JPH06327901A - 蒸留再生装置 - Google Patents

蒸留再生装置

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JPH06327901A
JPH06327901A JP14550393A JP14550393A JPH06327901A JP H06327901 A JPH06327901 A JP H06327901A JP 14550393 A JP14550393 A JP 14550393A JP 14550393 A JP14550393 A JP 14550393A JP H06327901 A JPH06327901 A JP H06327901A
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inert
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Yasutsugu Kajiwara
康嗣 梶原
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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】蒸留再生される不活性溶剤の純度及び効率の向
上を図ることのできる蒸留再生装置を提供する。 【構成】炭化水素系溶剤が混入する不活性溶剤を溶剤蒸
留室内の溶剤蒸留槽に一旦貯液し、同槽に貯液された不
活性溶剤を溶剤加熱管で加熱して蒸発気化する。溶剤蒸
留室内の上部蒸気領域に放出された不活性溶剤の蒸気を
溶剤蒸留塔に導入して、同塔に装填した各筒体の表面に
沿って不活性溶剤の蒸気を流動させながら整流すると共
に、各筒体の表面に不活性溶剤の蒸気を接触させて蒸留
分離する。つまり、不活性溶剤よりも炭化水素系溶剤の
沸点が高く、且つ、各溶剤の特性が異なるため、炭化水
素系溶剤を多く含んだ不活性溶剤の蒸気が凝縮液化さ
れ、蒸留分離された不活性溶剤の蒸気のみを洗浄工程に
返還供給する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、電子部品や
電気部品、或いは、切削部品、プレス部品等のワーク洗
浄に使用された不活性溶剤を蒸留再生するために用いら
れる蒸留再生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、上述例のようなワークを洗浄する
方法としては、例えば、未洗浄のワークを炭化水素系溶
剤で洗浄処理して、同ワーク表面に付着した研磨粉や切
削油等の異物を洗浄除去する前処理を行った後、ワーク
を不活性溶剤で洗浄処理して、同ワーク表面に残着した
炭化水素系溶剤を洗浄除去する後処理を行う洗浄方法が
ある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のように
不活性溶剤と炭化水素系溶剤とを併用する洗浄方法の場
合、炭化水素系溶剤には、例えば、第4類の第2石油類
又は第4類の第3石油類等の溶剤が一般的に多く使用さ
れるが、切削油やプレス油等と比較して、炭化水素系溶
剤の沸点が低いという特性を有している。この為、不活
性溶剤中に炭化水素系溶剤が混入した溶剤を蒸留再生す
るとき、不活性溶剤及び炭化水素系溶剤の混合した蒸気
が発生するだけでなく、不活性溶剤中に炭化水素系溶剤
が微量(約5%)ながら溶解するため、純粋な不活性溶
剤を回収することが技術的に困難である。且つ、蒸留再
生された不活性溶剤でワーク全体を後処理しても、ワー
ク表面に炭化水素溶剤の付着した跡が残るため、不活性
溶剤による洗浄効果が損なわれてしまうという問題点を
有している。
【0004】この発明は上記問題に鑑み、溶剤蒸留室内
の溶剤蒸留塔に装填した金属製の吸着体に不活性溶剤の
蒸気を接触させることにより、不活性溶剤の蒸気中に含
まれる炭化水素系溶剤が効率よく蒸留分離され、蒸留再
生される不活性溶剤の純度及び効率の向上を図ることが
できる蒸留再生装置の提供を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明の蒸留再生装置
は、上記溶剤蒸留室内の下部貯液領域に不活性溶剤を所
定量貯液する溶剤貯液槽を設け、該溶剤貯液槽内に不活
性溶剤を沸点温度に加熱する溶剤加熱手段を設けると共
に、上記溶剤蒸留室内の上部蒸気領域に不活性溶剤の蒸
気を導入して、該蒸留再生した不活性溶剤の蒸気を塔外
部に排出する溶剤蒸留塔を設け、上記溶剤蒸留塔の蒸気
導入領域に不活性溶剤の蒸気中に含まれる炭化水素系溶
剤を吸着分離する金属製の吸着体を装填した蒸留再生装
置であることを特徴とする。
【0006】
【作用】この発明の蒸留再生装置は、炭化水素系溶剤が
混入する不活性溶剤を溶剤蒸留室内の溶剤貯液槽に一旦
貯液した後、同槽に貯液された不活性溶剤を溶剤加熱手
段で加熱して蒸発気化する。溶剤蒸留室内の上部蒸気領
域に放出された不活性溶剤の蒸気を溶剤蒸留塔に導入
し、同塔内部に装填した金属製の吸着体に不活性溶剤の
蒸気を接触させる。この時、吸着体と接触する不活性溶
剤の蒸気から熱が効率よく吸収されると共に、不活性溶
剤よりも炭化水素系溶剤の沸点が高く、且つ、各溶剤の
特性が異なるため、炭化水素系溶剤を多く含んだ不活性
溶剤の蒸気が凝縮液化され、蒸留分離された不活性溶剤
の蒸気のみを塔外部に排出して洗浄工程に返還供給する
ことができる。
【0007】
【発明の効果】この発明によれば、溶剤蒸留室内の溶剤
蒸留塔に装填した金属製の吸着体に不活性溶剤の蒸気を
接触させるので、沸点や比重等の溶剤特性が異なるた
め、不活性溶剤の蒸気中に含まれる炭化水素系溶剤が効
率よく蒸留分離され、蒸留再生される不活性溶剤の純度
及び効率の向上を図ることができる。しかも、高純度の
不活性溶剤でワークを仕上げ洗浄するため、ワーク表面
に溶剤の付着した跡が残ったりせず、高度な技術を必要
とする洗浄処理が簡単に行え、ワーク表面を綺麗に仕上
げ洗浄することができる。
【0008】
【実施例】図1は超音波洗浄やシャワー洗浄等の前処理
に炭化水素系溶剤T(例えば、商品名=ナフテゾール等
のナフテン系溶剤)を使用する洗浄工程に於いて、ワー
クの後処理に使用される不活性溶剤F(例えば、ハイド
ロフルオロカーボン=HFC、パーフルオロカーボン=
PFC、パーフルオロポリエーテル=PFC等からなる
単一溶剤又は混合溶剤)を蒸留再生するために用いられ
る第1実施例の蒸留再生装置1を示し、この蒸留再生装
置1は、後処理に使用された不活性溶剤F(PF−50
60、沸点56℃)を蒸留する溶剤蒸留室2の下部貯液
領域に、炭化水素系溶剤T(ナフテゾールM、沸点20
9.5℃〜235.5℃)が混入した不活性溶剤Fを貯
液する溶剤貯液槽3を連設すると共に、同溶剤蒸留室2
の上部蒸気領域に、不活性溶剤Fの蒸気Fa中から炭化
水素系溶剤Tを蒸留分離する溶剤蒸留塔4を連設してい
る。
【0009】上述の溶剤貯液槽3は、同槽底部の内壁面
に炭化水素系溶剤Tが混入した不活性溶剤Fを蒸発気化
するための溶剤加熱管5を配管し、例えば、適宜温度に
加熱されたオイルや水溶液等の加熱媒体(図示省略)を
溶剤加熱管5内に循環供給して、同槽内部に貯液された
不活性溶剤Fが蒸発気化する適宜温度に溶剤加熱管5を
加熱する。且つ、溶剤貯液槽3に貯液される不活性溶剤
Fの液面部分よりも上部壁面に回収用バルブ6を介して
溶剤回収路7を接続している。
【0010】前述の溶剤分離塔4は、同溶剤分離塔4の
中央内部に、例えば、四角形、五角形、六角形等の多面
形状に形成した筒状の塔本体8を垂設し、同塔本体8の
下部位置に炭化水素系溶剤Tを滴下するための溶剤滴下
槽9を配設して、同溶剤滴下槽9に貯液される炭化水素
系溶剤Tの液面部分に塔本体8の下端側開口部を適宜深
さ浸漬して液封している。
【0011】上述の塔本体8は、同塔本体8の外面側周
方向に対して凹形の棚部8aを連続形成し、同塔本体8
の外面側軸方向に対して複数の各棚部8a…を適宜上下
間隔に隔てて形成すると共に、同各棚部8a…の下流側
底部に各流下孔8e…を形成している。同塔本体8の各
棚部8a…には、例えば、ステンレスやアルミニウム等
の金属材料で断面円筒形(例えば、長さ約5mm)に形成
した多数個の各筒体10…(例えば、商品名=ラシヒリ
ング)を適宜密度に集合して装填している。
【0012】また、塔本体8の各棚部8a…に、例え
ば、四角形、五角形、六角形等の断面多角形に形成した
筒体10を多数個装填したり、後述する第2実施例の交
絡繊維体28(例えば、商品名=デミスター)を圧縮成
形して装填するもよい。
【0013】且つ、塔本体8の上端側外周面に複数の各
蒸気導入孔8b…を適宜間隔に隔てて形成し、同塔本体
8の上端側周縁部に溶剤蒸留塔4の上面側開口部が閉鎖
される大きさに形成した閉鎖板8cを溶着固定し、同閉
鎖板8cの下面側中央部に塔本体8の全長よりも短尺寸
法に形成した蒸気排出管8dを垂設すると共に、同蒸気
排出管8dの上端部に排出用バルブ11を介して蒸気排
出路12を接続している。
【0014】以下、ワークの後処理に使用された不活性
溶剤Fを蒸留再生装置1により蒸留再生するときの方法
を説明する。
【0015】先ず、回収用バルブ6を開操作して、炭化
水素系溶剤Tが混入した不活性溶剤Fを溶剤回収路7を
介して溶剤蒸留室2内の溶剤貯液槽3に一旦貯液し、同
槽に貯液した不活性溶剤Fを溶剤加熱管5で適宜温度に
加熱して蒸発気化させ、溶剤蒸留室2内の上部蒸気領域
に不活性溶剤Fの蒸気Faを放出する。なお、超音波洗
浄やシャワー洗浄等の前処理に炭化水素系溶剤Tを使用
した場合、後処理に使用される不活性溶剤Fには炭化水
素系溶剤Tが若干量混入しており、溶剤貯液槽3内に貯
液された不活性溶剤Fを蒸発気化させると、不活性溶剤
Fの蒸気Fa中に炭化水素系溶剤Tが混入する。
【0016】次に、溶剤蒸留室2内の上部蒸気領域に放
出された不活性溶剤Fの蒸気Faを溶剤蒸留塔4内に導
入して、同溶剤蒸留塔4内に垂設した塔本体8の各棚部
8a…に不活性溶剤Fの蒸気Faを流入させ、各棚部8
a…に装填した各筒体10…の表面に沿って不活性溶剤
Fの蒸気Faを上昇流動させながら整流すると共に、各
筒体10…と接触するときに炭化水素系溶剤Tが多く含
まれた不活性溶剤Fの蒸気Faを蒸留分離する。つま
り、各筒体10…の小さな孔及び各筒体10…の隙間を
不活性溶剤Fの蒸気Faが通過するとき、各筒体10…
の表面積が大きいため、各筒体10…の表面に接触する
不活性溶剤Fの蒸気Faから熱が効率よく吸収されると
共に、不活性溶剤Fよりも炭化水素系溶剤Tの沸点が高
く、且つ、各溶剤F,Tの特性が異なるため、炭化水素
系溶剤Tを多く含んだ不活性溶剤Fの蒸気Faが凝縮液
化される。
【0017】次に、凝縮液化した炭化水素系溶剤Tを各
筒体10…の表面に順次付着させると共に、同各筒体1
0…の表面に付着する炭化水素系溶剤Tを互いに合体さ
せながら自重流下する。凝縮液化した炭化水素系溶剤T
は塔本体8及び各棚部8a…の表面に沿って自重流下
し、塔本体8の下部位置に配設した溶剤滴下槽9内に滴
下される。同溶剤滴下槽9内に貯液された炭化水素系溶
剤Tをオーバーフローさせて溶剤貯液槽3に返還する。
【0018】同時に、溶剤蒸留塔4内に導入される不活
性溶剤Fの蒸気Faを、塔本体8の各棚部8a…に装填
した各筒体10…に順次接触させて蒸留分離すると共
に、溶剤蒸留塔4内の上部蒸気領域に蒸留分離された不
活性溶剤Fの蒸気Faのみを上昇させ、各蒸気導入孔8
b…を介して、塔本体8の内部空間に蒸留分離された不
活性溶剤Fの蒸気Faを順次導入する。蒸留分離された
不活性溶剤Fの蒸気Faを排出する場合、排出用バルブ
11を開操作して、塔本体8の内部空間に導入された不
活性溶剤Fの蒸気Faを蒸気排出管8d及び蒸気排出路
12を介して槽外部に排出し、蒸留再生された不活性溶
剤Fの蒸気Faを、例えば、超音波洗浄、浸漬洗浄、蒸
気洗浄、シャワー洗浄等の後処理工程に返還供給する。
【0019】以上のように、溶剤蒸留塔4に装填した金
属製の各筒体10…に不活性溶剤Fの蒸気Faを接触さ
せるので、金属製の各筒体10…と不活性溶剤Fの蒸気
Faとの接触面積が大きく、且つ、沸点や比重等の溶剤
特性が異なるため、不活性溶剤Fの蒸気Fa中に含まれ
る炭化水素系溶剤Tが効率よく蒸留分離され、蒸留再生
される不活性溶剤Fの純度及び効率の向上を図ることが
できる。しかも、高純度の不活性溶剤Fでワークを仕上
げ洗浄するため、ワーク表面に溶剤の付着した跡が残っ
たりせず、高度な技術を必要とする洗浄処理が簡単に行
え、ワーク表面を綺麗に仕上げ洗浄することができる。
【0020】図2はワークの後処理に使用された不活性
溶剤Fを蒸留再生するために用いられる第2実施例の蒸
留再生装置15を示し、この蒸留再生装置15は、後処
理に使用された不活性溶剤Fを蒸留する溶剤蒸留室16
の下部貯液領域に、炭化水素系溶剤Tが混入した不活性
溶剤Fを貯液する溶剤貯液槽17を連設すると共に、同
溶剤蒸留室16の上部蒸気領域に、不活性溶剤Fの蒸気
Fa中から炭化水素系溶剤Tを蒸留分離する各溶剤蒸留
塔18…を複数配設している。
【0021】上述の溶剤貯液槽17は、同槽底部の内壁
面に炭化水素系溶剤Tが混入した不活性溶剤Fを蒸発気
化するための溶剤加熱管19を配管し、例えば、適宜温
度に加熱されたオイルや水溶液等の加熱媒体(図示省
略)を溶剤加熱管19内に循環供給して、同槽底部に貯
液された不活性溶剤Fが蒸発気化する適宜温度に溶剤加
熱管19を加熱する。且つ、溶剤貯液槽17に貯液され
る不活性溶剤Fの液面部分よりも上部壁面に回収用バル
ブ20を介して溶剤回収路21を接続している。
【0022】前述の各溶剤蒸留塔18…は、同各溶剤蒸
留塔18…の内部空間にU字形の各蒸留通路22…を形
成し、同各蒸留通路22…の下部領域に炭化水素系溶剤
Tを滴下するための各溶剤滴下槽23…を配設してい
る。且つ、各溶剤滴下槽23…に貯液される炭化水素系
溶剤Tの液面部分と対応する側壁面と、溶剤貯液槽17
に貯液される不活性溶剤Fの液面部分よりも上部壁面と
を各返還用バルブ24…を介して各溶剤返還路25…で
接続している。
【0023】上述の各蒸留通路22…は、溶剤蒸留室1
6の上部蒸気領域と、前段側の蒸留通路22に形成した
流入口22aとを連通接続し、前段側の蒸留通路22に
形成した流出口22bと、後段側の蒸留通路22に形成
した流入口22aとを連通接続し、後段側の蒸留通路2
2に形成した流出口22bに排出用バルブ26を介して
蒸気排出路27を接続している。且つ、各蒸留通路22
…の入口側内部に形成した網状の各棚部22c…に、例
えば、ステンレスやアルミニウム等の金属材料で線条体
28aを形成すると共に、同線条体28aを交絡してな
る交絡繊維体28(例えば、商品名=デミスター)を適
宜密度に圧縮成形して装填している。なお、蒸留通路2
2の棚部22cに、上述した第1実施例の筒体10(商
品名=ラシヒリング)を多数個装填するもよい。
【0024】以下、ワークの後処理に使用された不活性
溶剤Fを蒸留再生装置15により蒸留再生するときの方
法を説明する。
【0025】先ず、回収用バルブ20を開操作して、炭
化水素系溶剤Tの混入した不活性溶剤Fを溶剤回収路2
1を介して溶剤蒸留室16内の溶剤貯液槽17に一旦貯
液し、同槽に貯液した不活性溶剤Fを溶剤加熱管19で
適宜温度に加熱して蒸発気化させ、溶剤蒸留室16内の
上部蒸気領域に不活性溶剤Fの蒸気Faを放出する。
【0026】次に、溶剤蒸留室2内の上部蒸気領域に放
出された不活性溶剤Fの蒸気Faを、前段側の溶剤蒸留
塔18に形成した蒸留通路22と、後段側の溶剤蒸留塔
18に形成した蒸留通路22とに順次導入し、同各蒸留
通路22…に装填した各交絡繊維体28…の繊維隙間に
沿って不活性溶剤Fの蒸気Faを流動させながら整流す
ると共に、各交絡繊維体28…を通過するときに炭化水
素系溶剤Tが多く含まれた不活性溶剤Fの蒸気Faを蒸
留分離する。つまり、交絡繊維体28の繊維隙間を不活
性溶剤Fの蒸気Faが通過するとき、交絡繊維体28を
構成する線条体28aとの接触により不活性溶剤Fの蒸
気Faから熱が効率よく吸収されると共に、不活性溶剤
Fよりも炭化水素系溶剤Tの沸点が高く、且つ、各溶剤
F,Tの特性が異なるため、炭化水素系溶剤Tを多く含
んだ不活性溶剤Fの蒸気Faが凝縮液化される。
【0027】同時に、凝縮液化した炭化水素系溶剤Tを
各交絡繊維体28…に順次付着させると共に、同各交絡
繊維体28…に付着する炭化水素系溶剤Tを互いに合体
させて各溶剤滴下槽23…内に順次滴下する。後段側の
溶剤蒸留塔18に形成した蒸留通路22の出口側蒸気領
域に、蒸留分離された不活性溶剤Fの蒸気Faのみを流
動させ、排出用バルブ26を開操作して、同蒸留通路2
2の出口側蒸気領域に流動した不活性溶剤Fの蒸気Fa
を蒸気排出路27を介して槽外部に排出し、蒸留再生さ
れた不活性溶剤Fの蒸気Faを、例えば、超音波洗浄、
浸漬洗浄、蒸気洗浄、シャワー洗浄等の後処理工程に返
還供給する。且つ、各返還用バルブ24…を開操作し
て、各溶剤滴下槽23…の液面部分に浮遊する不活性溶
剤Fを各溶剤返還路25…を介して溶剤貯液槽17に夫
々返還する。
【0028】以上のように、溶剤蒸留塔18に装填した
金属製の交絡繊維体28に不活性溶剤Fの蒸気Faを接
触させるので、第1実施例の装置と同様に、不活性溶剤
Fの蒸気Fa中に含まれる炭化水素系溶剤Tが効率よく
蒸留分離されると共に、第1実施例の溶剤蒸留塔4に装
填される筒体10の密度よりも、第2実施例の溶剤蒸留
塔18に装填される交絡繊維体28の密度が高いため、
第1実施例の溶剤蒸留装置1よりも蒸留効率が向上し、
高純度の不活性溶剤Fを蒸留再生することができる。
【0029】この発明の構成と、上述の実施例との対応
において、この発明の吸着体は、第1実施例の筒体10
と、第2実施例の交絡繊維体28とに対応するも、この
発明は、上述の実施例の構成のみに限定されるものでは
ない。
【0030】第1実施例の蒸留再生装置1は、溶剤蒸留
室2内の溶剤蒸留塔4に金属製の各筒体10…を装填
し、第2実施例の蒸留再生装置15は、溶剤蒸留室16
内の溶剤蒸留塔18に金属製の交絡繊維体28を装填し
ているが、例えば、溶剤蒸留室2内の溶剤蒸留塔4に金
属製の交絡繊維体28を装填し、溶剤蒸留室16内の溶
剤蒸留塔18に金属製の各筒体10…を装填するもよ
く、溶剤の特性に応じて金属製の筒体10又は交絡繊維
体28の何れかを選択使用する。且つ、金属製の筒体1
0及び交絡繊維体28を複合して使用するもよい。
【0031】また、各蒸留再生装置1,15を構成する
各溶剤蒸留塔4,18の塔数、塔本体8に形成した棚部
8a及び蒸留通路22に形成した棚部22cの段数は、
各実施例の構成のみに限定されるものではなく、溶剤の
特性に応じて塔数及び段数を変更するもよい。
【0032】さらにまた、各溶剤蒸留塔4,18の通過
時に蒸留分離された炭化水素系溶剤Tを、同塔下部に配
設した各溶剤貯液槽3,17に滴下供給して再度蒸留再
生するもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例の蒸留再生装置による蒸留方法を示
す縦断側面図。
【図2】第2実施例の蒸留再生装置による蒸留方法を示
す縦断側面図。
【符号の説明】
F…不活性溶剤 Fa…蒸気 T…炭化水素系溶剤 1…蒸留再生装置 2…溶剤蒸留室 3…溶剤貯液槽 4…溶剤蒸留塔 8…塔本体 8a…棚部 10…筒体 15…蒸留再生装置 16…溶剤蒸留室 17…溶剤貯液槽 18…溶剤蒸留塔 22…蒸気通路 22c…棚部 28…交絡繊維体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】炭化水素系溶剤が混入した不活性溶剤を溶
    剤蒸留室内に回収して蒸留再生する蒸留再生装置であっ
    て、上記溶剤蒸留室内の下部貯液領域に不活性溶剤を所
    定量貯液する溶剤貯液槽を設け、該溶剤貯液槽内に不活
    性溶剤を沸点温度に加熱する溶剤加熱手段を設けると共
    に、上記溶剤蒸留室内の上部蒸気領域に不活性溶剤の蒸
    気を導入して、該蒸留再生した不活性溶剤の蒸気を塔外
    部に排出する溶剤蒸留塔を設け、上記溶剤蒸留塔の蒸気
    導入領域に不活性溶剤の蒸気中に含まれる炭化水素系溶
    剤を吸着分離する金属製の吸着体を装填した蒸留再生装
    置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998049554A1 (fr) * 1997-04-28 1998-11-05 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Procede et appareil pour concentrer une solution
JP2002370001A (ja) * 2001-06-13 2002-12-24 Shin Ootsuka Kk 溶剤分離装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5779880A (en) * 1980-11-04 1982-05-19 Tsuneyuki Kobayashi Kit for a plurality of sensitivity tests
JPS58183226U (ja) * 1982-06-01 1983-12-06 日鉄化工機株式会社 充填物
JPS6015913A (ja) * 1983-07-08 1985-01-26 Tokuyama Soda Co Ltd 半導体基材の処理方法
JPS6157235A (ja) * 1984-06-27 1986-03-24 デ−ル エドワ−ド ナタ− 気液接触装置における充填床のための充填部材
JPH0188788U (ja) * 1987-11-30 1989-06-12
JPH0531355A (ja) * 1991-07-31 1993-02-09 Tokyo Tokushu Kanaami Kk 気液接触用充填物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5779880A (en) * 1980-11-04 1982-05-19 Tsuneyuki Kobayashi Kit for a plurality of sensitivity tests
JPS58183226U (ja) * 1982-06-01 1983-12-06 日鉄化工機株式会社 充填物
JPS6015913A (ja) * 1983-07-08 1985-01-26 Tokuyama Soda Co Ltd 半導体基材の処理方法
JPS6157235A (ja) * 1984-06-27 1986-03-24 デ−ル エドワ−ド ナタ− 気液接触装置における充填床のための充填部材
JPH0188788U (ja) * 1987-11-30 1989-06-12
JPH0531355A (ja) * 1991-07-31 1993-02-09 Tokyo Tokushu Kanaami Kk 気液接触用充填物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998049554A1 (fr) * 1997-04-28 1998-11-05 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Procede et appareil pour concentrer une solution
JP2002370001A (ja) * 2001-06-13 2002-12-24 Shin Ootsuka Kk 溶剤分離装置
JP4689084B2 (ja) * 2001-06-13 2011-05-25 新オオツカ株式会社 溶剤分離装置

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