JPH0376154U - - Google Patents

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JPH0376154U
JPH0376154U JP13777889U JP13777889U JPH0376154U JP H0376154 U JPH0376154 U JP H0376154U JP 13777889 U JP13777889 U JP 13777889U JP 13777889 U JP13777889 U JP 13777889U JP H0376154 U JPH0376154 U JP H0376154U
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inductively coupled
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  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例、第2図は従来の実施
例、第3図は本考案の実施例の場合の入射スリツ
ト上のプラズマの像のでき方を示す図、第4図は
従来の実施例の場合の入射スリツト上のプラズマ
の像のでき方を示す図である。 1……プラズマ、2……凸レンズ、3……第1
入射鏡、4……第2入射鏡、5……入射スリツト
、6……分光器、7……光検出器、8……プラズ
マの像、9……入射鏡。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 鉛直方向に主たる主軸を持つ分光器を用い
    た高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置にお
    いて、 二枚の平面鏡と一枚の凸レンズを用いることに
    より、入射スリツト上のプラズマの像の方向を任
    意に設計し得る入射光学系を備えたことを特徴と
    する高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置。 (2) 前記分光器と、前記分光器と一対となる前
    記入射光学系とを、各々二つ備えたことを特徴と
    する第1項記載の高周波誘導結合プラズマ発光分
    光分析装置。 (3) 前記二枚の平面鏡のうちの片方の鏡の角度
    を変えて入射スリツト上のプラズマの像の縦方向
    の位置を前記二枚の平面鏡のうちのもう一方の鏡
    の角度を変えて入射スリツト上のプラズマの像の
    横方向の位置を、 各々調整できるように形成した入射光学系を備
    えたことを特徴とする第1項記載の高周波誘導結
    合プラズマ発光分光分析装置。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59230126A (ja) * 1983-06-13 1984-12-24 Hitachi Ltd 定量分光分析装置
JPS62105036A (ja) * 1985-11-01 1987-05-15 Hitachi Ltd 波長スキヤン式発光分光分析装置
JPS62134052U (ja) * 1986-02-17 1987-08-24

Patent Citations (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPS62134052U (ja) * 1986-02-17 1987-08-24

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