JP2537127B2 - 蒸留再生装置 - Google Patents
蒸留再生装置Info
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Description
電気部品、或いは、切削部品、プレス部品等のワーク洗
浄に使用されたHFC、PFC、PFEなどの不活性溶
剤を蒸留再生するために用いるような蒸留再生装置に関
する。
方法としては、例えば、未洗浄のワークを炭化水素系溶
剤(例えばHC)で洗浄処理して、同ワーク表面に付着
した研磨粉や切削油等の異物を洗浄除去する前処理を行
った後、ワークを上述のHFC、PFC、PFEなどの
不活性溶剤で洗浄処理(すすぎ処理)して、同ワーク表
面に残着した炭化水素系溶剤を洗浄除去(すすぎ除去)
する後処理を行う洗浄方法がある。
不活性溶剤と炭化水素系溶剤とを併用する洗浄方法の場
合、炭化水素系溶剤には、例えば、第4類の第2石油類
又は第4類の第3石油類等の溶剤が一般的に多く使用さ
れるが、切削油やプレス油等と比較して、炭化水素系溶
剤の沸点が低いという特性を有している。このため、不
活性溶剤中に炭化水素系溶剤が混入した溶剤を蒸留再生
する時、不活性溶剤および炭化水素系溶剤の混合した蒸
気が発生するだけでなく、不活性溶剤中に炭化水素系溶
剤が微量(約5%)ながら溶解するため、純粋な不活性
溶剤を回収することが技術的に困難である。かつ、蒸留
再生された不活性溶剤でワーク全体を後処理しても、ワ
ーク表面に炭化水素溶剤の付着した跡が残るため、不活
性溶剤による洗浄効果が損なわれる問題点があった。
装填した金属製の吸着体に不活性溶剤の蒸気を接触させ
ることにより、不活性溶剤の蒸気中に含まれる炭化水素
系溶剤が効率よく蒸留分離され、蒸留再生される不活性
溶剤の純度および効率の向上を図ることができ、さらに
溶剤蒸留室を密封構成と成すことで、再生蒸留された高
純度の不活性溶剤蒸気を再生蒸気取出手段からロスなく
取出すことができ、特にPFCのような揮発性が大なる
溶剤の蒸留再生に極めて有効な蒸留再生装置の提供を目
的とする。
溶剤(T)が混入した不活性溶剤(F)を溶剤蒸留室
(2,16)内に回収して蒸留再生する蒸留再生装置で
あって、上記溶剤蒸留室(2,16)内の下部貯液領域
に不活性溶剤(F)を所定量貯液する溶剤貯液槽(3,
17)を設け、該溶剤貯液槽(3,17)内に不活性溶
剤(F)を沸点温度に加熱する溶剤加熱手段(5,1
9)を設けると共に、上記溶剤蒸留室(2,16)内の
上部蒸気領域に不活性溶剤(F)の蒸気(Fa)を導入
して、該蒸留再生する溶剤蒸留塔(4,18)を設け、
上記溶剤蒸留塔(4,18)の蒸気導入領域に不活性溶
剤(F)の蒸気(Fa)中に含まれる炭化水素系溶剤
(T)を吸着分離する金属製の吸着体(10,28)を
装填すると共に、溶剤蒸留塔(4,18)の下部領域に
炭化水素系溶剤(T)を貯液する溶剤滴下槽(9,2
3)を設け、上記溶剤蒸留塔(4,18)には蒸留再生
された不活性溶剤(F)の蒸気(Fa)を塔外部に取出
す再生蒸気取出手段(12,27)を設け、さらに上記
溶剤蒸留塔(4,18)を含む溶剤蒸留室(2,16)
を密封構造と成した蒸留再生装置であることを特徴とす
る。
不活性溶剤を溶剤蒸留室内の溶剤貯液槽に一旦貯液した
後、同槽に貯液された不活性溶剤を溶剤加熱手段で加熱
して蒸発気化する。溶剤蒸留室内の上部蒸気領域に放出
された不活性溶剤の蒸気を溶剤蒸留塔に導入し、同塔内
部に装填した金属製の吸着体に不活性溶剤の蒸気を接触
させる。この時、吸着体と接触する不活性溶剤の蒸気か
ら熱が効率よく吸収されると共に、不活性溶剤よりも炭
化水素系溶剤の沸点が高く、かつ、各溶剤の特性が異な
るため、炭化水素系溶剤を多く含んだ不活性溶剤の蒸気
から炭化水素系溶剤が凝縮液化されて溶剤滴下槽に貯液
すると共に、蒸留分離された高純度の不活性溶剤の蒸気
のみを再生蒸気取出手段を介して塔外部に取出して洗浄
工程に返還供給することができる。
留室内の溶剤蒸留塔に装填した金属製の吸着体に不活性
溶剤の蒸気を接触させるので、沸点や比重等の溶剤特性
が異なるため、不活性溶剤の蒸気中に含まれる炭化水素
系溶剤が効率よく蒸留分離され、蒸留再生される不活性
溶剤の純度および効率の向上を図ることができる。さら
に、上述の溶剤蒸留室を密封構造と成したので、再生蒸
留された高純度の不活性溶剤蒸気を再生蒸気取出手段か
らロスなく取出すことができ、特にPFCのような揮発
性が大なる溶剤の蒸留再生に極めて有効となり、溶剤ロ
スの大幅な低減を図ることができる効果がある。なお、
上述のような高純度の不活性溶剤でワークを仕上げ洗浄
すると、ワーク表面に溶剤の付着した跡が残ったりせ
ず、高度な技術を必要とする洗浄処理が簡単に行え、ワ
ーク表面を綺麗に仕上げ洗浄することができる。
下槽に貯液することで、該溶剤液を溶剤蒸留塔から取出
したり、または、該塔の液封に利用することができる。
述する。図面は蒸留再生装置を示し、図1は超音波洗浄
やシャワー洗浄等の前処理に炭化水素系溶剤T(例え
ば、商品名=ナフテゾール等のナフテン系溶剤)を使用
する洗浄工程において、ワークの後処理に使用される不
活性溶剤F(例えば、ハイドロフルオロカーボン=HF
C、パーフロオロカーボン=PFC、パーフルオロポリ
エーテル=PFE等からなる単一溶剤又は混合溶剤)を
蒸留再生するために用いられる第1実施例の蒸留再生装
置1を示し、この蒸留再生装置1は、後処理に使用され
た不活性溶剤F(PF−5060、沸点56℃)を蒸留
する密封構造の溶剤蒸留室2の下部貯液領域に、炭化水
素系溶剤T(ナフテゾールM、沸点209.5℃〜23
5.5℃)が混入した不活性溶剤Fを貯液する溶剤貯液
槽3を連設すると共に、同溶剤蒸留室2の上部蒸気領域
に、不活性溶剤Fの蒸気Fa中から炭化水素系溶剤Tを
蒸留分離する溶剤蒸留塔4を連設している。
に炭化水素系溶剤Tが混入した不活性溶剤Fを蒸発気化
するための溶剤加熱管5を配管し、例えば、適宜温度に
加熱されたオイルや水溶液等の加熱媒体(図示省略)を
溶剤加熱管5内に循環供給して、同槽内部に貯液された
不活性溶剤Fが蒸発気化する適宜温度に溶剤加熱管5を
加熱する。かつ、溶剤貯液槽3に貯液される不活性溶剤
Fの液面部分よりも上部壁面に回収用バルブ6を介して
溶剤回収路7を接続している。
中央内部に、例えば、四角形、五角形、六角形等の多面
形状に形成した筒状の塔本体8を垂設し、同塔本体8の
下部位置に炭化水素系溶剤Tを滴下するための溶剤滴下
槽9を配設して、同溶剤滴下槽9に貯液される炭化水素
系溶剤Tの液面部分に塔本体8の下端側開口部を適宜深
さ浸漬して液封している。
方向に対して凹形の棚部8aを連続形成し、同塔本体8
の外面側軸方向に対して複数の各棚部8a…を適宜上下
間隔に隔てて形成すると共に、同各棚部8a…の下流側
底部に各流下孔8e…を形成している。同塔本体8の各
棚部8a…には、例えば、ステンレスやアルミニウム等
の金属材料で断面円筒形(例えば、長さ約5mm)に形成
した多数個の各筒体10…(例えば、商品名=ラシヒリ
ング)を適宜密度に集合して装填している。
ば、四角形、五角形、六角形等の断面多角形に形成した
筒体10を多数個装填したり、後述する第2実施例の交
絡繊維体28(例えば、商品名=デミスター)を圧縮成
形して装填するもよい。
各蒸気導入孔8b…を適宜間隔に隔てて形成し、同塔本
体8の上端側周縁部に溶剤蒸留塔4の上面側開口部が閉
鎖される大きさに形成した閉鎖板8cを溶着固定し、同
閉鎖板8cの下面側中央部に塔本体8の全長よりも短尺
寸法に形成した蒸気排出管8dを垂設すると共に、同蒸
気排出管8dの上端部に排出用バルブ11を介して蒸気
排出路12を接続している。
溶剤Fを蒸留再生装置1により蒸留再生する作用を説明
する。
水素系溶剤Tが混入した不活性溶剤Fを溶剤回収路7を
介して溶剤蒸留室2内の溶剤貯液槽3に一旦貯液し、同
槽に貯液した不活性溶剤Fを溶剤加熱管5で適宜温度に
加熱して蒸発気化させ、溶剤蒸留室2内の上部蒸気領域
に不活性溶剤Fの蒸気Faを放出する。なお、超音波洗
浄やシャワー洗浄等の前処理に炭化水素系溶剤Tを使用
した場合、後処理に使用される不活性溶剤Fには炭化水
素系溶剤Tが若干量混入しており、溶剤貯液槽3内に貯
液された不活性溶剤Fを蒸発気化させると、不活性溶剤
Fの蒸気Fa中に炭化水素系溶剤Tが混入する。
出された不活性溶剤Fの蒸気Faを溶剤蒸留塔4内に導
入して、同溶剤蒸留塔4内に垂設した塔本体8の各棚部
8a…に不活性溶剤Fの蒸気Faを流入させ、各棚部8
a…に装填した各筒体10…の表面に沿って不活性溶剤
Fの蒸気Faを上昇流動させながら整流すると共に、各
筒体10…と接触するときに炭化水素系溶剤Tが多く含
まれた不活性溶剤Fの蒸気Faを蒸留分離する。つま
り、各筒体10…の小さな孔及び各筒体10…の隙間を
不活性溶剤Fの蒸気Faが通過するとき、各筒体10…
の表面積が大きいため、各筒体10…の表面に接触する
不活性溶剤Fの蒸気Faから熱が効率よく吸収されると
共に、不活性溶剤Fよりも炭化水素系溶剤Tの沸点が高
く、かつ、各溶剤F,Tの特性が異なるため、炭化水素
系溶剤Tを多く含んだ不活性溶剤Fの蒸気Faから炭化
水素系溶剤Tが凝縮液化される。
筒体10…の表面に順次付着させると共に、同各筒体1
0…の表面に付着する炭化水素系溶剤Tを互いに合体さ
せながら自重流下する。凝縮液化した炭化水素系溶剤T
は塔本体8および各棚部8a…の表面に沿って自重流下
し、塔本体8の下部位置に配設した溶剤滴下槽9内に滴
下される。同溶剤滴下槽9内に貯液された炭化水素系溶
剤Tをオーバーフローさせて溶剤貯液槽3に返還する。
性溶剤Fの蒸気Faを、塔本体8の各棚部8a…に装填
した各筒体10…に順次接触させて蒸留分離すると共
に、溶剤蒸留塔4内の上部蒸気領域に蒸留分離された不
活性溶剤Fの蒸気Faのみを上昇させ、各蒸気導入孔8
b…を介して、塔本体8の内部空間に蒸留分離された不
活性溶剤Fの蒸気Faを順次導入する。蒸留分離された
不活性溶剤Fの蒸気Faを取出す場合、排出用バルブ1
1を開操作して、塔本体8の内部空間に導入された不活
性溶剤Fの蒸気Faを蒸気排出管8dおよび蒸気排出路
12を介して槽外部に排出し、蒸留再生された不活性溶
剤Fの蒸気Faを、例えば、超音波洗浄、浸漬洗浄、蒸
気洗浄、シャワー洗浄等の後処理工程に返還供給する。
属製の各筒体10…に不活性溶剤Fの蒸気Faを接触さ
せるので、金属製の各筒体10…と不活性溶剤Fの蒸気
Faとの接触面積が大きく、かつ、沸点や比重等の溶剤
特性が異なるため、不活性溶剤Fの蒸気Fa中に含まれ
る炭化水素系溶剤Tが効率よく蒸留分離され、蒸留再生
される不活性溶剤Fの純度および効率の向上を図ること
ができる。さらに、上述の溶剤蒸留室2を密封構造と成
したので、再生蒸留された高純度の不活性溶剤蒸気Fa
を再生蒸気取出手段(蒸気排出路12参照)からロスな
く取出すことができ、特にPFCのような揮発性が大な
る溶剤の蒸留再生に極めて有効となり、溶剤ロスの大幅
な低減を図ることができる効果がある。なお、このよう
な高純度の不活性溶剤Fでワークを仕上げ洗浄すると、
ワーク表面に溶剤の付着した跡が残ったりせず、高度な
技術を必要とする洗浄処理が簡単に行え、ワーク表面を
綺麗に仕上げ洗浄することができる。
溶剤Fを蒸留再生するために用いられる第2実施例の蒸
留再生装置15を示し、この蒸留再生装置15は、後処
理に使用された不活性溶剤Fを蒸留する密封構造の溶剤
蒸留室16の下部貯液領域に、炭化水素系溶剤Tが混入
した不活性溶剤Fを貯液する溶剤貯液槽17を連設する
と共に、同溶剤蒸留室16の上部蒸気領域に、不活性溶
剤Fの蒸気Fa中から炭化水素系溶剤Tを蒸留分離する
各溶剤蒸留塔18…を複数配設している。
面に炭化水素系溶剤Tが混入した不活性溶剤Fを蒸発気
化するための溶剤加熱管19を配管し、例えば、適宜温
度に加熱されたオイルや水溶液等の加熱媒体(図示省
略)を溶剤加熱管19内に循環供給して、同槽底部に貯
液された不活性溶剤Fが蒸発気化する適宜温度に溶剤加
熱管19を加熱する。また、溶剤貯液槽17に貯液され
る不活性溶剤Fの液面部分よりも上部壁面に回収用バル
ブ20を介して溶剤回収路21を接続している。
留塔18…の内部空間にU字形の各蒸留通路22…を形
成し、同各蒸留通路22…の下部領域に炭化水素系溶剤
Tを滴下するための各溶剤滴下槽23…を配設してい
る。かつ、各溶剤滴下槽23…に貯液される炭化水素系
溶剤Tの液面部分と対応する側壁面と、溶剤貯液槽17
に貯液される不活性溶剤Fの液面部分よりも上部壁面と
を各返還用バルブ24…を介して各溶剤返還路25…で
接続している。
6の上部蒸気領域と、前段側の蒸留通路22に形成した
流入口22aとを連通接続し、前段側の蒸留通路22に
形成した流出口22bと、後段側の蒸留通路22に形成
した流入口22aとを連通接続し、後段側の蒸留通路2
2に形成した流出口22bに排出用バルブ26を介して
蒸気排出路27を接続している。さらに、各蒸留通路2
2…の入口側内部に形成した網状の各棚部22c…に、
例えば、ステンレスやアルミニウム等の金属材料で線条
体28aを形成すると共に、同線条体28aを交絡して
なる交絡繊維体28(例えば、商品名=デミスター)を
適宜密度に圧縮成形して装填している。なお、蒸留通路
22の棚部22cに、上述した第1実施例の筒体10
(商品名=ラシヒリング)を多数個装填するもよい。
溶剤Fを蒸留再生装置15により蒸留再生する作用を説
明する。
化水素系溶剤Tの混入した不活性溶剤Fを溶剤回収路2
1を介して溶剤蒸留室16内の溶剤貯液槽17に一旦貯
液し、同槽に貯液した不活性溶剤Fを溶剤加熱管19で
適宜温度に加熱して蒸発気化させ、溶剤蒸留室16内の
上部蒸気領域に不活性溶剤Fの蒸気Faを放出する。
放出された不活性溶剤Fの蒸気Faを、前段側の溶剤蒸
留塔18に形成した蒸留通路22と、後段側の溶剤蒸留
塔18に形成した蒸留通路22とに順次導入し、同各蒸
留通路22…に装填した各交絡繊維体28…の繊維隙間
に沿って不活性溶剤Fの蒸気Faを流動させながら整流
すると共に、各交絡繊維体28…を通過するときに炭化
水素系溶剤Tが多く含まれた不活性溶剤Fの蒸気Faを
蒸留分離する。つまり、交絡繊維体28の繊維隙間を不
活性溶剤Fの蒸気Faが通過するとき、交絡繊維体28
を構成する線条体28aとの接触により不活性溶剤Fの
蒸気Faから熱が効率よく吸収されると共に、不活性溶
剤Fよりも炭化水素系溶剤Tの沸点が高く、かつ、各溶
剤F,Tの特性が異なるため、炭化水素系溶剤Tを多く
含んだ不活性溶剤Fの蒸気Faから炭化水素系溶剤Tが
凝縮液化される。
各交絡繊維体28…に順次付着させると共に、同各交絡
繊維体28…に付着する炭化水素系溶剤Tを互いに合体
させて各溶剤滴下槽23…内に順次滴下する。後段側の
溶剤蒸留塔18に形成した蒸留通路22の出口側蒸気領
域に、蒸留分離された不活性溶剤Fの蒸気Faのみを流
動させ、排出用バルブ26を開操作して、同蒸留通路2
2の出口側蒸気領域に流動した不活性溶剤Fの蒸気Fa
を蒸気排出路27を介して槽外部に取出し、蒸留再生さ
れた不活性溶剤Fの蒸気Faを、例えば、超音波洗浄、
浸漬洗浄、蒸気洗浄、シャワー洗浄等の後処理工程に返
還供給する。かつ、各返還用バルブ24…を開操作し
て、各溶剤滴下槽23…の液面部分に浮遊する不活性溶
剤Fを各溶剤返還路25…を介して溶剤貯液槽17にそ
れぞれ返還する。
金属製の交絡繊維体28に不活性溶剤Fの蒸気Faを接
触させるので、第1実施例の装置と同様に、不活性溶剤
Fの蒸気Fa中に含まれる炭化水素系溶剤Tが効率よく
蒸留分離されると共に、第1実施例の溶剤蒸留塔4に装
填される筒体10の密度よりも、第2実施例の溶剤蒸留
塔18に装填される交絡繊維体28の密度が高いため、
第1実施例の溶剤蒸留装置1よりも蒸留効率が向上し、
高純度の不活性溶剤Fを蒸留再生することができる。な
お、その他の点については、この第2実施例においても
先の第1実施例と同様の作用、効果を奏する。
において、この発明の吸着体は、実施例の筒体10およ
び交絡繊維体28に対応し、以下同様に、再生蒸気取出
手段は、蒸気排出路12,27に対応するも、この発明
は、上述の実施例の構成のみに限定されるものではな
い。
室2内の溶剤蒸留塔4に金属製の各筒体10…を装填
し、第2実施例の蒸留再生装置15は、溶剤蒸留室16
内の溶剤蒸留塔18に金属製の交絡繊維体28を装填し
ているが、例えば、溶剤蒸留室2内の溶剤蒸留塔4に金
属製の交絡繊維体28を装填し、溶剤蒸留室16内の溶
剤蒸留塔18に金属製の各筒体10…を装填するもよ
く、溶剤の特性に応じて金属製の筒体10または交絡繊
維体28の何れかを選択使用してもよく、或は金属製の
筒体10および交絡繊維体28を複合して使用するもよ
い。
各溶剤蒸留塔4,18の塔数、塔本体8に形成した棚部
8aおよび蒸留通路22に形成した棚部22cの段数
は、各実施例の構成のみに限定されるものではなく、溶
剤の特性に応じて塔数および段数を変更するもよい。
時に蒸留分離された炭化水素系溶剤Tを、同塔下部に配
設した各溶剤貯液槽3,17に滴下供給して再度蒸留再
生するもよい。
面図。
Claims (1)
- 【請求項1】炭化水素系溶剤(T)が混入した不活性溶
剤(F)を溶剤蒸留室(2,16)内に回収して蒸留再
生する蒸留再生装置であって、 上記溶剤蒸留室(2,16)内の下部貯液領域に不活性
溶剤(F)を所定量貯液する溶剤貯液槽(3,17)を
設け、該溶剤貯液槽(3,17)内に不活性溶剤(F)
を沸点温度に加熱する溶剤加熱手段(5,19)を設け
ると共に、 上記溶剤蒸留室(2,16)内の上部蒸気領域に不活性
溶剤(F)の蒸気(Fa)を導入して、該蒸留再生する
溶剤蒸留塔(4,18)を設け、 上記溶剤蒸留塔(4,18)の蒸気導入領域に不活性溶
剤(F)の蒸気(Fa)中に含まれる炭化水素系溶剤
(T)を吸着分離する金属製の吸着体(10,28)を
装填すると共に、溶剤蒸留塔(4,18)の下部領域に
炭化水素系溶剤(T)を貯液する溶剤滴下槽(9,2
3)を設け、 上記溶剤蒸留塔(4,18)には蒸留再生された不活性
溶剤(F)の蒸気(Fa)を塔外部に取出す再生蒸気取
出手段(12,27)を設け、 さらに上記溶剤蒸留塔(4,18)を含む溶剤蒸留室
(2,16)を密封構造と成した蒸留再生装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP5145503A JP2537127B2 (ja) | 1993-05-24 | 1993-05-24 | 蒸留再生装置 |
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---|---|---|---|
JP5145503A JP2537127B2 (ja) | 1993-05-24 | 1993-05-24 | 蒸留再生装置 |
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JPH06327901A JPH06327901A (ja) | 1994-11-29 |
JP2537127B2 true JP2537127B2 (ja) | 1996-09-25 |
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ID=15386769
Family Applications (1)
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JP5145503A Expired - Lifetime JP2537127B2 (ja) | 1993-05-24 | 1993-05-24 | 蒸留再生装置 |
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JP3176658B2 (ja) * | 1991-07-31 | 2001-06-18 | 東京特殊金網株式会社 | 気液接触用充填物 |
-
1993
- 1993-05-24 JP JP5145503A patent/JP2537127B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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