JP2024502187A - 流動化装置内において微粒子状の材料を処理するための方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、流動化装置1内において微粒子状の材料Mを処理するための方法に関する。
Description
本発明は、長手方向軸線を有する流動化ユニットを備える流動化装置内において微粒子状の材料を処理するための方法に関し、
前記流動化ユニットが、この流動化ユニットを分配チャンバーとこの分配チャンバーの上方に配置された流動化チャンバーとに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部を有しており、
その際、前記流動化チャンバーが、処理されるべき前記材料のための材料流入口を備えており、および、
前記分配チャンバーが、材料流出口面と下側および上側の縁部とを有する、処理された前記材料のための材料流出口を装備する材料排出部を備えており、および、
遮断装置が前記材料排出部を閉鎖し、且つ、
その際、前記分配チャンバーが、流体流入口を備えており、および、前記流動化チャンバーが、
前記流体流入口から前記パーフォレーションを付けられた受流底部を通って前記流体流出口へと流動し、前記流動化チャンバー内における前記材料を流動化するプロセスガスのための、流体流出口を備えており、
その際、作動状態において、先ず第一に、前記流動化チャンバーが、前記材料流入口を介して、処理されるべき材料でもって充填され、且つ、その後、前記材料が、前記流動化チャンバーを通って流動する前記プロセスガスによって処理される。
前記流動化ユニットが、この流動化ユニットを分配チャンバーとこの分配チャンバーの上方に配置された流動化チャンバーとに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部を有しており、
その際、前記流動化チャンバーが、処理されるべき前記材料のための材料流入口を備えており、および、
前記分配チャンバーが、材料流出口面と下側および上側の縁部とを有する、処理された前記材料のための材料流出口を装備する材料排出部を備えており、および、
遮断装置が前記材料排出部を閉鎖し、且つ、
その際、前記分配チャンバーが、流体流入口を備えており、および、前記流動化チャンバーが、
前記流体流入口から前記パーフォレーションを付けられた受流底部を通って前記流体流出口へと流動し、前記流動化チャンバー内における前記材料を流動化するプロセスガスのための、流体流出口を備えており、
その際、作動状態において、先ず第一に、前記流動化チャンバーが、前記材料流入口を介して、処理されるべき材料でもって充填され、且つ、その後、前記材料が、前記流動化チャンバーを通って流動する前記プロセスガスによって処理される。
微粒子状の材料の処理のための流動化装置と、渦流床装置とは、既に久しい以前から公知である。
特許文献1は、微粒子状の材料の加工のための流動床装置を開示しており、この流動床装置が、分配チャンバーを取り囲むチャンバーと、この分配チャンバーの上方に配置された、パーフォレーションを付けられた受流底部と、プロセスガスのための流入口および流出口と、下側および上側の縁部を有する、高さおよび開口面を規定する排出開口部とを備えており、その際、受流底部が、この排出開口部の下側の縁部の上方で、この排出開口部の開口面が受流底部の下方の開口面と受流底部の下方の開口面とに分割されているように位置決めされている。
プロセスガスが分配チャンバーから受流底部の周囲を回って流動化チャンバーに流動する場合、ここで、プロセスガスが、微粒子状の材料の排出の際に、排出開口部において、一種の幕を形成することは欠点である。この膜は、微粒子状の材料の排出を少なくとも部分的に制限し、且つ、同時に、流動化装置からの微粒子状の材料の排出速度を低減する。
本発明の課題は、従って、一方では、流動化装置の排出を、排出速度に関して更に改善すること、および、他方では、同時に、従来技術の欠点を克服することである。
この課題は、それに加えて、冒頭に記載された様式の方法において、
前記分配チャンバーが、前記材料流出口面の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブを備えており、および、
前記作動状態の後に、前記流動化ユニットに対して相対的に移動可能に配置された前記受流底部が、
この受流底部が、排出状態において、前記受流底部の傍らを通り過ぎる、前記分配チャンバー内において配置された前記材料流出口と前記流動化チャンバーとの間に流体接続が形成され、且つ、処理された前記材料が前記材料流出口を通って前記流動化ユニットから排出される程に、前記ウェブに配置されるように、
排出位置へと移動され、
前記受流底部の前記排出位置における前記排出状態において、前記遮断装置が前記材料排出部を開放する、
ことによって解決される。
前記分配チャンバーが、前記材料流出口面の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブを備えており、および、
前記作動状態の後に、前記流動化ユニットに対して相対的に移動可能に配置された前記受流底部が、
この受流底部が、排出状態において、前記受流底部の傍らを通り過ぎる、前記分配チャンバー内において配置された前記材料流出口と前記流動化チャンバーとの間に流体接続が形成され、且つ、処理された前記材料が前記材料流出口を通って前記流動化ユニットから排出される程に、前記ウェブに配置されるように、
排出位置へと移動され、
前記受流底部の前記排出位置における前記排出状態において、前記遮断装置が前記材料排出部を開放する、
ことによって解決される。
この構成における利点は、そのウェブに受流底部が配置されている該ウェブが、
プロセスガス流が、材料流出口面の領域内において、受流底部の周囲を回って流動し、且つ、このことによって、処理された材料の排出を制限するかまたは完全に阻止する、一種の「プロセスガス幕(Prozessgas-Vorhang)」を形成するのを、阻止することにある。
それに加えて、このウェブは、流動化チャンバー内において処理された材料が、排出の際に、受流底部と分配チャンバー内壁との間に結果として生じる間隙を通って分配チャンバー内へと落下することを防止する。
プロセスガス流が、材料流出口面の領域内において、受流底部の周囲を回って流動し、且つ、このことによって、処理された材料の排出を制限するかまたは完全に阻止する、一種の「プロセスガス幕(Prozessgas-Vorhang)」を形成するのを、阻止することにある。
それに加えて、このウェブは、流動化チャンバー内において処理された材料が、排出の際に、受流底部と分配チャンバー内壁との間に結果として生じる間隙を通って分配チャンバー内へと落下することを防止する。
更に有利には、受流底部と流動化ユニットとの間の相対的な移動によって、微粒子状の材料は、処理の後、材料排出部を通って排出され得る。この相対的な移動は、プロセスガスが材料排出部を通っての処理された材料の排出を補助することの構造およびやり方で実施され得る。
この方法のこれに関連する有利な構成により、前記流動化ユニットは、この流動化ユニットの前記長手方向軸線に対して横向きに延びる旋回軸を有しており、
この旋回軸に、前記受流底部が旋回可能に配置されており、且つ、
この旋回軸を中心として、前記受流底部が、前記微粒子状の材料の処理の後、合目的に5°から10°まで旋回される。
この構成により、旋回軸を中心としての旋回移動の形態での簡単な相対的な移動は可能である。このことによって、一方では、有利には、分配チャンバー内において配置された、材料排出部の材料流出口が、流動化チャンバー内において処理された材料の排出のために開放され、他方では、この排出が、受流底部の傾斜位置によって促進される。その上、受流底部は、有利には、旋回軸を中心として、0°と60°との間の角度だけ、合目的に5°から10°までの角度だけ旋回される。
この旋回移動により、受流底部と、分配チャンバー及び/または流動化チャンバーとの間で、基本的に鎌形状またはリング形状の間隙が形成され、この間隙は過度に大きくなるべきではない。何故ならば、ここで、さもなければ、排出状態において、プロセスガスでもってのこの間隙の貫通流動にもかかわらず、処理された材料が、分配チャンバー内へと到達可能であることの危険が存在するからである。プロセスガスは、合目的に、-ウェブが配置されていないところでの-この間隙を、排出状態において密閉する。
この旋回軸に、前記受流底部が旋回可能に配置されており、且つ、
この旋回軸を中心として、前記受流底部が、前記微粒子状の材料の処理の後、合目的に5°から10°まで旋回される。
この構成により、旋回軸を中心としての旋回移動の形態での簡単な相対的な移動は可能である。このことによって、一方では、有利には、分配チャンバー内において配置された、材料排出部の材料流出口が、流動化チャンバー内において処理された材料の排出のために開放され、他方では、この排出が、受流底部の傾斜位置によって促進される。その上、受流底部は、有利には、旋回軸を中心として、0°と60°との間の角度だけ、合目的に5°から10°までの角度だけ旋回される。
この旋回移動により、受流底部と、分配チャンバー及び/または流動化チャンバーとの間で、基本的に鎌形状またはリング形状の間隙が形成され、この間隙は過度に大きくなるべきではない。何故ならば、ここで、さもなければ、排出状態において、プロセスガスでもってのこの間隙の貫通流動にもかかわらず、処理された材料が、分配チャンバー内へと到達可能であることの危険が存在するからである。プロセスガスは、合目的に、-ウェブが配置されていないところでの-この間隙を、排出状態において密閉する。
この方法の、同様にこれに関連する有利な構成により、
前記受流底部は、
前記長手方向軸線の軸線方向に移動可能に配置されており、且つ、
前記長手方向軸線の軸線方向に、直線移動の形態で、合目的に前記受流底部が、前記材料流出口の下側の前記縁部の下方で位置決めされるまで移動される。
有利には、受流底部は、長手方向軸線の軸線方向に移動される。同様に選択的な構成により、材料排出部は、改善された排出のために、微粒子状の材料の処理の後、開放される。
前記受流底部は、
前記長手方向軸線の軸線方向に移動可能に配置されており、且つ、
前記長手方向軸線の軸線方向に、直線移動の形態で、合目的に前記受流底部が、前記材料流出口の下側の前記縁部の下方で位置決めされるまで移動される。
有利には、受流底部は、長手方向軸線の軸線方向に移動される。同様に選択的な構成により、材料排出部は、改善された排出のために、微粒子状の材料の処理の後、開放される。
特に有利には、前記受流底部は、前記排出位置への移動の際に、旋回移動と直線移動とを実施する。
その際、受流底部は、一方では、旋回移動によって旋回軸を中心として旋回され、および、他方では、長手方向軸線の軸線方向に、直線移動の形態で移動される。旋回移動と直線移動とは、相前後して適宜の順序において、または、互いに同時に実施され得る。このことによって、旋回移動と同様に直線移動との利点が効果を発揮する。
その際、受流底部は、一方では、旋回移動によって旋回軸を中心として旋回され、および、他方では、長手方向軸線の軸線方向に、直線移動の形態で移動される。旋回移動と直線移動とは、相前後して適宜の順序において、または、互いに同時に実施され得る。このことによって、旋回移動と同様に直線移動との利点が効果を発揮する。
この方法の付加的で有利な構成に従い、前記受流底部は、前記排出位置において、前記受流底部の少なくとも一部が前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニットに対して相対的に移動される。
このことに関連して、前記受流底部は、前記排出位置において、前記受流底部が前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニットに対して相対的に移動される。
選択的に、受流底部の上側の縁部または上側面は、材料排出部の下側の縁部と面一に配置されている。これら両方の場合において、材料流出口面は最大に開放されており、従って、処理された材料の排出が能率的に且つ迅速に行われ得る。
このことに関連して、前記受流底部は、前記排出位置において、前記受流底部が前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニットに対して相対的に移動される。
選択的に、受流底部の上側の縁部または上側面は、材料排出部の下側の縁部と面一に配置されている。これら両方の場合において、材料流出口面は最大に開放されており、従って、処理された材料の排出が能率的に且つ迅速に行われ得る。
この方法の付加的で有利な更なる構成に相応して、前記材料排出部は、遮断装置を有しており、前記受流底部が排出位置に位置するやいなや、この遮断装置が、前記材料排出部を開放する。有利には、前記受流底部の少なくとも一部が前記材料流出口の前記下側の前記縁部の下方に位置決めされるやいなや、前記遮断装置は、前記材料排出部を開放する。
このことによって、材料流出口面は、最大に大きく開放されており、且つ、流動化ユニット3の流動化チャンバー内において処理された材料が、効果的に且つ時間を節約して、流動化装置の流動化ユニットから排出され得る。
このことによって、材料流出口面は、最大に大きく開放されており、且つ、流動化ユニット3の流動化チャンバー内において処理された材料が、効果的に且つ時間を節約して、流動化装置の流動化ユニットから排出され得る。
この方法の更に別の有利な更なる構成により、特に排出管として形成された前記材料排出部に、流体接続流出口を備える、補助ガスの提供のための流体接続部が組み込まれており、
処理された前記材料の排出を支援するために、この補助ガスが、前記流体接続流出口を通って前記材料排出部内へと、少なくとも前記遮断装置が前記材料排出部を開放した場合に、流動する。
処理された材料の排出を支援および改善するために、流体接続部を通って、材料排出部に、流体、合目的に補助ガスまたは支持ガスを供給することは可能である。有利には、補助ガスは、プロセスガスに相応する。
更に有利には、補助ガスは、プロセスガスから分岐され、且つ、このプロセスガスに、材料排出部の後ろで、循環回路運転方法において再び引き渡される。
処理された前記材料の排出を支援するために、この補助ガスが、前記流体接続流出口を通って前記材料排出部内へと、少なくとも前記遮断装置が前記材料排出部を開放した場合に、流動する。
処理された材料の排出を支援および改善するために、流体接続部を通って、材料排出部に、流体、合目的に補助ガスまたは支持ガスを供給することは可能である。有利には、補助ガスは、プロセスガスに相応する。
更に有利には、補助ガスは、プロセスガスから分岐され、且つ、このプロセスガスに、材料排出部の後ろで、循環回路運転方法において再び引き渡される。
特に有利には、流体接続流出口、特にパーフォレーションを付けられた被覆部または穿孔の一部は、補助ガスが、処理された材料の排出の方向における流出方向を有するように形成されている。この極めて有利な更なる構成は、処理された材料の排出を更に支援する。
以下で、流動化装置、および、この流動化装置の有利な且つ好適な構成を詳細に説明する。
微粒子状の材料を処理するためのこの流動化装置は、長手方向軸線を有する流動化ユニットを備えており、
前記流動化ユニットが、この流動化ユニットを分配チャンバーとこの分配チャンバーの上方に配置された流動化チャンバーとに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部を有しており、
その際、前記流動化チャンバーが、処理されるべき前記材料のための材料流入口を備えており、および、
前記分配チャンバーが、材料流出口面と下側および上側の縁部とを有する、処理された前記材料のための材料流出口を装備する材料排出部を備えており、および、
遮断装置が前記材料排出部を閉鎖し、且つ、
その際、前記分配チャンバーが、流体流入口を備えており、および、前記流動化チャンバーが、
前記流体流入口から前記パーフォレーションを付けられた受流底部を通って前記流体流出口へと流動し、前記流動化チャンバー内における前記材料を流動化するプロセスガスのための、流体流出口を備えており、
その際、前記分配チャンバーが、前記材料流出口面の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブを備えており、および、
前記受流底部が、前記流動化ユニットに対して相対的に移動可能に配置されており、
その際、前記受流底部が、この受流底部の移動によって、流動化ユニットに対して相対的に、排出位置へと移動可能であり、
その際、処理された前記材料を前記流動化ユニットから排出するために、
前記受流底部が、排出状態において、
この受流底部の傍らを通り過ぎる、前記分配チャンバー内において配置された前記材料流出口と前記流動化チャンバーとの間の流体接続が形成されるように、前記ウェブに配置されており、および、
その際、前記受流底部の前記排出位置における前記排出状態において、前記遮断装置が前記材料排出部を開放する。
微粒子状の材料を処理するためのこの流動化装置は、長手方向軸線を有する流動化ユニットを備えており、
前記流動化ユニットが、この流動化ユニットを分配チャンバーとこの分配チャンバーの上方に配置された流動化チャンバーとに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部を有しており、
その際、前記流動化チャンバーが、処理されるべき前記材料のための材料流入口を備えており、および、
前記分配チャンバーが、材料流出口面と下側および上側の縁部とを有する、処理された前記材料のための材料流出口を装備する材料排出部を備えており、および、
遮断装置が前記材料排出部を閉鎖し、且つ、
その際、前記分配チャンバーが、流体流入口を備えており、および、前記流動化チャンバーが、
前記流体流入口から前記パーフォレーションを付けられた受流底部を通って前記流体流出口へと流動し、前記流動化チャンバー内における前記材料を流動化するプロセスガスのための、流体流出口を備えており、
その際、前記分配チャンバーが、前記材料流出口面の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブを備えており、および、
前記受流底部が、前記流動化ユニットに対して相対的に移動可能に配置されており、
その際、前記受流底部が、この受流底部の移動によって、流動化ユニットに対して相対的に、排出位置へと移動可能であり、
その際、処理された前記材料を前記流動化ユニットから排出するために、
前記受流底部が、排出状態において、
この受流底部の傍らを通り過ぎる、前記分配チャンバー内において配置された前記材料流出口と前記流動化チャンバーとの間の流体接続が形成されるように、前記ウェブに配置されており、および、
その際、前記受流底部の前記排出位置における前記排出状態において、前記遮断装置が前記材料排出部を開放する。
この構成における利点は、受流底部が配置されているウェブが、
プロセスガス流が、材料流出口面の領域内において、受流底部の周囲を回って流動すること、および、このことによって、処理された材料の排出を制限するかまたは完全に阻止する、一種の「プロセスガス幕(Prozessgas-Vorhang)」を形成すること、
を阻止することにある。
それに加えて、このウェブは、流動化チャンバー内において処理された材料が、排出の際に、受流底部と分配チャンバー内壁との間に結果として生じる間隙を通って分配チャンバー内へと落下することを防止する。
プロセスガス流が、材料流出口面の領域内において、受流底部の周囲を回って流動すること、および、このことによって、処理された材料の排出を制限するかまたは完全に阻止する、一種の「プロセスガス幕(Prozessgas-Vorhang)」を形成すること、
を阻止することにある。
それに加えて、このウェブは、流動化チャンバー内において処理された材料が、排出の際に、受流底部と分配チャンバー内壁との間に結果として生じる間隙を通って分配チャンバー内へと落下することを防止する。
有利には、受流底部と流動化ユニットとの間の相対的な移動によって、微粒子状の材料は、処理の後、材料排出部を通って排出され得る。この相対的な移動は、プロセスガスが材料排出部を通っての処理された材料の排出を補助することの構造およびやり方で実施され得る。
上記のことに関連して有利な流動化装置の実施形態により、受流底部は、作動位置において、有利には、流体流出口の上側の縁部の上方に配置されている。受流底部が作動位置に位置する場合、流動化装置は作動状態にある。これに伴って、作動位置において、材料は、材料流出口を通っての材料排出無しに、流動化チャンバー内において処理可能である。
排出位置において、受流底部は、この受流底部の移動によって、流動化装置に対して相対的に、有利には少なくとも部分的に、流体流出口の上側の縁部の下方に位置決めされる。この排出位置において、流動化装置は排出状態にある。
流動化装置の特に有利な更なる構成に相応して、ウェブの上側面は、材料流出口の材料流出口面に対して接線方向に配置されているか、または、プロセスガスの流動方向とは逆方向に、この材料流出口の下方に配置されている。分配チャンバー内におけるウェブのそのような配置により、流動化装置、特に流動化チャンバーからの処理された材料の排出は、明確に改善される。
上記のことに関連して、合目的に、ウェブの上側面は、材料流出口の材料流出口面の下側の縁部に対して接線方向に配置されている。この実施形態は、特に有利である。何故ならば、従って、処理された材料が、障害無しに、流動化装置から排出可能であるからである。
上記のことに関連して、合目的に、ウェブの上側面は、材料流出口の材料流出口面の下側の縁部に対して接線方向に配置されている。この実施形態は、特に有利である。何故ならば、従って、処理された材料が、障害無しに、流動化装置から排出可能であるからである。
その上、ウェブは、有利には、鎌形状、特に三日月形状、またはリング形状に形成されている。このことによって、プロセスガス流動は、最も小さな強さで影響を及ぼされ、従って、流動化チャンバー内における処理されるべき材料の流動化が、作動位置において、更に極めて良好に機能する。
流動化装置のこれに関連する有利な構成により、
前記流動化ユニットは、この流動化ユニットの前記長手方向軸線に対して横向きに延びる旋回軸を有しており、
この旋回軸に、前記受流底部が旋回可能に配置されている。
合目的に、この旋回軸は、流動化ユニットの中心の前記長手方向軸線に対して垂直に延びている。
この構成により、旋回軸を中心としての旋回移動の形態での、簡単な相対的な移動は可能である。
このことによって、一方では、分配チャンバー内において配置された、材料排出の材料排出部が、流動化チャンバー内において処理された材料の排出のために開放され、他方では、この排出が、受流底部の傾斜位置によって、-液体においてと同様に-促進される。
その上、受流底部は、有利には、旋回軸を中心として、0°と60°との間の角度だけ、合目的に5°から10°までの角度だけ旋回される。
この旋回移動により、受流底部と、分配チャンバー及び/または流動化チャンバーとの間で、基本的に、リング形状または鎌形状の間隙が形成され、この間隙は過度に大きくなるべきではない。何故ならば、ここで、さもなければ、排出状態において、プロセスガスでもってのこの間隙の貫通流動にもかかわらず、処理された材料が、分配チャンバー内へと到達可能であることの危険が存在するからである。
原理的に、間隙は、プロセスガスによって密閉される。
材料流出口の領域内において、流動化ユニット、特に分配チャンバーは、少なくとも部分的に、周囲方向に延在するウェブによって如何なる間隙も有していない。
受流底部は、旋回軸を中心として旋回され、且つ、ウェブに配置される。
前記流動化ユニットは、この流動化ユニットの前記長手方向軸線に対して横向きに延びる旋回軸を有しており、
この旋回軸に、前記受流底部が旋回可能に配置されている。
合目的に、この旋回軸は、流動化ユニットの中心の前記長手方向軸線に対して垂直に延びている。
この構成により、旋回軸を中心としての旋回移動の形態での、簡単な相対的な移動は可能である。
このことによって、一方では、分配チャンバー内において配置された、材料排出の材料排出部が、流動化チャンバー内において処理された材料の排出のために開放され、他方では、この排出が、受流底部の傾斜位置によって、-液体においてと同様に-促進される。
その上、受流底部は、有利には、旋回軸を中心として、0°と60°との間の角度だけ、合目的に5°から10°までの角度だけ旋回される。
この旋回移動により、受流底部と、分配チャンバー及び/または流動化チャンバーとの間で、基本的に、リング形状または鎌形状の間隙が形成され、この間隙は過度に大きくなるべきではない。何故ならば、ここで、さもなければ、排出状態において、プロセスガスでもってのこの間隙の貫通流動にもかかわらず、処理された材料が、分配チャンバー内へと到達可能であることの危険が存在するからである。
原理的に、間隙は、プロセスガスによって密閉される。
材料流出口の領域内において、流動化ユニット、特に分配チャンバーは、少なくとも部分的に、周囲方向に延在するウェブによって如何なる間隙も有していない。
受流底部は、旋回軸を中心として旋回され、且つ、ウェブに配置される。
この流動化装置の、更に有利な、これに関して選択的な構成において、前記受流底部は、前記長手方向軸線の軸線方向に移動可能に配置されている。この受流底部は、前記長手方向軸線の軸線方向に、直線移動の形態で移動される。
合目的に前記受流底部は、この受流底部の上側面が、下側の前記縁部と面一になるか、または、この縁部の下方で位置決めされるまで移動される。有利には、受流底部は、長手方向軸線の軸線方向に移動されている。
同様に選択的な構成により、材料排出部は、改善された排出のために、微粒子状の材料の処理の後、開放される。
合目的に前記受流底部は、この受流底部の上側面が、下側の前記縁部と面一になるか、または、この縁部の下方で位置決めされるまで移動される。有利には、受流底部は、長手方向軸線の軸線方向に移動されている。
同様に選択的な構成により、材料排出部は、改善された排出のために、微粒子状の材料の処理の後、開放される。
更に有利には、前記流動化ユニットは、この流動化ユニットの前記長手方向軸線に対して横向きに延び且つこの長手方向軸線の軸線方向に移動可能に配置された旋回軸を有しており、この旋回軸において、受流底部7が旋回可能に配置されている。
この流動化装置のこの構成により、有利な流動化装置の選択的な両方の実施形態の利点、即ち旋回移動と直線移動との利点は組み合わされる。それに加えて、-ウェブが配置されていないところで-、流動化ユニットと受流底部との間の、形成された間隙は、より小さい。
この流動化装置のこの構成により、有利な流動化装置の選択的な両方の実施形態の利点、即ち旋回移動と直線移動との利点は組み合わされる。それに加えて、-ウェブが配置されていないところで-、流動化ユニットと受流底部との間の、形成された間隙は、より小さい。
流動化装置の付加的で有利な構成に従い、前記受流底部、特にこの受流底部の上側面は、前記排出位置において、流動化ユニットに対して相対的なこの受流底部の移動によって、少なくとも部分的に、前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる。
特に有利には、前記受流底部、特にこの受流底部の上側面は、前記排出位置において、前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる。このことによって、材料流出口面は最大に開放されており、従って、処理された材料の排出が能率的に且つ迅速に行われ得る。
特に有利には、前記受流底部、特にこの受流底部の上側面は、前記排出位置において、前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる。このことによって、材料流出口面は最大に開放されており、従って、処理された材料の排出が能率的に且つ迅速に行われ得る。
有利には、特に排出管として形成された前記材料排出部に、流体接続流出口を備える、補助ガスの提供のための流体接続部が組み込まれている。処理された材料の排出を支援および改善するために、流体接続部を通って、材料排出部に、流体、合目的に補助ガスまたは支持ガスを供給することは可能である。
有利には、補助ガスは、プロセスガスに相応する。更に有利には、補助ガスは、プロセスガスから分岐され、且つ、このプロセスガスに、材料排出部の後ろで、循環回路運転方法において再び引き渡される。
有利には、補助ガスは、プロセスガスに相応する。更に有利には、補助ガスは、プロセスガスから分岐され、且つ、このプロセスガスに、材料排出部の後ろで、循環回路運転方法において再び引き渡される。
上記のことに関連して、材料排出部は、流動化装置の更なる構成に相応して、挿入底部を有しており、この挿入底部が、材料排出部を、処理された材料を流動化ユニットから輸送する材料通路と、補助ガスを案内する流体通路とに分割し、その際、挿入底部内において、流体接続流出口が配置されており、従って、補助ガスは、流体通路から材料通路内へと溢流可能である。
このことによって、補助ガス、特に補助空気の導入のための、極めて簡単な、且つ、場所を取らない構造が提供される。
このことによって、補助ガス、特に補助空気の導入のための、極めて簡単な、且つ、場所を取らない構造が提供される。
有利には、流体接続流出口は、パーフォレーションを付けられた被覆部を有しているか、または、挿入底部内における穿孔によって形成されている。パーフォレーションを付けられた被覆部、または、相応して構成された穿孔によって、流動化ユニットから排出されるべき、処理された材料が、流体接続部内へと落下すること、および、この流体接続部を詰まらせることは阻止される。
特に有利には、流体接続流出口、特にパーフォレーションを付けられた被覆部または穿孔の一部は、補助ガスが、処理された材料の排出の方向における流出方向を有するように形成されている。この極めて有利な更なる構成は、処理された材料の排出を更に支援する。
特に有利には、流体接続流出口、特にパーフォレーションを付けられた被覆部または穿孔の一部は、補助ガスが、処理された材料の排出の方向における流出方向を有するように形成されている。この極めて有利な更なる構成は、処理された材料の排出を更に支援する。
合目的に、流体接続流出口は、材料流出口面の領域内において配置されている。このことによって、補助ガスが、排出するべき処理された材料を、直接的に材料流出口へと搬送すること、及び/または、補助することは保障される。
有利には、この方法は、先に記載された流動化装置で作動される。
以下で、本発明を、添付された図に基づいて詳細に説明する。
表現の異なる記載がされない限り、以下の説明は、微粒子状の材料Mの処理のための流動化装置1の図内において図示された実施形態全体に関する。
図1は、渦流床装置2として形成された流動化装置1の第1の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面A-Aと共に示している。
この流動化装置1は、中心の長手方向軸線X-Xを有する流動化ユニット3を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に起立する中心軸線Y-Yを備える排出管4が配置されている。この中心軸線Y-Yとこの長手方向軸線X-Xとは、断面A-Aを画定する。この溶融ユニット1は、作動状態にある。
この流動化装置1は、中心の長手方向軸線X-Xを有する流動化ユニット3を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に起立する中心軸線Y-Yを備える排出管4が配置されている。この中心軸線Y-Yとこの長手方向軸線X-Xとは、断面A-Aを画定する。この溶融ユニット1は、作動状態にある。
図2内において、図1内において示された断面A-Aに沿っての断面図が、作動位置における、渦流床装置2として形成された流動化装置1の第1の実施形態の概略的な図示によって、図示されている。
流動化ユニット3は、この流動化ユニット3を分配チャンバー5とこの分配チャンバー5の上方に配置された流動化チャンバー6とに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部7を備えている。
受流底部7は、作動位置において、断面A-Aに対して垂直方向に画定された平面Z-Z内において位置しており、従って、作動位置において、処理されるべき材料Mは、受流底部7の上方の流動化チャンバー6内において配置されている。受流底部7が作動位置にある場合、溶融ユニット1は作動状態にある。
受流底部7は、作動位置において、断面A-Aに対して垂直方向に画定された平面Z-Z内において位置しており、従って、作動位置において、処理されるべき材料Mは、受流底部7の上方の流動化チャンバー6内において配置されている。受流底部7が作動位置にある場合、溶融ユニット1は作動状態にある。
渦流床装置2として形成された流動化装置1の流動化ユニット3は、長手方向軸線X-Xを中心として回転対称的に形成されている。矩形状、特に正方形状のような、他の幾何学的な形状は、他の図示されていない実施形態において実現されている。
図2内において示された実施形態において、分配チャンバー5は、分配チャンバー高さ8にわたって一定の分配チャンバー内径9を有する、円筒形の形状を有している。
分配チャンバー5は、長手方向軸線X-Xに対して半径方向に離間された分配チャンバー壁10を備えている。分配チャンバー壁10は、分配チャンバー内壁11と称される、この分配チャンバー壁10の内側面と、分配チャンバー外壁12と称される、この分配チャンバー壁10の外側面とを有している。
分配チャンバー5は、長手方向軸線X-Xに対して半径方向に離間された分配チャンバー壁10を備えている。分配チャンバー壁10は、分配チャンバー内壁11と称される、この分配チャンバー壁10の内側面と、分配チャンバー外壁12と称される、この分配チャンバー壁10の外側面とを有している。
同様に流動化チャンバー6も、図示された実施形態において円筒形に形成されており、その際、流動化チャンバー6が、分配チャンバー5とは異なり、流動化チャンバー高さ13にわたって、下方から上方へとより大きくなる流動化チャンバー内径14を有する円錐状の形状を有している。
流動化チャンバー6は、長手方向軸線X-Xに対して離間された流動化チャンバー壁15を備えている。流動化チャンバー壁15は、流動化チャンバー内壁16と称される、この流動化チャンバー壁15の内側面と、流動化チャンバー外壁17と称される、この流動化チャンバー壁15の外側面とを有している。
流動化チャンバー6は、長手方向軸線X-Xに対して離間された流動化チャンバー壁15を備えている。流動化チャンバー壁15は、流動化チャンバー内壁16と称される、この流動化チャンバー壁15の内側面と、流動化チャンバー外壁17と称される、この流動化チャンバー壁15の外側面とを有している。
流動化チャンバー6は、それに加えて、処理されるべき材料Mのための材料流入口18を備えており、且つ、分配チャンバー5が、処理された材料M´のための材料排出部19を備えている。
材料排出部19は、特に、排出管壁20を有する排出管4として形成されており、この排出管4が、図2内において図示された実施形態において、流動化ユニット3の長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に、中心軸線Y-Yを中心として回転対称的に、分配チャンバー壁10内において配置されている。その際、材料排出部19の材料流出口21は、この材料流出口21が、分配チャンバー内壁11と面一に形成されているように配置されている。
材料流出口21は、材料流出口面22を有しており、且つ、流動化チャンバー6内において処理された材料M´の排出のための、下側および上側の縁部23a、23bを備えている。
材料排出部19は、特に、排出管壁20を有する排出管4として形成されており、この排出管4が、図2内において図示された実施形態において、流動化ユニット3の長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に、中心軸線Y-Yを中心として回転対称的に、分配チャンバー壁10内において配置されている。その際、材料排出部19の材料流出口21は、この材料流出口21が、分配チャンバー内壁11と面一に形成されているように配置されている。
材料流出口21は、材料流出口面22を有しており、且つ、流動化チャンバー6内において処理された材料M´の排出のための、下側および上側の縁部23a、23bを備えている。
材料排出部19の材料流出口21は、遮断装置24を有している。遮断装置24は、受流底部7の作動位置において閉鎖されている。遮断装置24は、合目的に、旋回軸25を中心として旋回可能な跳ね上げ蓋26として形成されている。作動状態において、これに伴って、流動化装置1の流動化ユニット3の材料排出部19は閉鎖されている。
遮断装置24が、更に、排出管4として形成された材料排出部19内において、中心軸線Y-Yの方向において、他の位置に形成されていることは可能である。
遮断装置24が、更に、排出管4として形成された材料排出部19内において、中心軸線Y-Yの方向において、他の位置に形成されていることは可能である。
更に、分配チャンバー5は、流体流入口27を、および、流動化チャンバー6が、流体流出口28を有している。
図2内において示された作動位置において、パーフォレーションを付けられた受流底部7は、平面Z-Z内における水平の位置において配置されており、その際、プロセスガスPGが、流体流入口27において流動化ユニット3内へと流入し、且つ、この流体流入口27からパーフォレーションを付けられた受流底部7を通って、流体流出口28へと流動し、この流体流出口で、このプロセスガスが、流動化ユニット3から流出する。
パーフォレーションを付けられた受流底部7は、合目的に、プロセスガスPGのための図示されていない貫通開口部を有しており、これら貫通開口部が、貫通流動の際に、圧力損失を生成する。プロセスガスPGは、作動状態において、即ち受流底部7の作動位置において、流動化チャンバー6内における処理されるべき材料Mを流動化する。
図2内において示された作動位置において、パーフォレーションを付けられた受流底部7は、平面Z-Z内における水平の位置において配置されており、その際、プロセスガスPGが、流体流入口27において流動化ユニット3内へと流入し、且つ、この流体流入口27からパーフォレーションを付けられた受流底部7を通って、流体流出口28へと流動し、この流体流出口で、このプロセスガスが、流動化ユニット3から流出する。
パーフォレーションを付けられた受流底部7は、合目的に、プロセスガスPGのための図示されていない貫通開口部を有しており、これら貫通開口部が、貫通流動の際に、圧力損失を生成する。プロセスガスPGは、作動状態において、即ち受流底部7の作動位置において、流動化チャンバー6内における処理されるべき材料Mを流動化する。
受流底部7は、流動化ユニット3内において、この流動化ユニット3に対して相対的に移動可能に配置されている。図2内において示された流動化装置1の実施形態において、流動化ユニット3は、この流動化ユニット3の長手方向軸線X-Xに対して横向きに延びる旋回軸29を有しており、この旋回軸に、受流底部7が、旋回可能に配置されている。
流動化装置1の図示された第1の実施形態において、旋回軸29は、合目的に、流動化ユニット3の長手方向軸線X-Xに対して垂直に、且つ、排出管4の中心軸線Y-Yに対して垂直に延びている。図2内において図示された、流動化装置1の作動状態において、受流底部7は、上側の縁部23bの上方に配置されている。このことによって、微粒子状の材料Mの処理の間じゅう、流動化チャンバー6内におけるプロセスガスPGによって、如何なる材料Mも流動化装置1の流動化ユニット3から排出されないことは保障される。
流動化装置1の図示された第1の実施形態において、旋回軸29は、合目的に、流動化ユニット3の長手方向軸線X-Xに対して垂直に、且つ、排出管4の中心軸線Y-Yに対して垂直に延びている。図2内において図示された、流動化装置1の作動状態において、受流底部7は、上側の縁部23bの上方に配置されている。このことによって、微粒子状の材料Mの処理の間じゅう、流動化チャンバー6内におけるプロセスガスPGによって、如何なる材料Mも流動化装置1の流動化ユニット3から排出されないことは保障される。
その上、分配チャンバー5は、材料流出口面22の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブ30を有している。
ウェブ30の上側面31は、材料流出口21の材料流出口面22に対して接線方向に、配置されている。合目的に、ウェブ30の上側面31は、材料流出口21の材料流出口面22の下側の縁部23aに対して接線方向に、配置されている。ウェブ30は、その際、鎌形状、特に三日月形状に形成されている。
ウェブ30の上側面31は、材料流出口21の材料流出口面22に対して接線方向に、配置されている。合目的に、ウェブ30の上側面31は、材料流出口21の材料流出口面22の下側の縁部23aに対して接線方向に、配置されている。ウェブ30は、その際、鎌形状、特に三日月形状に形成されている。
図3は、渦流床装置2として形成された流動化装置1を、排出状態において示している。渦流床装置2内における微粒子状の材料Mの処理の後、処理された材料M´は、排出状態において、流動化装置1から、材料通路42を通って排出される。
この目的のために、排出位置へと移動可能な受流底部7は、流動化ユニット3に対して相対的に、旋回移動の形態で移動され、従って、この受流底部が、排出位置へと旋回軸29を中心として旋回され、流動化ユニット3内において位置決めされる。受流底部7が排出位置にある場合、流動化装置1は排出状態にある。
この目的のために、排出位置へと移動可能な受流底部7は、流動化ユニット3に対して相対的に、旋回移動の形態で移動され、従って、この受流底部が、排出位置へと旋回軸29を中心として旋回され、流動化ユニット3内において位置決めされる。受流底部7が排出位置にある場合、流動化装置1は排出状態にある。
排出位置において、受流底部7は、この受流底部7がウェブ30に配置されている程に、旋回軸29を中心として角度αだけ旋回されている。このことによって、処理された材料を流動化ユニット3から排出するために、受流底部7の傍らを通り過ぎる、分配チャンバー5内において配置された材料流出口21と流動化チャンバー6との間の流体接続が形成される。
合目的に、受流底部7は、5°から10°の角度だけ旋回されている。このことによって、処理された材料M´は、材料流出口への方向に流動する。処理された材料M´の排出は、プロセスガスPGによって補助され、このプロセスガスが、同様に排出状態においても、流体流入口27から流体流出口28へと、流動化装置1の流動化ユニット3を通って流動する。
合目的に、受流底部7は、5°から10°の角度だけ旋回されている。このことによって、処理された材料M´は、材料流出口への方向に流動する。処理された材料M´の排出は、プロセスガスPGによって補助され、このプロセスガスが、同様に排出状態においても、流体流入口27から流体流出口28へと、流動化装置1の流動化ユニット3を通って流動する。
受流底部7が排出状態において、排出位置においてウェブ30に配置されているやいなや、遮断装置24は材料排出部19を開放する。次いで、流動化ユニット3内において処理された材料M´の排出が行われる。
有利には、排出状態において、遮断装置24は可能な限り広く開放され、従って、材料流出口21の材料流出口面22は、最大に大きくなり、このことによって、付加的に、処理された材料M´の改善された排出が促進される。
有利には、排出状態において、遮断装置24は可能な限り広く開放され、従って、材料流出口21の材料流出口面22は、最大に大きくなり、このことによって、付加的に、処理された材料M´の改善された排出が促進される。
排出位置において、旋回軸29を中心として旋回される受流底部7による旋回移動に基づいて、間隙32が、受流底部7と流動化ユニット3との間に、特にこの受流底部7と、分配チャンバー内壁11及び/または流動化チャンバー内壁16との間に形成され、この間隙は、基本的に、受流底部7の周囲全体を廻って延在する。その際、形成される間隙幅は変化する。
この間隙32を通って、排出状態において、プロセスガスPGが流動し、従って、処理された材料M´は、排出の際に、流動化チャンバー6から、分配チャンバー5内へと到達または落下可能ではない。
この間隙32を通って、排出状態において、プロセスガスPGが流動し、従って、処理された材料M´は、排出の際に、流動化チャンバー6から、分配チャンバー5内へと到達または落下可能ではない。
材料流出口21の領域内において、ウェブ30は、一方では、排出されるべき材料M´の到達または落下を防止し、他方では、そのウェブに受流底部7が配置されている該ウェブ30が、材料流出口面22の領域内において、受流底部7の周囲を回って流動し且つこのことによって処理された材料の排出を制限するまたは完全に防止する、一種の「プロセスガス幕」を形成する、プロセスガス流を阻止する。
図4内において、図1に相応する、流動化装置1の第1の実施形態の概略的な図示の平面図が示され、その際、流動化装置1は排出状態にある。その際、受流底部7は、旋回軸29を中心として角度αだけ旋回された位置において、ウェブ30に配置されており、このことによって、受流底部7と、流動化ユニット3、特に分配チャンバー内壁11及び/または流動化チャンバー内壁16との間に、間隙幅において変化する間隙32が形成されている。
この間隙32を通って、排出工程の間じゅう、プロセスガスPGが流動し、従って、如何なる処理された材料M´も、分配チャンバー5内へと到達可能ではない。
この間隙32を通って、排出工程の間じゅう、プロセスガスPGが流動し、従って、如何なる処理された材料M´も、分配チャンバー5内へと到達可能ではない。
材料流出口面22の領域内において、分配チャンバー5において配置されたウェブ30は、周囲方向に延在している。ウェブ30の上側面31は、材料流出口21の材料流出口面22の下側の縁部23aに対して接線方向に配置されている。ウェブ30は、その際、鎌形状、特に三日月形状に形成されている。
ウェブ30は、160°の角度βを有している。他のここで示されていない実施形態において、ウェブ30は、5°から180°まで、有利には10°から60°までの角度βを有している。
ウェブ30は、160°の角度βを有している。他のここで示されていない実施形態において、ウェブ30は、5°から180°まで、有利には10°から60°までの角度βを有している。
図5は、排出位置における、流動化装置1の第1の実施形態の、ウェブ30と材料流出口21とを備える分配チャンバー内壁11の投影の概略的な図示を示している。既に図4内において記載されているように、ウェブ30の上側面31は、材料流出口21の材料流出口面22の下側の縁部23aに対して接線方向に配置されている。材料流出口面22は、このことによって、最大に大きく開放されている。
図5内において図示されていない遮断装置24は、排出位置において材料排出部19を開放し、従って、処理された材料M´が、流動化チャンバー6から、最大の開放された、流動化ユニット3の材料流出口面22を通って能率的に排出可能である。投影された図示は、鎌形状に形成されたウェブ30を備えており、その際、このウェブ30が、ほぼ160°の角度βを有している。
図5内において図示されていない遮断装置24は、排出位置において材料排出部19を開放し、従って、処理された材料M´が、流動化チャンバー6から、最大の開放された、流動化ユニット3の材料流出口面22を通って能率的に排出可能である。投影された図示は、鎌形状に形成されたウェブ30を備えており、その際、このウェブ30が、ほぼ160°の角度βを有している。
図6は、図1に相応して、渦流床装置2として形成された流動化装置1の第2の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面A-Aと共に示している。
この流動化装置1は、中心の長手方向軸線X-Xを有する流動化ユニット3を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に起立する中心軸線Y-Yを備える排出管4が配置されている。この中心軸線Y-Yとこの長手方向軸線X-Xとは、断面A-Aを画定する。この溶融ユニット1は、作動状態にある。
この流動化装置1は、中心の長手方向軸線X-Xを有する流動化ユニット3を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に起立する中心軸線Y-Yを備える排出管4が配置されている。この中心軸線Y-Yとこの長手方向軸線X-Xとは、断面A-Aを画定する。この溶融ユニット1は、作動状態にある。
作動状態にある流動化装置1の、第2の実施形態の概略的な図示による、図6の断面A-Aに沿っての断面図は、図7内において図示されている。
受流底部7は、作動位置において、断面A-Aに対して垂直方向に画定された平面Z-Z内において位置しており、従って、処理されるべき材料Mは、作動状態において、受流底部7の上方の流動化チャンバー6内において配置されおり、そこで流動化可能および処理可能である。
受流底部7は、作動位置において、断面A-Aに対して垂直方向に画定された平面Z-Z内において位置しており、従って、処理されるべき材料Mは、作動状態において、受流底部7の上方の流動化チャンバー6内において配置されおり、そこで流動化可能および処理可能である。
その上、流動化装置1の第2の実施形態は、基本的に、流動化装置1の第1の実施形態と同じ構造で形成されている。これら両方の実施形態は、流動化ユニット3と受流底部7との間で実施される相対的な移動の、技術的な実施態様において相違する。
-第1の実施形態内においてのような-旋回移動の代わりに、第2の実施形態における受流底部7は、長手方向軸線X-Xの軸線方向33における直線移動を実施する。受流底部7は、これに伴って、長手方向軸線X-Xの軸線方向33において移動可能に配置されている。
-第1の実施形態内においてのような-旋回移動の代わりに、第2の実施形態における受流底部7は、長手方向軸線X-Xの軸線方向33における直線移動を実施する。受流底部7は、これに伴って、長手方向軸線X-Xの軸線方向33において移動可能に配置されている。
更に、ウェブ30が、プロセスガスの流動方向に沿って、材料流出口21の下方に配置されており、このことは、第2の実施形態を、第1の実施形態から更に区別する。
ウェブ30は、これに伴って、材料流出口面22の下側の縁部23aから離間して配置されている。特に間隔cは、示されていない実施形態において、ごく微小であり、合目的にゼロに等しい。
ウェブ30は、これに伴って、材料流出口面22の下側の縁部23aから離間して配置されている。特に間隔cは、示されていない実施形態において、ごく微小であり、合目的にゼロに等しい。
図8内において、図6の断面A-Aに沿っての断面図が、流動化装置1の第2の実施形態の概略的な図示によって、排出位置の水平方向の位置における、平面Z´-Z´内において配置された受流底部7と共に示されている。平面Z´-Z´は、間隔dにおいて平面Z-Zに対して平行に延びている。受流底部7は、間隔dだけ、中央の長手方向軸線X-Xの軸線方向33において、下方へと、即ち平面Z-Zから平面Z´-Z´内へと移動されている。
受流底部7は、示された実施形態において、ウェブ30の上に載置しており、従って、合目的に、この受流底部7の上側の縁部34及び/または上側面35が、材料流出口21の下側の縁部23aと同じ高さで配置されている。受流底部7の上側の縁部34及び/または上側面35は、特に、材料流出口21の下側の縁部23aに対して接線方向に配置されている。これに伴って、材料流出口21の材料流出口面22は完全に開放されており、従って、材料通路42を通っての処理された材料M´の排出が改善されて行われ得る。
受流底部7は、示された実施形態において、ウェブ30の上に載置しており、従って、合目的に、この受流底部7の上側の縁部34及び/または上側面35が、材料流出口21の下側の縁部23aと同じ高さで配置されている。受流底部7の上側の縁部34及び/または上側面35は、特に、材料流出口21の下側の縁部23aに対して接線方向に配置されている。これに伴って、材料流出口21の材料流出口面22は完全に開放されており、従って、材料通路42を通っての処理された材料M´の排出が改善されて行われ得る。
合目的に、材料流出口21の領域内における、パーフォレーションを付けられた受流底部7内において、少なくとも1つの排出開口部36、特に複数の排出開口部36が形成されており、前記排出開口部が、図示された矢印37に相応して、材料流出口21に向かって整向されている。このことによって、排出状態において、処理された材料M´の排出は、プロセスガスPGによって付加的に補助される。
図9は、図8内において図示された部分Aの拡大図を示しており、この部分が、材料流出口21の領域を図示している。
パーフォレーションを付けられた受流底部7は、貫通開口部38を有しており、処理されるべき微粒子状の材料Mを流動化チャンバー6内において流動化するために、これら貫通開口部を通ってプロセスガスPGが流動する。これら貫通開口部38は、適宜に配置可能であり、その際、これら貫通開口部38が、材料Mの流動化及び/または処理に対する特有の要件に相応して、特定の数および貫通開口部直径において形成されている。
パーフォレーションを付けられた受流底部7は、貫通開口部38を有しており、処理されるべき微粒子状の材料Mを流動化チャンバー6内において流動化するために、これら貫通開口部を通ってプロセスガスPGが流動する。これら貫通開口部38は、適宜に配置可能であり、その際、これら貫通開口部38が、材料Mの流動化及び/または処理に対する特有の要件に相応して、特定の数および貫通開口部直径において形成されている。
材料流出口21の領域内において、パーフォレーションを付けられた受流底部7内において、排出開口部36が配置されている。
プロセスガスPGは、矢印37の方向に、排出開口部36を通って流動し、且つ、従って、排出位置において、処理された材料M´の能率的且つ迅速な排出を補助する。これら排出開口部36が、例えば、円形扇形において、材料流出口21の手前配置されていることは可能である。
それに加えて、パーフォレーションを付けられた受流底部7の上側の縁部34及び/または上側面35は、材料流出口21の下側の縁部23aの高さに至るまで、面一に降下されており、このことによって、処理された材料M´の排出が、付加的に、可能な限り大きな材料流出口面22に基づいて支援され、且つ、容易化される。
プロセスガスPGは、矢印37の方向に、排出開口部36を通って流動し、且つ、従って、排出位置において、処理された材料M´の能率的且つ迅速な排出を補助する。これら排出開口部36が、例えば、円形扇形において、材料流出口21の手前配置されていることは可能である。
それに加えて、パーフォレーションを付けられた受流底部7の上側の縁部34及び/または上側面35は、材料流出口21の下側の縁部23aの高さに至るまで、面一に降下されており、このことによって、処理された材料M´の排出が、付加的に、可能な限り大きな材料流出口面22に基づいて支援され、且つ、容易化される。
図10は、渦流床装置2として形成された流動化装置1の第3の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面A-Aと共に示している。
この流動化装置1は、中心の長手方向軸線X-Xを有する流動化ユニット3を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に起立する中心軸線Y-Yを備える排出管4が配置されており、その際、この中心軸線Y-Yとこの長手方向軸線X-Xとが、断面A-Aを画定する。この溶融ユニット1は、作動状態にある。
この流動化装置1は、中心の長手方向軸線X-Xを有する流動化ユニット3を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に起立する中心軸線Y-Yを備える排出管4が配置されており、その際、この中心軸線Y-Yとこの長手方向軸線X-Xとが、断面A-Aを画定する。この溶融ユニット1は、作動状態にある。
図11内において、図10の断面A-Aに沿っての断面図が、作動状態における流動化装置1の第3の実施形態の概略的な図示によって、平面W-W内において配置された、水平位置における受流底部7と共に図示されている。
流動化装置1の第3の実施形態は、基本的に、最初の両方の実施形態の組み合わせである。同様に第3の実施形態においても、受流底部7は、流動化ユニット3に対して相対的に移動可能である。
第1および第2の実施形態に対する相違において、第3の実施形態の受流底部7は、一方では、旋回軸29を中心として旋回移動を実施し、および、他方では、長手方向軸線X-Xの軸線方向33における直線移動を実施することのために適合されている。図示された作動状態において、微粒子状の材料Mは、流動化チャンバー6内において処理される。
第1および第2の実施形態に対する相違において、第3の実施形態の受流底部7は、一方では、旋回軸29を中心として旋回移動を実施し、および、他方では、長手方向軸線X-Xの軸線方向33における直線移動を実施することのために適合されている。図示された作動状態において、微粒子状の材料Mは、流動化チャンバー6内において処理される。
作動位置から排出位置への、受流底部7の移動の際の旋回移動と直線移動とは、相前後して適宜の順序において、または、互いに同時に実施され得る。このことによって、旋回移動および直線移動の利点は効果を発揮する。本実施形態において、旋回移動と直線移動とは、同時に実施される。
材料排出部19は、旋回軸25を中心として移動可能な遮断装置24を有している。遮断装置24は、合目的に、跳ね上げ蓋26、弁、または、ロータリーバルブ(Zellradschleuse)、またはその種の他の物として形成されている。第3の実施形態内において跳ね上げ蓋26として形成された遮断装置24は、材料排出部19を閉鎖するか、または、この材料排出部を開放する。
図11内において図示された-受流底部7が材料流出口21の下側の縁部23aの上方、および、上側の縁部23bの下方に位置する-作動状態において、遮断装置24は、材料排出部19を閉鎖している。これに伴って、プロセスガスPGも処理されるべき材料Mも、流動化装置1の流動化ユニット3、特に流動化チャンバー6から流出可能ではなく、または、排出され得ない。示された実施形態において、跳ね上げ蓋26は、中心軸線Y-Yに対して法線方向に配置された旋回軸25を中心として旋回可能である。
図11内において図示された-受流底部7が材料流出口21の下側の縁部23aの上方、および、上側の縁部23bの下方に位置する-作動状態において、遮断装置24は、材料排出部19を閉鎖している。これに伴って、プロセスガスPGも処理されるべき材料Mも、流動化装置1の流動化ユニット3、特に流動化チャンバー6から流出可能ではなく、または、排出され得ない。示された実施形態において、跳ね上げ蓋26は、中心軸線Y-Yに対して法線方向に配置された旋回軸25を中心として旋回可能である。
図12は、図10の断面A-Aに沿っての断面図を、流動化装置1の第3の実施形態の概略的な図示によって示している。
排出状態において、流動化チャンバー6内において処理された、微粒子状の材料M´は、流動化装置1の流動化ユニット3から、排出管4として形成された材料通路42を備える材料排出部19を通って排出される。遮断装置24は、その際、旋回軸25を中心として旋回されており、且つ、材料排出部19を、-受流底部7が少なくとも部分的に材料流出口21の上側の縁部23bの下方に位置する-排出状態において開放する。
受流底部7は、その際、一方では、旋回軸29を中心として角度αだけ旋回されており、且つ、他方では、この旋回軸29が、平面W-Wから、この平面W-Wに対して平行に整向された平面W´-W´内へと、長手方向軸線X-Xの軸線方向33において移動されている。平面W-Wから、平行な間隔dだけ移動された平面W´-W´内への、受流底部7の旋回軸29の降下と、この旋回軸29を中心としてのこの受流底部7の同時の旋回とによって、流動化チャンバー6からの処理された材料M´の改善された排出は生起される。示された実施形態において、平面W´-W´は、中心軸線Y-Yの上方に配置されている。
このことによって、その角度だけ受流底部7が旋回軸29を中心として旋回されている、該角度αを小さく保持することが可能であることは結果として生み出され、従って、受流底部7と、流動化ユニット3、特に分配チャンバー内壁11及び/または流動化チャンバー内壁16との間で形成する間隙32が最小限化される。このことは、処理された材料M´の、更に改善された排出を誘起する。
このことによって、その角度だけ受流底部7が旋回軸29を中心として旋回されている、該角度αを小さく保持することが可能であることは結果として生み出され、従って、受流底部7と、流動化ユニット3、特に分配チャンバー内壁11及び/または流動化チャンバー内壁16との間で形成する間隙32が最小限化される。このことは、処理された材料M´の、更に改善された排出を誘起する。
受流底部7の上側面35は、排出位置において、材料流出口21の下側の縁部23aの上方に位置決めされる。遮断装置24を有する材料排出部19は、旋回軸25を中心として旋回された遮断装置24によって開放されており、従って、処理された材料M´が、排出開口部36を通って流動するプロセスガスPGによって補助されて、排出され得る。
図13から17まで内において示された、流動化装置1の第4の実施形態は、基本的に、図1から5まで内において図示された流動化装置1の第1の実施形態と同じ構造である。両方の実施形態の間の相違は、排出管4として形成された材料排出部19の構成にあり、且つ、それに伴うウェブ30の配置にある。
図13は、その際、渦流床装置2として形成された流動化装置1の第4の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面A-Aと共に示している。
この流動化装置1は、中心の長手方向軸線X-Xを有する流動化ユニット3を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に起立する中心軸線Y-Yを備える排出管4が配置されており、その際、この中心軸線Y-Yとこの長手方向軸線X-Xとは、断面A-Aを画定する。この溶融ユニット1は、作動状態にある。
この流動化装置1は、中心の長手方向軸線X-Xを有する流動化ユニット3を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線X-Xに対して垂直方向に起立する中心軸線Y-Yを備える排出管4が配置されており、その際、この中心軸線Y-Yとこの長手方向軸線X-Xとは、断面A-Aを画定する。この溶融ユニット1は、作動状態にある。
図14内において、作動状態における流動化装置1が示されている。その際、分配チャンバー5を流動化チャンバー6から分離する、平面W-W内において位置する受流底部7は、材料流出口21の上側の縁部23b上方に配置されている。微粒子状の材料Mは、流動化装置1の流動化ユニット3の流動化チャンバー6内において、特にプロセスガスPGによって処理される。プロセスガスPGは、流動化ユニット3を、流体流入口27から、パーフォレーションを付けられた受流底部7を通って、流体流出口28へと貫通流動する。
第1の実施形態とは異なり、図14の第4の実施形態において、排出管4として形成された材料排出部19に、補助ガスHGの提供のための、流体接続流出口39を備える流体接続部40が組み込まれている。流体接続流出口39は、材料流出口21の材料流出口面22の領域内において配置されている。
排出管4として形成された材料排出部19は、挿入底部41を有している。挿入底部41は、材料排出部19を、処理された材料M´を流動化ユニット3から輸送する材料通路42と、補助ガスHGを案内する流体通路43とに分割する。
挿入底部41内において、合目的に、流体接続流出口39が配置されており、従って、補助ガスHGは、流体通路43から材料通路42内へと溢流可能である。流体接続流出口39は、挿入底部41内における穿孔44によって形成されている。その際、流体接続流出口39、特に穿孔44は、合目的に、補助ガスHGが、流動化装置1からの処理された材料M´の排出の方向における流出方向を有しているように形成されている。
挿入底部41内において、合目的に、流体接続流出口39が配置されており、従って、補助ガスHGは、流体通路43から材料通路42内へと溢流可能である。流体接続流出口39は、挿入底部41内における穿孔44によって形成されている。その際、流体接続流出口39、特に穿孔44は、合目的に、補助ガスHGが、流動化装置1からの処理された材料M´の排出の方向における流出方向を有しているように形成されている。
図15は、流動化装置1を、排出状態において示している。排出状態において、受流底部7が排出位置において配置されており、即ち、この受流底部7は、この受流底部がウェブ30に配置されているように、流動化ユニット3に対して相対的に移動されている。排出状態において、受流底部7は、ウェブ30の上に載置している。
処理された材料M´の排出は、材料通路42を通って行われ、その際、補助ガスHGが、流体接続流出口39を通って、流体通路43からこの材料通路42内へと流動し、且つ、その際、流動化装置1からの処理された材料M´の排出を支援する。
処理された材料M´の排出は、材料通路42を通って行われ、その際、補助ガスHGが、流体接続流出口39を通って、流体通路43からこの材料通路42内へと流動し、且つ、その際、流動化装置1からの処理された材料M´の排出を支援する。
図16内において、図13に相応する、流動化装置1の第4の実施形態の概略的な図示の平面図が示され、その際、流動化装置1が排出状態にある。その際、受流底部7は、旋回軸29を中心として角度αだけ旋回された位置において、ウェブ30に配置されており、このことによって、受流底部7と、流動化ユニット3、特に分配チャンバー内壁11及び/または流動化チャンバー内壁16との間に、間隙幅において変化する間隙32が形成されている。
この間隙32を通って、排出工程の間じゅう、プロセスガスPGが流動し、従って、如何なる処理された材料M´も、分配チャンバー5内へと到達可能ではない。
この間隙32を通って、排出工程の間じゅう、プロセスガスPGが流動し、従って、如何なる処理された材料M´も、分配チャンバー5内へと到達可能ではない。
材料流出口面22の領域内において、分配チャンバー内壁11において配置されたウェブ30は、周囲方向に延在している。ウェブ30の上側面31は、挿入底部41の上側の縁部45に配置されている。
ウェブ30の上側面31と挿入底部41の上側面46とは、従って、面一に接し合って接続する、平坦な上側面31、46を形成する。ウェブ30は、その際、鎌形状、特に三日月形状に形成されている。ウェブ30は、160°の角度βを有している。
ウェブ30の上側面31と挿入底部41の上側面46とは、従って、面一に接し合って接続する、平坦な上側面31、46を形成する。ウェブ30は、その際、鎌形状、特に三日月形状に形成されている。ウェブ30は、160°の角度βを有している。
図17は、排出位置における、流動化装置1の第4の実施形態の、ウェブ30と材料流出口21とを備える分配チャンバー内壁11の投影の概略的な図示を示している。既に図16内において記載されているように、ウェブ30の上側面31は、材料排出部19の挿入底部41の上側の縁部45に対して接線方向に配置されている。ウェブ30の上側面31と、挿入底部41の上側面46とは、従って、面一に接し合って接続する、平坦な上側面31、46を形成する。
材料流出口面22は、このことによって、第1の実施形態の材料流出口面22との比較において、より小さい。材料流出口面22は、従って、材料通路42に割り当てられた材料流出口面22aと、流体通路43に割り当てられた材料流出口面22bとに分割されている。その際、材料流出口面22aは、遮断装置24によって、排出状態において開放されており、且つ、材料流出口面22bが分配チャンバー内壁11として形成されている。
材料流出口面22は、このことによって、第1の実施形態の材料流出口面22との比較において、より小さい。材料流出口面22は、従って、材料通路42に割り当てられた材料流出口面22aと、流体通路43に割り当てられた材料流出口面22bとに分割されている。その際、材料流出口面22aは、遮断装置24によって、排出状態において開放されており、且つ、材料流出口面22bが分配チャンバー内壁11として形成されている。
図17内において図示されていない遮断装置24が、排出位置において、材料排出部19、特に材料流出口面22aを開放し、従って、処理された材料M´は、流動化ユニット3の流動化チャンバー6から、材料通路42を通って、能率的に、且つ、流体通路43から流出する補助ガスHGによって補助されて、排出可能である。
投影された図示は、鎌形状に形成されたウェブ30を備えている。このウェブ30は、ほぼ160°の角度βを有している。
投影された図示は、鎌形状に形成されたウェブ30を備えている。このウェブ30は、ほぼ160°の角度βを有している。
図18と19とは、流動化装置1の、更に別の、第5の実施形態を示している。その際、図18は、作動位置における流動化装置1の第5の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面A-Aと共に示しており、および、図19が、この図18内において図示された断面A-Aに沿っての断面図を、角度αだけ旋回軸29を中心として旋回された位置における旋回軸29に配置された受流底部7を有する、排出位置における流動化装置1の第5の実施形態の概略図によって示している。
第5の実施形態は、基本的に、第1の実施形態と同じ構造である。これら両方の実施形態は、ウェブ30が、プロセスガスPGの流動方向とは逆方向に、材料流出口21の下方に配置されていることによって相違している。ウェブ30は、材料流出口面22の下側の縁部23aから離間されている。
更に、両方の実施形態は、排出管4として形成された材料排出部19に、補助ガスHGの提供のための流体接続流出口39を有する流体接続部40が所属して設けられていることによって互いに相違している。
流体接続流出口39は、排出管壁20内において配置されており、且つ、パーフォレーションを付けられた被覆部47を備えている。パーフォレーションを付けられた被覆部47を貫通する穿孔48は、流体接続部40から材料通路42内へと流出する補助ガスHGが、流動化装置1からの処理された材料M´の排出の方向に流動するように整向されている。
流体接続流出口39は、排出管壁20内において配置されており、且つ、パーフォレーションを付けられた被覆部47を備えている。パーフォレーションを付けられた被覆部47を貫通する穿孔48は、流体接続部40から材料通路42内へと流出する補助ガスHGが、流動化装置1からの処理された材料M´の排出の方向に流動するように整向されている。
跳ね上げ蓋26として形成された遮断装置24は、旋回軸25を中心として旋回可能に配置されており、その際、この旋回軸25が、中心軸線Y-Yに対して垂直方向に配置されており、且つ、この中心軸線と交差している。跳ね上げ蓋26は、図19内において図示された排出位置において、材料排出部19を、流動化チャンバー6の排出のために開放する。
Claims (9)
- 長手方向軸線(X-X)を有する流動化ユニット(3)を備える流動化装置(1)内において微粒子状の材料(M)を処理するための方法であって、
前記流動化ユニットが、この流動化ユニット(3)を分配チャンバー(5)とこの分配チャンバー(5)の上方に配置された流動化チャンバー(6)とに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部(7)を有しており、
前記流動化チャンバー(6)が、処理されるべき前記材料(M)のための材料流入口(18)を備えており、および、
前記分配チャンバー(5)が、材料流出口面(22)と下側および上側の縁部(23)とを有する、処理された前記材料(M´)のための材料流出口(21)を装備する材料排出部(19)を備えており、および、
遮断装置(24)が前記材料排出部(19)を閉鎖し、且つ、
前記分配チャンバー(5)が、流体流入口(27)を備えており、および、前記流動化チャンバー(6)が、
前記流体流入口(27)から前記パーフォレーションを付けられた受流底部(7)を通って前記流体流出口(28)へと流動し、前記流動化チャンバー(6)内における前記材料(M)を流動化するプロセスガス(PG)のための、流体流出口(28)を備えており、
作動状態において、先ず第一に、前記流動化チャンバー(6)が、前記材料流入口(18)を介して、処理されるべき材料(M)でもって充填され、且つ、その後、前記材料(M)が、前記流動化チャンバー(6)を通って流動する前記プロセスガス(PG)によって処理される、
前記方法において、
前記分配チャンバー(5)が、前記材料流出口面(22)の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブ(30)を備えており、および、
前記作動状態の後に、前記流動化ユニット(3)に対して相対的に移動可能に配置された前記受流底部(7)が、
この受流底部(7)が、排出状態において、前記受流底部(7)の傍らを通り過ぎる、前記分配チャンバー(5)内において配置された前記材料流出口(21)と前記流動化チャンバー(6)との間に流体接続が形成され、且つ、処理された前記材料(M´)が前記材料流出口(21)を通って前記流動化ユニット(3)から排出される程に、前記ウェブ(30)に配置されるように、
排出位置へと移動され、
前記受流底部(7)の前記排出位置における前記排出状態において、前記遮断装置(24)が前記材料排出部(19)を開放する、
ことを特徴とする方法。 - 前記流動化ユニット(3)は、この流動化ユニット(3)の前記長手方向軸線(X-X)に対して横向きに延びる旋回軸(29)を有しており、
この旋回軸に、前記受流底部(7)が旋回可能に配置されており、且つ、
この旋回軸を中心として、前記受流底部(7)が、前記微粒子状の材料(M)の処理の後、合目的に5°から10°まで旋回されることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記受流底部(7)は、
前記長手方向軸線(X-X)の軸線方向(33)に移動可能に配置されており、且つ、
前記長手方向軸線(X-X)の軸線方向(33)に、直線移動の形態で、合目的に前記受流底部(7)が下側の前記縁部(23a)の下方で位置決めされるまで移動される、
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記受流底部(7)は、前記排出位置への移動の際に、旋回移動と直線移動とを、相前後して適宜の順序において、または、同時に実施することを特徴とする請求項2または3に記載の方法。
- 前記受流底部(7)は、前記排出位置において、
前記受流底部(7)の少なくとも一部が前記材料流出口(21)の下側の前記縁部(23a)の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニット(3)に対して相対的に移動されることを特徴とする請求項1から4のいずれか一つに記載の方法。 - 前記受流底部(7)は、前記排出位置において、
前記受流底部(7)が前記材料流出口(21)の下側の前記縁部(23a)の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニット(3)に対して相対的に移動されることを特徴とする請求項5に記載の方法。 - 前記材料排出部(19)は、遮断装置(24)を有しており、前記受流底部(7)が排出位置に位置するやいなや、この遮断装置が、前記材料排出部(19)を開放することを特徴とする請求項1から6のいずれか一つに記載の方法。
- 前記受流底部(7)の少なくとも一部が前記材料流出口の前記下側の前記縁部(23a)の下方に位置決めされるやいなや、前記遮断装置(24)は、前記材料排出部(19)を開放することを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 特に排出管(4)として形成された前記材料排出部(19)に、流体接続流出口(39)を備える、補助ガス(HG)の提供のための流体接続部(40)が組み込まれており、
処理された前記材料(M´)の排出を支援するために、この補助ガス(HG)が、前記流体接続流出口(39)を通って前記材料排出部(19)内へと、少なくとも前記遮断装置(24)が前記材料排出部(19)を開放した場合に、流動することを特徴とする請求項1から8のいずれか一つに記載の方法。
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