JP2547383B2 - 磁性を利用した物品の製造方法と製造装置 - Google Patents

磁性を利用した物品の製造方法と製造装置

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁性を利用した金属物品を製造するための
方法と装置に関するものである。本発明にはさらに、こ
の方法により得られる磁気応用物品を製造するのに役立
つ製品も含まれる。
従来の技術 特定の磁気特性を備えた合金は種々知られている。こ
れら合金は、その磁気特性を利用して、例えばリレー、
メータ、変換器などの電気工業または電子工業で使用さ
れる物品を製造するのに使用することができる。
特に、鉄、アルミニウム、ニッケル、コバルトを主成
分とする四元合金が一般に使用されている。この四元合
金は好ましい磁気特性を備えているが、場合によっては
鉄、コバルト、クロムを主成分とする三元合金を用いる
ほうが好ましい。実際、これらの合金は連続ストリッ
プ、ワイヤ、シート、またはビレットなどの細長い形状
であり、切断またはパンチングにより成形できるという
利点がある。
これら合金の磁気特性は、組成や熱処理条件を必要に
応じて変えることによって調整可能である。特に、クロ
ムを26〜32重量%とコバルトを9〜25重量%含むFe-Co-
Cr合金はFe-Al-Cr四元合金と磁気特性が似ているという
利点があり、しかも例えばパンチングまたは鍛造等によ
り成形が可能である。このような理由でこれらの合金は
成形可能マグネットと呼ばれている。
所望の特性をもたせるための熱処理操作はかなり複雑
であり、加熱し、所定温度に維持し、さらには所定の温
度変化率で冷却するといった種々の操作が必要である。
しかし、多くの場合、160,000A/m(2,000 Oe)以上の強
い強磁場中で、例えば温度を約650℃にして磁性合金を
アニール操作するのが有効であるということは知られて
いる。
発明が解決しようとする課題 磁場中でのこのアニール操作は極めて有効であるが、
このような強磁場を発生させるための電磁石またはその
代替装置が必要であるという欠点がある。そのため、装
置がかなり高価になるため、実際に利用するのは難し
い。
本発明は、従来公知の方法の場合よりもはるかに弱い
磁場を用いることによって、特に電磁石を使わないで、
磁場中でアニール操作を実施することのできる新しい方
法を提供する。
課題を解決するための手段 本発明によれば、アニール処理を少なくとも2回の連
続した段階に分割する。第1段階は、個々の製品に切断
する前に上記の細長い製品に対して磁場中で行う導入段
階であり、第2段階は、この第1の導入段階を経た製品
から得られる分離した複数の物品に対して行う時効(エ
ージング)段階である。
上記の細長い製品がドラムから巻戻すことのできる連
続ストリップまたはワイヤである場合には、磁場発生手
段を備えた管状の炉の内側でストリップまたはワイヤを
連続的に引き出しながら上記の第1の導入段階を実施す
る。磁場発生手段は、上記管状炉の壁に組み込まれたソ
レノイドであることが好ましく、このソレノイドには電
流が供給される。
本発明はさらに、連続ストリップやワイヤの他にシー
トやビレットの形態の製品にも適用することができる。
この実施例の場合には、磁場発生手段を備えた管状炉の
全長の一部に相当する製品の少なくとも一部を、第1導
入段階を実施するのに必要な時間の間、管状炉内に静止
状態に保っておく。
本発明の別の重要な特徴は、磁場中で上記の第1導入
段階を実施している間、上記ストリップが張力下の状態
に保たれるという点である。
特に好ましい実施例によれば、上記の第1導入段階の
実施中に印加する磁場を80,000A/m(1,000 Oe)未満に
することが可能である。
本発明はさらに、上記の方法を実施するための装置に
関するものであり、この装置は磁場発生手段に接続され
た管状炉と、この管状炉内での合金ストリップの通過を
制御する手段とを備えている。
製品の処理と製造操作がすべて同じ場所で行われる場
合には、上記の装置に2つの別々な管状炉を設け、製品
を切断してその適当な部位を成形するための装置をこれ
ら2つの炉の間に配置する。この場合には、上記の2つ
の炉の一方で連続的に引き出されるストリップに対して
第1導入段階を実施し、他方の炉で切断された物品に対
する第2時効段階の操作を実行する。
しかし、上記の2回のアニール処理段階を独立させる
ことも可能である。従って、本発明にはさらに、アニー
ル操作の第1導入段階のみを経た連続合金ストリップで
構成された製品が含まれる。この合金ストリップは切断
された後に第2時効段階の操作が施される。
本発明は、本発明による磁性物品の製造方法の一実施
例に関する添付の図面を参照した以下の詳細な説明によ
りさらによく理解できよう。
本発明は、真空炉内で鉄とコバルトの混合物を炭素で
脱酸し、クロムを添加し、次いでマンガンを添付し、グ
レーティングし、トップキャースティングする一連の操
作を連続的に行う精錬により得られた鉄−クロム−コバ
ルトの三元合金に関する研究結果である。得られたイン
ゴットには何回か熱間成形によってビレットにされ、冷
却後にピーリングされる。このビレットを熱間圧延して
スラブまたはワイヤとし、次いで水で急冷し、必要であ
れば冷間圧延する。
この合金に対して施す熱処理は、α相が2つの相にス
ピノーダル分解することにより磁気硬化する相転移とし
て定義することができる。スピノーダル分解する一方の
相はα1でコバルトを多く含み強磁性である。もう一方
の相はα2でクロムを多く含み弱磁性であるか、または
磁性がまったくない。
α相を最大にするには、スピノーダル分解の前に約90
0〜950℃の温度で合金を短時間再結晶させることが好ま
しい。次にこの合金に約600〜650℃の温度でアニールを
行う。この結果、スピノーダル分解が可能になる。この
アニール処理は別々の2つの段階に分けて実施できるこ
とがわかっている。1つの段階は合金に磁場を印加する
のが好ましい導入段階であり、もう1つの段階は、これ
とは逆に磁場を印加する必要のない時効段階である。導
入段階の操作により偏析を局在させうることがわかる。
この結果、合金の組成が周期的に変化する。その周期
は、α2相中にα1相を析出させることにより正確に制御
することができる。一方、時効段階によって、両相間の
濃度差ができるだけ大きくなるようにすることができ
る。
この時効処理は、導入段階の操作を実施する場合の温
度よりも低い温度で、約10〜20時間という比較的長い時
間行う必要がある。これに対して導入段階の操作はより
短時間で実施することができる。
また、製品を切断し、成形する操作は第1導入段階の
後に実施できるということがわかっている。
従って、本発明の方法の重要な特徴によって、連続ス
トリップの形態の合金の場合には、この合金に第1導入
段階の操作を施した後に、このストリップを切断して複
数の物品にし、最後にこれら物品に対して第2時効操作
を施すようにすることができる。
第1図に概略が示されているように、本発明の方法を
実施するための装置は少なくとも2つの別々の加熱領域
を備えている。一方の領域は第1の導入段階の操作を実
行する第1の炉1であり、他方の領域は時効段階の操作
を実行する第2の炉2である。合金はストリップ3の形
態であり、巻き取りドラム31から引き出されて円筒32に
巻き付けられる。ストリップ3は、管状の炉1の内側を
長手方向に通過する。炉1の前には、約950℃で再結晶
処理を行うための炉11が設置されていることが好まし
い。
炉1の出口側には切断装置4が設置されている。この
切断装置4によって、ストリップ3から所望形状の物品
33が切り出される。これらの物品33は適当な温度に冷却
された後に炉2に送られて時効処理される。
管状の炉1は、ストリップ3が通過する細長い内部空
間12を規定する。さらに、炉1の壁には磁場発生手段が
この内部空間12を完全に取り囲むように組み込まれてい
る。この磁場発生手段は例えばソレノイド13であり、電
流源14に接続されている。従って、電流を流すことによ
り内部空間12の内側には磁場が発生する。
本発明の重要な特徴によれば、厚さに比較して長さが
極めて長い製品、従って、消磁用磁場が弱い製品に磁場
を印加するので、所望の磁気特性を得るのに炉1内でそ
れほど大きな磁場を発生させる必要はない。実際に必要
な磁場は、最終製品に望まれる結果と合金の組成にもよ
るが、80,000A/mすなわち1,000 Oe未満にすることがで
きる。これに対して従来は、寸法の小さな製品に対して
も少なくとも160,000A/m(2,000 Oe)の磁場が必要であ
った。このようにして、現在でもまだ高価な電磁石を使
用せずに済ませることができる。ストリップ3は、管状
の炉1の出口から出て切断装置4に送られる。この切断
操作によって得られた磁気構造が変化するということは
ない。
温度サイクルの例が、処理温度を時間の関数で表した
グラフとして第2図に示されている。
巻き取りドラム31から引き出された室温のストリップ
はまず炉11に入る。この炉11ではストリップの温度が約
900℃まで上昇する。この様子が線OABで示されている。
点Bからは、ストリップが炉1に入る。この炉1ではス
トリップの温度が線BCに沿って約630℃まで下がる。こ
のBCの温度降下の一部はソレノイド13による磁場の存在
下で行われる。次に、ストリップは線CDの温度変化に従
って急冷される。ストリップから物品33への切断は冷却
状態で行うのが好ましい。物品33は続いて炉2に送られ
る。この炉2では、必要な時間、例えば10〜20時間かけ
て規則的に温度を好ましくは610から520℃に低下させ
る。
ストリップは引き出されながら先ず再結晶処理され、
次いで導入段階に送られるので、引き出し速度を管状炉
1と再結晶炉11との相対長さの関数として変えることに
より、温度を維持する時間を制御することができる。一
般に、再結晶処理は30分〜1時間行う。
しかし、管状の炉内でストリップの処理を連続的に行
う代わりに、このストリップの炉の全長に対応する長さ
だけの部分を炉内に必要な時間静止させて、規則的な時
間間隔でこのストリップを前進させることも可能であ
る。さらに、横方向寸法に対して縦方向寸法が極めて長
い個々に分離された長尺体のシートやロッドの形態の製
品に対しては相対的に弱い磁場中で磁気処理することに
よって上記と同じ方法を実行することができる。この場
合には、これらのシートやロッドを順次炉内に送り込
み、第1段階の処理に必要な時間炉内に維持し、次い
で、シートやビレットを複数の物品に切断した後に第2
段階の処理を施す。
合金に望まれる性質と組成に従って、炉1内でソレノ
イド13により発生させる磁場は8,000〜120,000A/m(100
〜1,500 Oe)、例えば48,000A/m(600 Oe)にする。
第1導入段階の後に得られる磁気構造は永久磁気であ
る。従って、第1段階の後に行う切断操作と第2時効操
作は所定の時間後で実行することができる。従って、合
金ストリップを好ましくは先ず再結晶処理してから第1
導入段階で処理した常態でユーザーに渡すことが可能と
なる。小さな物品に対しては第2時効操作は磁場無しで
非常に簡単に実行できるため、ユーザーは上記ストリッ
プを複数の物品に切断してから自ら第2時効操作を施せ
ばよい。
以下、本発明の実施例を説明するが、これらの実施例
は単なる例にすぎない。
実施例1 Co10.2重量%、Cr28重量%、Mn0.5重量%を含み、残
りがFeと製造上一般に残留する不純物とからなるインゴ
ットを従来通りに真空精錬して鋳造することにより製造
する。このインゴットを約1,200〜1,250℃で熱間圧延し
た後、急冷する。この熱間圧延物を冷間圧延して厚さ0.
75mmのストリップを製造する。
この冷間圧延ストリップを処理するために第1図の炉
システムを通過させる。第1の炉11ではストリップの温
度を約30分間950℃にする。炉11と炉1の間の距離と断
熱状態は、ストリップが約700℃から約100℃/時の割合
で冷却されて炉1に入り、少なくとも650℃の温度で磁
場が印加されるように決める。炉1の温度は630℃に、
軸方向の磁場は600 Oe(48,000A/m)に調整する。炉1
内にストリップが引き出される時間は少なくとも30分で
ある。炉1を出ると、ストリップは急冷されて巻き取ら
れる。
このようにして処理したストリップから測定用または
実際に使用する物品、例えば自動車のメータに用いられ
る穴あきディスクを切断する。これら物品を通常の炉、
例えば炉2内で20時間かけて温度を620℃から520℃まで
低下させて処理する。
得られた磁気特性は以下の表にまとめて示してある。
この表から上記の方法を実施する際の数値がわかる。
実施例2 実施例1と同じストリップを使用する。しかし、炉11
と炉1での処理を行う前にこのストリップに対して水素
雰囲気中で950℃にて1時間処理を行い、この処理後に
急冷する。
次に、予備処理されたこのストリップを引き出しなが
ら第1図の炉に入れて処理する。この引き出しながらの
処理の間、ストリップには長手方向に大きさが約10kg/m
m2の一軸性の引張力を加える。
炉11の温度は700℃であり、ストリップは650℃で炉1
に入る。炉1の温度は、630℃に調節する。この炉1内
の軸方向の磁場は800 Oeである。炉1内を通過させる時
間は40分である。ストリップは炉1を出ると急冷して巻
き取る。
このように磁場下かつ引張力のもとで処理されたスト
リップから複数の物品を切断する。これら物品には通常
の炉内で時効処理を施す。この炉内では、20時間かけて
温度を620℃から500℃に下げる。さらに500℃で24時間
処理を行うのが好ましい。得られた特性は以下の通りで
ある。
実施例3 Co12重量%、Cr28重量%、Mn0.5重量%を含み、残り
がFeと製造上通常残留する不純物からなる合金を従来通
りに真空精錬して鋳造することによりインゴットを製造
する。次にこのインゴットを熱間圧延して5mmのストリ
ップにし、続いて冷間圧延して厚さ1mmのストリップに
する。
次にこのストリップを水素雰囲気中で1,050℃にて30
分間処理する。この処理の後は急冷する。
次に、使用するのに必要な幅にこのストリップをトリ
ミングし、1.5mの長さの部分に切断する。これら部分を
小さな直径の束にまとめて炉1に入れる。
炉1の温度を約700℃まで急上昇させ、次いで約100℃
/時の割合で620℃まで冷却する。温度が650℃になって
からは800 Oeの磁場を印加する。温度を1時間620℃に
維持する。この620℃での処理の後、ストリップの束を
急冷する。
ストリップから測定用および実際に使用する物品を切
断し、炉で処理する。この炉内では、20時間かけて温度
を620℃から520℃まで低下させる。500℃で24時間さら
に処理を行うと磁気特性がさらに向上する。
上記の一連の処理により得られた特性は以下の通りで
ある。
もちろん、本発明は上記の実施例にのみ限定されるも
のではなく、特許請求の範囲に記載の範囲を逸脱しない
限り種々の変形をすることが可能である。特に、例示し
た処理温度はCoを10%含む合金についてであるが、処理
温度は合金に望む特性とその組成に応じて変えることが
できる。さらに、必要に応じて急冷段階を間にいくつか
挟んだ、特に温度が異なる複数の段階を含むより複雑な
熱処理を施すことが可能である。実際、ストリップの形
態の合金に処理を施す場合でも、断熱領域を介して複数
の炉を順番に配置することによって、異なる所望の温度
処理を実行することができる。
本明細書では「ストリップ」という単語を用いたが、
本発明には任意の細長い製品、例えば連続ワイヤやシー
トまたはビレットももちろん含まれる。つまり、断面が
物品の形状に適合したものであればよい。同様に、切断
後、物品に様々な成形操作、例えば鍛造操作を施すこと
ができる。
さらに、ストリップの引き出しと巻き取りの相対速度
を調節することにより、あるいは、炉に接続された装置
を用いることにより、製品に所定の張力を与えて張力の
作用と温度および磁場の作用とを組み合わせることが有
効である。磁場は、直流または交流を用いて公知の様々
な方法で発生させることができる。回路を調節すること
により、電流を流して磁場を発生させるのと同時に炉を
加熱することもできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の方法を実施するための装置の一例の
概略図である。 第2図は、熱処理温度のグラフである。 (主な参照番号) 1、2、11……炉、3……ストリップ、4……切断装
置、12……内部空間、13……ソレノイド、14……電流
源、31……巻き取りドラム、32……円筒、33……物品

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】鉄、コバルト、クロムを主成分とした磁性
    合金からなるストリップ、ワイヤ等の長尺製品を磁場の
    存在下で一次加熱し、磁化された長尺製品を切断して個
    別の物品にし、個別の物品を二次加熱する各段階で構成
    される磁気利用物品の製造方法において、 上記の一次加熱は長尺製品のアニール処理の開始期であ
    り、この段階では中心空間を完全に取り囲んで80,000A/
    m(1,000 Oe)以下の軸線方向磁場を発生させるソレノ
    イドを形成する導体を備えた第1管状炉の中心空間を通
    って長尺製品を縦方向に通過させ、 磁化された長尺製品を冷却し且つ磁気構造を変えない状
    態で所望形状の複数の個別物品に切断し、 切断された個別物品を第2の炉中で磁場の無い状態で温
    度を規則的に低下させる上記アニール処理の第2エージ
    ング期で処理する、 ことを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】長尺製品を巻き取りドラムから引き出して
    アニール処理の開始期を連続的に行う請求項1に記載の
    方法。
  3. 【請求項3】アニール処理の開始期の間、第1管状炉の
    長さに対応する長さの長尺製品の少なくとも一部分を第
    1管状炉内に維持する請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】第1管状炉の温度を600〜650℃に維持する
    請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 【請求項5】磁場中でのアニール処理の開始期に長尺製
    品に張力が加える請求項1〜4のいずれか一項に記載の
    方法。
  6. 【請求項6】アニール処理の開始期の前に、第1管状炉
    の直前に配置された炉中で長尺製品を900〜950℃の温度
    で1/2〜1時間再結晶化処理する請求項1〜5のいずれ
    か一項に記載の方法。
JP63128123A 1987-05-25 1988-05-25 磁性を利用した物品の製造方法と製造装置 Expired - Lifetime JP2547383B2 (ja)

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FR878707343A FR2616004B1 (fr) 1987-05-25 1987-05-25 Procede et installation de realisation de pieces a usage magnetique
FR8707343 1987-05-25

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JPS644422A JPS644422A (en) 1989-01-09
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EP (1) EP0293286B1 (ja)
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KR (1) KR0134813B1 (ja)
AT (1) ATE102386T1 (ja)
DE (1) DE3888020T2 (ja)
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