JP2522115Y2 - プラズマ発光分光分析装置 - Google Patents
プラズマ発光分光分析装置Info
- Publication number
- JP2522115Y2 JP2522115Y2 JP1989137778U JP13777889U JP2522115Y2 JP 2522115 Y2 JP2522115 Y2 JP 2522115Y2 JP 1989137778 U JP1989137778 U JP 1989137778U JP 13777889 U JP13777889 U JP 13777889U JP 2522115 Y2 JP2522115 Y2 JP 2522115Y2
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- JP
- Japan
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- plasma
- pair
- same
- light
- entrance slit
- Prior art date
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- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野」 本考案は、高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置
（ICP−AES）に関し、特に分光器の入射光学系に関す
る。
（ICP−AES）に関し、特に分光器の入射光学系に関す
る。
鉛直方向に主たる光軸を持つ分光器を用いたICP−AES
において入射スリットの方向を自由にする。
において入射スリットの方向を自由にする。
装置の設置面積を小さくするために、分光器の主たる
光軸を鉛直方向に配置する。その場合に、プラズマから
水平に出た光を鉛直を向いている入射スリットへ一枚の
鏡を用いて折り曲げていた。
光軸を鉛直方向に配置する。その場合に、プラズマから
水平に出た光を鉛直を向いている入射スリットへ一枚の
鏡を用いて折り曲げていた。
一方、二つの分光器を用いて互いに信号の補正（内標
準補正法）を行い分析の精度を上げようとする場合に
は、二つの分光器をプラズマに対して等価な配置にした
方が効果が大きい。
準補正法）を行い分析の精度を上げようとする場合に
は、二つの分光器をプラズマに対して等価な配置にした
方が効果が大きい。
ところで、ICP−AESに用いられる分光器の形状は、入
射スリットの縦方向と垂直な方向に大きく、入射スリッ
トの縦方向と平行な方向に薄い。
射スリットの縦方向と垂直な方向に大きく、入射スリッ
トの縦方向と平行な方向に薄い。
分光器の主たる光軸を鉛直方向に配置した場合に、プ
ラズマから水平に出た光を鉛直を向いている入射スリッ
トへ一枚の鏡を用いて折り曲げていたため、入射スリッ
ト上のプラズマの像の縦方向は、常にプラズマの方向を
向いていた。
ラズマから水平に出た光を鉛直を向いている入射スリッ
トへ一枚の鏡を用いて折り曲げていたため、入射スリッ
ト上のプラズマの像の縦方向は、常にプラズマの方向を
向いていた。
一方、プラズマの像の縦方向と入射スリットの縦方向
は一致させなくてはならない。
は一致させなくてはならない。
このため、分光器の主たる光軸を鉛直方向に配置した
場合には、分光器を配置する方向は、入射スリットの縦
方向がプラズマの方向を向くように規定されてしまっ
た。
場合には、分光器を配置する方向は、入射スリットの縦
方向がプラズマの方向を向くように規定されてしまっ
た。
特に二つの分光器を用いようとすると、次のような問
題点があった。
題点があった。
1.非等価な配置とすると、二つの分光器を用いて互いに
信号の補正を行う場合（内標準補正法）に、補正がうま
く行えない。
信号の補正を行う場合（内標準補正法）に、補正がうま
く行えない。
2.等価な配置とすると、分光器の形状が入射スリットと
垂直な方向に大きいため、装置が大きくなる。
垂直な方向に大きいため、装置が大きくなる。
二枚の平面鏡を用いて、入射スリット上のプラズマの
像の縦方向を自由な方向に向けられるように形成する。
像の縦方向を自由な方向に向けられるように形成する。
プラズマから水平に出た光を最初の平面鏡で水平に折
り返し、二番目の平面鏡で鉛直に折り曲げ、水平に置か
れた入射スリット上にプラズマの鏡を形成させる。この
とき、入射スリット上のプラズマの像の縦方向は、最初
の水平鏡の方向になる。
り返し、二番目の平面鏡で鉛直に折り曲げ、水平に置か
れた入射スリット上にプラズマの鏡を形成させる。この
とき、入射スリット上のプラズマの像の縦方向は、最初
の水平鏡の方向になる。
二枚の平面鏡の位置を適当に設計することにより、入
射スリット上のプラズマの像の縦方向を任意の方向に向
けられる。従って、これと一致すべき入射スリットの縦
方向を自由に設計でき、設計の自由度が大きくなる。
射スリット上のプラズマの像の縦方向を任意の方向に向
けられる。従って、これと一致すべき入射スリットの縦
方向を自由に設計でき、設計の自由度が大きくなる。
〔実施例」 以下、本考案を図面に基づき詳細に説明する。第１図
は、本考案の実施例で図示しないプラズマ発生装置によ
り生成されたプラズマ１から出た光は、右凸レンズ2aを
透過し、右第１入射鏡3aで水平方向に折り曲げられ、第
２入射鏡4aで鉛直方向に折り曲げられ、右入射スリット
5aに入射し、右分光器6aで分光され、目的の分析波長の
光だけが、右光検出器7aに到達し電気信号に変換され、
図示しないデータ処理装置により分析が行われる。
は、本考案の実施例で図示しないプラズマ発生装置によ
り生成されたプラズマ１から出た光は、右凸レンズ2aを
透過し、右第１入射鏡3aで水平方向に折り曲げられ、第
２入射鏡4aで鉛直方向に折り曲げられ、右入射スリット
5aに入射し、右分光器6aで分光され、目的の分析波長の
光だけが、右光検出器7aに到達し電気信号に変換され、
図示しないデータ処理装置により分析が行われる。
同様に左分光器6bでも分光された光によって分析が行
われる。
われる。
第３図に、このきのプラズマの像のでき方を示す。入
射スリット５上のプラズマの像８の縦方向は、第２入射
鏡２の方向を向く。従って、第１入射鏡３と第２入射鏡
４の位置によって、入射スリット５上のプラズマの像８
の縦方向を自由に設計できる。
射スリット５上のプラズマの像８の縦方向は、第２入射
鏡２の方向を向く。従って、第１入射鏡３と第２入射鏡
４の位置によって、入射スリット５上のプラズマの像８
の縦方向を自由に設計できる。
第４図に示すように、従来の一枚の鏡を用いた場合に
は、入射スリット５上のプラズマの像８の縦方向は、プ
ラズマ１の方向を向く。
は、入射スリット５上のプラズマの像８の縦方向は、プ
ラズマ１の方向を向く。
入射スリットの縦方向を自由に設計でき、設計の自由
度が大きくなる。
度が大きくなる。
特に二つの分光器を用いる場合には、装置を大きくす
ることなく、二つの分光器をプラズマに対して等価な配
置にでき、二つの分光器を用いた補正法（内標準補正
法）を用いて、精度を向上させることができる。
ることなく、二つの分光器をプラズマに対して等価な配
置にでき、二つの分光器を用いた補正法（内標準補正
法）を用いて、精度を向上させることができる。
第１図は本考案の実施例、第２図は従来の実施例、第３
図は本考案の実施例の場合の入射スリット上のプラズマ
の像のでき方を示す図、第４図は従来の実施例の場合の
入射スリット上のプラズマの像のでき方を示す図であ
る。 １……プラズマ ２……凸レンズ ３……第１入射鏡 ４……第２入射鏡 ５……入射スリット ６……分光器 ７……光検出器 ８……プラズマの像 ９……入射鏡
図は本考案の実施例の場合の入射スリット上のプラズマ
の像のでき方を示す図、第４図は従来の実施例の場合の
入射スリット上のプラズマの像のでき方を示す図であ
る。 １……プラズマ ２……凸レンズ ３……第１入射鏡 ４……第２入射鏡 ５……入射スリット ６……分光器 ７……光検出器 ８……プラズマの像 ９……入射鏡
Claims (1)
- 【請求項１】プラズマ発生装置により生成したプラズマ
光を受け、互いに同一水平面上でプラズマを中心とした
同一円周上に配置された一対の凸レンズと、それぞれ前
記一対の凸レンズを通過した光の軸上に配置され、該光
の軸を同一平面上で且つそれぞれお互いに対称の方向に
同一の角度に反射する一対の第１入射鏡と、互いに前記
同一水平面上の前記プラズマを中心とした同一円周上に
配置され、それぞれ前記一対の第１入射鏡を反射した光
の軸を、それぞれ平行に、かつ前記同一水平面に対して
垂直に反射するための一対の第２入射鏡と、それぞれ前
記第２入射鏡を反射した光の軸上に一対のスリットを有
し、それぞれの前記光を分光する分光器よりなることを
特徴とするプラズマ発光分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989137778U JP2522115Y2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | プラズマ発光分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989137778U JP2522115Y2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | プラズマ発光分光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0376154U JPH0376154U (ja) | 1991-07-30 |
| JP2522115Y2 true JP2522115Y2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=31684921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989137778U Expired - Fee Related JP2522115Y2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | プラズマ発光分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2522115Y2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59230126A (ja) * | 1983-06-13 | 1984-12-24 | Hitachi Ltd | 定量分光分析装置 |
| JPS62105036A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-15 | Hitachi Ltd | 波長スキヤン式発光分光分析装置 |
| JPS62134052U (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-24 |
-
1989
- 1989-11-27 JP JP1989137778U patent/JP2522115Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0376154U (ja) | 1991-07-30 |
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