JP2501080Y2 - アルゴンガスの精製装置 - Google Patents
アルゴンガスの精製装置Info
- Publication number
- JP2501080Y2 JP2501080Y2 JP11069690U JP11069690U JP2501080Y2 JP 2501080 Y2 JP2501080 Y2 JP 2501080Y2 JP 11069690 U JP11069690 U JP 11069690U JP 11069690 U JP11069690 U JP 11069690U JP 2501080 Y2 JP2501080 Y2 JP 2501080Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- purifier
- argon gas
- impurities
- gas purification
- Prior art date
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、高純度のアルゴンガスを供給することがで
きる精製装置に関する。
きる精製装置に関する。
従来の技術 半導体製造時には、高純度のアルゴンガスが必要であ
る。とりわけ製造プロセスにおいて、アルゴンガスを励
起させ薄膜を形成するプロセスで使用されるアルゴンガ
スは高純度のものが必要とされている。従来からアルゴ
ンガスの不純物を除去するのに一般に用いられるニツケ
ル系または銅系の触媒は、常温で使用することができ、
比較的大量のH2O,CO,CO2，O2およびH2を吸着して除去す
ることができるという利点がある反面、CH4やN2などの
不純物を除去できないという欠点がある。
る。とりわけ製造プロセスにおいて、アルゴンガスを励
起させ薄膜を形成するプロセスで使用されるアルゴンガ
スは高純度のものが必要とされている。従来からアルゴ
ンガスの不純物を除去するのに一般に用いられるニツケ
ル系または銅系の触媒は、常温で使用することができ、
比較的大量のH2O,CO,CO2，O2およびH2を吸着して除去す
ることができるという利点がある反面、CH4やN2などの
不純物を除去できないという欠点がある。
また他の従来からの触媒は、高温度に加熱した状態で
のみ触媒反応が生じ、その不純物の除去可能な量は比較
的少ないけれども、除去可能な不純物はH2O,CO,CO2，
O2，H2，CH4およびN2と種類が多いという利点がある。
このように従来からの各触媒は、それぞれ利点と欠点と
を有するものである。したがって半導体製造時に必要な
高純度のアルゴンガスを少ない触媒で安価に製造するこ
とは困難である。
のみ触媒反応が生じ、その不純物の除去可能な量は比較
的少ないけれども、除去可能な不純物はH2O,CO,CO2，
O2，H2，CH4およびN2と種類が多いという利点がある。
このように従来からの各触媒は、それぞれ利点と欠点と
を有するものである。したがって半導体製造時に必要な
高純度のアルゴンガスを少ない触媒で安価に製造するこ
とは困難である。
考案が解決しようとする課題 本考案の目的は、アルゴンガス中に含まれる多種類の
不純物を除去することができ、しかも触媒の活性を長期
間にわたつて維持することができるようにしたアルゴン
ガスの精製装置を提供することである。
不純物を除去することができ、しかも触媒の活性を長期
間にわたつて維持することができるようにしたアルゴン
ガスの精製装置を提供することである。
課題を解決するための手段 本考案は、ニツケル系または銅系の触媒を有する触媒
層とモレキユラシーブを有する吸着層とをこの順序で接
続した第１精製器と、 鉄・ジルコニウム系触媒または水素吸蔵合金を有する
第２精製器と、 第２精製器を加熱する手段と、 第１精製器と第２精製器とを接続する管路とを含むこ
とを特徴とするアルゴンガスの精製装置である。
層とモレキユラシーブを有する吸着層とをこの順序で接
続した第１精製器と、 鉄・ジルコニウム系触媒または水素吸蔵合金を有する
第２精製器と、 第２精製器を加熱する手段と、 第１精製器と第２精製器とを接続する管路とを含むこ
とを特徴とするアルゴンガスの精製装置である。
作用 本考案に従えば、アルゴンガスの流路の上流側に設け
られる第１精製器は、常温で触媒反応し、アルゴンガス
中のH2O,CO,CO2，O2およびH2を除去するニツケル系また
は銅系の触媒と吸着剤とを用いる。この触媒によつて上
記の不純物が除去されたアルゴンガスは、管路を介して
鉄・ジルコニウム系触媒または水素吸蔵合金を有する第
２精製器に導かれて、さらにCH4およびN2が除去され
る。
られる第１精製器は、常温で触媒反応し、アルゴンガス
中のH2O,CO,CO2，O2およびH2を除去するニツケル系また
は銅系の触媒と吸着剤とを用いる。この触媒によつて上
記の不純物が除去されたアルゴンガスは、管路を介して
鉄・ジルコニウム系触媒または水素吸蔵合金を有する第
２精製器に導かれて、さらにCH4およびN2が除去され
る。
第２精製器において用いられる触媒（以下第２触媒と
いう）は、第１精製器において用いられる触媒（以下第
１触媒という）によつて除去されるH2O,CO,CO2，O2およ
びH2を除去することができ、さらに第１触媒で除去する
ことができないCH4およびN2を除去することができる。
しかし第２触媒で除去できる不純物の量は、第１触媒よ
りも少なく、また加熱することによつて触媒活性が発揮
される。したがつてアルゴンガス中に含まれる不純物の
うち比較的多く含まれるO2,CO,H2などを第１触媒で除去
した後、アルゴンガスは管路を介して第２触媒に送られ
る。第１精製器は、第１触媒層の後流側に吸着剤を有
し、ここで第１触媒で生成し、かつ充分に除去できなか
つたH2OおよびCO2が除去される。また第１精製器と第２
精製器との間に管路が設けられているため、第２精製器
の熱が第１精製器に移動せず、第１精製器が加熱され
ず、また加熱のエネルギ節約される。
いう）は、第１精製器において用いられる触媒（以下第
１触媒という）によつて除去されるH2O,CO,CO2，O2およ
びH2を除去することができ、さらに第１触媒で除去する
ことができないCH4およびN2を除去することができる。
しかし第２触媒で除去できる不純物の量は、第１触媒よ
りも少なく、また加熱することによつて触媒活性が発揮
される。したがつてアルゴンガス中に含まれる不純物の
うち比較的多く含まれるO2,CO,H2などを第１触媒で除去
した後、アルゴンガスは管路を介して第２触媒に送られ
る。第１精製器は、第１触媒層の後流側に吸着剤を有
し、ここで第１触媒で生成し、かつ充分に除去できなか
つたH2OおよびCO2が除去される。また第１精製器と第２
精製器との間に管路が設けられているため、第２精製器
の熱が第１精製器に移動せず、第１精製器が加熱され
ず、また加熱のエネルギ節約される。
アルゴンガス中のCH4やN2の含有量は比較的少なく、
第１精製器で比較的多く含まれる不純物を除去されたア
ルゴンガスを精製する第２触媒は、第２触媒のみを用い
る従来技術に比して長期間にわたつて用いることができ
る。また仮にアルゴンガスを、まず第２精製器に導き、
その後、第１精製器に導くと仮定すれば、第２精製器に
おける第２触媒によつて、多くの種類の不純物が除去さ
れるけれども、第２触媒は不純物の除去可能な量が少な
く触媒反応が短期間で行われなくなり、第１触媒によつ
て除去されない不純物を含むアルゴンガスが、第１精製
器に送られ、この不純物が第１精製器を素通りして供給
されるおそれが生じる。本考案はこのような問題を解決
する。
第１精製器で比較的多く含まれる不純物を除去されたア
ルゴンガスを精製する第２触媒は、第２触媒のみを用い
る従来技術に比して長期間にわたつて用いることができ
る。また仮にアルゴンガスを、まず第２精製器に導き、
その後、第１精製器に導くと仮定すれば、第２精製器に
おける第２触媒によつて、多くの種類の不純物が除去さ
れるけれども、第２触媒は不純物の除去可能な量が少な
く触媒反応が短期間で行われなくなり、第１触媒によつ
て除去されない不純物を含むアルゴンガスが、第１精製
器に送られ、この不純物が第１精製器を素通りして供給
されるおそれが生じる。本考案はこのような問題を解決
する。
実施例 第１図は、本考案の一実施例の系統図である。半導体
製造時に必要な高純度のアルゴンガスを得るために、不
純物を含むアルゴンガスは、管路１から開閉弁２を経て
第１精製器３に供給される。この第１精製器３には、固
体の第１触媒４が充填されている。第１触媒４は、常温
で触媒反応をして、アルゴンガス中の不純物であるH2O,
CO,CO2，O2およびH2と反応して選択的にこれらの不純物
を化学吸着して除去する。第１触媒４は、これらの不純
物の除去可能な量が比較的大きく、劣化が遅く長寿命で
ある。さらに第１触媒で生成され、充分化学吸着されな
いH2OおよびCO2がモレキユラシーブを有する吸着剤13に
よつて吸着除去される。
製造時に必要な高純度のアルゴンガスを得るために、不
純物を含むアルゴンガスは、管路１から開閉弁２を経て
第１精製器３に供給される。この第１精製器３には、固
体の第１触媒４が充填されている。第１触媒４は、常温
で触媒反応をして、アルゴンガス中の不純物であるH2O,
CO,CO2，O2およびH2と反応して選択的にこれらの不純物
を化学吸着して除去する。第１触媒４は、これらの不純
物の除去可能な量が比較的大きく、劣化が遅く長寿命で
ある。さらに第１触媒で生成され、充分化学吸着されな
いH2OおよびCO2がモレキユラシーブを有する吸着剤13に
よつて吸着除去される。
第１精製器３において不純物が除去されたアルゴンガ
スは、管路５から、第２精製器６に導かれる。この第２
精製器６内には、第２触媒７が充填されており、この第
２触媒７は、加熱手段である電気ヒータ８によつてたと
えば450℃に加熱されることによつて触媒活性が発揮さ
れる。第２触媒７は、第１触媒４によつて除去される種
類の不純物、すなわちH2O,CO,CO2，O2，H2を除去するこ
とができるとともに、さらに第１触媒４によつて除去す
ることができないN2およびCH4を化学吸着して除去する
ことができる。しかもこの第２触媒７は、不純物の除去
可能な量は少ない。すなわちH2O,CO,CO2，O2，H2を多量
に化学吸着した後には、N2，CH4を除去することができ
なくなる。この第２精製器６は第１精製器３の下流側に
配置されているので、第１精製器３によつてアルゴンガ
ス中に比較的多く含まれている不純物のH2O,CO,CO2，
O2，H2が除去された後、比較的微量である不純物N2，CH
4を含むアルゴンガスは第２精製器６において第２触媒
７によつて不純物を化学吸着され、こうして第２触媒７
の劣化を遅くして長期間にわたつて使用することが可能
になる。
スは、管路５から、第２精製器６に導かれる。この第２
精製器６内には、第２触媒７が充填されており、この第
２触媒７は、加熱手段である電気ヒータ８によつてたと
えば450℃に加熱されることによつて触媒活性が発揮さ
れる。第２触媒７は、第１触媒４によつて除去される種
類の不純物、すなわちH2O,CO,CO2，O2，H2を除去するこ
とができるとともに、さらに第１触媒４によつて除去す
ることができないN2およびCH4を化学吸着して除去する
ことができる。しかもこの第２触媒７は、不純物の除去
可能な量は少ない。すなわちH2O,CO,CO2，O2，H2を多量
に化学吸着した後には、N2，CH4を除去することができ
なくなる。この第２精製器６は第１精製器３の下流側に
配置されているので、第１精製器３によつてアルゴンガ
ス中に比較的多く含まれている不純物のH2O,CO,CO2，
O2，H2が除去された後、比較的微量である不純物N2，CH
4を含むアルゴンガスは第２精製器６において第２触媒
７によつて不純物を化学吸着され、こうして第２触媒７
の劣化を遅くして長期間にわたつて使用することが可能
になる。
また第１精製器３と第２精製器６とは、管路５を介し
て接続されているので、電気ヒータ８によつて第２触媒
７が加熱されても、熱が第１精製器３に伝わらず、第１
精製器３および第２精製器６を最適の温度で使用できる
とともに、第２精製器６を加熱するエネルギが節約でき
る。
て接続されているので、電気ヒータ８によつて第２触媒
７が加熱されても、熱が第１精製器３に伝わらず、第１
精製器３および第２精製器６を最適の温度で使用できる
とともに、第２精製器６を加熱するエネルギが節約でき
る。
第１触媒４は、Ni系またはCu系の触媒である。第２触
媒７は、鉄、ジルコニウム系触媒または水素吸蔵合金で
ある。
媒７は、鉄、ジルコニウム系触媒または水素吸蔵合金で
ある。
また本考案では、比較的高価な第２触媒７の使用量を
減少して、コストダウンを図ることが可能になる。一般
的に、第１触媒４および吸着剤13は再生が容易であるの
に対して、第２触媒７の再生は困難であり、いわば使い
捨てとなり、このような使い捨てとなる第２触媒７の使
用量を低減することは工業上、ランニングコストの低減
を図る上で重要である。
減少して、コストダウンを図ることが可能になる。一般
的に、第１触媒４および吸着剤13は再生が容易であるの
に対して、第２触媒７の再生は困難であり、いわば使い
捨てとなり、このような使い捨てとなる第２触媒７の使
用量を低減することは工業上、ランニングコストの低減
を図る上で重要である。
第２精製器６からの高純度のアルゴンガスは、管路９
からフイルタ10に導かれて除塵され、開閉弁11を経て管
路12から、たとえば半導体製造装置などに供給される。
からフイルタ10に導かれて除塵され、開閉弁11を経て管
路12から、たとえば半導体製造装置などに供給される。
考案の効果 以上のように本考案によれば、アルゴンガスを第１精
製器の第１触媒および吸着剤に接触して、アルゴンガス
中に比較的多量に含まれる不純物を除去した後、管路を
介して第２精製器の第２触媒を用いて、第１触媒によつ
て除去されなかつた比較的少量しか含まれない不純物を
除去するようにしたので、多くの種類の不純物を長期に
わたり除去することができるようになり、しかも第１お
よび第２触媒を最適の温度で使用することができる。こ
れによつて特に第２触媒の劣化をできるだけ防いで、長
期間にわたつて使用することができるようになる。
製器の第１触媒および吸着剤に接触して、アルゴンガス
中に比較的多量に含まれる不純物を除去した後、管路を
介して第２精製器の第２触媒を用いて、第１触媒によつ
て除去されなかつた比較的少量しか含まれない不純物を
除去するようにしたので、多くの種類の不純物を長期に
わたり除去することができるようになり、しかも第１お
よび第２触媒を最適の温度で使用することができる。こ
れによつて特に第２触媒の劣化をできるだけ防いで、長
期間にわたつて使用することができるようになる。
第１図は本考案の一実施例の全体の系統図である。 ３……第１精製器、４……第１触媒、６……第２精製
器、７……第２触媒、８……電気ヒータ、10……除塵用
フイルタ
器、７……第２触媒、８……電気ヒータ、10……除塵用
フイルタ
Claims (1)
- 【請求項１】ニツケル系または銅系の触媒を有する触媒
層とモレキユラシーブを有する吸着層とをこの順序で接
続した第１精製器と、 鉄・ジルコニウム系触媒または水素吸蔵合金を有する第
２精製器と、 第２精製器を加熱する手段と、 第１精製器と第２精製器とを接続する管路とを含むこと
を特徴とするアルゴンガスの精製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11069690U JP2501080Y2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | アルゴンガスの精製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11069690U JP2501080Y2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | アルゴンガスの精製装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0470127U JPH0470127U (ja) | 1992-06-22 |
| JP2501080Y2 true JP2501080Y2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=31858075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11069690U Expired - Lifetime JP2501080Y2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | アルゴンガスの精製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2501080Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02503341A (ja) * | 1987-10-30 | 1990-10-11 | ジーメンス‐ベンデイツクス オートモーテイブ エレクトロニクス エル． ピー． | 電圧倍増回路装置 |
-
1990
- 1990-10-22 JP JP11069690U patent/JP2501080Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02503341A (ja) * | 1987-10-30 | 1990-10-11 | ジーメンス‐ベンデイツクス オートモーテイブ エレクトロニクス エル． ピー． | 電圧倍増回路装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0470127U (ja) | 1992-06-22 |
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