JP2024054473A - 加工装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】加工装置とは別途に洗浄のみを行う洗浄装置を用いることなく、当該加工装置において保持テーブルでの汚染を防止すると共に被加工物を洗浄する。
【解決手段】被加工物を保持する保持テーブルと、被加工物を加工する加工ユニットと、入力インターフェースと、コントローラと、カセットから保持テーブルに被加工物を搬送する第1搬送ユニットと、被加工物を洗浄する洗浄ユニットと、を備え、コントローラには、入力インターフェースを介して、加工ユニットによる被加工物の加工と、洗浄ユニットによる加工後の被加工物の洗浄と、を順次行う加工指令と、被加工物の加工を行わずに洗浄ユニットで被加工物の洗浄を行う洗浄指令と、が入力可能であり、コントローラに洗浄指令が入力された場合、第1搬送ユニットは、カセットから被加工物を搬出し、保持テーブルへ搬送することなく、洗浄ユニットに搬送する加工装置を提供する。
【選択図】図4
【解決手段】被加工物を保持する保持テーブルと、被加工物を加工する加工ユニットと、入力インターフェースと、コントローラと、カセットから保持テーブルに被加工物を搬送する第1搬送ユニットと、被加工物を洗浄する洗浄ユニットと、を備え、コントローラには、入力インターフェースを介して、加工ユニットによる被加工物の加工と、洗浄ユニットによる加工後の被加工物の洗浄と、を順次行う加工指令と、被加工物の加工を行わずに洗浄ユニットで被加工物の洗浄を行う洗浄指令と、が入力可能であり、コントローラに洗浄指令が入力された場合、第1搬送ユニットは、カセットから被加工物を搬出し、保持テーブルへ搬送することなく、洗浄ユニットに搬送する加工装置を提供する。
【選択図】図4
Description
本発明は、被加工物を保持する保持テーブルと、保持テーブルで保持された被加工物を加工する加工ユニットと、被加工物を洗浄する洗浄ユニットと、を備える加工装置に関する。
半導体デバイスチップの製造工程では、シリコン単結晶基板(即ち、ウェーハ)の表面側に複数個のデバイス(各デバイスは、例えば、IC(Integrated Circuit)である)を形成した後、ウェーハ及び複数個のデバイスを有する被加工物をデバイス単位に分割する前に、ウェーハの裏面側を研削装置で研削して薄化することがある。
研削装置で被加工物を研削する場合には、ウェーハの表面側のデバイスを保護するために、ウェーハの表面側に保護テープを貼り付ける。被加工物及び保護テープをそれぞれ有する複数の被加工物ユニットは、カセットに収容され、研削装置の所定領域に載置される。
研削装置としては、例えば、被加工物ユニット(即ち、被加工物)が収容されているカセットからの被加工物の搬出、被加工物の研削、研削後の被加工物の洗浄、及び、洗浄後の被加工物のカセットへの搬入等が自動的に行われる、所謂、フルオート研削装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
フルオート研削装置では、カセットが所定領域に載置されると、搬送ロボットがカセットから位置決めテーブルへ被加工物を搬出する。次いで、位置決めテーブルで被加工物の位置が所定位置に決められた後、ローディングアームが位置決めテーブルから保持テーブルへ被加工物を搬送する。
そして、保持テーブルで被加工物を吸引保持した後、ウェーハを研削ユニットで研削する。研削後、アンローディングアームが保持テーブルからスピンナ洗浄ユニットへ被加工物を搬送する。次に、スピンナ洗浄ユニットで被研削面が洗浄された被加工物は、搬送ロボットによりスピンナ洗浄ユニットからカセットへ搬入される。
この様に、フルオート研削装置で被加工物を処理する順序は、通常、予め定められている。それゆえ、研削及び洗浄の終了後にカセットへ搬入された被加工物に対して洗浄のみを再度行う必要が生じた場合には、被加工物は、まず、搬送ロボットで位置決めテーブルへ搬出され、次に、ローディングアームで保持テーブルへ搬送されることになる。
そして、研削を省略した上で、アンローディングアームで保持テーブルからスピンナ洗浄ユニットへ被加工物が搬送された後、ようやく、被加工物に対する洗浄が実行されることとなる。しかし、研削で使用された保持テーブルは、研削屑や研削水で汚染されていることがある。
それゆえ、研削を行わず洗浄だけを行うにも関わらず、被加工物が保持テーブルを経由することで、保持テーブルと被加工物ユニットとの接触領域が、保持テーブルにより汚染されるという問題がある。
例えば、被加工物の被研削面(通常は、ウェーハの裏面)を洗浄しようとすると、被加工物の表面側に位置する保護テープが保持テーブルで汚染される。なお、被加工物に保護テープが貼り付けられていない場合(即ち、被加工物がウェーハのみを有する場合)、被加工物の裏面を洗浄しようとすると、被加工物の表面が汚染される。
これに対して、フルオート研削装置とは別途に、被加工物の洗浄のみを行う洗浄装置を準備することも考えられるが、別途に洗浄装置を使用するならば、洗浄装置の購入費用、ランニングコスト等の分だけ半導体デバイスチップの製造コストが上がる。
本発明は係る問題点に鑑みてなされたものであり、研削装置等の加工装置とは別途に洗浄のみを行う洗浄装置を用いることなく、当該加工装置において保持テーブルでの汚染を防止すると共に被加工物を洗浄することを目的とする。
本発明の一態様によれば、加工装置であって、被加工物を保持する保持テーブルと、スピンドルを有し、該保持テーブルで保持された該被加工物を加工する加工工具が該スピンドルに装着される加工ユニットと、作業者が指示を入力するための入力インターフェースと、メモリ及びプロセッサを有し、該保持テーブル、該加工ユニット及び該入力インターフェースを制御するコントローラと、該被加工物を収容可能なカセットが載置されるカセット載置領域と、該カセット載置領域に載置された該カセットから該被加工物を搬出して該保持テーブルに搬送可能な第1搬送ユニットと、該被加工物を洗浄する洗浄ユニットと、該加工ユニットで加工された該被加工物を該保持テーブルから該洗浄ユニットに搬送する第2搬送ユニットと、を備え、該コントローラには、該入力インターフェースを介して、該加工ユニットによる該被加工物の加工と、該洗浄ユニットによる加工後の該被加工物の洗浄と、を順次行う加工指令と、該被加工物の加工を行わずに該洗浄ユニットで該被加工物の洗浄を行う洗浄指令と、が入力可能であり、該入力インターフェースを介して該コントローラに該洗浄指令が入力された場合、該第1搬送ユニットは、該カセット載置領域に載置された該カセットから該被加工物を搬出し、該保持テーブルへ搬送することなく、該洗浄ユニットに搬送する加工装置が提供される。
好ましくは、該加工装置は、該被加工物の位置決めを行う位置決め部を更に備え、該第1搬送ユニットは、該カセット載置領域に載置された該カセットから該被加工物を搬出して該位置決め部に搬送可能な第1搬送機構と、該位置決め部に置かれた該被加工物を該保持テーブルに搬送する第2搬送機構と、を有し、該入力インターフェースを介して該コントローラに該洗浄指令が入力された場合、該第1搬送機構は、該位置決め部に置かれた該被加工物を該洗浄ユニットに搬送する。
また、好ましくは、該加工装置は、該被加工物の位置決めを行う位置決め部を更に備え、該第1搬送ユニットは、該カセット載置領域に載置された該カセットから該被加工物を搬出して該位置決め部に搬送する第1搬送機構と、該位置決め部に置かれた該被加工物を該保持テーブルに搬送可能な第2搬送機構と、を有し、該入力インターフェースを介して該コントローラに該洗浄指令が入力された場合、該第2搬送機構は、該位置決め部に置かれた該被加工物を該保持テーブルへ搬送することなく、該洗浄ユニットに搬送する。
また、好ましくは、該加工ユニットは、研削ユニットであり、該第1搬送ユニットは、該第1搬送機構としての多節リンク機構の搬送ロボットと、該第2搬送機構としての吸引パッドを有するローディングアームと、を有し、該第2搬送ユニットは、吸引パッドを有するアンローディングアームを有する。
また、好ましくは、該加工ユニットは、切削ユニットであり、該第1搬送ユニットは、該第1搬送機構としてのプッシュプルアームと、該第2搬送機構としての複数の吸着パッドを有するロアアームと、を有し、該第2搬送ユニットは、複数の吸着パッドを有するアッパーアームを有する。
本発明の一態様に係る加工装置では、入力インターフェースを介してコントローラに洗浄指令が入力された場合、第1搬送ユニットは、カセット載置領域に載置されたカセットから被加工物を搬出し、この被加工物を保持テーブルへ搬送することなく、加工装置に備わる洗浄ユニットに搬送する。
つまり、保持テーブルに接触することなく、被加工物を洗浄ユニットへ搬送できるので、被加工物等が保持テーブルで汚染されることはない。それゆえ、別途の洗浄装置を用いなくとも、保持テーブルでの汚染を防止すると共に被加工物を洗浄できる。
(第1の実施形態)添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。図1は、第1の実施形態に係る研削装置(加工装置)2の斜視図である。なお、図1では、研削装置2の構成要素の一部を機能ブロックで示す。また、X軸方向(左右方向)、Y軸方向(前後方向)、及び、Z軸方向(上下方向)は、互いに直交する。
研削装置2は、直方体状の基台4を備える。基台4の前方(Y軸方向の一方)には凹部4aが形成されており、この凹部4aには多節リンク機構の搬送ロボット(第1搬送機構)6が設けられている。搬送ロボット6は、水平多関節ロボットとも呼ばれる。
搬送ロボット6は、多節リンクと、多節リンクの先端部に設けられたフォーク状のハンド部と、を有する。多節リンクの基端部には、ハンド部のZ軸方向の位置を調整するための昇降機構(不図示)が設けられている。また、ハンド部には、複数の吸引パッド(不図示)が設けられている。
凹部4aに対して前方且つX軸方向の一方には、第1カセット載置領域(カセット載置領域)8aがある。第1カセット載置領域8aには、1以上の被加工物ユニット11を収容している第1カセット(カセット)10aが載置されている。
同様に、凹部4aに対して前方且つX軸方向の他方には、第2カセット載置領域(カセット載置領域)8bがある。第2カセット載置領域8bにも、1以上の被加工物ユニット11を収容している第2カセット(カセット)10bが載置されている。
被加工物ユニット11は、被加工物13を有する。被加工物13は、円盤状のシリコン単結晶基板(ウェーハ)を含む。被加工物13の表面13a側には、複数の分割予定ライン(不図示)が格子状に規定されている。複数の分割予定ラインで区画された矩形状の各領域には、IC等のデバイス(不図示)が形成されている。
被加工物13の裏面13b側を研削する際には、デバイスにかかる外力の低減等の目的で、樹脂製で被加工物13と略同径のテープ15を表面13a側に貼り付ける。本実施形態では、被加工物13及びテープ15の積層体を被加工物ユニット11と称する。但し、被加工物13にデバイスが形成されていない(即ち、被加工物13が所謂ベアウェーハである)場合には、テープ15を省略してもよい。
第1カセット載置領域8aの後方(Y軸方向の他方)には、位置決めテーブル(位置決め部)12が設けられている。位置決めテーブル12は、被加工物13よりも小径で被加工物13を支持可能な円盤状の支持台12aを有する。
支持台12aの外周部には、複数のピン12bが、支持台12aの周方向に沿って略等間隔に配置されている。複数のピン12bの各々は、支持台12aの径方向に沿って支持台12aの中心部側へ移動することで、XY平面方向での被加工物13の位置を所定位置に決める。
搬送ロボット6が第1カセット10a又は第2カセット10bから被加工物ユニット11の形態の被加工物13を搬出し、位置決めテーブル12へ搬送すると、位置決めテーブル12は、XY平面方向での被加工物13の位置決めを行う。
位置決めテーブル12の近傍には、ローディングアーム(第2搬送機構)14が設けられている。ローディングアーム14は、梁状のアーム14aを有する。アーム14aの先端部の下面側には、円盤状の吸引パッド14bが設けられている。
吸引パッド14bの下面側に発生する負圧により、吸引パッド14bは、位置決めテーブル12に置かれた被加工物13を吸引保持する。本実施形態の吸引パッド14bは、真空ポンプ等の吸引源(不図示)から伝達される負圧により、被加工物13に接触した状態で被加工物13を吸引保持する吸着パッドを有する。
但し、吸引パッド14bは、エア供給源(不図示)から供給されるエアを噴射することで、ベルヌーイの定理に従って発生する負圧により、被加工物13に非接触の状態で吊り下げる様に被加工物13を吸引するベルヌーイパッドを有してもよい。
アーム14aの基端部に位置する円柱状の基部14cは、Z軸方向に沿う回転軸14dを中心に所定の角度範囲において回転可能である。また、基部14cは、昇降機構(不図示)によりZ軸方向に沿って移動可能である。
ローディングアーム14の後方にはXY平面上で回転可能な円盤状のターンテーブル16が設けられている。ターンテーブル16の上面側には、円周方向に略120度離れる態様で3個の保持テーブル(チャックテーブル)18が設けられている。
ローディングアーム14に最も近い搬入搬出領域Aと、搬入搬出領域Aから時計回りに略120度進んだ粗研削領域Bと、搬入搬出領域Aから反時計回りに略120度進んだ仕上げ研削領域Cと、の各々には、1つの保持テーブル18が設けられている。
ローディングアーム14は、吸引パッド14bで被加工物13を吸引保持した後、上面視において反時計回りに回転し、搬入搬出領域Aに位置する保持テーブル18に被加工物13を搬送する。
図1に示す第1搬送ユニット20は、搬送ロボット(第1搬送機構)6と、ローディングアーム(第2搬送機構)14とを、含む。つまり、第1搬送ユニット20は、研削及び洗浄を行う際(即ち、後述する加工指令に従って動作する際)に、第1カセット10a又は第2カセット10bから被加工物13を搬出して保持テーブル18に搬送する。
しかし、第1搬送ユニット20は、洗浄のみを行う際(即ち、後述する洗浄指令に従って動作する際)に、搬送ロボット6のみを利用して(図4参照)、又は、搬送ロボット6及びローディングアーム14の両方を利用して(図6参照)、第1カセット10a又は第2カセット10bからスピンナ洗浄ユニット58へ被加工物13を搬送する。
各保持テーブル18は、非多孔質のセラミックス等で形成された円盤状の枠体を有する。枠体の上面側には、円盤状の凹部が形成されており、この凹部には多孔質のセラミックスで形成された円盤状の多孔質板が固定されている。
枠体の上面と、多孔質板の上面とは、略面一であり、多孔質板の上面には、真空ポンプ等の吸引源(不図示)から負圧が伝達される。枠体及び多孔質板の上面は、テープ15を介して被加工物13を吸引保持する保持面として機能する。
被加工物13は、搬入搬出領域Aに位置する保持テーブル18へ搬入された後、保持テーブル18の保持面で吸引保持される。その後、粗研削領域B及び仕上げ研削領域Cを経て、搬入搬出領域Aに戻されるまで、吸引保持は継続される。
保持面は、中心部が外周部に比べて20μm以上40μm以下の所定値だけ突出している。また、保持面の一部がXY平面と略平行になる様に、各保持テーブル18の回転軸(不図示)は、僅かに傾いている。
ターンテーブル16の下方には、1つの保持テーブル18につき1つの回転駆動源(不図示)が設けられている。回転駆動源は、モータを含む。モータの回転は、プーリ、ベルト等を利用して保持テーブル18の回転軸に伝達される。
ターンテーブル16の後方には、基台4の上面から突出する態様で、それぞれ四角柱状の2つの支持構造22a,22bが設けられている。支持構造22aの前面側には研削送りユニット24が設けられている。
研削送りユニット24は、Z軸方向に略平行に配置された一対のガイドレール26を有する。なお、図1では、1つの研削送りユニット24につき、1つのガイドレール26が示されている。一対のガイドレール26には、移動板28がスライド可能に取り付けられている。
移動板28の後方(裏面)側には、ナット部(不図示)が設けられている。ナット部には、ねじ軸32が複数のボール(不図示)を介して回転可能に連結している。ねじ軸32の上端部には、ステッピングモータ34が連結されている。
ステッピングモータ34でねじ軸32を回転させれば、移動板28は、ガイドレール26に沿ってZ軸方向に移動する。支持構造22aの前面側に位置する移動板28には、粗研削ユニット(加工ユニット)36aが固定されている。
粗研削ユニット36aは、Z軸方向に略平行に配置された円柱状のスピンドルハウジング38を有する。スピンドルハウジング38内には、Z軸方向に略平行に配置された円柱状のスピンドル40の一部が回転可能に収容されている。
スピンドル40の上端部の近傍には、モータ等の回転駆動源42が設けられている。スピンドル40の下端部は、スピンドルハウジング38の下端よりも下方に突出している。スピンドル40の下端部には、円盤状のホイールマウント44が固定されている。
ホイールマウント44の下面側には、円環状の粗研削ホイール(加工工具)50aが装着されている。つまり、粗研削ホイール50aは、ホイールマウント44を介してスピンドル40に装着されている。
粗研削ホイール50aの直下は、粗研削領域Bに対応する。粗研削ホイール50aは、金属で形成された円環状のホイール基台52aと、ホイール基台52aの下面側に固定された複数の粗研削砥石54aと、を有する。
複数の粗研削砥石54aは、ホイール基台52aの周方向に沿って略等間隔に配置されている。粗研削砥石54aは、例えば、金属、セラミックス、樹脂等の結合材と、ダイヤモンド、cBN(cubic boron nitride)等の砥粒と、を混合した後、成型、焼成等を経て製造される。
搬入搬出領域Aに配置された保持テーブル18によりテープ15を介して吸引保持された被加工物13は、ターンテーブル16の回転により粗研削領域Bへ配置された後、粗研削ユニット36aで粗研削(加工)される。
被加工物13を粗研削する際には、保持テーブル18及び粗研削ホイール50aを上面視でそれぞれ同じ回転方向に回転させると共に、純水等の研削水を被研削領域に供給しながら粗研削ユニット36aを研削送りする。
粗研削の終了後、ターンテーブル16を回転させることで、粗研削後の被加工物13は、支持構造22bの前方に位置する仕上げ研削領域Cに配置される。支持構造22bの前面側にも研削送りユニット24が設けられている。
支持構造22bの前面側に位置する移動板28には、仕上げ研削ユニット(加工ユニット)36bが固定されている。仕上げ研削ユニット36bは、Z軸方向に略平行に配置された円柱状のスピンドルハウジング38を有する。
スピンドルハウジング38内には、Z軸方向に略平行に配置された円柱状のスピンドル40の一部が回転可能に収容されている。スピンドル40の上端部の近傍には、モータ等の回転駆動源42が設けられている。
スピンドル40の下端部は、スピンドルハウジング38の下端よりも下方に突出している。スピンドル40の下端部には、ホイールマウント44を介して仕上げ研削ホイール(加工工具)50bが装着されている。
仕上げ研削ホイール50bの直下は、仕上げ研削領域Cに対応する。仕上げ研削ホイール50bは、金属で形成された円環状のホイール基台52bと、ホイール基台52bの下面側に固定された複数の仕上げ研削砥石54bと、を有する。
複数の仕上げ研削砥石54bも、ホイール基台52bの周方向に沿って略等間隔に配置されている。仕上げ研削砥石54bも、結合材及び砥粒を有するが、仕上げ研削砥石54bの砥粒の平均粒径は、粗研削砥石54aの砥粒の平均粒径よりも小さい。
仕上げ研削領域Cに配置された被加工物13は、仕上げ研削ユニット36bで仕上げ研削(加工)された後、ターンテーブル16の回転により搬入搬出領域Aへ戻される。そして、アンローディングアーム(第2搬送ユニット)56により、保持テーブル18から搬出される。
アンローディングアーム56は、ターンテーブル16の前方、且つ、ローディングアーム14の基部14cに対してX軸方向の他方に設けられている。アンローディングアーム56は、梁状のアーム56aを有する。
アーム56aの先端部の下面側には、円盤状の吸引パッド56bが固定されている。吸引パッド56bの下面側に発生する負圧により、吸引パッド56bは、搬入搬出領域Aに戻された保持テーブル18上の被加工物13を吸引保持する。
吸引パッド56bも、上述の様に、被加工物13に接触した状態で被加工物13を吸引保持する吸着パッドを有してもよく、被加工物13に非接触の状態で吊り下げる様に被加工物13を吸引するベルヌーイパッドを有してもよい。
アーム56aの基端部には、円柱状の基部56cが設けられている。基部56cは、Z軸方向に沿う回転軸56dを中心に所定の角度範囲において回転可能であり、且つ、Z軸方向に沿って所定の長さ範囲において移動可能である。
アンローディングアーム56は、搬入搬出領域Aに位置する保持テーブル18からスピンナ洗浄ユニット58へ被加工物13を搬送する。アンローディングアーム56の基部56cに対してX軸方向の他方には、研削後の被加工物13を洗浄及び乾燥するためのスピンナ洗浄ユニット(洗浄ユニット)58が設けられている。
スピンナ洗浄ユニット58は、上面視で六角形状の筐体58aを有する。筐体58aの側面の一部は、開口部を有する。この開口部には、Z軸方向にスライドすることで開口部を開閉可能なシャッタ58bが設けられている。
筐体58aの内部には、円盤状のスピンナテーブル(不図示)が設けられている。スピンナテーブルは、例えば、保持テーブル18と同様に枠体及び多孔質板を有するが、スピンナテーブルの保持面は略平坦であり、XY平面と略平行に配置されている。
スピンナテーブルは、保持面で被加工物13を吸引保持した状態で高速回転可能である。しかし、高速回転しながら被加工物13を保持できれば、スピンナテーブルは上述の構造に限定されない。
例えば、スピンナテーブルは、各々被加工物13を支持するための複数のピンが上面に設けられた円盤状の支持基台を有する。支持基台の側部には、遠心力による被加工物13の飛散を防止するための複数のクランプユニットが、支持基台の周方向に沿って略等間隔に設けられる。
スピンナテーブルの近傍には、下方に向かって純水等の洗浄水を噴射するノズル(不図示)が設けられている。なお、ノズルは、純水に代えて、純水とエアとが混合された混合流体(二流体)を噴射してもよい。
本実施形態では、粗研削ユニット36a及び仕上げ研削ユニット36bで被加工物13の裏面13b側が研削された後、裏面13b(即ち、被研削面)が上方を向く様にスピンナテーブルで被加工物13を保持する。
そして、スピンナテーブルを回転させながら、ノズルから裏面13bへ純水を噴射することで、裏面13b側を洗浄する。洗浄後の被加工物13は、搬送ロボット6によりスピンナ洗浄ユニット58から搬出元のカセット(第1カセット10a又は第2カセット10b)へ搬入される。
基台4の上方には、タッチパネル60が設けられている。タッチパネル60は、基台4上に位置する研削装置2の筐体(不図示)に固定されている。タッチパネル60は、研削、洗浄等の加工条件を表示する表示装置(出力インターフェース)として機能し、且つ、作業者が指示を入力するための入力装置(入力インターフェース)としても機能する。
なお、タッチパネル60に代えて、ディスプレイ等の表示専用の表示装置(出力インターフェース)と、マウス、キーボード、ジョイスティック等の入力専用の入力装置(入力インターフェース)と、を研削装置2に設けてもよい。
搬送ロボット6、位置決めテーブル12、ローディングアーム14、ターンテーブル16、保持テーブル18、粗研削ユニット36a、仕上げ研削ユニット36b、アンローディングアーム56、スピンナ洗浄ユニット58、タッチパネル60等の動作は、コントローラ(制御ユニット)62により制御される。
コントローラ62は、例えば、メモリ(記憶装置)62aと、CPU(Central Processing Unit)に代表されるプロセッサ(処理装置)62bと、を有するコンピュータによって構成されている。
メモリ62aは、DRAM(Dynamic Random Access Memory)、SRAM(Static Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)等の主記憶装置と、フラッシュメモリ、ハードディスクドライブ等の補助記憶装置と、を含む。補助記憶装置に記憶されるソフトウェアに従いプロセッサ62b等を動作させることによって、コントローラ62の機能が実現される。
本実施形態の研削装置2では、コントローラ62に入力される指令に応じて、被加工物13に対して異なる加工を施すことができる。図2は、研削装置2で被加工物13を加工する際に、タッチパネル60に表示される画像の一例を示す図である。
図2に示す第1ボタン60aは、粗研削ユニット36a及び仕上げ研削ユニット36bによる被加工物13の研削と、スピンナ洗浄ユニット58による被加工物13の洗浄と、を順次行う加工指令を、コントローラ62に入力するためのGUI(Graphical User Interface)である。
第2ボタン60bは、粗研削ユニット36a及び仕上げ研削ユニット36bによる被加工物13の研削を行わずに、スピンナ洗浄ユニット58による被加工物13の洗浄を行う洗浄指令を、コントローラ62に入力するためのGUIである。
但し、図2は、一例であり、第1ボタン60a及び第2ボタン60bの形状、デザイン、色等は、特段限定されない。第1ボタン60a及び第2ボタン60bは、タッチパネル60に表示されるGUIではなく、押しボタンスイッチ(入力インターフェース)であってもよい。
本実施形態の研削装置2を操作する作業者は、被加工物13に対する加工として加工指令及び洗浄指令のいずれかを、タッチパネル60を介してコントローラ62に入力可能である。それゆえ、作業者が研削装置2に対して特殊な設定をすることなく、研削装置2に加工指令又は洗浄指令を実行させることができる。
コントローラ62に加工指令が入力された場合における研削装置2での被加工物13の処理手順は上述の通りである。一方で、コントローラ62に洗浄指令が入力された場合には、図3に示すフロー図に従って被加工物13が洗浄される。
図3は、洗浄指令を実行する場合のフロー図である。なお、図3では、第1カセット10aに収容されている被加工物13を洗浄する場合を説明するが、第1カセット10aに代えて、第2カセット10bに収容されている被加工物13を洗浄してもよい。
タッチパネル60を介して洗浄指令が入力されると、搬送ロボット6は、第1カセット10aから被加工物ユニット11の形態の被加工物13を搬出し、被加工物13を保持テーブル18へ搬送することなく、スピンナ洗浄ユニット58へ搬送する(S10、図4の矢印D及びE参照)。
図4は、搬送ロボット6が第1カセット10a及びスピンナ洗浄ユニット58間で被加工物13を搬送する様子を示す図である。その後、被加工物13は、スピンナ洗浄ユニット58において、裏面13b側が洗浄される(S20)。
洗浄後、搬送ロボット6がスピンナ洗浄ユニット58へ再度アクセスし、スピンナ洗浄ユニット58から第1カセット10aへ被加工物ユニット11の形態の被加工物13を搬入する(S30、図4の矢印F及びG参照)。
この様に、第1の実施形態では、保持テーブル18に接触することなく、被加工物13をスピンナ洗浄ユニット58へ搬送できる。従って、被加工物13等が、保持テーブル18で汚染されることはない。
それゆえ、研削装置2とは別途の洗浄装置を用いなくとも、研削装置2において、保持テーブル18での汚染を防止すると共に被加工物13を洗浄できる。
(第2の実施形態)次に、図5及び図6を参照して第2の実施形態を説明する。なお、第1の実施形態との重複する説明は省略する。図5は、第2の実施形態において洗浄指令を実行する場合のフロー図である。
第2の実施形態では、タッチパネル60を介してコントローラ62に洗浄指令が入力された場合、まず、搬送ロボット6が第1カセット10aから位置決めテーブル12へ被加工物ユニット11の形態の被加工物13を搬出する(S12、図6の矢印H及びI参照)。
そして、位置決めテーブル12で被加工物13を位置決めする(S14)。その後、ローディングアーム14が、被加工物13を保持テーブル18へ搬送することなく、位置決めテーブル12からスピンナ洗浄ユニット58へ搬送する(S16、図6の矢印J及びK参照)。
このとき、ローディングアーム14のアーム14aがアンローディングアーム56の上方を通過できる様に、基部14cは、Z軸方向に沿って上昇した状態で、反時計回りに回転する。これにより、被加工物13を吸引保持した吸引パッド14bが、筐体58a内へ入る。
その後、スピンナ洗浄ユニット58で被加工物13を洗浄する(S20)。洗浄後、搬送ロボット6がスピンナ洗浄ユニット58から第1カセット10aへ被加工物13を搬入する(S30、図6の矢印L及びM参照)。
図6は、第2の実施形態における被加工物13の移動経路を示しており、搬送ロボット6及びローディングアーム14が被加工物13を第1カセット10a及びスピンナ洗浄ユニット58間で搬送する様子を示す図である。
第2の実施形態でも、保持テーブル18に接触することなく、被加工物13等をスピンナ洗浄ユニット58へ搬送できる。それゆえ、研削装置2とは別途の洗浄装置を用いなくとも、研削装置2において、保持テーブル18での汚染を防止すると共に被加工物13を洗浄できる。
(第3の実施形態)次に、図7から図10を参照して第3の実施形態を説明する。図7は、第3の実施形態に係る切削装置(加工装置)72の斜視図である。図7では、構成要素の一部を機能ブロック図で示す。
また、図7におけるX軸方向(加工送り方向)、Y軸方向(割り出し送り方向)及びZ軸方向(上下方向)は、互いに直交する方向である。切削装置72は、各構成要素を支持する基台74を備える。
基台74の前方(Y軸方向の一方)の角部には、開口74aが設けられている。開口74a内には、昇降機構(不図示)によりZ軸方向に沿って移動するカセット載置台76が設けられている。
カセット載置台76の上面76aは、カセット載置領域として機能する。つまり、上面76aには、切削装置72で切削(加工)される複数の被加工物ユニット11を収容可能なカセット78が載置される。
なお、本実施形態の各被加工物ユニット11は、第1及び第2の実施形態とは異なり、樹脂製で被加工物13よりも大径の円形のテープ17を介して、金属製の環状フレーム19により被加工物13が支持されたフレームユニットの形態で、カセット78に収容されている。
テープ17には、被加工物13の裏面13b側が貼り付けられており、被加工物13の表面13aは露出して上方を向いている。図7に示す様に、被加工物13の表面13a側には、複数のデバイスが形成されている。
カセット載置台76の後方(Y軸方向の他方)には、長手部がX軸方向に沿って配置された矩形状の開口74bが形成されている。開口74b内には、矩形板状のテーブルカバー80が設けられている。
テーブルカバー80のX軸方向の両側には、X軸方向に伸縮可能な蛇腹状のカバー部材82が設けられており、テーブルカバー80上には、被加工物13を吸引保持する保持テーブル(チャックテーブル)84が設けられている。
テーブルカバー80の下方には、Z軸方向に略平行な回転軸の周りに保持テーブル84を回転させるための、モータ等の回転駆動源(不図示)が設けられている。回転駆動源は、ボールねじ式のX軸方向移動機構(加工送り機構)で支持されている。
X軸方向移動機構を動作させると、テーブルカバー80、保持テーブル84、回転駆動源等は一体的にX軸方向に沿って移動する。保持テーブル84は、ステンレス鋼等の金属で形成された円盤状の枠体を有する。
枠体の上面側には、円盤状の凹部が形成されており、この凹部には多孔質のセラミックスで形成された円盤状の多孔質板が固定されている。多孔質板の上面には、真空ポンプ等の吸引源(不図示)から負圧が伝達される。枠体の上面と、多孔質板の上面とは、略面一且つ略平坦となっており、XY平面と略平行に配置されている。
枠体の上面と、多孔質板の上面とは、テープ17を介して被加工物13を吸引保持する保持面84aとして機能する。枠体の周囲には、環状フレーム19を固定するための複数(本実施形態では4つ)のクランプユニット86が、枠体の周方向に沿って略等間隔に設けられている。各クランプユニット86は、例えば、エアアクチュエータにより駆動される。
開口74aの後方且つ開口74bの上方には、Y軸方向に略平行に配置された一対のガイドレール(位置決め部)88が設けられている。一対のガイドレール88の各々は、XY平面に略平行に配置された平板状の底板と、YZ平面に略平行に配置された平板状の側板と、を有する。
一対のガイドレール88は、モータ等の駆動源(不図示)により、Y軸方向に沿って互いに近づいたり離れたりする様に構成されている。一対のガイドレール88上に被加工物ユニット11が配置された状態で、一対のガイドレール88が互いに近づくことにより、被加工物ユニット11(即ち、被加工物13)のX軸方向の位置が調整される(即ち、位置決めが行われる)。
一対のガイドレール88の上方には、プッシュプルアーム(第1搬送機構)100が配置されている。なお、図7では、プッシュプルアーム100の先端部のみを示し、プッシュプルアーム100の他の部分を省略している。
プッシュプルアーム100は、Y軸及びZ軸方向に沿って移動可能である。例えば、プッシュプルアーム100は、ボールねじ式のY軸Z軸方向移動機構(不図示)により、Y軸及びZ軸方向に沿って移動する。
プッシュプルアーム100は、直方体状のヘッド部100aを有する。ヘッド部100aの前面側には、薄板状の2つの爪部100bがZ軸方向において重なる様に設けられている。各爪部100bは、XY平面と略平行に配置されている。
ヘッド部100aに内蔵されたモータ等の駆動源(不図示)により、2つの爪部100bは、Z軸方向に沿って互いに近づいたり離れたりする。例えば、2つの爪部100bは、互いに近づくことにより環状フレーム19をZ軸方向で挟んで把持できる。
プッシュプルアーム100は、基台74の後方に移動することで、カセット78から1つの被加工物ユニット11(即ち、被加工物13)を搬出して、一対のガイドレール88に搬送できる。
また、プッシュプルアーム100は、基台74の前方に移動することで、一対のガイドレール88上に置かれた被加工物ユニット11(即ち、被加工物13)をカセット78へ搬入することもできる。
開口74bの上方には、ロアアーム(第2搬送機構)102が設けられている。ロアアーム102は、長手部がZ軸方向に沿って配置されたエアシリンダ102aを有する。エアシリンダ102aの基端部は、ボールねじ式のY軸方向移動機構(不図示)によりY軸方向に沿って移動可能に構成されている。
エアシリンダ102aは、Z軸方向に沿って移動するロッドを含む。ロッドの下端部にはXY平面と略平行に配置されたT字形状のフレーム102bが固定されている。フレーム102bの下面側には、それぞれ円盤状の複数の吸着パッド102cが設けられている。
本実施形態では、フレーム102bの下面側の異なる四箇所の各々に1つの吸着パッド102cが設けられているが、図7では、2つの吸着パッド102cを示す。吸着パッド102cは、例えば、真空ポンプ等の吸引源(不図示)から伝達される負圧により、環状フレーム19に接触した状態で被加工物ユニット11を吸引保持する。
ロアアーム102は、一対のガイドレール88上に置かれた被加工物ユニット11を吸引保持する。このとき、プッシュプルアーム100は、ロアアーム102と干渉しない位置に退避しており、保持テーブル84は、一対のガイドレール88の直下に配置されている。
ロアアーム102で被加工物ユニット11を吸引保持した後、一対のガイドレール88が互いに遠ざかる。次いで、ロアアーム102が下降して、被加工物ユニット11を吸引保持した後、ロアアーム102は被加工物ユニット11を保持テーブル84へ引き渡す。
この様にして、ロアアーム102は、一対のガイドレール88上に置かれた被加工物ユニット11(即ち、被加工物13)を保持テーブル84に搬送する。保持テーブル84へ搬送された被加工物13は、切削ユニット(加工ユニット)110a,110bにより加工される。
本実施形態の切削装置72には、一対の切削ユニット110a,110bが設けられているが、一対の切削ユニット110a,110bの一方のみが設けられてもよい。図8は、保持テーブル84で吸引保持された被加工物13と、一対の切削ユニット110a,110bと、を示す一部断面側面図である。
切削ユニット110aは、長手部がY軸方向に沿って配置されたスピンドルハウジング112aを有する(図7参照)。スピンドルハウジング112aには、円柱状のスピンドル114aが回転可能に保持されている。スピンドル114aの基端部の近傍には、モータ等の回転駆動源(不図示)が設けられている。
スピンドル114aの先端部には、円盤状のブレードマウント116aが固定されている。ブレードマウント116aのフランジ部に接触する様に、円環状の切削ブレード(加工工具)118aが配置された状態で、ブレードマウント116aのボス部(不図示)に、円環状の固定ナット120aを固定する。
この様にして、切削ブレード118aは、ブレードマウント116a及び固定ナット120aにより挟まれた状態で、スピンドル114aの先端部に装着される。切削ブレード118aは、円環状の切り刃のみで構成されるハブレス型(ワッシャ型)である。
切り刃は、ダイヤモンド、cBN等の砥粒と、セラミックス、樹脂等の結合材と、を混合した後、成型、焼成等経て製造される。なお、切削ブレード118aは、電着ブレードや電鋳ブレードであってもよい。また、切削ブレード118aは、アルミニウム合金で形成された円環状の基台に切り刃が固定されたハブ型であってもよい。
切削ユニット110bも同様に、スピンドルハウジング112b(図7参照)、スピンドル114b、ブレードマウント116b、切削ブレード118b、固定ナット120b等を有する。切削ブレード118bも、ハブレス型及びハブ型のいずれであってもよい。
被加工物13を切削する際には、まず、保持テーブル84で被加工物13を吸引保持する。このとき、被加工物13は、テープ17を介して保持面84aで吸引保持され、環状フレーム19は、複数のクランプユニット86で挟まれて固定される。
次いで、例えば、切削ユニット110aを用いて被加工物13を切削する場合、後述する顕微鏡カメラユニット130a(図7参照)を利用してアライメントを行い、被加工物13の分割予定ラインをX軸方向と略平行にする。
そして、スピンドル114aを高速回転させると共に、回転する切削ブレード118aに対して保持テーブル84をX軸方向に沿って移動させる。これにより、分割予定ラインに沿って被加工物13を切削(加工)する。
ここで、再度、図7を参照する。切削(加工)された被加工物13は、アッパーアーム(第2搬送ユニット)122により、保持テーブル84からスピンナ洗浄ユニット(洗浄ユニット)124へ搬送される。アッパーアーム122は、長手部がZ軸方向に沿って配置されたエアシリンダ122aを有する。
エアシリンダ122aの基端部は、梁部122bの先端部に固定されている。梁部122bの基端部は、ボールねじ式のY軸方向移動機構(不図示)によりY軸方向に沿って移動可能に構成されている。
エアシリンダ122aは、Z軸方向に沿って移動するロッドを含む。ロッドの下端部にはXY平面と略平行に配置されたH字形状のフレーム122cが固定されている。フレーム122cの下面側には、それぞれ円盤状の複数の吸着パッド122dが設けられている。
本実施形態では、フレーム122cの下面側の異なる四箇所の各々に1つの吸着パッド122dが設けられている。吸着パッド122dは、例えば、真空ポンプ等の吸引源(不図示)から伝達される負圧により、環状フレーム19に接触した状態で被加工物ユニット11を吸引保持する。
スピンナ洗浄ユニット124は、開口74bの更に後方に設けられている。スピンナ洗浄ユニット124は、円盤状のスピンナテーブルを有する。スピンナテーブルは、例えば、保持テーブル84と同様に枠体及び多孔質板を有する。
枠体の外周部には、枠体の周方向に沿って略等間隔に、それぞれ振り子式の複数のクランプが設けられている。スピンナテーブルの近傍には、下方に向かって洗浄水を噴射するノズルが設けられている。洗浄水は、純水であってよく、純水とエアとが混合された混合流体であってもよい。
スピンナテーブルでテープ17を介して被加工物13を吸引保持した状態でスピンナテーブルを高速回転させると共に、スピンナテーブルの上方でノズルを揺動させながらノズルから被加工物13の表面13a側に純水等を噴射することで、被加工物13は洗浄される。
洗浄後、被加工物ユニット11は、再度、ロアアーム102により一対のガイドレール88へ搬送され、その後、被加工物ユニット11は、プッシュプルアーム100により一対のガイドレール88からカセット78へ搬入される。
なお、上述の洗浄指令に従って、切削装置72が動作するとき、プッシュプルアーム100がカセット78から一対のガイドレール88へ被加工物ユニット11を搬出した後、ロアアーム102は、一対のガイドレール88上に置かれた被加工物ユニット11を、保持テーブル84ではなく、スピンナ洗浄ユニット124へ搬送する。
また、洗浄後、ロアアーム102は、スピンナ洗浄ユニット124から一対のガイドレール88へ被加工物ユニット11を搬送し、プッシュプルアーム100は、一対のガイドレール88からカセット78へ被加工物ユニット11を搬入する。
図7に示す第1搬送ユニット104は、プッシュプルアーム(第1搬送機構)100と、ロアアーム(第2搬送機構)102とを、含み、切削装置72が洗浄指令に従って動作する際に、保持テーブル84を経由せずにカセット78及びスピンナ洗浄ユニット124間で被加工物ユニット11を搬送する。
これに対して、切削装置72が加工指令に従って動作する際に、第1搬送ユニット104は、プッシュプルアーム100及びロアアーム102を利用して、カセット78から保持テーブル84へ切削前の被加工物ユニット11を搬送すると共に、切削及び洗浄後の被加工物ユニット11をスピンナ洗浄ユニット124からカセット78へ搬送する。
切削ユニット110aのスピンドルハウジング112aは、ボールねじ式のZ軸方向移動機構(切り込み送り機構)126aによりZ軸方向に沿って移動可能に構成されている。Z軸方向移動機構126aは、移動板128aを含む。
移動板128aの下端部には、上述のスピンドルハウジング112aと、顕微鏡カメラユニット130aと、が固定されている。Z軸方向移動機構126aは、スピンドルハウジング112a及び顕微鏡カメラユニット130aをZ軸方向に沿って移動させる。
顕微鏡カメラユニット130aは、例えば、被加工物13の表面13a側を可視光で撮像可能であり、LED(Light Emitting Diode)等の光源と、集光レンズと、CCD(Charge-Coupled Device)イメージセンサ等の撮像素子と、を含む。
Z軸方向移動機構126aは、Z軸方向に沿って配置された一対のガイドレール(不図示)を含む。この一対のガイドレールには、移動板128aがスライド可能に固定されている。移動板128aの裏面側にはナット部(不図示)が設けられており、ナット部には、ねじ軸(不図示)が回転可能に連結されている。
ねじ軸の上端部には、ステッピングモータ等の駆動源132aが設けられている。駆動源132aを動作させれば、移動板128aはZ軸方向に沿って移動する。Z軸方向移動機構126aの一対のガイドレールは、ボールねじ式のY軸方向移動機構(割り出し送り機構)134aを構成する移動板136aに固定されている。
Y軸方向移動機構134aは、Y軸方向に略平行に配置された一対のガイドレール及びねじ軸と、駆動源と、を含む。Y軸方向移動機構134aは、スピンドルハウジング112a及び顕微鏡カメラユニット130aをY軸方向に沿って移動させる。
切削ユニット110bのスピンドルハウジング112bも同様に、ボールねじ式のZ軸方向移動機構(切り込み送り機構)126bによりZ軸方向に沿って移動可能に構成されている。Z軸方向移動機構126bは、スピンドルハウジング112b及び顕微鏡カメラユニット130bをZ軸方向に沿って移動させる。
Z軸方向移動機構126bは、ボールねじ式のY軸方向移動機構(割り出し送り機構)134bを構成する移動板136bに固定されている。Y軸方向移動機構134bは、スピンドルハウジング112b及び顕微鏡カメラユニット130bをY軸方向に沿って移動させる。
基台74の上方には、タッチパネル140が設けられている。タッチパネル140は、基台74上に位置する切削装置72の筐体(不図示)に固定されている。タッチパネル140は、切削、洗浄等の加工条件や、画像を表示する表示装置(出力インターフェース)として機能する。
また、タッチパネル140は、作業者が指示を入力するための入力装置(入力インターフェース)としても機能する。なお、タッチパネル140に代えて、ディスプレイ等の表示専用の表示装置と、マウス、キーボード、ジョイスティック等の入力専用の入力装置と、を切削装置72に設けてもよい。
昇降機構、保持テーブル84、X軸方向移動機構、一対のガイドレール88、プッシュプルアーム100、ロアアーム102、一対の切削ユニット110a,110b、アッパーアーム122、スピンナ洗浄ユニット124、Z軸方向移動機構126a,126b、顕微鏡カメラユニット130a,130b、Y軸方向移動機構134a,134b、タッチパネル140等の動作は、コントローラ(制御ユニット)142により制御される。
コントローラ142は、例えば、メモリ(記憶装置)142aと、CPU(Central Processing Unit)に代表されるプロセッサ(処理装置)142bと、を有するコンピュータによって構成されている。
メモリ142aは、DRAM、SRAM、ROM等の主記憶装置と、フラッシュメモリ、ハードディスクドライブ等の補助記憶装置と、を含む。補助記憶装置に記憶されるソフトウェアに従いプロセッサ142b等を動作させることによって、コントローラ142の機能が実現される。
本実施形態の切削装置72でも、コントローラ142に入力される指令に応じて、被加工物13に対して異なる加工を施すことができる。タッチパネル140には、図2と同様に、切削ユニット110a及び/又は切削ユニット110bによる被加工物13の切削と、スピンナ洗浄ユニット124による被加工物13の洗浄と、を順次行う加工指令を、コントローラ142に入力する第1ボタン60aが表示される。
また、タッチパネル140には、図2と同様に、切削ユニット110a及び/又は切削ユニット110bによる被加工物13の切削を行わずに、スピンナ洗浄ユニット124による被加工物13の洗浄を行う洗浄指令を、コントローラ142に入力するための第2ボタン60bも表示される。上述の様に、第1ボタン60a及び第2ボタン60bは、GUIではなく、押しボタンスイッチであってもよい。
本実施形態の切削装置72を操作する作業者は、被加工物13に対する加工として加工指令及び洗浄指令のいずれかを、タッチパネル140を介してコントローラ142に入力可能である。
コントローラ142に加工指令が入力された場合における切削装置72での被加工物13の処理手順は上述の通りである。一方で、コントローラ62に洗浄指令が入力された場合には、図9に示すフロー図に従って被加工物13が洗浄される。図9は、洗浄指令を実行する場合のフロー図である。
タッチパネル140を介して洗浄指令が入力されると、プッシュプルアーム100がカセット78から一対のガイドレール88へ被加工物ユニット11を搬出する(S13、図10の矢印N参照)。その後、一対のガイドレール88で被加工物13のX軸方向の位置決めが行われる(S15)。
次いで、ロアアーム102が、一対のガイドレール88上で被加工物ユニット11の環状フレーム19を吸引保持し、被加工物ユニット11を保持テーブル84へ搬送することなく、一対のガイドレール88からスピンナ洗浄ユニット124へ搬送する(S17、図10の矢印O及びP参照)。
図10は、ロアアーム102で被加工物ユニット11をスピンナ洗浄ユニット124へ搬送する様子を示す図である。その後、被加工物13は、スピンナ洗浄ユニット124において、表面13a側が主に洗浄される(S20)。
洗浄後、ロアアーム102が再度スピンナ洗浄ユニット124へアクセスし、スピンナ洗浄ユニット124から一対のガイドレール88へ被加工物ユニット11を搬送する(S32、図10の矢印Q参照)。
次いで、一対のガイドレール88により被加工物ユニット11のX軸方向の位置決めが行われた後、プッシュプルアーム100が一対のガイドレール88からカセット78へ被加工物ユニット11を搬入する(S34、図10の矢印R参照)。
この様に、第3の実施形態でも、保持テーブル84に接触することなく、被加工物13をスピンナ洗浄ユニット124へ搬送できる。従って、被加工物13等が保持テーブル84により汚染されることはない。
それゆえ、切削装置72とは別途の洗浄装置を用いなくとも、切削装置72において、保持テーブル84での汚染を防止すると共に被加工物13を洗浄できる。
その他、上述の実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。第3の実施形態では、被加工物13の裏面13bが上方を向く様に被加工物13の表面13a側にテープ17が貼り付けられた被加工物13を、切削及び/又は洗浄してもよい。
この場合、保持テーブル84の多孔質板に代えて、可視光に対して略透明なガラス板を採用し、保持テーブル84の下方に配置された顕微鏡カメラユニットを用いて、ガラス板を介して被加工物13の表面13a側を撮像すればよい。また、赤外帯域の光で被加工物13の表面13a側を撮像可能な顕微鏡カメラユニット130a,130bを採用することもできる。
2:研削装置(加工装置)、4:基台、4a:凹部
6:搬送ロボット(第1搬送機構)
8a:第1カセット載置領域(カセット載置領域)
8b:第2カセット載置領域(カセット載置領域)
10a:第1カセット(カセット)、10b:第2カセット(カセット)
11:被加工物ユニット
13:被加工物、13a:表面、13b:裏面
12:位置決めテーブル(位置決め部)、12a:支持台、12b:ピン
14:ローディングアーム(第2搬送機構)
14a:アーム、14b:吸引パッド、14c:基部、14d:回転軸
16:ターンテーブル、18:保持テーブル
20:第1搬送ユニット
22a,22b:支持構造
24:研削送りユニット、26:ガイドレール、28:移動板、32:ねじ軸
34:ステッピングモータ
36a:粗研削ユニット(加工ユニット)
36b:仕上げ研削ユニット(加工ユニット)
38:スピンドルハウジング、40:スピンドル、42:回転駆動源
44:ホイールマウント
50a:粗研削ホイール(加工工具)、50b:仕上げ研削ホイール(加工工具)
52a,52b:ホイール基台
54a:粗研削砥石、54b:仕上げ研削砥石
56:アンローディングアーム(第2搬送ユニット)
56a:アーム、56b:吸引パッド、56c:基部、56d:回転軸
58:スピンナ洗浄ユニット(洗浄ユニット)、58a:筐体、58b:シャッタ
60:タッチパネル、60a:第1ボタン、60b:第2ボタン
62:コントローラ、62a:メモリ、62b:プロセッサ
72:切削装置(加工装置)、74:基台、74a,74b:開口
76:カセット載置台、76a:上面(カセット載置領域)、78:カセット
80:テーブルカバー、82:カバー部材
84:保持テーブル、84a:保持面、86:クランプユニット
88:一対のガイドレール(位置決め部)
100:プッシュプルアーム(第1搬送機構)、100a:ヘッド部、100b:爪部
102:ロアアーム(第2搬送機構)
102a:エアシリンダ、102b:フレーム、102c:吸着パッド
104:第1搬送ユニット
110a,110b:切削ユニット(加工ユニット)
112a,112b:スピンドルハウジング
114a,114b:スピンドル
116a,116b:ブレードマウント
118a,118b:切削ブレード(加工工具)
120a,120b:固定ナット
122:アッパーアーム(第2搬送ユニット)
122a:エアシリンダ、122b:梁部、122c:フレーム、122d:吸着パッド
124:スピンナ洗浄ユニット
126a,126b:Z軸方向移動機構
128a:移動板
130a,130b:顕微鏡カメラユニット
132a:駆動源
134a,134b:Y軸方向移動機構
136a,136b:移動板
140:タッチパネル
142:コントローラ、142a:メモリ、142b:プロセッサ
A:搬入搬出領域、B:粗研削領域、C:仕上げ研削領域
D,E,F,G,H,I,J,K,L,M,O,P,Q,R:矢印
6:搬送ロボット(第1搬送機構)
8a:第1カセット載置領域(カセット載置領域)
8b:第2カセット載置領域(カセット載置領域)
10a:第1カセット(カセット)、10b:第2カセット(カセット)
11:被加工物ユニット
13:被加工物、13a:表面、13b:裏面
12:位置決めテーブル(位置決め部)、12a:支持台、12b:ピン
14:ローディングアーム(第2搬送機構)
14a:アーム、14b:吸引パッド、14c:基部、14d:回転軸
16:ターンテーブル、18:保持テーブル
20:第1搬送ユニット
22a,22b:支持構造
24:研削送りユニット、26:ガイドレール、28:移動板、32:ねじ軸
34:ステッピングモータ
36a:粗研削ユニット(加工ユニット)
36b:仕上げ研削ユニット(加工ユニット)
38:スピンドルハウジング、40:スピンドル、42:回転駆動源
44:ホイールマウント
50a:粗研削ホイール(加工工具)、50b:仕上げ研削ホイール(加工工具)
52a,52b:ホイール基台
54a:粗研削砥石、54b:仕上げ研削砥石
56:アンローディングアーム(第2搬送ユニット)
56a:アーム、56b:吸引パッド、56c:基部、56d:回転軸
58:スピンナ洗浄ユニット(洗浄ユニット)、58a:筐体、58b:シャッタ
60:タッチパネル、60a:第1ボタン、60b:第2ボタン
62:コントローラ、62a:メモリ、62b:プロセッサ
72:切削装置(加工装置)、74:基台、74a,74b:開口
76:カセット載置台、76a:上面(カセット載置領域)、78:カセット
80:テーブルカバー、82:カバー部材
84:保持テーブル、84a:保持面、86:クランプユニット
88:一対のガイドレール(位置決め部)
100:プッシュプルアーム(第1搬送機構)、100a:ヘッド部、100b:爪部
102:ロアアーム(第2搬送機構)
102a:エアシリンダ、102b:フレーム、102c:吸着パッド
104:第1搬送ユニット
110a,110b:切削ユニット(加工ユニット)
112a,112b:スピンドルハウジング
114a,114b:スピンドル
116a,116b:ブレードマウント
118a,118b:切削ブレード(加工工具)
120a,120b:固定ナット
122:アッパーアーム(第2搬送ユニット)
122a:エアシリンダ、122b:梁部、122c:フレーム、122d:吸着パッド
124:スピンナ洗浄ユニット
126a,126b:Z軸方向移動機構
128a:移動板
130a,130b:顕微鏡カメラユニット
132a:駆動源
134a,134b:Y軸方向移動機構
136a,136b:移動板
140:タッチパネル
142:コントローラ、142a:メモリ、142b:プロセッサ
A:搬入搬出領域、B:粗研削領域、C:仕上げ研削領域
D,E,F,G,H,I,J,K,L,M,O,P,Q,R:矢印
Claims (5)
- 加工装置であって、
被加工物を保持する保持テーブルと、
スピンドルを有し、該保持テーブルで保持された該被加工物を加工する加工工具が該スピンドルに装着される加工ユニットと、
作業者が指示を入力するための入力インターフェースと、
メモリ及びプロセッサを有し、該保持テーブル、該加工ユニット及び該入力インターフェースを制御するコントローラと、
該被加工物を収容可能なカセットが載置されるカセット載置領域と、
該カセット載置領域に載置された該カセットから該被加工物を搬出して該保持テーブルに搬送可能な第1搬送ユニットと、
該被加工物を洗浄する洗浄ユニットと、
該加工ユニットで加工された該被加工物を該保持テーブルから該洗浄ユニットに搬送する第2搬送ユニットと、
を備え、
該コントローラには、該入力インターフェースを介して、
該加工ユニットによる該被加工物の加工と、該洗浄ユニットによる加工後の該被加工物の洗浄と、を順次行う加工指令と、
該被加工物の加工を行わずに該洗浄ユニットで該被加工物の洗浄を行う洗浄指令と、
が入力可能であり、
該入力インターフェースを介して該コントローラに該洗浄指令が入力された場合、該第1搬送ユニットは、該カセット載置領域に載置された該カセットから該被加工物を搬出し、該保持テーブルへ搬送することなく、該洗浄ユニットに搬送することを特徴とする加工装置。 - 該被加工物の位置決めを行う位置決め部を更に備え、
該第1搬送ユニットは、
該カセット載置領域に載置された該カセットから該被加工物を搬出して該位置決め部に搬送可能な第1搬送機構と、
該位置決め部に置かれた該被加工物を該保持テーブルに搬送する第2搬送機構と、
を有し、
該入力インターフェースを介して該コントローラに該洗浄指令が入力された場合、該第1搬送機構は、該位置決め部に置かれた該被加工物を該洗浄ユニットに搬送することを特徴とする請求項1に記載の加工装置。 - 該被加工物の位置決めを行う位置決め部を更に備え、
該第1搬送ユニットは、
該カセット載置領域に載置された該カセットから該被加工物を搬出して該位置決め部に搬送する第1搬送機構と、
該位置決め部に置かれた該被加工物を該保持テーブルに搬送可能な第2搬送機構と、
を有し、
該入力インターフェースを介して該コントローラに該洗浄指令が入力された場合、該第2搬送機構は、該位置決め部に置かれた該被加工物を該保持テーブルへ搬送することなく、該洗浄ユニットに搬送することを特徴とする請求項1に記載の加工装置。 - 該加工ユニットは、研削ユニットであり、
該第1搬送ユニットは、該第1搬送機構としての多節リンク機構の搬送ロボットと、該第2搬送機構としての吸引パッドを有するローディングアームと、を有し、
該第2搬送ユニットは、吸引パッドを有するアンローディングアームを有することを特徴とする請求項2又は3に記載の加工装置。 - 該加工ユニットは、切削ユニットであり、
該第1搬送ユニットは、該第1搬送機構としてのプッシュプルアームと、該第2搬送機構としての複数の吸着パッドを有するロアアームと、を有し、
該第2搬送ユニットは、複数の吸着パッドを有するアッパーアームを有することを特徴とする請求項3に記載の加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022160700A JP2024054473A (ja) | 2022-10-05 | 2022-10-05 | 加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022160700A JP2024054473A (ja) | 2022-10-05 | 2022-10-05 | 加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024054473A true JP2024054473A (ja) | 2024-04-17 |
Family
ID=90707981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022160700A Pending JP2024054473A (ja) | 2022-10-05 | 2022-10-05 | 加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024054473A (ja) |
-
2022
- 2022-10-05 JP JP2022160700A patent/JP2024054473A/ja active Pending
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