JP2518575B2 - 半導体チップ封止方法 - Google Patents

半導体チップ封止方法

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JP2518575B2
JP2518575B2 JP3284525A JP28452591A JP2518575B2 JP 2518575 B2 JP2518575 B2 JP 2518575B2 JP 3284525 A JP3284525 A JP 3284525A JP 28452591 A JP28452591 A JP 28452591A JP 2518575 B2 JP2518575 B2 JP 2518575B2
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JP
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semiconductor chip
resin
bonding
bridge
bonding wires
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勇三 吉本
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Kawasaki Steel Corp
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体チップを樹脂で封
止(モールド)する半導体チップ封止方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より半導体チップの封止手段の1つ
として樹脂でモールドする方法が用いられている。図
4、図5は樹脂モールドされた半導体チップを模式的に
表わした横方断面図、一部平面図である。
【0003】内部に図示しない多数の回路素子が形成さ
れるとともにボンディングパッド12が形成された半導
体チップ10の近傍に多数のリード14が配設され、各
ボンディングパッド12と各リード14が各ボンディン
グワイヤ16で接続され、その後この半導体チップ10
を囲うように配置された型内に樹脂20が流し込まれて
モールドされる。これにより、半導体チップ10及びボ
ンディングワイヤ16は密封されて保護され、リード1
4のみがこの樹脂モールド20から突出し、外部回路と
接続される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年半導体回路がます
ます微細化し、狭い面積の半導体チップ内に極めて多数
の回路素子が形成されてきている。このため、外部回路
との信号の授受もますます多数必要とされ外部回路との
信号の授受のためのボンディングパッドも狭い場所にま
すます多数配列されるようになってきており、ボンディ
ングパッド12の配列ピッチは、例えば130〜140
μm程度となってきている。
【0005】一方、リード14は、このボンディングパ
ッド12と同等には細かいピッチで配列することはでき
ず、例えば230〜250μmが実用上の限度である。
このため、ボンディングパッド12、リード14が多数
配列されると、図5に示すような端の部分においてボン
ディングパッド12の配列ピッチよりもリード14の配
列ピッチが大きい分、リード14が外側に食み出し、し
たがって特に端部のボンディングパッド12とリード1
4とを結ぶボンディングワイヤ16の長さが長くなって
しまうことになる。このため、樹脂を流し込んでモール
ドする際に、樹脂の粘性でボンディングワイヤ16が横
に移動し、図5の丸A内のように互いに隣接したりボン
ディングワイヤ16どおしが接近し、これらが接触した
ままモールドされてしまうことがあり、このモールドの
ために不良品が発生するという問題がある。この問題
は、回路素子の微細化、LSIの巨大化に伴いますます
顕著になってきている。
【0006】本発明は、上記問題を解決し、樹脂モール
ドの工程で互いに隣接するボンディングワイヤが接触す
ることを防止する半導体チップ封止方法を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の半導体チップ封止方法は、半導体チップ上に
多数配列されたボンディングパッドと、該半導体チップ
に隣接して多数配列されたリードフレームとの間をそれ
ぞれボンディングワイヤで接続し、絶縁樹脂によりこれ
ら複数のボンディングワイヤにまたがるブリッジを形成
し、その後前記半導体チップを樹脂で封止することを特
徴とするものである。
【0008】ここで上記ブリッジを形成するための樹脂
は、本発明においては特定の樹脂に限定されるものでは
ないが、例えばポリイミドやエポキシ系の樹脂が用いら
れる。
【0009】
【作用】上記本発明の半導体チップ封止方法は、ボンデ
ィングワイヤで接続した後絶縁樹脂により複数のボンデ
ィングワイヤにまたがるブリッジを形成し、その後樹脂
モールドするようにしたため、このブリッジにより隣接
するボンディングワイヤどおしの間隔が保持され、した
がって、隣接するボンディングワイヤどおしの接触は確
実に防止される。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1、図2はボンディング後樹脂モールド前のボンディン
グワイヤに樹脂ブリッジを形成する各例を示した図、図
3は樹脂ブリッジが形成された状態を示した図である。
これらの図においては、図4、図5に示す各要素と同一
の要素には図4、図5において付した番号と同一の番号
を付し重複説明は省略する。
【0011】図1は、ボンディングワイヤ16の頂点近
傍をポリイミド液20aに漬けた状態を表わした図であ
り、ポリイミド液20aの粘度を予め調整しておくこと
により、ボンディングワイヤ16を液20aから引上げ
た後に図3に示すようにブリッジ20bが形成される。
また図2は、ノズル22によりポリイミド液20aがボ
ンディングワイヤ16に滴下されている状態を表わした
図であり、これによっても図3に示すようにブリッジ2
0bが形成される。
【0012】このようなブリッジ20bが形成された後
樹脂が型内に流し込まれて半導体チップ10の全体が樹
脂モールドされるが、この際にはブリッジ20bにより
ボンディングワイヤ12どおしの間隔は常に保持されて
いるため、ボンディングワイヤどおしの接触を確実に防
止することができる。なお、例えばボンディングワイヤ
16の表面にポリイミド液20aは付着されるが互いに
隣接するボンディングワイヤ16の間にブリッジ20b
が形成されない程度にポリイミド液20aの粘度を下げ
た場合、ボンディングワイヤ16どおしの電気的な接触
はかなり防止されるが、ボンディングワイヤ16はかな
り細い線であり可撓性を有するため、その一部分にポリ
イミド液20aが付着していても他の部分同士が接触す
ることが考えられ、したがって、本発明のようにブリッ
ッジ20bを形成することが好ましい。ただし、本発明
においても一列に配列された多数本のボンディングワイ
ヤ16の全てに跨がるブリッジ20bが確実に形成され
る必要はなく、ところどころそのブリッジ20bが跡切
れていてもよい。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体チ
ップ封止方法は、絶縁樹脂により複数のボンディングワ
イヤに跨がるブリッジを形成した後樹脂モールドするも
のであるため、樹脂モールドの際にボンディングワイヤ
同士が接触してしまうことが確実に防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】ボンディングワイヤ16の頂点近傍をポリイミ
ド液20aに漬けた状態を表わした図である。
【図2】ノズル22によりポリイミド液20aがボンデ
ィングワイヤ16に滴下されている状態を表わした図で
ある。
【図3】樹脂ブリッジが形成された状態を示した図であ
る。
【図4】半導体チップを模式的に表わした横方断面図で
ある。
【図5】半導体チップを模式的に表わした一部平面図で
ある。
【符号の説明】
10 半導体チップ 12 ボンディングパッド 14 リード 16 ボンディングワイヤ 20 樹脂 20b 樹脂のブリッジ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップ上に多数配列されたボンデ
    ィングパッドと、該半導体チップに隣接して多数配列さ
    れたリードフレームとの間をそれぞれボンディングワイ
    ヤで接続し、絶縁樹脂によりこれら複数のボンディング
    ワイヤにまたがるブリッジを形成し、その後前記半導体
    チップを樹脂で封止することを特徴とする半導体チップ
    封止方法。
JP3284525A 1991-10-30 1991-10-30 半導体チップ封止方法 Expired - Fee Related JP2518575B2 (ja)

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