JPH0545435Y2 - - Google Patents

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JPH0545435Y2
JPH0545435Y2 JP18315287U JP18315287U JPH0545435Y2 JP H0545435 Y2 JPH0545435 Y2 JP H0545435Y2 JP 18315287 U JP18315287 U JP 18315287U JP 18315287 U JP18315287 U JP 18315287U JP H0545435 Y2 JPH0545435 Y2 JP H0545435Y2
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solvent
cleaning
cleaned
gas
liquid contact
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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は洗浄装置に関する。
〔従来の技術とその問題点〕
近年、精密部品の洗浄には超音波洗浄機が欠か
せないものになつているが、この超音波は、通
常、蒸気を使用した洗浄装置と組み合わされる。
しかして、この蒸気洗浄装置は、洗浄溶剤の加
熱によつて生じた溶剤蒸気に、被洗浄物をさら
し、このときの被洗浄物との温度差によつて溶剤
蒸気を凝縮して、凝縮溶剤を形成して、そして、
この凝縮溶剤によつて、被洗浄物を洗浄するもの
である。即ち、一種の蒸溜によつて精製された洗
浄溶剤によつて洗浄するというものであつて、清
浄な凝縮溶剤で洗浄できるというものである。
しかしながら、洗浄中に、溶剤中に持ち込まれ
る水分の影響、洗浄離脱物質の共沸、あるいは、
加熱のコントロールの困難等により、溶剤蒸気は
どうしても汚染物質がともなつたものとなり、被
洗浄物を2次汚染するという問題点があつた。
そこで、本考案では、従来のこのような問題点
を解決して、長期にわたつて被洗浄物を順次洗浄
することができる洗浄装置を提供することを目的
とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案の洗浄装置は、下部に洗浄溶剤が溜めら
れると共に、上部に被洗浄物が出し入れ自在に保
持される洗浄槽と;該洗浄槽内の洗浄溶剤を加熱
して、該洗浄溶剤から溶剤蒸気を上昇させる加熱
器と;上記洗浄溶剤と被洗浄物との間に介装され
ると共に、上記溶剤蒸気を精製して、該洗浄溶剤
より高沸点の物質が除去された精製蒸気を生成す
る気液接触部材と;を備えている。
〔作用〕
上述の如く構成すれば、被洗浄物の洗浄により
洗浄溶剤に該洗浄溶剤よりも高沸点の物質が混在
している場合においても、気液接触部材によりそ
の物質は精製蒸気には含まれないことになり、こ
の精製蒸気にて洗浄される被洗浄物には、その物
質が付着せず、きれいに洗浄されることになる。
〔実施例〕
以下、実施例を示す図面に基づいて本考案を詳
説する。
第1図は本考案に係る洗浄装置を示し、この装
置は、下部1に洗浄溶剤2が溜められると共に上
部3に被洗浄物4が保持される洗浄槽5と、該洗
浄槽5に付設される加熱器6と、該洗浄槽5内に
内装される気液接触部材7と、を備えている。
しかして、洗浄槽5は、有底筒体からなり、そ
の側壁12下端部には液面計13が設けられ、内
部には上下2段の保持板11,9が設けられてい
る。また、上段の保持板11は、被洗浄物4…を
内有する編目状のかご等の被洗浄物保持部材10
を、保持するものであつて、該保持部材10は洗
浄槽5に出し入れ自在とされている。即ち、被洗
浄物4も保持部材10から出し入れ自在とされる
ので、該被洗浄物4は洗浄槽5から出し入れ自在
とされる。そして、下段の保持板9は上記気液接
触部材7を保持するものであつて、多数の孔8…
が貫設されている。なお、上段の保持板11も多
数の孔があいている。
また、洗浄溶剤2とは、フロン、二塩化メチレ
ン、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロロ
エチレン等のハロゲン系有機溶剤、又は、メタノ
ール、イソプロピルアルコール等の鎖状アルコー
ル系有機溶剤等であり、加熱器6は、該洗浄溶剤
2を加熱して、該洗浄溶剤2から溶剤蒸気14を
上昇させる。15は洗浄槽5の底壁16に設けら
れたドレン部である。
しかして、気液接触部材7とは、液体と気体と
が熱交換等をする接触面を形成するものであつ
て、実施例では、充填物17が使用されている。
即ち、充填物17は、第3図に示す様に種々の形
状のものが使用され、第3図に示すラシヒリン
グ、第3図に示すレシングリング、第3図に
示すくら型等が使用される。これらは、通常、磁
器類や樹脂で強化したカーボン等で作られる。な
お、この充填物17として適当な条件は、単位充
填容積についての表面積が大きいこと、圧力損失
が少ないこと、溶剤蒸気14に対して耐蝕性であ
ること、等が要求される。
そして、加熱器6にて形成された溶剤蒸気14
は、保持板9の孔8…を介して気液接触部材7に
まで上昇するが、充填物17の表面において、液
相と気相の気液平衡関係が形成され、それによ
り、蒸発と凝縮の物理現象が営まれることにな
り、さらに、この蒸発と凝縮の物理現象は個々の
充填物17で行われることになる。従つて、下部
より上部に蒸気14が徐々に上昇していく間に、
蒸発と凝縮がくり返され、次第に低沸点成分に富
んだ組成に変化していくことになる。つまり、こ
の気液接触部材7は、洗浄溶剤2の高沸点物と低
沸点物との分離を促進させ、精製蒸気18を形成
するものである。
しかして、被洗浄物4は精製蒸気18にさらさ
れることになり、このとき、該蒸気18と被洗浄
物4との温度差により該蒸気18が凝縮され、凝
縮溶剤が形成される。そして、この凝縮溶剤によ
つて被洗浄物4…が洗浄されることになる。ま
た、この場合、被洗浄物4…を洗浄すれば、該被
洗浄物4に付着していた汚染物が剥離し、該汚染
物が洗浄溶剤2に混入することになる。ところ
で、上記精製蒸気18は、低沸点成分に富んだ組
成であつて、洗浄溶剤2より高沸点の物質が除去
されていることになつているので、洗浄溶剤2よ
り高沸点である汚染物は該精製蒸気18には含ま
れないことになる。従つて、順次、被洗浄物4を
洗浄してゆく場合、後の被洗浄物4に先の被洗浄
物4の汚染物が付着することがない。19は温度
計、20は冷却管である。
また、この洗浄装置は、超音波洗浄機とともに
組み合わされて使用されるものであつて、該超音
波洗浄機にて洗浄された被洗浄物4を、冷却によ
つて室温あるいは大気温に冷却した後、保持部材
10に入れてこの保持部材10を保持板11に載
置し、もつて、この洗浄装置に該被洗浄物4を保
持させる。そして、その後は、上述の如くこの被
洗浄物4を洗浄する。
次に、第2図は、気液接触部材7のある条件下
における精製状況を示すグラフ図であり、この場
合、溶剤2としてフロン−113を使用し、該溶剤
2中に5(g/)の濃度にて鉱物油を混入させ、
溶剤2の液面から気液接触部材7の下面までの寸
法を100(mm)とし、該気液接触部材7の厚さ寸法
(つまり、気液接触部材7下面から気液接触部材
7上面までの寸法)を150(mm)とし、さらに、気
液接触部材7を径5(mm)のガラス玉とした。そ
して、この条件下において、溶剤2を加熱して溶
剤蒸気14を発生させれば、このグラフに示す様
に、気液接触部材7から形成される精製蒸気18
には、鉱物油が含まれていなかつた。
なお、本考案は上述の実施例に限らず本考案の
要旨を逸脱しない範囲に設計変更自由であり、例
えば、気液接触部材7としては、多孔板塔、泡鐘
塔等の段塔からなる気液接触装置とするも自由で
あり、その場合、その段数も自由である。また、
実施例のように、充填物17を使用した場合、こ
の充填物17の大きさ、形状も任意である。しか
し、いずれにしても、段数や充填物17の大きさ
等は、使用される溶剤2、加熱温度、除去物質等
によつて決定されるものである。
〔考案の効果〕
本考案の洗浄装置によれば、精製蒸気18に
は、常に洗浄溶剤2よりも高沸点の物質が含まれ
ないので、該精製蒸気18に洗浄される被洗浄物
4には、そのような物質や不揮発性物質が付着せ
ず、該被洗浄物4…をきれいに洗浄することがで
きる。つまり、長期にわたつて、洗浄溶剤2を取
り替えることも洗浄槽5を洗浄することもなく、
該洗浄溶剤2よりも高沸点の物質が除去された精
製蒸気18にて被洗浄物4…を洗浄することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す簡略断面図、
第2図は気液接触部材の実験結果を示すグラフ
図、第3図は気液接触部材の具体例を示す斜視図
である。 1……下部、2……洗浄溶剤、3……上部、4
……被洗浄物、5……洗浄槽、6……加熱器、7
……気液接触部材、14……溶剤蒸気、18……
精製蒸気。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 下部1に洗浄溶剤2が溜められると共に、上部
    3に被洗浄物4が出し入れ自在に保持される洗浄
    槽5と、 該洗浄槽5内の洗浄溶剤2を加熱して、該洗浄
    溶剤2から溶剤蒸気14を上昇させる加熱器6
    と、 上記洗浄溶剤2と被洗浄物4との間に介装され
    ると共に、上記溶剤蒸気14を精製して、該洗浄
    溶剤2より高沸点の物質が除去された精製蒸気1
    8を生成する気液接触部材7と、 を備えたことを特徴とする洗浄装置。
JP18315287U 1987-11-30 1987-11-30 Expired - Lifetime JPH0545435Y2 (ja)

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JP18315287U JPH0545435Y2 (ja) 1987-11-30 1987-11-30

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JP18315287U JPH0545435Y2 (ja) 1987-11-30 1987-11-30

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JPH0188788U JPH0188788U (ja) 1989-06-12
JPH0545435Y2 true JPH0545435Y2 (ja) 1993-11-19

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JP18315287U Expired - Lifetime JPH0545435Y2 (ja) 1987-11-30 1987-11-30

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JP2537127B2 (ja) * 1993-05-24 1996-09-25 大塚技研工業株式会社 蒸留再生装置

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JPH0188788U (ja) 1989-06-12

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