JPH09230260A - マルチ光ビーム走査光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光源からの各光ビームが光学素子を通過する
際の光量損失を低減し光源の低出力化を図り、更に被走
査面での各光ビームの光量を調整し、高画質で量産性に
優れたマルチ光ビーム走査光学装置を提供することを目
的とする。 【解決手段】 光ビーム３ａ，３ｂを出射する２個の光
源２ａ，２ｂと、各光源２ａ，２ｂを駆動する駆動回路
３１と、各光ビーム３ａ，３ｂを所定のビーム形状に各
々整形する整形レンズ系２２ａ，２２ｂと、光ビーム３
ａの偏光状態を９０度回転偏光させる偏光手段であるλ
／２波長板５と、整形された各光ビーム３ａ，３ｂを同
一方向の光軸に合わせる光学素子である偏向ビームスプ
リッタ４と、偏向ビームスプリッタ４を通過した各光ビ
ーム３ａ，３ｂを同時に偏向する偏向器２４と、偏向器
２４で偏向された各光ビーム３ａ，３ｂを被走査面３０
に走査させる走査レンズ系２５と、を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ビーム走査をす
ることで画像を形成する電子写真装置等に用いられるマ
ルチ光ビーム走査光学装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、光ビーム走査光学装置は、電子写
真プロセスにおける画像書き込みとして用いられ、コン
ピュータやファクシミリ等の出力装置であるレーザビー
ムプリンタ、レーザファクシミリ等に搭載されている。
特に、最近では高速，高解像度を更に向上させるために
複数の光ビームによるマルチ光ビーム走査光学装置の開
発が望まれている。

【０００３】以下に従来のマルチ光ビーム走査光学装置
について説明する。図６は従来のマルチ光ビーム走査光
学装置の構成を示す要部斜視図であり、図７は従来のマ
ルチ光ビーム走査光学装置の光ビームの光路を示す平面
模式図である。図６及び図７において、２１ａは光ビー
ムを出射する半導体レーザからなる第１光源、２１ｂは
第２光源、２２ａ，２２ｂは各光源からの光を整形する
整形レンズ系、２３は複数の光源から出射される光ビー
ムの光軸を合わせるためのビームスプリッタ、２４はビ
ームスプリッタ２３を通過した各光ビームを同時に偏向
する偏向器、２５は偏向された光ビームを後述の被走査
面３０で集光させ走査する走査レンズ系、２６は走査さ
れる光ビームの非画像域に設けられ走査される光ビーム
の同期をとるための同期検出器、２７は偏向された光ビ
ームの被走査面に導くためのミラー、２８は光学系の各
部品が配設されるハウジング、２９ａは第１光源２１ａ
の光ビーム、２９ｂは第２光源２１ｂの光ビーム、３０
は各光ビームが照射される感光体ドラム等からなる被走
査面、３１は第１光源２１ａ、第２光源２１ｂの駆動回
路、３２は同期検出回路である。

【０００４】以上のように構成された従来のマルチ光ビ
ーム走査光学装置について、以下その動作を説明する。
第１光源２１ａ，第２光源２１ｂから出射された各光ビ
ーム２９ａ，２９ｂは、整形レンズ系２２ａ，２２ｂに
よって、所定の条件に整えられる。ビーム整形された各
光ビーム２９ａ，２９ｂは、ビームスプリッタ２３によ
って、光軸が合わされ、偏向器２４に入射される。偏向
器２４は２つの光ビーム２９ａ，２９ｂの偏向を行い、
更に、偏向された光ビーム２９ａ，２９ｂは走査レンズ
系２５によって被走査面３０に集光される。一般的に、
走査レンズ系２５を通過した走査光学系の光路は、ミラ
ー２７によって反射され被走査面３０に導かれる。偏向
器２４によって走査される２つの光ビーム２９ａ，２９
ｂは、画像領域を走査する手前の位置に設けられた同期
検出器２６によって主走査方向の同期がとられ、所定時
間のタイミングをもって画像データに対応した光照射が
行われる。被走査面３０が回転することにより、画像形
成ラインが副走査（光ビームが走査する方向に対して垂
直）方向に移動されるため、被走査面３０に２次元の光
照射による画像を形成させることができる。このように
して、複数の光ビームにより、被走査面３０上に画像を
形成することで、高速かつ高解像度の光ビーム走査光学
装置を得ることができる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このマルチ光ビーム走
査光学装置は、２つの光ビームをビームスプリッタで光
軸を合わせているため、図７に示すようにビームスプリ
ッタに入射する光ビームは、略半分の光量がビームスプ
リッタを透過又は反射し、残りの略半分の光量が反射又
は透過することになる。従って、光ビームの走査におい
て、有効に活用できる光ビームの光量は約半分となり、
使用する光源は高出力のものが必要とされる。この結
果、装置のコストアップや駆動回路構成の自由度の低
下、及び、光源の発熱による光量の変化や光学系への影
響により、光量制御が複雑になるとともに、光ビームの
発熱等に対する安全対策が必要であるという問題点を有
していた。このため、光学系による光ビームの光量損失
を低減することにより、低出力の光源の使用が要求され
ている。

【０００６】本発明は、複数の光源からの光ビームが光
学素子を通過する際の光量損失を低減することで、光源
の低出力化を図り、更に、被走査面での各光ビームの光
量を調整することにより、高画質で量産性に優れたマル
チ光ビーム走査光学装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は、光ビームを出射する２個の光源と、各光源
を駆動する駆動回路と、各光ビームを所定のビーム形状
に各々整形する整形レンズ系と、光源からの光ビームを
所定の偏光角に偏光させる偏光手段と、整形された各光
ビームを同一方向の光軸に合わせる光学素子と、光学素
子を通過した各光ビームを同時に偏向する偏向器と、偏
向器で偏向された各光ビームを被走査面で走査させる走
査レンズ系と、を備えたものである。

【０００８】これにより、２つの光源から出射される光
ビームを互いに９０度回転した直線偏光と、光軸合わせ
に偏光素子を用いて光軸合わせを行う際、各光ビームに
対して光量の損失を低減し、被走査面に有効な光量を確
保することができ、光源の低出化を図ることができる。
この結果、光源の低出力化を図ることができ、光源の低
コスト化や駆動回路構成の自由度の増加，光源の発熱に
よる光学系への影響の抑制，光源の安全性の向上を図る
ことができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載のマルチ
光ビーム走査光学装置は、光ビームを出射する２個の光
源と、各光源を駆動する駆動回路と、各光ビームを所定
のビーム形状に各々整形する整形レンズ系と、光源から
の光ビームを所定の偏光角に偏光させる偏光手段と、整
形された各光ビームを同一方向の光軸に合わせる光学素
子と、光学素子を通過した各光ビームを同時に偏向する
偏向器と、偏向器で偏向された各光ビームを被走査面で
走査させる走査レンズ系と、を備えたものであり、各光
ビームを同一方向への光軸に合わせる際、光学素子に入
射される光ビームの偏光を利用することで、合わせられ
る各光ビームの光量損失を低減することができるという
作用を有する。

【００１０】請求項２に記載のマルチ光ビーム走査光学
装置は、請求項１において、光学素子が、偏光ビームス
プリッタからなり、偏光手段が、各光ビームの光軸を合
わせる光学素子の前方で各光ビームの偏光状態を互いに
９０度回転した直線偏光の状態にする直線偏光手段から
なる構成を備えたものであり、光学素子である偏光ビー
ムスプリッタに入射する際、９０度異なる入射角を有す
る２つの光ビームが、互いに９０度回転した直線偏光の
状態を有することにより、偏光ビームスプリッタにおい
て、各光ビームが同一の光軸に合わせられる際、各光ビ
ームの光量損失を低減することができるという作用を有
する。

【００１１】請求項３に記載のマルチ光ビーム走査光学
装置は、請求項１又は請求項２において、光学素子が、
偏光ハーフミラーからなり、偏光手段が、各光ビームの
光軸を合わせる光学素子の前方で各光ビームの偏光状態
を互いに９０度回転した直線偏光の状態にする直線偏光
手段からなる構成を備えたものであり、偏光ハーフミラ
ーに入射する際、９０度異なる入射角を有する各光ビー
ムが、互いに９０度回転した直線偏向の状態を有するこ
とにより、偏光ハーフミラーにおいて各光ビームが同一
の光軸に合わせられる際、２つの光ビームの光量損失を
低減することができるとともに、偏光ハーフミラーを使
用することにより装置を低コストで実現することができ
るという作用を有する。

【００１２】請求項４に記載のマルチ光ビーム走査光学
装置は、請求項２又は請求項３において、直線偏光手段
が、光ビームを直線偏光させる波長板からなる構成を備
えたものであり、各光源の取り付けを同一方向にでき、
光源部分の取り付け部材、構成部品及び駆動回路を共通
化することができるという作用を有する。この結果、装
置の低原価及び量産性を向上させることができる。

【００１３】請求項５に記載のマルチ光ビーム走査光学
装置は、請求項１乃至４の内いずれか１において、偏向
器に入射する一方の光ビームの偏光角が、−４５度であ
り、他方の光ビームの偏光角が、＋４５度である構成を
備えたものであり、各光ビームの光軸合わせに対して光
の偏光特性を利用することで、光軸合わせ後、偏向器に
入射する各光ビームの反射率の差を低減することがで
き、被走査面での各光ビームの光量差を低減することが
できるという作用を有する。この結果、高画質の画像を
形成することができる。

【００１４】請求項６に記載のマルチ光ビーム走査光学
装置は、請求項１乃至４の内いずれか１において、各光
ビームを同一方向の光軸に合わせる光学素子と各光ビー
ムを同時に偏向する偏向器との間に波長板からなる偏光
素子が配設され、偏向器に入射する各光ビームを円偏光
又は楕円偏光にする構成を備えたものであり、波長板に
よって直線偏光を互いに逆回転の円偏光にすることで偏
向器での反射率を略同等にすることができ、被走査面で
の光量差を低減することができるという作用を有する。

【００１５】請求項７に記載のマルチ光ビーム走査光学
装置は、請求項１乃至６の内いずれか１において、駆動
回路が、各光ビームの光量を被走査面上で所定値となる
ように光量補正を行う光量補正手段を備えたものであ
り、互いに異なった方向の直線偏光である２つの光ビー
ムが偏向器により反射される際、偏光角に応じて反射率
の差が生じるため、この差を光量補正手段により補正す
ることにより、被走査面での光量差を低減することがで
きるという作用を有する。

【００１６】以下本発明の実施の形態について、図１か
ら図５を用いて説明する。 （実施の形態１）図１（ａ）は本発明の第１実施の形態
におけるマルチ光ビーム走査光学装置の構成を示す斜視
模式図であり、図１（ｂ）は本発明の第１実施の形態に
おけるマルチ光ビーム走査光学装置の光源から光学素子
までの構成を示す要部斜視図であり、図２は本発明の第
１実施の形態におけるマルチ光ビーム走査光学装置の光
ビームの光路を示す平面模式図である。図１及び図２に
おいて、１は本発明の第１実施の形態におけるマルチ光
ビーム走査光学装置である。２２ａ，２２ｂは整形レン
ズ系、２４は偏向器、２５は走査レンズ系、２６は同期
検出器、２７はミラー、２８はハウジング、３０は被走
査面、３１は駆動回路、３２は同期検出回路である。こ
れらは従来例と同様のものなので、同一の符号を付して
説明を省略する。従来例と異なるのは、第１光源２ａ及
び第２光源２ｂが、半導体レーザからなる光源を用い
て、同一の偏光角で出射方向が９０度異なるようにハウ
ジング２８に取り付けられている点と、整形レンズ系２
２ａ，２２ｂにより整形された各光源からの光ビーム３
ａ，３ｂが互いに同一方向の光軸を有するように偏光を
行うための光学素子である偏光ビームスプリッタ４と、
整形レンズ系２２ａと偏光ビームスプリッタ４との間に
光ビーム３ａの偏光状態を９０度回転し直線偏光にする
偏光手段であるλ／２波長板５と、を備えた点である。
出射される光ビーム３ａは半導体レーザによる直線偏光
であり、光ビーム３ａがλ／２波長板５を通過すること
により、光ビーム３ａの偏光状態が９０度偏光された直
線偏光になり、偏光ビームスプリッタ４に入射する。こ
の結果、偏光ビームスプリッタ４に入射する前の各光ビ
ーム３ａ，３ｂの偏光状態が、互いに９０度異なる直線
偏光にされる。

【００１７】以上のように構成された本発明の第１実施
の形態のマルチ光ビーム走査光学装置において、以下に
光ビームの光路における偏光状態について説明する。図
１において、第１光源２ａ及び第１光源２ｂから出射さ
れる光ビーム３ａ，３ｂは、整形レンズ２２ａ，２２ｂ
で所定のビーム条件に合わせられる。第１光源２ａ、第
２光源２ｂが半導体レーザ等からなり同一の偏光角を有
するように配設された光源を用いているので、出射され
る光ビーム３ａ，３ｂは、一般的に直線偏光である。従
って、図１（ｂ）に示すように、第１光源２ａからの光
ビーム３ａを偏光素子であるλ／２波長板５等を用いる
ことによって、もう一方の光ビーム３ｂに対して９０度
回転した直線偏光に変換することができる。偏光ビーム
スプリッタ４は偏光の状態によって、全ての光を透過し
たり、あるいは反射することができる光学素子である。
従って、図２に示すように、直線偏光で互いに９０度の
偏光方向が異なる光ビーム３ａ，３ｂは、所定の偏光ビ
ームスプリッタ４に入射されると、光ビーム３ａは偏光
ビームスプリッタ４で１００％に近いレベルで反射され
偏向器２４に導かれる。一方、光ビーム３ｂは偏光ビー
ムスプリッタ４を１００％に近いレベルで透過し偏向器
２４に導かれる。偏向器２４に導かれた２つの光ビーム
３ａ，３ｂは、偏向器２４で偏向され走査レンズ系２５
を透過し、被走査面３０に走査される。このように、２
つの光ビーム３ａ，３ｂを同一方向の光軸に合わせる
際、各光ビーム３ａ，３ｂを互いに９０度回転方向が異
なる直線偏光に変換した後、偏光ビームスプリッタ４を
通過させることにより、偏向器２４に導かれる光ビーム
３ａ，３ｂの光量損失を抑えることができる。この結
果、光源の低出力化を図ることができる。

【００１８】次に、偏光ビームスプリッタに入射する２
つの光ビームの偏光方向が互いに９０度異なる直線偏光
に変換するその他の構成について説明する。図３（ａ）
は光源の偏光方向が互いに９０度傾くようにした光源か
ら偏光ビームスプリッタまでの構成を示す要部斜視図で
あり、図３（ｂ）は光源が円偏光を有する場合に一方の
整形レンズ系の後方にλ／４波長板をもう一方の整形レ
ンズ系の後方に３λ／４波長板を介在させた光源から偏
光ビームスプリッタまでの構成を示す要部斜視図であ
る。図３（ａ）に示すように、光軸を合わせる２つの光
ビームを９０度傾けるには、直線偏光である第１光源２
ａ，第２光源２ｂを始めから互いに９０度傾く状態で取
り付け設定する。これにより、偏光ビームスプリッタ４
において、１つの光ビームは反射し、他の光ビームはそ
のままの偏光方向で透過するように構成すれば、光軸合
わせ後、偏向器２４に入射される光ビーム３ａ，３ｂの
光量損失を抑えることができる。又、光源がヘリウム・
ネオンレーザの円偏光タイプであれば、図３（ｂ）に示
すように、λ／４波長板６，３λ／４波長板７をそれぞ
れ光源から出射される光ビーム３ａ，３ｂに透過させる
ことで、互いに９０度異なる偏光方向を有する直線偏光
が得られ、同様な効果が得られる。

【００１９】ここで、本実施例の形態において、２つの
光ビームの光軸を合わせる光学素子としては、偏光ビー
ムスプリッタ４を用いたが、偏光ビームスプリッタ４の
代わりに偏光ハーフミラーを用いても、光学素子の前方
で各光ビーム３ａ，３ｂの偏光状態を互いに９０度回転
して異なる直線偏光の状態にすることができ、同様の効
果を得ることができるとともに、偏光ハーフミラーを用
いることにより光学系の低価格化を図ることができる。

【００２０】以上のように本実施の形態によれば、光源
の低出力化を実現することができるので、光源の低コス
ト化や駆動回路構成の自由度，光源の発熱による光学系
への影響，使用光源の安全性に関して有効なマルチ光ビ
ーム走査光学系を提供することができる。

【００２１】（実施の形態２）図４は本発明の第２実施
の形態のマルチ光ビーム走査光学装置における偏光ビー
ムスプリッタを通過した光ビームが偏向器で反射される
状態を示す斜視模式図である。図４において、４は実施
の形態１で説明した偏光ビームスプリッタ、８はポリゴ
ンミラーからなる偏向器である。更に、図１で示す第１
光源２ａ及び第２光源２ｂの駆動回路３１が、２つの光
源からの光ビーム３ａ，３ｂの光量を被走査面３０上で
所定値となるように光量補正を行う光量補正手段（図示
せず）を備えている。

【００２２】以上のように構成された本発明の第２実施
の形態のマルチ光ビーム走査光学装置について、偏光ビ
ームスプリッタを通過した光ビームが偏向器において反
射される際の反射率について説明する。図４において、
偏光ビームスプリッタ４で２つの光ビーム３ａ，３ｂの
光軸が合わせられた後、偏向器８により光ビーム３ａ，
３ｂが偏向されるが、偏向器８がポリゴンミラー等の場
合、入射する光ビームが直線偏光の場合、偏光方向によ
り偏向される反射率が異なる。従って、ポリゴンミラー
等からなる偏向器８において、主走査方向に偏光した光
ビームと副走査方向に偏光した光ビームが偏向され、光
量差が生じ高画質な露光ができない可能性がある。この
ような場合、偏向器８の反射特性を把握し、偏向器８の
偏向角に対して駆動回路３１の光量補正手段（図示せ
ず）を用いて、光源の出力を調整し光量を補正すること
で、２つの光ビーム３ａ，３ｂの光量を被走査面３０で
同レベルにすることができる。すなわち、互いに異なっ
た方向の直線偏光である２つの光ビーム３ａ，３ｂが偏
向器８により反射される際、偏光角に応じて反射率の差
が生じるため、この差を光量補正手段により補正するこ
とにより、被走査面３０での２つの光ビーム３ａ，３ｂ
の光量差を抑えることができ、高画質の画像を形成する
ことができる。ここで、偏向器８としては、ポリゴンミ
ラーの他、ガルバノミラー，ホログラム素子，モノゴン
ミラー等を用いることができる。

【００２３】次に、偏向器での２つの光ビームの反射率
を同一にするその他の方法について説明する。図５
（ａ）は偏光ビームスプリッタで光軸方向が合わせられ
た後２つの光ビームの偏光が直線偏光から円偏光に変換
されるλ／４波長板を挿入した構成を示す斜視模式図で
あり、図５（ｂ）は偏向器の反射面に主走査方向に対し
て２つの光ビームの偏光角がそれぞれ−４５度、＋４５
度で入射される構成を示す斜視模式図である。図５
（ａ）において、９は偏光ビームスプリッタ４と偏向器
８の間に配設されたλ／４波長板であり、偏向器８での
２つの光ビーム３ａ，３ｂの反射光を等価にするため、
λ／４波長板９は偏光ビームスプリッタ４で光軸方向が
合わされた後、２つの光ビーム３ａ，３ｂの偏光を直線
偏光から円偏光に変換する。偏光ビームスプリッタ４を
通過した２つの光ビーム３ａ，３ｂの偏光の回転方向は
逆であるが、λ／４波長板９を用いて円偏光とすること
で、偏向器８での反射率は略同等になり、被走査面３０
での各光ビーム３ａ，３ｂの光量を等価にすることがで
きる。又、図５（ｂ）に示すように、偏向器８の反射面
に主走査方向に対して、２つの光ビーム３ａ，３ｂの偏
光角が、それぞれ−４５度、＋４５度で入射される構成
とすれば、偏向器８の偏向面での偏光角度が２つの光ビ
ーム３ａ，３ｂとも同一となるため、円偏光に変換した
場合と同じ効果が得られる。

【００２４】以上のように本実施の形態によれば、偏光
手段である偏光ビームスプリッタ等を通過した光ビーム
がポリゴンミラー等の偏向器で偏向される際、反射率特
性を把握し、光量補正や２つの光ビームの光軸合わせ後
の光の偏光特性を利用することで、２つの光ビームの光
量が、被走査面上で等価になるように構成したので、実
施の形態１の効果に加えて、光軸合わせ後の各光ビーム
の光量ばらつきを抑えることができ、光源の低出力化を
実現できるとともに高画質の画像特性を得ることができ
る。

【００２５】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、光源から
出射する光ビームの光学系における光量損失を低減する
ことができ、更に、各光ビームの光量を被走査面で略等
価になるように構成したので、光源の低出力化及び高画
質化を図ることができる。この結果、光源の低コスト化
や駆動回路構成の自由度の増加，光源の発熱抑制，光ビ
ームの安全性確保が可能な、高画質で量産性に優れたマ
ルチ光ビーム走査光学装置を実現することができるとい
う有利な効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）本発明の第１実施の形態におけるマルチ
光ビーム走査光学装置の構成を示す斜視模式図 （ｂ）本発明の第１実施の形態におけるマルチ光ビーム
走査光学装置の光源から光学素子までの構成を示す要部
斜視図

【図２】本発明の第１実施の形態におけるマルチ光ビー
ム走査光学装置の光ビームの光路を示す平面模式図

【図３】（ａ）光源の偏光方向が互いに９０度傾くよう
にした光源から偏光ビームスプリッタまでの構成を示す
要部斜視図 （ｂ）光源が円偏光を有する場合に一方の整形レンズ系
の後方にλ／４波長板をもう一方の整形レンズ系の後方
に３λ／４波長板を介在させた光源から偏光ビームスプ
リッタまでの構成を示す要部斜視図

【図４】本発明の第２実施の形態のマルチ光ビーム走査
光学装置における偏光ビームスプリッタを通過した光ビ
ームが偏向器で反射される状態を示す斜視模式図

【図５】（ａ）偏光ビームスプリッタで光軸方向が合わ
せられた後２つの光ビームの偏光が直線偏光から円偏光
に変換されるλ／４波長板を挿入した構成を示す斜視模
式図 （ｂ）偏向器の反射面に主走査方向に対して２つの光ビ
ームの偏光角がそれぞれ−４５度、＋４５度で入射され
る構成を示す斜視模式図

【図６】従来のマルチ光ビーム走査光学装置の構成を示
す要部斜視図

【図７】従来のマルチ光ビーム走査光学装置の光ビーム
の光路を示す平面模式図

【符号の説明】

１ マルチ光ビーム走査光学装置 ２ａ 第１光源（半導体レーザ） ２ｂ 第２光源（半導体レーザ） ３ａ，３ｂ，２９ａ，２９ｂ 光ビーム ４ 偏光ビームスプリッタ（光学素子） ５ λ／２波長板（偏光手段） ６，９ λ／４波長板 ７ ３λ／４波長板 ８ 偏向器（ポリゴンミラー） ２１ａ 第１光源 ２１ｂ 第２光源 ２２ａ，２２ｂ 整形レンズ系 ２３ ビームスプリッタ ２４ 偏向器 ２５ 走査レンズ系 ２６ 同期検出器 ２７ ミラー ２８ ハウジング ３０ 被走査面 ３１ 駆動回路 ３２ 同期検出回路

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光ビームを出射する２個の光源と、前記各
   光源を駆動する駆動回路と、前記各光ビームを所定のビ
   ーム形状に各々整形する整形レンズ系と、前記光源から
   の光ビームを所定の偏向角に偏向させる偏光手段と、整
   形された前記各光ビームを同一方向の光軸に合わせる光
   学素子と、前記光学素子を通過した前記各光ビームを同
   時に偏向する偏向器と、前記偏向器で偏向された前記各
   光ビームを被走査面で走査させる走査レンズ系とを、を
   備えたことを特徴とするマルチ光ビーム走査光学装置。
2. 【請求項２】前記光学素子が、偏光ビームスプリッタか
   らなり、前記偏光手段が、前記各光ビームの光軸を合わ
   せる前記光学素子の前方で前記各光ビームの偏光状態を
   互いに９０度回転した直線偏光の状態にする直線偏光手
   段からなることを特徴とする請求項１に記載のマルチ光
   ビーム走査光学装置。
3. 【請求項３】前記光学素子が、偏光ハーフミラーからな
   り、前記偏光手段が、前記各光ビームの光軸を合わせる
   前記光学素子の前方で前記各光ビームの偏光状態を互い
   に９０度回転した直線偏光の状態にする直線偏光手段か
   らなることを特徴とする請求項１に記載のマルチ光ビー
   ム走査光学装置。
4. 【請求項４】前記直線偏光手段が、前記光ビームを直線
   偏光させる波長板からなることを特徴とする請求項２又
   は請求項３に記載のマルチ光ビーム走査光学装置。
5. 【請求項５】前記偏向器に入射する一方の前記光ビーム
   の偏光角が、−４５度であり、他方の前記光ビームの偏
   光角が、＋４５度であることを特徴とする請求項１乃至
   ４の内いずれか１に記載のマルチ光ビーム走査光学装
   置。
6. 【請求項６】前記各光ビームを同一方向の光軸に合わせ
   る前記光学素子と前記各光ビームを同時に偏向する前記
   偏向器との間に波長板からなる偏光素子が配設され、前
   記偏向器に入射する前記各光ビームを円偏光又は楕円偏
   光にすることを特徴とする請求項１乃至４の内いずれか
   １に記載のマルチ光ビーム走査光学装置。
7. 【請求項７】前記駆動回路が、前記各光ビームの光量を
   前記被走査面上で所定値となるように光量補正を行う光
   量補正手段を備えたことを特徴とする請求項１乃至６の
   内いずれか１に記載のマルチ光ビーム走査光学装置。