JP2000502754A - コンベア装置およびコンベアライン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 プレート(4) 、とくに被着金属層を有するマザープレート、または有しないマザープレートを電解金属精錬設備において搬送する装置であって、設備ではプレートはコンベア装置(25，50)で搬送され、搬送は少なくとも１本の水平なコンベア走路に沿って行われ、コンベア走路においてプレートは全体として垂直に、互いに等間隔に配置される装置において、コンベア装置は移動ビーム種類に属し、固定支持体(28，54)と、少なくとも１本の移動ビーム(30，62)とを含み、ビームは可動支持体(31，67)を有し、装置において移動ビームはサイクル方式で移動され、サイクル方式は、走路に沿って搬送されるすべてのプレートが可動支持体によって各プレートの固定支持体から第１の位置で吊り上げられる吊り上げ運動と、すべてのプレートが各プレートの可動支持体に支えられている間に同時に一歩前進させられる前進運動と、プレートが新しい第２の位置で固定支持体上に配置される下降運動と、一歩の距離が走路に沿ったプレートの間隔(PI;PII)と一致する戻り運動とを含んでいることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】 コンベア装置およびコンベアライン発明の分野 本発明は、電解金属精錬設備において、プレート、とくに被着金属層を有する マザープレート、または有しないマザープレートを搬送するコンベア装置に関す るものであり、この装置は、これらのプレートを、少なくとも１本の水平なコン ベア走路に沿って、全体として垂直で等間隔にコンベア走路に配置しながら搬送 するようにしたものである。本発明はまた、２本の水平で互いに垂直なコンベア 走路を含むコンベアラインにも関し、本発明によるコンベア装置が各コンベア走 路に沿って配置されている。背景技術の説明 銅およびある種の他の金属の電解精錬では、以下、ヨークと称する水平ロッド から垂直に懸架した、いわゆるマザープレートの両側に金属層が被着され、この 水平ロッドは、横方向に外側へ突出した部分を有し、この部分が電解処理中に電 流を流す電極を形成している。プレートは互いに、平行かつ等間隔の関係でタン ク内に懸架される。精錬された金属がマザープレートの両側に所望の厚さに蓄積 した後、金属層の被着したマザープレートはバッチ式に設備へ後処理のために移 される。この設備における最初の作業はマザープレートからその被着層を剥離す ることである。プレートは、まずその剥離および状態調節用の設備内の第１の水 平な走路に沿って、それらプレートに交差する方向に進められる。その後、プレ ートは第２の走路へ移され、プレートの長手方向に搬送される。実際の剥離作業 はこの第２の走路において行われる。マザープレートは次いで、第１の走路と平 行に伸びる第３の走路へ移され、それに沿って再び交差方向に進められる。 現在用いられている技術では、非常に長い間行われてきた方法であるが、プレ ートを通常、すべての３本の水平なコンベア走路に沿って、チェーンコンベアま たは他の種類のエンドレスコンベアで移動させる。従来のエンドレスコンベアは また、他のマザープレート処理設備、たとえばプレート洗浄設備またはプレー ト整列設備などで用いられている。スウェーデン特許第81013427号、スウェーデ ン特許第329011号、米国特許第4,577,401 号および米国特許第4,069,925 号にお いて、金属層を有するマザープレート、または有しないマザープレートを搬送す るこの種の装置の例が開示されており、搬送がマザープレートの前処理または後 処理に資することで、金属の電解精錬に資している。 本技術分野で用いられるエンドレスコンベア、すなわち通常はチェーンコンベ アの重要な欠点は、非常に高価な点である。これは主として、コンベアの過酷な 稼動環境に起因する。たとえばチェーン、さらに支持ホイールその他の装置を、 少なくともコンベアラインの部分に沿って耐酸鋼で製造する必要がある。この種 の設備におけるチェーンコンベアが高価なのは、軸受けやブッシュなどを特殊な 材料で製造する必要があることにもよる。かかるコンベアの他の欠点としては、 プレートを一方のコンベア走路から他方へ切り替えるための別個の装置を備える 必要性が挙げられる。より良い搬送装置がないため、チェーンコンベアまたは他 の連続的に稼動するコンベアが、これらの欠点にもかかわらず上述の種類の設備 で未だに用いられている。 マザープレートをそれに交差する方向に、移動ビームコンベアによって搬送す ることも知られている。この既知の技術では、電解処理においてプレート上に電 極を形成するラグに対して縦長に伸びるレールから、プレートは懸架される。プ レートは移動ビームコンベアによって前進し、コンベアは前記レールに支えられ ているプレート搬送用接触ラグを有する。この方法による１つの重要な欠点は、 ラグが搬送レール上をスライドすることによって高度の摩耗を受けることである 。他の欠点は、プレートが新しい位置へ前進するときに、レールが明確なプレー トの位置を指定しないことである。発明の概要 本発明は請求の範囲の前段に定義した種類のコンベヤ装置について、改良され たコンベア装置を提供することを目的とする。より具体的には、本発明の目的は チェーンコンベアなどのエンドレスコンベアを用いる必要のないコンベア装置を 提供することである。そして電解処理工程においてプレートへ電流を導通すべき 面が、最小限度の摩耗を受ける方法で稼動するコンベア装置を提供することであ る。本発明の他の目的は、プレートをそれに交差する方向およびその長手方向に 搬送するために、エンドレスコンベアを利用しないコンベア装置を適用すること である。設備が２本以上の互いに直交するコンベア走路を含み、この種の設備に しばしば見られるように、プレートを一方のコンベア走路から他方へ切り替える 場合において、本発明はさらに、前記コンベアラインにおいて一方のコンベア走 路から次のコンベア走路へ切り替えるための別個の装置を必要としないコンベア 装置を提供することを目的とする。 これらおよび他の目的は、移動ビームコンベア形式のコンベア装置によって達 成することができ、移動ビームコンベアは固定支持装置と、可動支持装置を有す る少なくとも１本の移動ビームとを含んでおり、可動支持装置では移動ビームは サイクル方式で移動され、サイクル方式は、走路に沿って搬送されるすべてのプ レートをそれらの固定支持体から可動支持装置によって第１の位置で吊り上げる 吊り上げ運動と、すべてのプレートをそれらの可動支持体で支えて同時に一歩だ け前進すなわち歩進させる前進運動と、プレートを新しい位置で固定支持体上に 配置する下降運動と、歩進距離が走路に沿ったプレート間隔と対応している戻り 運動とを含む。 本発明のさらなる特徴を、後出の請求の範囲と発明の実施例の詳細な説明とか ら明らかにする。図面の簡単な説明 本発明を添付の図面を参照して詳細に説明する。 第１図は、電解工程で電解により金属層で被覆されたマザープレートを処理す る設備を示す図であり、 第２図は、第１図を線分II−IIから見た拡大図であって、プレートをそれらに 交差する方向に搬送する第１のコンベア走路の開始部所および終着部所と、プレ ートをそれらの長手方向に搬送し、第１のコンベア走路に対して直角をなす第２ のコンベア走路の開始部所を示し、 第３図は、第２図を線分III−IIIから見た図であり、 第４図は、第２図を線分IV−IVに沿って上方から見た図であり、 第５図は、第４図を線分Ｖ−Ｖから見てさらに拡大した図であり、 第６図は、装置の一部を第３図の矢印VIの方向に、第５図と同じ縮尺で示す図 であり、 第７図は、第１図を線分VII−VIIから見た側面図であって、第１のコンベア装 置と、第３のコンベア装置と、第２のコンベア装置の開始部所および終着部所を 示し、 第８図は、第７図を線分VIII−VIIIから見た図であり、 第9A図および第9B図は、２つの異なる状態における第２のコンベア装置を、第 ７図の線分IX−IX・から見た図であり、 第10Ａ図および第10Ｂ図は、２つの異なる進行状態におけるコンベア装置を、 第１図の線分IX−IXから見た図であり、 第11図は、運動装置を備えた第２のコンベア装置の一部をさらに拡大して示し た斜視図である。発明の詳細な説明 装置の説明 まず第１図を参照して、３本のコンベア走路を全体として参照番号１、２およ び３でそれぞれ識別する。３本のコンベア走路１、２および３は共に一体化した コンベアラインを形成している。コンベア走路１は、全体として番号４で参照さ れるプレートの供給路を形成しており、これらのプレートはプレートの平面に対 して直角をなす矢印５方向に進められる。走路２はプレートをそれらの長手方向 に前進させる。このコンベア走路は受領部所６と、剥離準備部所７と、被覆層20 がマザープレート21から剥離される剥離部所８と、検査部所９と、降荷部所10と を含む。各部所７、８および９におけるプレート処理装置は本発明の一部をなす ものではないため、ここでは詳細には説明しない。これは第１の走路１における 洗浄装置11および、第３の走路３でマザープレートの底縁を処理する装置12につ いても同様である。 プレート４は典型的な、実質的に正方形のマザープレート21から成り、その両 面を被覆層20が被覆している。マザープレート21は、以下ヨークと称する水平な ロッド22へ固定されて懸架されており、ヨークの２個の端部23はプレートの両側 の縁を越えて突出しており、これら端部23を以下の説明ではラグと称する。 第１のコンベア走路１に沿ってプレート４を搬送する第１のコンベア装置は第 ２図ないし第４図において全体として参照番号25で参照される。スタンド26のそ れぞれの長手側に固定的に取り付けられているのは、縦長に伸びたレール27であ り、レールは縦長に伸びた支持ストリップ28を搬送し、ストリップはヨーク22の ラグ23を収容する凹所29を有する。凹所29間の間隔PIは電解槽内のプレート４間 の間隔と等しく、以下に説明するように第１のコンベア装置の各歩進間隔と等し い。ストリップ28はラグに優しいプラスチック材から成り、電解工程において電 極面を形成する。プラスチックストリップ28、またはより具体的には凹所29は、 第１のコンベア装置25においてプレート21の固定支持体を形成する。第２図の右 手部分、第３図の左手部分、第５図および第６図は、凹所29内の前記固定支持体 に支えられているラグ23を示す。 一対の縦長に伸びた平行な移動ビームは、それぞれの固定支持体28に対して平 行かつ外側に配設されており、全体として参照番号30で参照される。各ビームは 固定支持ストリップ28と同じ構成のプラスチック製ストリップ31を含み、逆Ｕ字 形の断面を有する金属製ガイドレール32で結合されている。プラスチック製スト リップ31は凹所33を含み、それらはコンベア装置の可動支持体を形成し、固定支 持ストリップ28内の凹所29と同じ構成および同じ間隔を有する。 第５図および第６図では、移動ビーム30がその下方の位置にあり、プラスチッ ク製スライドレール34に支えられ、スライドレールはスライドレール34を包含す るガイドレール32を脚部としている。スライドレールは次いで、頑健な金属製吊 りビーム35へ固定的に連結される。 移動ビーム30は垂直方向動作運動装置によって垂直方向に動かされる。これら の装置は各移動ビームに対して、スタンド26に搭載された４個の第１の液圧吊り 上げシリンダ37を含む。吊り上げシリンダ37のピストン38はそれぞれの吊りビー ム35へ連結されている。吊りビーム35は複数の水平のピン39をも有し、各ピンは 対をなして、スタンド26のプレート41に固定された略Ｕ字形装置40を通って、そ れぞれの方向に突出している。Ｕ字形装置40はピン39の幅と同じ内幅を有するた め、ピン39はビーム35の長手方向の動きを妨げつつ、ビーム30が上昇するときは 前記装置40内でスライドすることができる。略Ｕ字形装置の上部はピン39の上側 部の形と一致する半円形を有する。Ｕ字形装置40の内側の高さと、ピン39の垂直 な範囲とが、吊り上げシリンダ37の行程距離を決定し、前記距離は１つの実施例 では60mmである。 ２本の移動ビーム30の後方端部は横断ビーム42によって互いに連結されている 。一対のケーシング43が、２個の直立した長方形のフレームを形成し、横断ビー ム42へピン44を介して連結されている。ケーシング43は横断方向の水平なピン45 を収容しており、ピンはスライド可能に配設されて、ビーム30、横断ビーム42お よびケーシング43を、ピン45に関連して上昇および下降させることができるよう にしており、ピンの直径はケーシング43の内幅に一致している。スタンド26の後 方の最遠方には、中央に取り付けられ、ピストンロッド48を有する水平の液圧シ リンダ47があり、コンベア走路１の対称平面49内を水平に移動することができる 。ピストンロッド48は、移動ビーム30の水平動のため、ケーシング43および横断 ビーム42を媒体としてピン45に連結されるが、この連結は、媒体が低い位置にあ る、すなわちピン45がケーシング43に関連してその最上位置にある場合と、これ ら媒体が高い位置にある、すなわちピン45が吊り上げられたケーシング43の底部 に位置する場合のいずれの場合もなされる。 第７図で全体として参照番号50で参照されるのは、プレート４をその長手方向 に、次に続くコンベア走路２に沿って移動させるコンベア装置である。第７図は また、第１のコンベア走路１におけるコンベア装置25および第３のコンベア走路 ３におけるコンベア装置51の末端図を示す。この第３のコンベア装置51は第１の コンベア装置25と同じ構造を有しているため詳細には説明しない。 第２のコンベア装置50は、全体として参照番号52で参照されるスタンド内に取 り付けられ、スタンドは、プレート４を剥離するためにコンベア走路２に沿って 配設される他の装置を支持する機能を果たす。複数の支持体54がスタンド52に固 定的に取り付けられている。これらの支持体はアームの形状をなし、長手方向に 伸びるビーム55の下側から直角に水平に伸びている。その外側の端部に設けられ ているのは凹所56であり、プレート４の底縁57の支持体を形成している。３個の このような固定支持体54が各部所６、７、８、９および10内に設けられている。 さらに設けられているのは、下方および上方固定側面支持体58A、58B および5 9A、59B である。これら支持体のうち、外側の支持体58A および59A は部所８を 除くすべての部所に沿って伸びているのに対し、内側の支持体58B および59Bは 部所７および９のみに沿って伸びている。第２図に見られるように、受領部所６ および降荷部所10にも内部の上側部支持体61が設けられている。これらの側部支 持体61は、プレート４が第１のコンベア装置25から第２のコンベア装置50へ移動 されるときにプレート４に対して障害とならないように、２個の短い垂直なピン の形状を有しており、それらピンは角度固定棒によりスタンド52へ固定され、第 １のコンベア装置における固定支持ストリップ28によって形成される平面内で、 全体として垂直に伸びており、支持ストリップ28の高さ以上で可動支持ストリッ プ31の上方の高さ以下にまで達している。よって、プレートを第１のコンベア装 置25から第２のコンベア装置50へ移動させるときは、ラグ23が側部支持体61より 上に上げられているため、プレートを支持体61を通り越して移動させることがで きる。また前記第２のコンベア装置50に含まれる固定支持装置上に、プレートを 降荷した後は、プレートを受領部所16でラグ23を介して側部支持体61にもたれさ せることができる。降荷部所10には同様の装置が設けられている。一対の長手方 向に伸びていて中央に位置する側部支持体60A、60B が、部所７の領域内の高い 位置に設けられている。 第２のコンベア装置50に含まれる移動ビームのうちの一方を全体として参照番 号62で参照する。このビームは一対の逆Ｕ字型断面の金属製ガイドレール65を含 む複合構造体から成っており、これらガイドレールはコンベア装置の中央線の各 側に１本ずつある。２本のガイドレールまたはビーム65は、複数の水平な交差方 向の金属プレート66によって一緒に保持されており、金属プレートはビーム62の 長さに沿って配置されている。ガイドレール65はプラスチック製のスライドレー ル70に支えられており、スライドレール70は次に吊りビーム71へ連結され、吊り ビーム71は移動ビーム62とは異なり、第２のコンベア走路２の全長に沿って伸び ている。移動ビーム62の長さはコンベア走路２の長さから「１個の部所の長さ」 を差し引いたものに等しく、すなわちビームは、図示されたごとく部所が５個の 場合は、全走路の長さより約20% 短い。吊りビーム71の下には部所６、８および 10内に、３個の垂直な第２の液圧吊り上げシリンダ72が取り付けられている。こ れらのシリンダ72はスタンド52上に取り付けられ、各シリンダはビーム71の下側 へ連結されたピストンロッド73を有する。移動ビーム62にも、各部所用の一対の 垂直な端部支持体74を設けることにより、プレートを必要な場合にそれぞれの処 理部所６−10の中央に置くようにし、またプレート４が長手方向に動くのを防止 するようにしている。この防止は、プレート４が可動支持体67に支えられており 、周期的反復供給運動によって前方へ歩進し、周期的反復供給運動が、各段階に ついて、全体としての設備の運転速度に鑑みて、比較的強力な加速度と減速度と を必要とするときに、行われる。 移動ビーム62の一部に沿って、部所９および10の領域内で伸び、前記ビーム62 から間隔をおいているのは、外方向に向いた歯を備えた水平ラック64である。ラ ック64の裏側は平坦な金属レール63へ結合されており、レール63は次に移動ビー ム62へ一対の拡張横断プレート66A を介して連結されていて、第9A図、第9B図お よび第11図に示す通りである。ラック64をこれにともなう移動ビーム62とともに 、可逆モータ75によって、水平方向に反復移動させることができ、可逆モータは 液圧式モータであって、その出力シャフトがピニオンホイール68を垂直な回転軸 の回りで駆動させる機能を果たすものが望ましい。ピニオンホイール68はラック 64の歯とかみ合う。ピニオンホイール68は一定の幅（高さ）を有しているため、 ラック64が第9A図に示すように移動ビーム62の下方の位置にある場合、および第 9B図に示すように上方の位置にある場合のいずれにおいても、前記ホイールとの かみ合わせを生じる。モータ75はスタンド52に設けられた脚部52B へ取り付けら れ、脚部52B はスタンド脚部52A の反対側であって部所９および10の間にある。 プレート66上には可動支持体67を運ぶポスト53が取り付けられている。これら ポスト53はそれぞれのプレート66から伸びて、固定支持体54の外側端部からの一 定距離で途切れる程度に到り、そこで可動支持体67は、内方向へそれぞれのポス ト53からコンベア装置の中央線をわずかに越えるまで伸びており、稼動サイクル における可動支持体67の位置に依存して固定支持体54よりも下または上の高さに 位置している。２個のこのような支持体67が各プレート４に設けられている。こ れらの支持体は固定支持体54に対応して、プレート底縁57を収容する凹所69を含 む。 移動ビーム62がスライドレール70上をスライドするときに長手方向に作用する 力を吊りビーム71が受けることを防ぐために、第１のコンベア装置を参照して上 述したものと同様に固定手段が設けられている。これらの固定手段は下方および 上方の雌部材76、77を含み、これら部材はスタンド52上に固定されていて、垂直 な中心線を有する穴78、79が設けられている。固定手段はさらに垂直な雄部材80 、81をも有しており、それらは吊りビーム71上にブラケット手段82によって取り 付けられて、穴78、79 と同軸となっている。吊りビーム71が、それにともなう 移動ビーム62とともにその下方の位置にあるとき、雄部材80は下方雌部材78に収 容され、吊りビーム71および移動ビーム62がそれぞれの上方の位置にあるとき、 第10B 図のように、雄部材81は上方雌部材79に収容される。雌部材76と77との間 の距離または間隔は吊り上げシリンダの行程の距離をも決定し、図示の場合にお いては110mm すなわち第１のコンベア装置において対応する行程距離よりも大き い。 上述の装置に加えて、コンベア装置はさらに液圧装置用圧力供給源、液圧管等 に加えて定比弁を含み、この弁は水平稼動液圧式シリンダと共働して既知の方法 で加速力および減速力を減衰させる。さらに含まれているのはマイクロプロセッ サであり、これはすべての液圧式シリンダの機能を制御し、モータが液圧式モー タである場合にはモータ75の機能をも制御する。モータが電動モータである場合 は相応の電気制御手段が設けられる。運転方法の説明 第１のコンベア装置25が第１のコンベア走路に沿ってプレート４を搬送すると きに稼動する方法をまず説明する。コンベア装置25にはプレート４の束が電解槽 からクレーンによって装荷される。プレート４はコンベア装置の後部部所24に置 かれるが、この部所は空になっていると仮定する。電解槽から取り出されたとき の各プレート４間の間隔は一定に保たれ、ラグ23が凹所29に収容されることによ りプレートが固定支持体28に置かれるまで一定である。移動ビーム30はこの時点 では下方および後方に位置している。 コンベア装置25によるプレート４の搬送は、吊りビーム35をそれらの上方位置 へ吊り上げシリンダ37によって持ち上げることによって開始され、これによりピ ン39はそのピン39の上方の円筒形の面がＵ字形部材40の内部端面に接触するまで 、Ｕ字形部材40内をスライドする。吊り上げシリンダ37の行程距離と移動ビーム 30の上方および下方位置とは、したがって、Ｕ字形部材40の長さと端部止めとに よって決定され、端部止めは前記部材40の上方円形端部およびＵ字形部材40が取 り付けられているそれぞれのプレート41によって形成される。吊り上げ運動中に 、ピン39はＵ字型部材内をスライドし、可動支持体すなわちプラスチック製スト リップ31は固定支持体28の外側のラグ23に突き当たり、プレート４を持ち上げる ことにより、ヨーク22を動かして固定支持体28との接触から外す。 そして移動ビーム30は液圧式シリンダ47によって前方へ歩進し、それによって ガイドレール32がスライドレール34上をスライドする。歩進距離PIはコンベア装 置におけるプレート４間の間隔に一致する。 水平摩擦力は供給方向にスライドレール34に対して作用し、それと共につりビ ーム35に対して作用するが、Ｕ字形部材40に吸収され、したがってピン39から伝 達されてスタンド26に吸収され、これによりこれらの力が吊り上げシリンダ37の ピストンロッド38へ伝達されるのを防止する。 移動ビーム30が一歩前方へ歩進した後に、吊りビーム35およびそれと共に移動 ビーム30は、Ｕ字形部材40内のピン39がプレート41とかみ合うまで、再び下降さ せられる。これらのプレートはこの下降運動中に、新しい前進位置においても、 第６図に示すように、固定支持体28の凹所29内に再び着座させられる。 第１のコンベア装置25の稼動サイクルはその後、移動ビームをそれらの後方の 開始位置へ戻すことによって完了するが、前記ビームはこのとき装荷されていな い。プレート４は、第１のコンベア装置25によって、それらがコンベア走路１の 前方先端部へ到達するまで、このように一歩一歩前進する。 ここで、プレート４が第１のコンベア走路25から第２のコンベア走路50へ移さ れる方法を、第２図を参照して説明する。受領部所６が空であると仮定し、第２ のコンベア装置50における可動支持体67がそれらの下方および後方位置にある か、もしくはプレートの移送を終了する前に移し戻されてこれらの位置を選択す るようにされていると仮定する。また、移送されるプレート4Aは凹所33内に収容 されているラグ23に懸架されて移動ビーム30によって吊り上げられていると仮定 する。移動ビーム30はこの状態から歩進距離PI前方に進められ、第２図において この状態におけるプレート4A’は、受領部所６内の固定支持体54内にある凹所56 の上にただちに懸架され、懸架は、プレートの下方縁57が、可動支持体67の上方 の高さよりも上に位置する高さにおいて行われる。移動ビーム30が制動されると きのプレート4A’を揺動する傾向はすべて、下方の外側の支持体58A によって吸 収され、迅速に減衰される。この移送運動中、プレート4A-4A'は受領部所６内の 上方で後方の側部支持体61の間を通過し、同時にラグ23は前記側部支持体61を通 り越す。移動ビーム30はその後、前記ビームの稼動サイクルに関して上述したよ うに下降させられて、プレート4A’の底縁57が受領部所内の固定支持体54上の凹 所56内に支えられるようにする。これは移動ビーム30がその最下部に到達する前 に行われる。ラグ23はその後、移動ビーム30の可動支持体31内の凹所33から解放 され、これはビーム30の下降運動の最終段階中に行われる。移動ビーム30はその 後、前記第１の液圧式シリンダ47によって引き戻される。複数のプレート４はコ ンベア装置25において、前述した内容に従い、プレート4A-4A'を、継続する次の コンベア装置50へ移送するのと平行して、一歩前進させられることが理解されよ う。さらに言及すべきことは、第２のコンベア装置50における可動支持体67を、 移送作業の最初の段階中、それらの上方の位置（第２図に破線で示す）に置くこ とができるが、移動ビーム30が下降してプレート4A’が受領部所６内の固定支持 体54から除去される直前に、それら可動支持体はその下方の位置へ下降させられ る。 側部支持体59A は上述のように荷下ろししたプレート4A’が受領部所６におい て前方へ落下するのを防止するが、それに対して、側部支持体61はプレートが後 方に落下するのを防止する。最初に言及した側部支持体59A はプレート4A' に直 接作用するが、それに対して、後方側部支持体61はラグ23に対して作用する。 ここで、第２のコンベア装置50の稼動サイクルを説明する。プレート4A’は受 領部所６内にあり、降荷部所10は空であるか、もしくはその降荷部所における少 なくとも１枚はあると思われるプレートは第３のコンベア装置51へ移送されてし まっていると仮定する。さらに、移動ビーム62は第７図のように、その後方位置 にあると仮定する。稼動サイクルは、第２の吊り上げシリンダ72が吊りビーム71 を持ち上げ、それと共に移動ビーム62を下方雌部材76により定められている下方 位置から上方雌部材77により定められている上方位置へ持ち上げることにより開 始される。したがって、この吊り上げ運動の範囲は、前記部材76と77との間の距 離によって限定される。同時に、下方雄部材80は下方雌部材76との係合から外れ て移動し、吊り上げ運動の最後に、上方雄部材81が上方雌部材77の穴79に嵌まる 。この吊り上げ運動は可動支持体67をそれぞれのプレート4A’、４の底縁に接触 させる。この上昇運動はその後も続き、プレート4A’、４が固定支持体54から可 動支持体67によって吊り上げられるようにしている。ラック64の歯は、この全吊 り上げ運動中はピニオンホイール68上の歯に逆らい、かつ係合しながらスライド する。 移動ビーム62は次にモータ75によりピニオンホイール65およびラック64を介し て一歩前進し、それによって可動支持体67は第9B図のように固定支持体54を通り すぎる。その歩進距離は前記第２のコンベア走路２に沿ったプレート間の間隔PI I と等しい。第１のコンベア装置25における場合と同様に、加速力および減速力 は、この場合は液圧式モータであるモータ75へ供給を行う液圧管線（図示しない ）の定比弁によって減衰される。モータが電動モータの場合は、それに対応する 電気制御手段が用いられる。これはプレートがそれぞれの可動支持体54上でスラ イドするのを実質的に防止する。これらのプレートは、プレートの水平搬送中は 上方側部支持体59A、59B に対してもたれることができるが、下方の側部支持体5 8A および58B はプレート４が凹所69から離れるのを防止する。マザープレート2 1のみが終着部所９および10からさらに前進するが、プレートから剥離された金 属被覆20は本発明には無関係の方法で回収される。 前記水平運動中に吊りビーム71に作用する水平摩擦力の、吊り上げシリンダ72 のピストンロッド73への伝達は、第9B図に示す上方雄部材81の上方雌部材77との 係合によって防止され、雌部材はスタンド52に取り付けられる。したがって以下 に説明するように、吊りビーム71に作用する水平摩擦力は第9B図では、ブラケッ ト手段82と、雄部材81と、上方雌部材77とを介して前記前進運動中はスタンド52 へ伝達され、また、ブラケット手段82と、下方雄部材80と、下方雌部材76とによ って戻り運動中は伝達される。 プレート4A’、４を歩進距離PIIで一歩前方へ動かした後に、吊りビーム71は 、それにともなう移動ビーム62とともに下方雌部材76によって定まる下方の位置 へ下降させられ、そこでプレートは新規の固定支持体54上の凹所56内の新しい位 置に置かれる。前記定比弁による加速力および減速力の減衰にもかかわらず、凹 所64内でスライドしてしまういずれのプレートも、端部支持体74によって吊りビ ームの下降運動中に部所内の中央に置かれる。このことは第７図および装置の上 述の説明からも明白であるが、移動ビーム62がその２つの静止位置のうち、一方 を稼動サイクル中に選んでいる場合、すべての部所６−10内の固定支持体54およ び可動支持体67は、その搬送装置の長手方向に見られるように様々な位置に配置 されることをここでも言及しておく。 可動支持体67は戻り運動中は空になっており、それに加えて、第9A図のように 、固定支持体54の下を通り、ここでは固定支持体は凹所56に置かれているプレー トを支えている。この戻り運動中は、吊りビーム71に対して作用する水平摩擦力 はブラケット手段82および下方雄部材80によって吸収され、下方雌部材76および それにともないスタンド52へ伝達される。移動ビーム62の第２の位置への復帰は 第２のコンベア装置50の稼動サイクルの完了を意味する。移動ビーム62の上述の 稼動サイクル中の前進運動が、送出部所10でのプレートの積み下ろしという結果 につながる。これに続く移動ビーム62の下方位置への下降の前に、第３のコンベ ア装置51に含まれる移動ビームは、降荷部所10内のプレート上の突出部23の下に 動かされる。これにより、第７図で参照番号4A''で示されるプレートは、第２の コンベア装置２の移動ビーム62の下降が続くため、第３のコンベア装置51の移動 ビーム上に配置される。その他の点については、コンベア走路３における第３の コンベア装置51は、第１のコンベア装置25を参照して説明したものと同様の方式 で稼動し、「逆方向に」、稼動サイクルの次の段階でプレートを降荷部所10から 離れるように搬送する点のみ異なる。 ３個のコンベア装置による稼動サイクルのうち、コンベア装置25および50の稼 動サイクルを詳細に上述したが、これらはマイクロプロセッサにより制御される 。マイクロプロセッサのプログラミングは多数のパラメータによって決定され、 中でも、プレートが前記第２のコンベア走路２に沿って部所７、８および９で受 ける処理によって決定される。 マイクロプロセッサを、プレート4A、4A’をプレートの送出部所10からの送出 と平行して受領部所６へ送り込むようにプログラムすることもできる。マイクロ プロセッサをさらに、受領部所６が空になり、他のプレート、具体的にはマザー プレート21が送出部所10へ進んでしまうまで、新規のプレート４、4A’が受領部 所６へ供給されないようにプログラムすることもできる。３個のコンベア装置25 、50および51の稼動サイクルは互いに同期しているが、これは、稼動サイクルの 個々の部分が同期して行われるのではなく、むしろ互いに位相が偏位しているこ とを意味すると理解できる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．プレート(4) 、とくに被着金属層を有するマザープレート、または有しない マザープレートを電解金属精錬設備において搬送する装置であって、前記プレー トはコンベア装置(25，50)で搬送され、該搬送は少なくとも１本の水平なコンベ ア走路に沿って行われ、該コンベア走路において前記プレートは全体として垂直 に、互いに等間隔に配置される装置において、該コンベア装置は移動ビーム型で あり、固定支持体(28，54)と、少なくとも１本の移動ビーム(30，62)とを含み、 該ビームは可動支持体(31，67)を有し、該移動ビームはサイクル方式で移動され 、該サイクル方式は、前記走路に沿って搬送されるすべての前記プレートが前記 可動支持体によって該各プレートの前記固定支持体から第１の位置で吊り上げら れる吊り上げ運動と、すべての前記プレートが該各プレートの可動支持体に支え られている間に同時に一歩前進させられる前進運動と、前記プレートが新しい第 ２の位置で固定支持体上に配置される下降運動と、前記一歩の距離が前記走路に 沿った前記プレートの間隔(PI;PII)と一致する戻り運動とを含んでいることを特 徴とするコンベア装置。 ２．請求の範囲第１項記載の装置において、前記固定支持体および前記可動支持 体は、突出部(23)の下に配置され、該突出部は前記プレートから該プレートの平 面内で横方向に外へ向かって伸びており、前記プレートは該プレートに交差する 方向に前進させられることを特徴とするコンベア装置。 ３．請求の範囲第２項記載の装置において、前記プレートは該プレートの底縁で 前記固定支持体および前記可動支持体(54，67)にそれぞれ置かれ、前記プレート は前記可動支持体(67)上に長手方向に置かれて前進させられることを特徴とする コンベア装置。 ４．請求の範囲第２項記載の装置において、該装置は２本の平行な移動ビーム(3 0)を含み、該各移動ビームは、前記突出部(23)の下に配置された前記可動支持体 を有し、該各移動ビームは、該各ビームの一方の側の、それぞれの前記突出部の 下に、一連の前記固定支持体を有することを特徴とするコンベア装置。 ５．請求の範囲第３項記載の装置において、前記プレートの下の可動支持体(67) を有する移動ビーム(62)と、該プレートの下にさらに配置されている一連の固定 支持体(54，56)とを含み、前記可動支持体は前記移動ビームが前進するときに前 記固定支持体の上を通り、該移動ビームが戻り運動を行うときに該固定支持体の 下を通ることを特徴とするコンベア装置。 ６．請求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の装置において、前記移動 ビームを吊りあげる機能を果たす吊りビーム(35，71)と、該吊りビームを前記移 動ビームとともに吊り上げ、下降させる吊り上げ装置(37，72)と、該吊りビーム の長手方向の動きを防止する手段(39，40，76，77，80，81，82)であって、該防 止においては、前記移動ビームが該移動ビームの長手方向の運動中に前記つりビ ーム上をスライドする手段とを含むことを特徴とするコンベア装置。 ７．請求の範囲第１項ないし第６項のいずれかに記載の装置において、前記移動 ビームの垂直方向の動きの距離および終着位置を定める、上方停止手段と下方停 止手段(39，40，41; 76，77，82)とを特徴とするコンベア装置。 ８．請求の範囲第４項記載の装置において、前記移動ビームの前記可動支持体は 、前記プレートを前記突出部(23)に係合することによって保持する機能を果たし 、該保持は、望ましくは該支持体(28)に設けられた突出部収容凹所(29)によるこ とを特徴とするコンベア装置。 ９．互いに直角を成すように配置された少なくとも２本のコンベア走路を含むプ レートコンベアラインであって、該走路は、プレートを実質的に直立させて該プ レートの平面に対して垂直方向に移動させる第１のコンベア装置(25)と、前記プ レートを該プレートの平面に対して実質的に垂直方向に移動させる第２のコンベ ア装置(50)とを含むプレートコンベアラインにおいて、前記第１のコンベア装置 (25)は、前記プレート上の突出部に対して作用する支持体を有する２本の移動ビ ームを含み、該プレートを前記第２のコンベア装置内に配置する機能を果たし、 該配置は、該移動ビームが下降させられるときに、該プレートの底縁(57)を支持 体で支えた状態で行われることを特徴とするプレートコンベアライン。 10．請求の範囲第８項記載のコンベアラインであって、さらに前記第１のコンベ ア走路(1) に平行した第３のコンベア走路(3) 含むコンベアラインにおいて、プ レートが前記第２のコンベア走路から前記第３のコンベア走路へ移送される降荷 部所であって、該第２のコンベア装置における少なくとも１本の移動ビームに属 している可動支持体が低い水準まで下降させられたとき、前記第３のコンベア走 路に沿って稼動する第３のコンベア装置(51)内の移動ビーム上にプレートが配置 される降荷部所を含むことを特徴とするコンベアライン。