JP2544631Y2 - 表面処理装置におけるハンガー移送装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本考案は、ハンガーに吊持される
被処理物を処理槽列に沿って間欠的に移送しながら、各
処理槽でメッキ処理に係る段階的処理を順次施す表面処
理装置におけるハンガー搬送装置の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】メッキ処理等の表面処理装置において、
間欠走行するキャリアーに装着したハンガーを昇降させ
るいわゆるエレベータ式表面処理装置にあっては、処理
槽列に沿って間欠的に走行するキャリアーに昇降可能に
装着されたハンガーから支持ローラを水平方向に突出
し、該支持ローラを昇降通路板に乗載して、その昇降作
動によりハンガーを昇降させるように構成される。ま
た、上記キャリアーの走行駆動は、左右両側に間隔を置
いて配設した上下一対のスプロケットホイール間に夫々
チェーンを掛け渡し、該チェーンに複数のキャリアーを
一定間隔毎に連結させて、該キャリアーを前記スプロケ
ットホイールの間欠回転によって間欠的に走行させるよ
うにしている。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】ところで前記処理槽列
は、前方から順に例えば前処理槽、洗浄液槽、メッキ処
理槽、水洗槽、乾燥炉等が一列に並べられて構成され、
各処理槽等に対応させてハンガーの適正な停止位置が設
定されている。そしてハンガーに吊持された各被処理物
は該停止位置まで前記キャリアーの走行によって移送さ
れ、スプロケットホイールの回転停止によって所定位置
で停止した後、昇降通路板の下降作動によるハンガーの
下降によって各処理槽に浸漬されるのであるが、前記ハ
ンガーの移送停止はスプロケットホイールの回転停止に
よるキャリアーの自然停止によって行なわれるため、キ
ャリアーの走行速度を速くすると惰性で適正な停止位置
を通過してしまい、正確な停止制御が行なえない。そし
てこれに起因して例えばメッキ処理槽内の両側に対向し
て浸漬配置される陽極間の所定位置から被処理物がずれ
てメッキ不良となったり、或いは各処理槽の外周壁に被
処理物が当接し、騒音が発生したり、傾斜して該被処理
物がハンガーから脱落する等の種々の問題が生じること
となる。

【０００４】一方、各処理槽内に所定時間浸漬されて段
階的処理が終了した被処理物は、当該処理槽から引き上
げられ、キャリアーの間欠走行およびハンガーの下降を
介して次の処理槽に浸漬される。このとき被処被物に付
着している前の処理液が次の処理槽の処理液に混入して
該処理液が汚濁するという問題がある。

【０００５】本考案は、かかる従来構成の問題に鑑みて
その改善を試みたものであり、本考案の課題はキャリア
ーの走行速度の遅速に拘らず、ハンガーの所定停止位置
における停止制御を可能とするとともに、移送過程で被
処理物を振動させて処理液を滴下させることが出来るよ
うにする点にある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本考案は、一定間隔で配
設され、処理槽列に沿って間欠的に走行する複数のキャ
リアーに昇降可能に装着されたハンガーから夫々支持ロ
ーラを水平方向に突出し、該支持ローラを昇降通路板に
乗載して、その昇降作動によりハンガーの昇降を制御す
るようにした表面処理装置において、前記昇降通路板上
に、上り勾配傾斜面と下り勾配傾斜面を前後に有する台
形通路部を支持ローラの移動方向に沿って二個一対とし
て設け、ハンガー進行方向後方の台形通路部はその上り
勾配傾斜面を各処理槽に設定されるハンガーの所定停止
位置に対応する支持ローラの停止位置に配置する一方、
前方の台形通路部はその上り勾配傾斜面と後方の台形通
路部の下り勾配傾斜面との間隔が前記各支持ローラの取
付けピッチとほぼ同一となる位置に配置するように構成
される。

【０００７】

【作用】ハンガーの停止時にあっては、後方の台形通路
部の上り勾配傾斜面に支持ローラが衝当して止まるた
め、惰性によるハンガーの所定停止位置の通過が防止さ
れる。ハンガーの移送時にあっては、支持ローラが台形
通路部を通過するときの上下動による振動によって、被
処理物に付着している処理液を滴下させることができ
る。また、後方の台形通路部の下り勾配傾斜面と前方の
台形通路部の上り勾配傾斜面を相前後する各支持ローラ
がほぼ同時に通過するため、下り勾配傾斜面で生じる加
速力と上り勾配傾斜面で生じる制動力を相殺させること
ができる。

【０００８】

【実施例】添付図面について本考案の一実施例を説明す
る。図２において１は機枠であって、支柱２によって支
持された台枠３と、該台枠３上に所定間隔を置いて配設
された上枠４によって構成されている。前記機枠１の周
囲には、前処理槽５ａ、洗浄処理槽５ｂ、メッキ処理槽
５ｃ、水洗槽５ｄ、乾燥炉５ｅ等が列設され、処理槽列
５が構成される。また機枠１の長手方向両側部には前記
台枠３及び上枠４によって、上下一対のスプロケットホ
イール６，６が支持され（図１参照）、該スプロケット
ホイール６，６に掛渡されたチェーン７，７は、前記両
枠３，４に設けられた走行ガイド９，９に沿って、該ス
プロケットホイール６，６の駆動とともに処理槽列５に
沿って走行する。チェーン７，７間には、複数のキャリ
アー１０が等間隔で配設され、該キャリアー１０はスプ
ロケットホイール６，６の間欠回転により間欠的に走行
する。

【０００９】前記キャリアー１０は断面コ字状の案内枠
１１，１１を間隔をおいて対向させ、その上下端を連結
して構成される。このキャリアー１０には矩形板１２か
ら前方へ被処理物ｗを吊持する水平杆１２’を突出させ
たハンガー１３が装着され、該ハンガー１３は前記矩形
板１２に軸支される走行輪１４，１４を前記案内枠１
１，１１に内嵌させて昇降可能としている。

【００１０】前記ハンガー１３の後面からは、水平方向
へ、支持ローラ１５が突設されている。前記支持ローラ
１５は、前記処理槽列５に沿って配設された昇降台１７
の昇降通路板１６に乗載され、而てハンガー１３の荷重
は昇降通路板１６により支えられる。このため前記昇降
通路板１６が昇降すると、各ハンガー１３はキャリアー
１０内を摺動して従動する。この昇降通路板１６が上部
位置にあるときにハンガー１３に吊持された被処理物ｗ
は処理槽列５上に位置する。そこで上部位置にあるとき
にのみスプロケットホイール６，６がモータ駆動で回動
され、各ハンガー１３はキャリアー１０とともに昇降通
路板１６に沿って移動する。かかる移動が終了すると昇
降通路板１６は下降し、ハンガー１３がこれに追従して
被処理物ｗを各処理槽５ａ〜５ｄ等に浸漬する。

【００１１】このようにキャリアー１０の間欠走行及び
昇降通路板１６の昇降作動によって各被処理物ｗが一律
に移動することとなり、所要の浸漬処理時間毎に、この
動きを繰り返すことにより処理槽列５内で各段階的処理
が順次行なわれる。また、メッキ処理槽５ｃ内の停止処
理位置の両側には陽極２５が浸漬配置される一方、該メ
ッキ処理槽５ｃの側傍には陰極電流の給電バー２２が配
設され、ハンガー１３の下降に伴って、該ハンガー１３
に設けられた集電子２１を前記給電バー２２に乗載させ
て被処理物ｗに通電し、電解によるメッキ処理を施すよ
うにしている。

【００１２】一方、図１，図３，図４に示すように、前
記昇降通路板１６上には上り勾配傾斜面１８ａと下り勾
配傾斜面１８ｂを前後に有する台形通路部１９と、その
前方に同じく上り勾配傾斜面２０ａと下り勾配傾斜面２
０ｂを前後に有する台形通路部２４が夫々前記支持ロー
ラ１５の移動方向に沿って二個一対で設けられる。そし
て台形通路部１９はその上り勾配傾斜面１８ａが各処理
槽５ａ〜５ｃ及び水洗槽５ｄ等の液切りを要する槽に設
定される各ハンガー１３の所定停止位置２６に対応する
支持ローラ１５の停止位置に配置され、また、前方の台
形通路部２４はその上り勾配傾斜面２０ａと前記台形通
路部１９の下り勾配傾斜面１８ｂとの間隔が前記各支持
ローラ１５の取付けピッチＰとほぼ同一となる位置に配
置される。

【００１３】前記構成のハンガー移送装置の作動を図
３，４に従って説明する。図３に示すように昇降通路板
１６に支持されたハンガー１３の支持ローラ１５が、該
昇降通路板１６の上昇位置でキャリアー１０の間欠走行
により各処理槽５ａ〜５ｃ等に設定される各ハンガー１
３の所定停止位置２６にくると、スプロケットホイール
６，６の回転停止制御によってキャリアーの走行が止ま
る。このとき前記所定停止位置２６に対応する支持ロー
ラ１５の停止位置に配置された台形通路部１９の上り勾
配傾斜面１８ａに支持ローラ１５が衝当し、該支持ロー
ラ１５をその適正な停止位置に停止させる。したがって
ハンガー１３に惰性で移動する力が生じていても、該ハ
ンガー１３の所定停止位置２６の通過が防止される。

【００１４】一方、昇降通路板１６の下降作動によって
各処理槽５ａ〜５ｄ等に所定時間浸漬されて段階的処理
が終了した被処理物ｗは、昇降通路板１６の上昇作動に
よるハンガー１３の上昇によって当該処理槽５ａ〜５ｄ
等から引き上げられ、再びキャリアー１０の間欠走行に
よって次の処理槽５ａ〜５ｄ等に対応する停止位置２６
に移送されて後続処理を行なうべく各処理槽５ａ〜５ｄ
等に浸漬される。そしてこのキャリアー１０の間欠走行
時において、図４に示すように前記台形通路部１９の上
り勾配傾斜面１８ａに衝当した支持ローラ１５は該台形
通路部１９の下り勾配傾斜面１８ｂを通過し、また、こ
れに先行する支持ローラ１５は台形通路部２４の上り勾
配傾斜面２０ａを夫々通過するのであるが、両傾斜面１
８ｂ，２０ａの間隔が各支持ローラ１５の取付けピッチ
Ｐとほぼ同一に設けられていることにより、前記両支持
ローラ１５が両傾斜面１８ｂ，２０ａをほぼ同時に通過
するため、ハンガー１３に前記下り勾配傾斜面１８ｂで
生じる加速力と上り勾配傾斜面２０ａで生じる制動力が
相殺され、キャリアー１０を円滑に走行させることがで
きる。

【００１５】また、キャリアー１０の間欠走行時におい
て、上記のように各支持ローラ１５が台形通路部１９，
２４によって上下動されるため、ハンガー１３が振動す
ることとなり、各処理槽５ａ〜５ｄ等から引き上げられ
た被処理物ｗに残留する処理液をその振動によって滴下
させて液切りを行なわせることができる。

【００１６】

【考案の効果】本考案は、上述のように昇降通路板上で
ハンガーの所定停止位置に対応する支持ローラの停止位
置に、台形通路部の上り勾配傾斜面を配置し、該上り勾
配傾斜面に支持ローラを衝当させてハンガーを停止させ
るようにしたから、該ハンガーの停止時において、惰性
による所定停止位置の通過を防止することが可能となっ
た。

【００１７】また、上述のように昇降通路板上に形成し
た台形通路部によって、移送過程で被処理物を振動させ
て処理液を滴下させるようにしたから、次の処理槽への
処理液の混入を減少させることができるとともに、最終
工程にある乾燥炉での乾燥時間を短縮することができ
る。

【００１８】さらに、台形通路部を前後一対に設け、後
方の台形通路部の下り勾配傾斜面と前方の台形通路部の
上り勾配傾斜面との間隔が各支持ローラの取付けピッチ
とほぼ同一となるように配置して、ハンガーに生ずる下
り勾配傾斜面での加速力と上り勾配傾斜面での制動力を
相殺するようにしたから、キャリアーの走行が円滑にな
る等の優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例を表わす表面処理装置の概要
平面図である。

【図２】同上の縦断側面図である。

【図３】台形通路部と支持ローラの部分の概要正面図で
ある。

【図４】図３における作用状態の説明図である。

【符号の説明】

５ 処理槽列 ５ａ，５ｂ，５ｃ 処理槽 ５ｅ 水洗槽 １０ キャリアー １３ ハンガー １５ 支持ローラ １６ 昇降通路板 １８ａ 上り勾配傾斜面 １８ｂ 下り勾配傾斜面 １９ 台形通路部 ２０ａ 上り勾配傾斜面 ２４ 台形通路部 ２６ 所定停止位置 Ｐ ピッチ

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 一定間隔で配設され、処理槽列に沿って
   間欠的に走行する複数のキャリアーに昇降可能に装着さ
   れたハンガーから夫々支持ローラを水平方向に突出し、
   該支持ローラを昇降通路板に乗載して、その昇降作動に
   よりハンガーの昇降を制御するようにした表面処理装置
   において、 前記昇降通路板上に、上り勾配傾斜面と下り勾配傾斜面
   を前後に有する台形通路部を支持ローラの移動方向に沿
   って二個一対として設け、ハンガー進行方向後方の台形
   通路部はその上り勾配傾斜面を各処理槽に設定されるハ
   ンガーの所定停止位置に対応する支持ローラの停止位置
   に配置する一方、前方の台形通路部はその上り勾配傾斜
   面と後方の台形通路部の下り勾配傾斜面との間隔が前記
   各支持ローラの取付けピッチとほぼ同一となる位置に配
   置したことを特徴とする表面処理装置におけるハンガー
   搬送装置。