JPH04121588U - 弁組立体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 チューブによる作業の障害が少ない弁組立体
を提供する。 【構成】 マニホールドベース１と、真空弁２及び真空
破壊弁３との間に設置したプレート４に、真空弁２の吸
引ポート１１及び真空破壊弁３の出力ポート１５をマニ
ホールドベース１の出力開口８ｂに連通させる出力通路
１８を設けて、出力開口８ｂに真空圧と空気圧を切換え
て作用させる。 【効果】 出力口に接続するチューブが１本になるの
で、チューブによる作業の障害が少なくなる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、マニホールドベースに弁を設置した弁組立体に関するものであり、 特に詳しくは、吸着搬送装置等の真空圧機器への空気の給排に好適な弁組立体に 関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

吸着パッドによって所望のワークを吸着して搬送する吸着搬送装置は、特に例 示するまでもなく既に知られており、この吸着搬送装置においては、吸着パッド に、真空圧を作用させるための真空弁と、ワークを解放する空気を供給するため の真空破壊弁を接続する必要がある。 このため、従来は、吸着パッドと真空弁の吸引ポート及び真空破壊弁の出力ポ ートとを、別個のチューブによって接続しているが、移動する吸着パッドに接続 したこれらのチューブが作業の邪魔になるという問題がある。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

本考案が解決しようとする課題は、チューブによる作業の障害が少ない弁組立 体を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

上記課題を解決するため、本考案の弁組立体は、圧縮空気の供給流路、該供給 流路に連通し弁設置面に開口する供給開口、及び弁設置面に開口する出力開口を 出力口に連通させる出力流路を有するマニホールドベースと、空気の吸引ポート と真空ポートを通断させる真空弁と、空気の供給ポートと出力ポートを通断させ る真空破壊弁と、上記弁設置面と真空弁及び真空破壊弁の間のプレートとを備え 、上記プレートが、上記真空弁の吸引ポート及び真空破壊弁の出力ポートを出力 開口に連通させる出力通路と、上記供給開口を真空破壊弁の供給ポートに連通さ せる供給通路とを備えていることを特徴としている。

【０００５】 また、同様の課題を解決するため、プレートが、真空口と、真空弁の真空ポー トを真空口に連通させる真空通路を備えているとよい。 さらに、同様の課題を解決するため、マニホールドベースが、真空流路及び該 真空流路に連通し弁設置面に開口する真空開口を備え、プレートが、真空弁の真 空ポートを上記真空開口に連通させる真空通路を備えているとよい。

【０００６】

【作用】

プレートに、マニホールドベースの出力開口を真空弁の吸引ポート及び真空破 壊弁の出力ポートに連通させる出力通路を設けたことにより、マニホールドベー スの出力口に真空圧と空気圧を作用させることができるので、接続するチューブ の数が１つになって、チューブによる作業の障害を少なくすることができる。

【０００７】 また、プレートに、真空口と、該真空口を真空弁の真空ポートに連通させる真 空通路を設けたことにより、プレートに直接真空源を接続できるので、既存のマ ニホールドベースを使用することができる。 さらに、マニホールドベースに、真空流路及び該真空流路に連通して弁設置面 に開口する真空開口を、プレートに、上記真空開口を真空弁の真空ポートに連通 させる真空通路を、それぞれ設けたので、マニホールドベースに複数個の真空弁 と真空破壊弁を設置することが可能になる。

【０００８】

【実施例】

図１ないし図３は本考案の第１実施例を示し、この弁組立体は、マニホールド ベース１、真空弁２、真空破壊弁３、及びプレート４を備えている。 上記マニホールドベース１は、圧縮空気の供給流路６と排出流路７、これらの 流路に個別に連通し弁設置面１ａに開口する供給開口６ａ，・・と排出開口７ａ ，・・、及び弁設置面１ａに開口する出力開口８ａ，８ｂを出力口９ａ，９ｂに 連通させる出力流路１０ａ，１０ｂを備えている。

【０００９】 真空弁２は、吸引ポート１１と真空ポート１２を備え、ソレノイド２ａの励磁 及び励磁解除によりポート１１と１２間の流路が通断するものとして構成され、 真空破壊弁３は、供給ポート１４と出力ポート１５を備え、ソレノイド３ａの励 磁及び励磁解除によりポート１４と１５間の流路が通断するものとして構成され ている。

【００１０】 プレート４は、供給開口６ａと真空破壊弁３の供給ポート１４を連通させる供 給通路１７と、真空弁２の吸引ポート１１及び真空破壊弁３の出力ポート１５を 出力開口８ｂに連通させる出力通路１８と、真空口１９と、真空口１９を真空ポ ート１２に連通させる真空通路２０と、弁設置面１ａに開口するパイロット口２ ２と真空弁２の内部パイロットとを連通させるパイロット通路２３とを備え、パ イロット口２２は供給流路６に連通している。またプレート４は、供給通路１７ から分岐させたパイロット通路２４を有し、該パイロット通路２４は真空破壊弁 ３の内部パイロットに連通し、供給通路１７におけるパイロット通路２４との分 岐部より下流側に、可変絞り２５が設置されている。 しかしながら、上記真空弁２及び真空破壊弁３は、図示のものに限定されるも のではない。

【００１１】 上記プレート４は、取付ねじ２７ａ，・・によって、ガスケット２８を介して マニホールドベース１の弁設置面１ａに設置され、真空弁２と真空破壊弁３は、 取付ねじ２７ｂ，・・によってプレート４に取付けられる。 図中の符号２９ａ，２９ｂ，２９ｃは、マニホールドベース１に設置した切換 弁を示し、これらの切換弁の供給ポートＰ，・・は供給開口６ａ，・・に、出力 ポートＡ，・・とＢ，・・は出力開口８ａ，・・と８ｂ，・・に、排出ポートＥ Ａ，・・とＥＢ，・・は排出開口７ａ，・・に、それぞれ連通している。

【００１２】 上記第１実施例は、出力口９ｂをチューブによって吸着パッドに、真空口１９ を真空源に（いずれも図示省略）接続して使用される。この場合、出力口９ｂと 吸着パッドを１本のチューブで接続できるので、チューブの接続が容易なばかり でなく、チューブが作業の邪魔になることを少なくすることができる。 この実施例は、ソレノイド２ａの励磁により真空弁２のポート１１と１２を連 通させると、プレート４の出力通路１８を介して出力口９ｂに真空圧を作用させ ることができ、ソレノイド２ａの励磁を解除して真空弁２のポート間の連通を遮 断するとともに、ソレノイド３ａを励磁して真空破壊弁３のポート１４と１５を 連通させると出力口９ｂに空気を供給することができ、その流量はつまみ２５ａ によって調整することができる。

【００１３】 図４及び図５は本考案の第２実施例を示し、第２実施例のマニホールドベース ３１は、真空流路３２と、該真空流路３２に連通して弁設置面３１ａに開口する 真空開口３２ａを備え、プレート３４は、真空弁２の真空ポート１２と真空開口 ３２ａとを連通させる真空通路３５を備えている。 第２実施例の他の構成は第１実施例と同じであるから、図の主要な箇所に同一 の符号を付して詳細な説明は省略する。 上記第２実施例は、真空開口３２ａを複数個設けることにより、マニホールド ベースに複数個の真空弁を設置することが可能である。

【００１４】

【考案の効果】

本考案の弁組立体は、マニホールドベースと真空弁及び真空破壊弁との間に設 置したプレートに、真空弁の吸引ポートと真空破壊弁の供給ポートをマニホール ドブロックの出力開口に連通させる吸引通路を設けたことにより、マニホールド ブロックの出力口に真空圧と空気圧を作用させることができるので、チューブの 取付けが簡単で、かつチューブが作業の邪魔になることを少なくすることができ る。

【００１５】 また、プレートに、真空口と真空通路を設けたので、既存のマニホールドベー スを使用することができる。 さらに、マニホールドベースに真空流路を設けたので、マニホールドベースに 複数個の真空弁と真空破壊弁を設置することが可能になる。

【提出日】平成３年７月１日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００７

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００７】 また、プレートに、真空口と、該真空口を真空弁の真空ポートに連通させる真 空通路を設けたことにより、プレートに直接真空源を接続できるので、既存のマ ニホールドベースから複数個設置した真空弁に真空圧を作用させることが可能に なる。 さらに、マニホールドベースに、真空流路及び該真空流路に連通して弁設置面 に開口する真空開口を、プレートに、上記真空開口を真空弁の真空ポートに連通 させる真空通路を、それぞれ設けたので、マニホールドベースに設置する複数個 の真空弁に、一括して真空圧を作用させることが可能になる。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１３】 図４及び図５は本考案の第２実施例を示し、第２実施例のマニホールドベース ３１は、真空流路３２と、該真空流路３２に連通して弁設置面３１ａに開口する 真空開口３２ａを備え、プレート３４は、真空弁２の真空ポート１２と真空開口 ３２ａとを連通させる真空通路３５を備えている。 第２実施例の他の構成は第１実施例と同じであるから、図の主要な箇所に同一 の符号を付して詳細な説明は省略する。 上記第２実施例は、真空開口３２ａを複数個設けることにより、マニホールド ベースに設置する複数個の真空弁に、一括して真空圧を作用させることが可能に なる。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１５】 また、プレートに、真空口と真空通路を設けたので、既存のマニホールドベー スから複数個設置する真空弁に真空圧を作用させることが可能になる。 さらに、マニホールドベースに真空流路を設けたので、マニホールドベースに設置する複数個の真空弁に、一括して真空圧を作用させることが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例の構成図である。

【図２】同じく要部の分解斜視図である。

【図３】同じく正面図である。

【図４】第２実施例の構成図である。

【図５】同じく要部の分解斜視図である。

【符号の説明】

１，３１ マニホールドブロック １ａ，３１ａ 弁設置面 ２ 真空弁 ３ 真空破壊弁 ４，３４ プレート ６ 供給流路 ６ａ 供給開口 ８ｂ 出力開口 ９ｂ 出力口 １０ｂ 出力流路 １１ 吸引ポート １２ 真空ポート １４ 供給ポート １５ 出力ポート １７ 供給通路 １８ 出力通路 １９ 真空口 ２０，３５ 真空通路 ３２ 真空流路 ３２ａ 真空開口

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 圧縮空気の供給流路、該供給流路に連通
   し弁設置面に開口する供給開口、及び弁設置面に開口す
   る出力開口を出力口に連通させる出力流路を有するマニ
   ホールドベースと、空気の吸引ポートと真空ポートを通
   断させる真空弁と、空気の供給ポートと出力ポートを通
   断させる真空破壊弁と、上記弁設置面と真空弁及び真空
   破壊弁の間のプレートとを備え、上記プレートが、上記
   真空弁の吸引ポート及び真空破壊弁の出力ポートを出力
   開口に連通させる出力通路と、上記供給開口を真空破壊
   弁の供給ポートに連通させる供給通路とを備えている、
   ことを特徴とする弁組立体。
2. 【請求項２】 プレートが、真空口と、真空弁の真空ポ
   ートを真空口に連通させる真空通路を備えている、こと
   を特徴とする請求項１に記載した弁組立体。
3. 【請求項３】 マニホールドベースが、真空流路及び該
   真空流路に連通し弁設置面に開口する真空開口を備え、
   プレートが、真空弁の真空ポートを上記真空開口に連通
   させる真空通路を備えている、ことを特徴とする請求項
   １に記載した弁組立体。