JP2024002343A - 機器防汚装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】観測・監視・計測・照射機器の観測・監視・計測・照射部分への、雪・雨・埃等の異物の付着を防止するのに好適な、機器防汚装置を提供する。【解決手段】観測・監視・計測・照射機器１の、全体または観測・監視・計測・照射部分２を内包するように配置され、前記観測・監視・計測・照射部分２からの観測・監視・計測・照射を行うための開口部４があるケーシング３と、前記開口部４から連続的に気流が排出されるように、ケーシング３内へ気流を供給する気流発生機器５と、を構成要素に持つ機器防汚装置であり、ケーシング３内へ供給する気流は、ケーシング３周囲環境の空気よりも雪・雨・埃等の異物の含有が少ない清浄な空気の気流であることを特徴とする、機器防汚装置とする。【選択図】図１
Description
本発明は、観測・監視・計測・照射機器の観測・監視・計測・照射部分への、雪・雨・埃等の異物の付着を防止するのに好適な、機器防汚装置に関する。
観測・監視・計測・照射機器の使用において、これらの機器への雪・雨・埃等の付着は、観測・監視・計測・照射の精度・性能低下や、観測・監視・計測・照射不能となる原因となるため、ワイパーや熱線入りガラスなどの防汚装置により対策が取られている。
ワイパーや熱線入りガラス以外の防汚装置として、特許文献１に、被洗浄面に洗浄液や圧縮空気を噴射して汚れの払拭を行うカメラ洗浄装置が開示されている。また、引用文献２に、機器の内部監察をするための光学計測窓に空気を吹き付けることなどにより、ゴミなどが光学計測窓に付着することを防止する、汚れ防止機構付光学計測窓装置が開示されている。
ワイパーや熱線入りガラス以外の防汚装置として、特許文献１に、被洗浄面に洗浄液や圧縮空気を噴射して汚れの払拭を行うカメラ洗浄装置が開示されている。また、引用文献２に、機器の内部監察をするための光学計測窓に空気を吹き付けることなどにより、ゴミなどが光学計測窓に付着することを防止する、汚れ防止機構付光学計測窓装置が開示されている。
観測・監視・計測・照射機器の使用において、これらの機器への雪・雨・埃等の付着は、観測・監視・計測・照射の精度・性能低下や、観測・監視・計測・照射不能となる原因となるため、これらの機器への雪・雨・泥等の付着防止対策が必要である。
本発明は、観測・監視・計測・照射機器の観測・監視・計測・照射部分への、雪・雨・埃等の異物の付着を防止するのに好適な、機器防汚装置を提供するものである。
特許文献１に、被洗浄面に洗浄液や圧縮空気を噴射して汚れの払拭を行うカメラ洗浄装置が開示されているが、カメラレンズまたはその前面の透明板に付着した汚れを洗浄する、事後処置的な洗浄装置である。対して、本発明は、観測・監視・計測・照射部分への汚れの付着を事前予防的に防止する機器防汚装置である。
引用文献２に、機器の内部監察をするための光学計測窓に空気を吹き付けることなどにより、ゴミなどが光学計測窓に付着することを防止する、汚れ防止機構付光学計測窓装置が開示されているが、固定点である観測対象に対して実施されるものであり、観測機器に対して実施されるものではないため、前記固定点以外の観測は困難なものである。対して、本発明は、観測・監視・計測・照射機器に対して実施されるものであるため、比較的自由な範囲の観測・監視・計測・照射を行うことができるものである。
観測・監視・計測・照射機器１の、全体または観測・監視・計測・照射部分２を内包するように配置され、前記観測・監視・計測・照射部分２からの観測・監視・計測・照射を行うための開口部４があるケーシング３と、前記開口部４から連続的に気流が排出されるように、ケーシング３内へ気流を供給する気流発生機器５と、を構成要素に持つ機器防汚装置であり、ケーシング３内へ供給する気流は、ケーシング３周囲環境の空気よりも雪・雨・埃等の異物の含有が少ない清浄な空気の気流であることを特徴とする、機器防汚装置とする。
ケーシング３の開口部４から連続的に気流が排出することにより、雪・雨・埃等の異物はケーシング３の中に入り込みにくくなるため、ケーシング３内にある観測・監視・計測・照射部分２に雪・雨・埃等の異物が付着することを軽減することができる。
しかし、ケーシング３内へ供給する気流に、雪・雨・埃等の異物が含まれていると、ケーシング３内の気流の乱れなどにより観測・監視・計測・照射部分２に雪・雨・埃等の異物が付着することがある。このため、本願の機器防汚装置では、ケーシング３内へ供給する気流を、ケーシング３周囲環境の空気よりも雪・雨・埃等の異物の含有が少ない清浄な空気の気流とすることで、ケーシング３内の気流の乱れなどにより観測・監視・計測・照射部分２に雪・雨・埃等の異物が付着することを、さらに軽減することができるようにしている。
しかし、ケーシング３内へ供給する気流に、雪・雨・埃等の異物が含まれていると、ケーシング３内の気流の乱れなどにより観測・監視・計測・照射部分２に雪・雨・埃等の異物が付着することがある。このため、本願の機器防汚装置では、ケーシング３内へ供給する気流を、ケーシング３周囲環境の空気よりも雪・雨・埃等の異物の含有が少ない清浄な空気の気流とすることで、ケーシング３内の気流の乱れなどにより観測・監視・計測・照射部分２に雪・雨・埃等の異物が付着することを、さらに軽減することができるようにしている。
観測・監視・計測・照射機器１の、全体または観測・監視・計測・照射部分２を内包するように配置され、前記観測・監視・計測・照射部分２からの観測・監視・計測・照射を行うための開口部４があるケーシング３と、前記開口部４から連続的に気流が排出されるように、ケーシング３内へ気流を供給する気流発生機器５と、を構成要素に持つ機器防汚装置であり、ケーシング３内へ供給する気流は、ケーシング３周囲環境の空気よりも雪・雨・埃等の異物の含有が少ない清浄な空気の気流であることを特徴とする、機器防汚装置とする。
図１に、本機器防汚装置の実施例１を示す。実施例１では、観測・監視・計測・照射機器１全体を取り囲むようにケーシング３を配置し、観測・監視・計測・照射部分２の前方に開口部４を設け、ケーシング３の後方部分に気流発生機器５としてのファンとフィルター６を配置して、フィルター６で清浄化した空気の気流をケーシング３内へ供給する構造としている。
図２に、本機器防汚装置の実施例２を示す。実施例２では、観測・監視・計測・照射部分２を取り囲むようにケーシング３を配置し、気流発生機器５としての空気圧縮機に搭載するフィルターや除水機能により清浄化した空気の気流を、気流発生機器５としての空気圧縮機と高圧ホース７により、ケーシング３内へ供給する構造としている。
図３に、本機器防汚装置の実施例３を示す。実施例３では、観測・監視・計測・照射機器１全体を取り囲むようにケーシング３を配置し、ケーシング３とは離れた場所の清浄な空気の気流を、気流発生機器５としてのブロアとダクトホース８により、ケーシング３内へ供給する構造としている。また、ブロア前方のダクトホース８内に配置した加熱器９により、ケーシング３内へ供給する気流を加熱しており、これにより、観測・監視・計測・照射機器１を加温することができるものとしている。
図１～図３に示した、実施例１～実施例３は、本発明の実施例に過ぎず、観測・監視・計測・照射機器１の形状、ケーシング３の形状・大きさ・取り囲み範囲、気流発生機器５の種類・形状・配置位置、高圧ホース７やダクトホース８の太さ・接続位置、フィルター６の大きさ・形状・配置位置、加熱器９の有無・方式、等を限定するものではない。
１ 観測・監視・計測・照射機器
２ 観測・監視・計測・照射部分
３ ケーシング
４ 開口部
５ 気流発生機器
６ フィルター
７ 高圧ホース
８ ダクトホース
９ 加熱器
２ 観測・監視・計測・照射部分
３ ケーシング
４ 開口部
５ 気流発生機器
６ フィルター
７ 高圧ホース
８ ダクトホース
９ 加熱器
Claims (1)
- 観測・監視・計測・照射機器（１）の、全体または観測・監視・計測・照射部分（２）を内包するように配置され、前記観測・監視・計測・照射部分（２）からの観測・監視・計測・照射を行うための開口部（４）があるケーシング（３）と、前記開口部（４）から連続的に気流が排出されるように、ケーシング（３）内へ気流を供給する気流発生機器（５）と、を構成要素に持つ機器防汚装置であり、ケーシング（３）内へ供給する気流は、ケーシング（３）周囲環境の空気よりも雪・雨・埃等の異物の含有が少ない清浄な空気の気流であることを特徴とする、機器防汚装置。
Priority Applications (1)
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| JP2022101465A JP7186911B1 (ja) | 2022-06-24 | 2022-06-24 | 機器防汚装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022101465A JP7186911B1 (ja) | 2022-06-24 | 2022-06-24 | 機器防汚装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP7186911B1 JP7186911B1 (ja) | 2022-12-09 |
| JP2024002343A true JP2024002343A (ja) | 2024-01-11 |
Family
ID=84388161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022101465A Active JP7186911B1 (ja) | 2022-06-24 | 2022-06-24 | 機器防汚装置 |
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2022
- 2022-06-24 JP JP2022101465A patent/JP7186911B1/ja active Active
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