は、吸着搬送装置等の真空圧機器への空気の給排に好適
な弁組立体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】吸着パッドによって所望のワークを吸着
して搬送する吸着搬送装置は、特に例示するまでもなく
既に知られており、この吸着搬送装置においては、吸着
パッドに、真空圧を作用させるための真空弁と、ワーク
を解放する空気を供給するための真空破壊弁を接続する
必要がある。このため、従来は、吸着パッドと真空弁の
吸引ポート及び真空破壊弁の出力ポートとを、別個のチ
ューブによって接続しているが、移動する吸着パッドに
接続したこれらのチューブが作業の邪魔になるという問
題がある。この問題を解決するものとして、マニホール
ドベースと、エゼクタ、真空弁及び真空破壊弁を一体に
組み付けたニゼクタ機構と、これらの間のプレートとを
備え、マニホールドベースに設けた真空ポートに真空圧
と真空破壊圧とを作用させるエゼクタ装置が、実開昭６
３−１１８３９９号公報において提案されている。この
既提案の装置は、真空ポートに真空圧と真空破壊圧とを
作用させることができるので、接続するチューブの数を
１本にすることができるが、特殊な構成のエゼクタ機構
を使用するために、弁が全体として高価になる。また、
真空弁の吸引ポートと真空ポートとを連通させる通路、
及び真空破壊弁の出力ポートと上記真空ポートとを連通
させる通路が、プレート及びマニホールドベースに個別
に形成されているので、これらの通路取りが複雑になる
という問題がある。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】本考案が解決しようと
する課題は、チューブによる作業の障害が少なく、かつ
安価で通路取りが容易な弁組立体を提供することにあ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本考案の弁組立体は、圧縮空気の供給流路、該供給
流路に連通し弁設置面に開口する供給開口、及び弁設置
面に開口する出力開口を出力口に連通させる出力流路を
有するマニホールドベースと、空気の吸引ポートと真空
ポートを通断させる真空弁と、空気の供給ポートと出力
ポートを通断させる真空破壊弁と、上記弁設置面と真空
弁及び真空破壊弁の間のプレートとを備え、上記プレー
トが、上記真空弁の吸引ポート及び真空破壊弁の出力ポ
ートを一括して上記出力開口に連通させる出力通路と、
上記供給開口を真空破壊弁の供給ポートに連通させる供
給通路とを備えていることを特徴としている。

【０００５】また、同様の課題を解決するため、プレー
トが、真空口と、真空弁の真空ポートを真空口に連通さ
せる真空通路を備えているとよい。さらに、同様の課題
を解決するため、マニホールドベースが、真空流路及び
該真空流路に連通し弁設置面に開口する真空開口を備
え、プレートが、真空弁の真空ポートを上記真空開口に
連通させる真空通路を備えているとよい。

【０００６】

【作用】プレートに、マニホールドベースの出力開口を
真空弁の吸引ポート及び真空破壊弁の出力ポートに一括
して連通させる出力通路を設けたことにより、マニホー
ルドベースの出力口に真空圧と空気圧を作用させること
ができるので、接続するチューブの数が１つになって、
チューブによる作業の障害を少なくすることができる。
また、プレート及びマニホールドベースにおいてこれら
のポートを個別に出力開口に連通させるものに比べて、
プレート及びマニホールドベースの通路取りが簡単で、
スペースの制約を受けることも少ない。

【０００７】また、プレートに、真空口と、該真空口を
真空弁の真空ポートに連通させる真空通路を設けたこと
により、プレートに直接真空源を接続できるので、既存
のマニホールドベースから複数個設置した真空弁に真空
圧を作用させることが可能になる。さらに、マニホール
ドベースに、真空流路及び該真空流路に連通して弁設置
面に開口する真空開口を、プレートに、上記真空開口を
真空弁の真空ポートに連通させる真空通路を、それぞれ
設けたので、マニホールドベースに設置する複数個の真
空弁に、一括して真空圧を作用させることが可能にな
る。

【０００８】

【実施例】図１ないし図３は本考案の第１実施例を示
し、この弁組立体は、マニホールドベース１、真空弁
２、真空破壊弁３、及びプレート４を備えている。上記
マニホールドベース１は、圧縮空気の供給流路６と排出
流路７、これらの流路に個別に連通し弁設置面１ａに開
口する供給開口６ａ，・・と排出開口７ａ，・・、及び
弁設置面１ａに開口する出力開口８ａ，８ｂを出力口９
ａ，９ｂに連通させる出力流路１０ａ，１０ｂを備えて
いる。

【０００９】真空弁２は、吸引ポート１１と真空ポート
１２を備え、ソレノイド２ａの励磁及び励磁解除により
ポート１１と１２間の流路が通断するものとして構成さ
れ、真空破壊弁３は、供給ポート１４と出力ポート１５
を備え、ソレノイド３ａの励磁及び励磁解除によりポー
ト１４と１５間の流路が通断するものとして構成されて
いる。

【００１０】プレート４は、供給開口６ａと真空破壊弁
３の供給ポート１４を連通させる供給通路１７と、真空
弁２の吸引ポート１１及び真空破壊弁３の出力ポート１
５を出力開口８ｂに一括して連通させる出力通路１８
と、真空口１９と、真空口１９を真空ポート１２に連通
させる真空通路２０と、弁設置面１ａに開口するパイロ
ット口２２と真空弁２の内部パイロットとを連通させる
パイロット通路２３とを備え、パイロット口２２は供給
流路６に連通している。またプレート４は、供給通路１
７から分岐させたパイロット通路２４を有し、該パイロ
ット通路２４は真空破壊弁３の内部パイロットに連通
し、供給通路１７におけるパイロット通路２４との分岐
部より下流側に、可変絞り２５が設置されている。しか
しながら、上記真空弁２及び真空破壊弁３は、図示のも
のに限定されるものではない。

【００１１】上記プレート４は、取付ねじ２７ａ，・・
によって、ガスケット２８を介してマニホールドベース
１の弁設置面１ａに設置され、真空弁２と真空破壊弁３
は、取付ねじ２７ｂ，・・によってプレート４に取付け
られる。図中の符号２９ａ，２９ｂ，２９ｃは、マニホ
ールドベース１に設置した切換弁を示し、これらの切換
弁の供給ポートＰ，・・は供給開口６ａ，・・に、出力
ポートＡ，・・とＢ，・・は出力開口８ａ，・・と８
ｂ，・・に、排出ポートＥＡ，・・とＥＢ，・・は排出
開口７ａ，・・に、それぞれ連通している。

【００１２】上記第１実施例は、出力口９ｂをチューブ
によって吸着パッドに、真空口１９を真空源に（いずれ
も図示省略）接続して使用される。この場合、出力口９
ｂと吸着パッドを１本のチューブで接続できるので、チ
ューブの接続が容易なばかりでなく、チューブが作業の
邪魔になることを少なくすることができる。この実施例
は、ソレノイド２ａの励磁により真空弁２のポート１１
と１２を連通させると、プレート４の出力通路１８を介
して出力口９ｂに真空圧を作用させることができ、ソレ
ノイド２ａの励磁を解除して真空弁２のポート間の連通
を遮断するとともに、ソレノイド３ａを励磁して真空破
壊弁３のポート１４と１５を連通させると出力口９ｂに
空気を供給することができ、その流量はつまみ２５ａに
よって調整することができる。

【００１３】図４及び図５は本考案の第２実施例を示
し、第２実施例のマニホールドベース３１は、真空流路
３２と、該真空流路３２に連通して弁設置面３１ａに開
口する真空開口３２ａを備え、プレート３４は、真空弁
２の真空ポート１２と真空開口３２ａとを連通させる真
空通路３５を備えている。第２実施例の他の構成は第１
実施例と同じであるから、図の主要な箇所に同一の符号
を付して詳細な説明は省略する。上記第２実施例は、真
空開口３２ａを複数個設けることにより、マニホールド
ベースに設置する複数個の真空弁に、一括して真空圧を
作用させることが可能になる。

【００１４】

【考案の効果】本考案の弁組立体は、マニホールドベー
スと真空弁及び真空破壊弁との間に設置したプレート
に、真空弁の吸引ポートと真空破壊弁の供給ポートをマ
ニホールドブロックの出力開口に一括して連通させる吸
引通路を設けたことにより、マニホールドブロックの出
力口に真空圧と空気圧を作用させることができるので、
チューブの取付けが簡単で、かつチューブが作業の邪魔
になることを少なくすることができる。また、プレート
及びマニホールドベースの通路取りが容易でスペースの
制約を受けることがない。さらに、真空弁及び真空破壊
弁に汎用性のある弁を使用できるので、弁全体を安価な
ものとすることができる。

【００１５】また、プレートに、真空口と真空通路を設
けたので、既存のマニホールドベースから複数個設置す
る真空弁に真空圧を作用させることが可能になる。さら
に、マニホールドベースに真空流路を設けたので、マニ
ホールドベースに設置する複数個の真空弁に、一括して
真空圧を作用させることが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例の構成図である。

【図２】同じく要部の分解斜視図である。

【図３】同じく正面図である。

【図４】第２実施例の構成図である。

【図５】同じく要部の分解斜視図である。

【符号の説明】

１，３１マニホールドブロック１ａ，３１ａ弁設置面２真空弁３真空破壊弁４，３４プレート６供給流路６ａ供給開口８ｂ出力開口９ｂ出力口１０ｂ出力流路１１吸引ポート１２真空ポート１４供給ポート１５出力ポート１７供給通路１８出力通路１９真空口２０，３５真空通路３２真空流路３２ａ真空開口

Claims

(57)【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】圧縮空気の供給流路、該供給流路に連通
し弁設置面に開口する供給開口、及び弁設置面に開口す
る出力開口を出力口に連通させる出力流路を有するマニ
ホールドベースと、空気の吸引ポートと真空ポートを通
断させる真空弁と、空気の供給ポートと出力ポートを通
断させる真空破壊弁と、上記弁設置面と真空弁及び真空
破壊弁の間のプレートとを備え、上記プレートが、上記真空弁の吸引ポート及び真空破壊
弁の出力ポートを一括して上記出力開口に連通させる出
力通路と、上記供給開口を真空破壊弁の供給ポートに連
通させる供給通路とを備えている、ことを特徴とする弁組立体。
【請求項２】プレートが、真空口と、真空弁の真空ポ
ートを真空口に連通させる真空通路を備えている、こと
を特徴とする請求項１に記載した弁組立体。
【請求項３】マニホールドベースが、真空流路及び該
真空流路に連通し弁設置面に開口する真空開口を備え、
プレートが、真空弁の真空ポートを上記真空開口に連通
させる真空通路を備えている、ことを特徴とする請求項
１に記載した弁組立体。