JP2023511069A - リソグラフィスティッチングのためのシステム、ソフトウェアアプリケーション、および方法 - Google Patents

Abstract

本開示の実施形態は、マスクを光源の伝搬方向に配置する方法に関する。マスクは、基板のフォトレジスト層に書き込まれるパターンに対応している。マスクは、第１のマスクと第２のマスクをスティッチングすることによって配置される。第１のマスクは、一組の第１のフィーチャであって、第１のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第１のフィーチャ延長部を有する一組の第１のフィーチャを含む。第２のマスクは、一組の第２のフィーチャであって、第２のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第２のフィーチャ延長部を有する一組の第２のフィーチャを含む。各第１のフィーチャ延長部は、対応する各第２のフィーチャ延長部とスティッチングして、第１の対のマスクの第１のスティッチングされた部分の各スティッチングされた部分を形成する。第１の対のマスクのスティッチングされた部分は、フォトレジスト層に書き込まれるパターンの一部を画定する。【選択図】図４Ｄ

Description

［０００１］本開示の実施形態は、一般に、フォトリソグラフィシステムに関する。より具体的には、本開示の実施形態は、マスク間の接合部のスティッチングのためのシステム、ソフトウェアアプリケーション、および方法に関する。

［０００２］フォトリソグラフィが、半導体デバイスのバックエンド処理などの半導体デバイスの製造や、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などのディスプレイデバイスの製造に広く使用されている。例えば、拡張現実または仮想現実（ＡＲ／ＶＲ）デバイスで使用される光学チップなどのディスプレイデバイスの製造では、大面積基板が、多くの場合、使用される。フォトリソグラフィシステムは、１つ以上のマスクの方向に書き込みビームを投影する投影ユニットを有する。１つ以上のマスクは、基板の表面上のフォトレジスト層に書き込まれるパターンに対応するパターンを有する。しかしながら、フォトリソグラフィシステムによって転写された単一のマスクパターンが、基板の全領域をカバーするとは限らない。さらに、広い領域をカバーするために複数のマスクパターンを互いに隣接して転写することができるが、マスク間の接合部におけるスティッチング領域が、フォトレジスト層に書き込まれるパターンに隙間を形成する可能性がある。フォトレジストに書き込まれるパターンにおける隙間は、パターン欠陥を形成し、その結果、ディスプレイデバイスの品質を低下させる。したがって、マスクのリソグラフィスティッチングのための改善された方法が、当技術分野で必要とされている。

［０００３］一実施形態では、方法が提供される。この方法は、光源の伝搬方向に２つ以上のマスクを配置することを含み、マスクは、マスクの下に配置された基板のフォトレジスト層に書き込まれるパターンに対応している。マスクを配置することは、一対のマスクをスティッチングすることを含む。対における第１のマスクは、一組の第１のフィーチャを含み、第１のフィーチャは、第１のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第１のフィーチャ延長部を有し、第２のマスクは、一組の第２のフィーチャを含み、第２のフィーチャは、第２のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第２のフィーチャ延長部を有する。各第１のフィーチャ延長部は、対応する各第２のフィーチャ延長部とスティッチングして、第１の対のマスクの第１のスティッチングされた部分の各スティッチングされた部分を形成し、第１の対のマスクのスティッチングされた部分は、フォトレジスト層に書き込まれるパターンの一部を画定する。

［０００４］別の実施形態では、非一時的なコンピュータ可読媒体が提供される。非一時的なコンピュータ可読媒体は、プロセッサによって実行されると、フォトレジスト層に書き込まれるパターンを有する設計ファイルをコンピュータシステムに作成させる一組の命令を含む。次に、コンピュータシステムは、設計ファイルを２つ以上のマスクパターンの間で分割し、マスクパターンの各々について複数のフィーチャを生成する。各々のマスクパターンのフィーチャは、隣接するマスクパターンの第２のフィーチャ延長部とスティッチングされるべき第１のフィーチャ延長部を含み、第２のフィーチャ延長部とスティッチングされる第１のフィーチャ延長部は、２つ以上のマスクパターンから形成された２つ以上のマスクの接合においてフォトレジスト層に書き込まれるパターンの一部を画定する。

［０００５］別の実施形態では、非一時的なコンピュータ可読媒体が提供される。非一時的なコンピュータ可読媒体は、プロセッサによって実行されると、コンピュータシステムに、設計ファイルを２つ以上のマスクパターンの間で分割させる一組の命令を含む。次に、コンピュータシステムは、θ１＝ｆ（Ｌ１，λ１，Δ）、Δ＝ｆ（Ｌ１，λ１，θ１）、θ２＝ｆ（Ｌ２，λ２，Δ）、Δ＝ｆ（Ｌ２，λ２，θ２）のうちの１つ以上を用いて、２つ以上のマスクパターンのスティッチングされた部分のモデルを生成する。スティッチングされた部分は、第１のフィーチャであって、第１のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第１のフィーチャ延長部を有する第１のフィーチャと、対応する第２のフィーチャであって、第２のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第２のフィーチャ延長部を有する第２のフィーチャとを含む。第１のフィーチャ端ロケーション（θ１）は、各スティッチングされた部分における各第２のフィーチャ接合境界から対応する各第１のフィーチャ延長部の反対端までの距離である。スティッチングシフト（Δ）は、各スティッチングされた部分の各第１のフィーチャ接合境界から対応する各第２のフィーチャ接合境界までの距離の半分である。第１のフィーチャ幅（Ｌ１）は、各スティッチングされた部分の第１のフィーチャ接合境界の各々における第１のフィーチャ幅である。第１のフィーチャ延長部長さ（λ１）は、各第１のフィーチャ延長部の長さである。第２のフィーチャ端ロケーション（θ２）は、各スティッチングされた部分における各第１のフィーチャ接合境界から対応する各第２のフィーチャ延長部の反対端までの距離である。第２のフィーチャ幅（Ｌ２）は、各スティッチングされた部分の第２のフィーチャ接合境界の各々における第２のフィーチャ幅である。第２のフィーチャ延長部長さ（λ２）は、各第２のフィーチャ延長部の長さである。

［０００６］本開示の上記の特徴を詳細に理解することができるように、上記で簡単に要約された本開示のより具体的な説明が、実施形態を参照することによって行われ、そのいくつかが、添付の図面に示されている。しかしながら、添付の図面は、本開示の典型的な実施形態のみを示し、したがって、その範囲を限定すると見なされるべきではなく、本開示は、他の同等に有効な実施形態を認めることができることに留意されたい。

一実施形態によるリソグラフィシステムの概略図である。 リソグラフィプロセスに曝された基板の概略平面図である。 一実施形態によるリソグラフィ環境の概略図である。 一実施形態によるリソグラフィプロセスの流れ図である。 一実施形態によるマスクパターンファイルの説明図である。 一実施形態によるマスクパターンファイルの説明図である。 一実施形態によるスティッチングされた部分の説明図である。 一実施形態によるマスクパターンファイルの説明図である。 一実施形態によるマスクパターンファイルの説明図である。 実施形態によるフィーチャ延長部の説明図である。

［００１５］理解を容易にするため、可能な場合には、図に共通する同一の要素を示すために同一の参照番号が使用されている。ある実施形態に開示された要素は、特に言及することなく、他の実施形態で有益に利用され得ることが企図される。

［００１６］本開示の実施形態は、リソグラフィスティッチングのためのシステム、ソフトウェアアプリケーション、および方法に関する。本方法のいくつかの実施形態は、光源の伝搬方向に２つ以上のマスクを配置することを含む。マスクは、マスクの下に配置された基板のフォトレジスト層に書き込まれるパターンに対応している。マスクを配置することは、一対のマスクをスティッチングすることを含む。対における第１のマスクは、一組の第１のフィーチャを含み、第１のフィーチャは、第１のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第１のフィーチャ延長部を有し、第２のマスクは、一組の第２のフィーチャを含み、第２のフィーチャは、第２のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第２のフィーチャ延長部を有する。各第１のフィーチャ延長部は、対応する各第２のフィーチャ延長部とスティッチングして、第１の対のマスクの第１のスティッチングされた部分の各スティッチングされた部分を形成し、第１の対のマスクのスティッチングされた部分は、フォトレジスト層に書き込まれるパターンの一部を画定する。

［００１７］図１Ａは、リソグラフィシステム１００の概略図である。図１Ｂは、リソグラフィプロセスに曝された基板１０６の概略平面図である。リソグラフィシステム１００は、例示的なシステムであり、他の製造業者からのシステムを含む他のシステムが、本開示の態様を達成するために使用されてもよく、または修正されてもよいことが理解されるであろう。本システムは、２つ以上のマスク１０４ａ、１０４ｂ、１０４ｃ、．．．１０４（ｎ－１）、１０４ｎ（「２つ以上のマスク１０４」と総称される）の方向に書き込みビームを投影することができる、発光ダイオード（ＬＥＤ）やレーザなどの１つ以上の光源を含む投影ユニット１０２を含む。マスクは、基板１０６の上に配置されている。２つ以上のマスク１０４は、マスクパターン４０５ａ、４０５ｂ、４０５ｃ、．．．４０５（ｎ－１）、４０５ｎ（図４Ａおよび図４Ｂに示される「マスクパターン４０５」と総称される）を有し得る。

［００１８］基板１０６は、任意の適切な材料、例えば、フラットパネルディスプレイの一部として使用されるガラスを含む。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、基板１０６は、フラットパネルディスプレイの一部として使用することができる他の材料で作られている。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる他の実施形態では、基板は、約５ｍｍ～約７０ｍｍ、例えば約５ｍｍ～約１００ｍｍ、例えば約５ｍｍ～約２０ｍｍ、あるいは約５０ｍｍ～６０ｍｍの表面幅を有することができる。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、基板は、約５ｍｍ～約１００ｍｍ、例えば約５ｍｍ～約６０ｍｍ、例えば約５ｍｍ～約２０ｍｍ、あるいは約５０ｍｍ～６０ｍｍの表面長を有することができる。例えば、基板は、約３０ｍｍ～約６０ｍｍ×約２５ｍｍ～約６０ｍｍの寸法を有することができる。基板１０６は、その上に形成された、（例えばパターンエッチングによって）パターニングされる膜層と、パターニングされる膜層上に形成された、電磁放射、例えば紫外（ＵＶ）、極紫外（ＥＵＶ）または深ＵＶ「光」に対して高感度であるフォトレジスト層１１０とを有する。ポジ型フォトレジストは、放射に曝されると、電磁放射を用いてフォトレジスト層１１０にパターンが書き込まれた後にフォトレジスト層１１０に塗布されたフォトレジスト現像液にそれぞれ可溶となるフォトレジスト層１１０の部分を含む。ネガ型フォトレジストは、放射に曝されると、電磁放射を用いてフォトレジスト層１１０にパターンが書き込まれた後にフォトレジスト層１１０に塗布されたフォトレジスト現像液にそれぞれ不溶となるフォトレジスト層１１０の部分を含む。ネガ型現像は、明視野マスクによって露光されたポジ型フォトレジスト層１１０を含み、露光された領域は、それぞれ有機溶剤（例えば、ｎ－ブタノール）に不溶となり、現像後のウエハ上に残存することになる。フォトレジスト層１１０の化学組成によって、フォトレジスト層１１０がポジ型フォトレジストであるかネガ型フォトレジストであるかが決定される。

［００１９］動作中、投影ユニット１０２は、マスク１０４のうちの１つ以上のマスクの方向に書き込みビームを投影する。本明細書に記載された方法３００の実施形態に従って配置された２つ以上のマスク１０４のマスクパターン４０５は、書き込みビームがマスク１０４のうちの１つ以上のマスクの方向に投影されるときにフォトレジスト層１１０に書き込まれるデバイスパターン１１２に対応する。フォトレジスト層１１０に書き込まれたデバイスパターン１１２のデバイス部分１１４は、マスクパターン４０５のスティッチングされた部分４０３ａ、４０３ｂ、．．．４０３（ｎ－１）（図４Ｂおよび図４Ｃに示される「スティッチングされた部分４０３」と総称される）に対応する。（図４Ａおよび図４Ｂに示す）２つ以上のマスク１０４のうちの接合しているマスクのマスクパターン４０５のフィーチャ延長部４０７が、スティッチングされるようにモデル化され配置される。パターンスティッチングを実現するために、異なるマスクのマスクパターン４０５が、別々の露光で取得され、互いと重ね合わされる。例示的なリソグラフィ露光プロセスでは、第１のマスク１０４ａがロードされた後、露光が行われ、フォトレジスト層１１０に書き込まれた第１のマスクパターン４０５ａを形成し、次に、第２のマスク１０４ｂがロードされた後、露光が行われ、第２のマスクパターン４０５ｂを形成し、第１および第２のフィーチャ延長部パターンが重ね合わされて、スティッチングされたマスクパターン４０５をもたらす。デバイスパターン１１２がデバイス部分１１４において実質的にシームレスであるように、２つ以上のマスク１０４のうちの接合しているマスクのフィーチャ延長部４０７が、モデル化され、配置される（すなわち、重ね合わされる）。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、２つ以上のマスク１０４のうちの接合しているマスクのフィーチャ延長部４０７は、フォトレジスト層１１０に書き込まれたデバイス部分１１４でデバイスパターン１１２がシームレスになるようにモデル化され配置される。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、デバイスパターン１１２は、基板１０６または基板１０６上に配置された膜層にパターニングされるデバイスに対応し得る。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる他の実施形態では、デバイスパターン１１２は、基板１０６または基板１０６上に配置された膜層にパターニングされる１つ以上のデバイスに対応し得る。

［００２０］本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、リソグラフィシステム１００は、基板１０６上のフォトレジスト層全体を露光できるようにサイズ設定される。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる他の実施形態では、基板１０６は、マスク１０４のうちの１つ以上のマスクの下の所定の経路に基板１０６を配置するように動作可能なステージ１１６によって支持されることができる。基板の移動は、コントローラ１０８によって制御され得る。コントローラ１０８は、一般に、マスクパターンファイルに基づくリソグラフィプロセスの制御および自動化を容易にするように設計されている。マスクパターンファイル（例えば、図４Ａおよび図４Ｂに示されるマスクパターンファイル４００）は、本明細書に記載された方法３００の実施形態に従って２つ以上のマスク１０４を配置するための命令を有するマスクパターンデータを含む。コントローラ１０８は、少なくとも投影ユニット１０２、ステージ１１６、およびエンコーダ１１８に連結され、またはそれらと通信することができる。投影ユニット１０２およびエンコーダ１１８は、基板処理および基板位置合わせに関する情報をコントローラ１０８に提供することができる。例えば、投影ユニット１０２は、基板処理が完了したことをコントローラ１０８に警告するための情報を、コントローラ１０８に提供することができる。

［００２１］図２は、リソグラフィ環境２００の概略図である。図２に示すように、リソグラフィ環境２００は、実質的設計装置２０２、マスクモデリング装置２０４、マスク製造装置２０６、リソグラフィシステム１００、コントローラ２１０、複数の通信リンク２０１、および移送システム２０３を含むが、これらに限定されない。リソグラフィ環境装置のそれぞれが、通信リンク２０１によってコントローラ２１０に接続されるように動作可能である。代替的または追加的に、リソグラフィ環境装置のそれぞれは、最初にコントローラ２１０と通信し、続いてコントローラが問題のリソグラフィ環境装置と通信することによって、間接的に通信することができる。リソグラフィ環境２００のリソグラフィ環境装置のそれぞれは、同じエリアもしくは生産施設に配置することができ、またはリソグラフィ環境装置のそれぞれは、異なるエリアに配置することができる。

［００２２］実質的設計装置２０２は、設計ファイルの作成、最適化、検証、および更新のうちの少なくとも１つを行うように動作可能である。設計ファイルは、フォトレジスト層１１０に書き込まれるデバイスパターン１１２に対応する。マスクモデリング装置２０４は、本明細書に記載された方法３００の工程に従って、設計ファイルを分割し、マスクパターンファイル４００を生成するように動作可能である。マスクパターンファイル４００は、本明細書に記載された方法３００の工程に従って、２つ以上のマスク１０４のマスクパターンデータを含む。マスク製造装置２０６は、マスクモデリング装置２０４から送信された２つ以上のマスク１０４のマスクパターンデータを受信するように動作可能である。本明細書に記載された方法３００の工程に従って、マスク製造装置２０６は、本明細書に記載された実施形態に従って２つ以上のマスク１０４が配置されたときにフォトレジスト層１１０に書き込まれるデバイスパターン１１２に対応する２つ以上のマスク１０４のマスクパターン４０５を製造するように動作可能である。リソグラフィシステム１００は、本明細書に記載された方法３００の工程に従って、２つ以上のマスク１０４を受け取るように動作可能である。

［００２３］さらに、複数のリソグラフィ環境装置のそれぞれは、本明細書に記載された方法３００の工程で表示される。実質的設計装置２０２、マスクモデリング装置２０４、マスク製造装置２０６、リソグラフィシステム１００、およびコントローラ２１０のそれぞれは、オンボードプロセッサおよびメモリを含み、メモリは、以下に記載された方法３００のいずれかの部分に対応する命令を格納するように構成される。通信リンク２０１は、有線接続、無線接続、衛星接続などのうちの少なくとも１つを含むことができる。本明細書にさらに記載された実施形態によれば、通信リンク２０１は、ユニバーサル計測ファイル（ＵＭＦ）またはデータを格納するために使用される任意の他のファイルを送信および受信することを含む。通信リンク２０１は、ファイルまたはデータをリソグラフィシステムツールに転送またはコピーする前に、ファイルまたはデータを一時的または永続的にクラウドに格納することを含むことができる。マスク製造装置２０６とマスクモデリング装置２０４は、移送システム２０３で接続されている。移送システム２０３は、マスク製造装置２０６とリソグラフィシステム１００との間で基板を移送するように動作可能である。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる一実施形態では、移送システム２０３は、１つ以上のマスク１０４を移送するように動作可能な、コントローラ２１０に接続可能なロボットまたは他の機器を含むことができる。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる一実施形態では、移送システム２０３は、ユーザによって物理的に操作可能である。

［００２４］コントローラ２１０は、中央処理装置（ＣＰＵ）２１２、サポート回路２１４、およびメモリ２１６を含む。ＣＰＵ２１２は、リソグラフィ環境装置を制御するために工業環境で使用できる任意の形態のコンピュータプロセッサの１つとすることができる。メモリ２１６は、ＣＰＵ２１２に連結されている。メモリ２１６は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、フロッピーディスク、ハードディスク、またはローカルもしくはリモートの任意の他の形態のデジタルストレージなどの、１つ以上の容易に利用可能なメモリとすることができる。サポート回路２１４は、従来の仕方でプロセッサをサポートするためにＣＰＵ２１２に連結されている。これらの回路には、キャッシュ、電源、クロック回路、入力／出力回路、サブシステムなどが含まれる。コントローラ２１０は、サポート回路２１４内およびメモリ２１６内に見られる入力／出力（Ｉ／Ｏ）デバイスに連結されたＣＰＵ２１２を含むことができる。

［００２５］メモリ２１６は、制御ソフトウェアプログラムなどの１つ以上のソフトウェアアプリケーションを含むことができる。メモリ２１６はまた、本明細書に記載された方法３００を実行するためにＣＰＵ２１２によって使用される格納された媒体データを含むことができる。ＣＰＵ２１２は、ソフトウェアアプリケーションを実行し、データを処理することができるハードウェアユニットまたはハードウェアユニットの組み合わせであり得る。ＣＰＵ２１２は、一般に、１つ以上のソフトウェアアプリケーションを実行し、格納された媒体データを処理するように構成され、これらは、それぞれメモリ２１６内に含まれ得る。コントローラ２１０は、様々なリソグラフィ環境装置への、およびそれらからのデータおよびファイルの転送を制御する。メモリ２１６は、本明細書に記載された実施形態による方法３００の任意の工程に対応する命令を格納するように構成される。

［００２６］図３は、リソグラフィプロセスの方法３００の流れ図である。任意選択の工程３０１で、設計ファイルが、実質的設計装置２０２によって作成される。設計ファイルは、フォトレジスト層１１０に書き込まれるデバイスパターン１１２に対応する。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、設計ファイルは、本明細書に記載された方法３００の工程の前に作成される。工程３０２で、マスクモデリング装置２０４は、設計ファイルを分割し、２つ以上のマスク１０４のマスクパターンデータを有するマスクパターンファイル４００を生成する（図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｄ、および図４Ｅに示され、記載されるように）。

［００２７］工程３０３で、マスク製造装置２０６は、本明細書に記載された実施形態に従って２つ以上のマスク１０４が配置されたときにフォトレジスト層１１０に書き込まれるデバイスパターン１１２に対応する２つ以上のマスク１０４のマスクパターン４０５を製造する。工程３０４で、２つ以上のマスク１０４が、リソグラフィシステム１００によって受け取られ、隣接するマスク１０４のマスクパターン４０５のフィーチャ延長部４０７がスティッチングされているマスクパターンデータに従って投影ユニット１０２の下に別々に配置される。（図４Ａおよび図４Ｂに示す）２つ以上のマスク１０４のうちの隣接するマスクのマスクパターン４０５のフィーチャ延長部４０７が、スティッチングされるようにモデル化され配置される。パターンスティッチングを実現するために、異なるマスクのマスクパターン４０５が、別々の露光で取得され、互いと重ね合わされる。例示的なリソグラフィ露光プロセスでは、第１のマスク１０４ａがロードされた後、露光が行われ、フォトレジスト層１１０に書き込まれた第１のマスクパターン４０５ａを形成し、次に、第２のマスク１０４ｂがロードされた後、露光が行われ、第２のマスクパターン４０５ｂを形成し、第１および第２のフィーチャ延長部パターンが重ね合わされて、スティッチングされたマスクパターン４０５をもたらす。

［００２８］図４Ａおよび図４Ｂは、マスクパターンファイル４００の説明図である。図４Ａに示されるように、２つ以上のマスク１０４のうちの接合しているマスクのマスクパターン４０５のフィーチャ延長部４０７は、スティッチングされていない。図４Ｂに示されるように、２つ以上のマスク１０４のうちの接合しているマスクのマスクパターン４０５のフィーチャ延長部４０７ａ、４０７ｂ、４０７ｃ、４０７ｄ、４０７ｅ．．．４０７（ｎ－１）、４０７ｎ、４０７（ｎ＋１）（図４Ａおよび図４Ｂに示される「フィーチャ延長部４０７」と総称される）は、工程３０４で説明したように、マスクパターンファイル４００のマスクパターンデータに従ってスティッチングされる。マスクパターンファイル４００は、マスクパターン４０５のフィーチャ４０２ａ、４０２ｂ、４０２ｃ、．．．４０２（ｎ－１）、４０２ｎ（図４Ａおよび図４Ｂに示される「フィーチャ４０２」と総称される）を有する２つ以上のマスク１０４を含む。スティッチングされた部分４０３は、スティッチングされるべきフィーチャ４０２のフィーチャ延長部４０７を含む。例えば、スティッチングされた部分４０３ａは、フィーチャ４０２ａと４０２ｂとの間のスティッチングである。

［００２９］例えば、図４Ａおよび図４Ｂに示すように、第１のマスク１０４ａおよび第２のマスク１０４ｂを含む第１の対のマスクが示されている。第１のマスク１０４ａは、第１のフィーチャ接合境界４０６ａから第１のフィーチャ延長部の反対端４０８ａまで延びる第１のフィーチャ延長部４０７ａを有する第１の組のフィーチャを有する。第２のマスク１０４ｂは、第２のフィーチャ接合境界４０６ｂから第２のフィーチャ延長部の反対端４０８ｂまで延びる第２のフィーチャ延長部４０７ｂを有する第２の組のフィーチャを有する。第１のフィーチャ延長部４０７ａは、第１の対のマスクパターン（例えば、４０５ａおよび４０５ｂ）の第１のスティッチングされた部分４０３ａで、対応する各第２のフィーチャ延長部４０７ｂとスティッチングしている。図４Ａおよび図４Ｂに示されるように、第２のマスク１０４ｂおよび第３のマスク１０４ｃを含む第２の対のマスクが示されている。第２のマスクは、第３のマスクとスティッチングして、第２の対のマスクの第２のスティッチングされた部分４０３ｂを形成する。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、本開示のいくつかの実施形態に従って、単一のマスクを１つ以上の追加のマスクとスティッチングすることができる。図４Ａおよび図４Ｂに示すように、ｎ番目のマスク１０４ｎは、スティッチングされた部分４０３（ｎ－１）で、隣接する（ｎ－１）番目のマスク１０４（ｎ－１）とスティッチングされることができる。接合している部分のフィーチャ延長部４０７は、図４Ｃで説明され示されるように、モデル化され、スティッチングされる。

［００３０］図４Ｃは、スティッチングされた部分４０３の説明図である。図４Ｃに示すように、いくつかのパラメータを使用して、重なり合うマスクパターンの各対（例えば、４０５ａと４０５ｂ、４０５ｂと４０５ｃ、…４０５（ｎ－１）と４０５ｎ）の各スティッチングされた部分４０３のマスクパターン設計をモデル化することができる。一例では、スティッチングされた部分４０３で重なり合う第１のマスクパターン４０５ａおよび第２のマスクパターン４０５ｂを有する重なり合うマスクパターンの第１の対（例えば、４０５ａおよび４０５ｂ）が、提供される。本明細書で説明されるパラメータのそれぞれは、スティッチングされた部分４０３のスティッチングされたマスクの第１の対の第１のフィーチャ４０２ａおよび第２のフィーチャ４０２ｂを参照して説明される。

［００３１］スティッチングされた部分４０３の第１のフィーチャ幅Ｌ１は、マスクパターン４０５の第１のフィーチャ４０２ａと第１のフィーチャ延長部４０７ａとの間の第１のフィーチャ接合境界４０６ａにおける幅を表す。第２のフィーチャ幅Ｌ２は、マスクパターン４０５の第２のフィーチャ４０２ｂと第２のフィーチャ延長部４０７ｂとの間の第２のフィーチャ接合境界４０６ｂにおける幅を表す。本明細書で使用されるフィーチャ幅Ｌ１およびＬ２は、まとめて「Ｌ」と表すことができる。スティッチングされた部分４０３は、スティッチングされた部分４０３における第２のフィーチャ接合境界４０６ｂから対応する第１のフィーチャ延長部４０７ａの反対端４０８ａまでの距離である第１のフィーチャ端ロケーションθ１を、さらに提供する。第２のフィーチャ端ロケーションθ２は、スティッチングされた部分４０３における第１のフィーチャ接合境界４０６ａから対応する第２のフィーチャ延長部４０７ｂの反対端４０８ｂまでの距離である。本明細書で使用されるフィーチャ端ロケーションθ１およびθ２は、まとめて「θ」と表すことができる。スティッチングシフトΔは、スティッチングされた部分４０３の第１のフィーチャ接合境界４０６ａから対応する第２のフィーチャ接合境界４０６ｂまでの距離の半分である。第１のフィーチャ延長部長さ（λ１）は、各第１のフィーチャ延長部４０７ａの長さである。例えば、λ１は、第１のフィーチャ接合境界４０６ａからスティッチングされた部分４０３の反対端４０８ａまでの距離である。第２のフィーチャ延長部長さλ２は、各第２のフィーチャ延長部４０７ｂの長さである。例えば、λ２は、第１のフィーチャ接合境界４０６ａからスティッチングされた部分４０３の反対端４０８ａまでの距離である。

［００３２］一例では、θ１およびθ２がゼロに等しい場合、λ１＝λ２＝Δ＋Δである。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、θは、負の値を有する。例えば、第１のフィーチャ延長部４０７ａの反対端４０８ａが、第２のフィーチャ延長部４０７ｂと重なるように配置されているが、第２のフィーチャ接合境界４０６ｂと重ならない場合、θ１は負である。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、θは、正の値を有する。例えば、第１のフィーチャ延長部４０７ａの反対端４０８ａが、第２のフィーチャ延長部４０７ｂと重なり、第２のフィーチャ接合境界４０６ｂと重なる場合、θ１は正であり得る。他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、マスクモデリング装置２０４は、θ１＝ｆ（Ｌ１，λ１，Δ）またはΔ＝ｆ（Ｌ１，λ１，θ）を用いて、２つ以上のマスクパターン４０５のスティッチングされた部分４０３のモデルを生成し、スティッチングされた部分４０３は、第１のフィーチャ４０２ａであって、第１のフィーチャ接合境界４０６ａにおいてそこから延びる第１のフィーチャ延長部４０７ａを有する第１のフィーチャ４０２ａ、および対応する第２のフィーチャ４０２ｂであって、第２のフィーチャ接合境界４０６ｂにおいてそこから延びる第２のフィーチャ延長部４０７ｂを有する第２のフィーチャ４０２ｂを含む。

［００３３］第２のフィーチャ４０２ｂに関して測定されたパラメータのそれぞれは、必ずしも第１のフィーチャ４０２ａについての測定値と同じ値を有してはいない。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、第１の複数のフィーチャ接合境界の各第１のフィーチャ接合境界４０６ａは、第１のフィーチャ幅（Ｌ１）を含み、第２の複数のフィーチャ接合境界の各第２のフィーチャ接合境界４０６ｂは、第２のフィーチャ幅（Ｌ２）を含む。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、Ｌ１はＬ２と実質的に等しく、あるいはＬ１はＬ２と等しくない。同様に、パラメータλおよびθのそれぞれは、スティッチングされた部分４０３の第１のフィーチャ４０２ａと第２のフィーチャ４０２ｂとの間で同じであっても異なっていてもよい。さらに、各マスクは、均一なスティッチングされた部分４０３を有することができ、またはスティッチングされた部分４０３は、各マスクパターン４０５の異なる部分で異なっていてもよい。

［００３４］本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、θは、λ、Δ、Ｌ、およびそれらの組み合わせのうちの１つ以上に基づいて決定することができる。例えば、θ＝ｆ（Ｌ，λ，Δ）、Δ＝ｆ（Ｌ，λ，θ）、θ１＝ｆ（Ｌ１，λ１，Δ）、θ２＝ｆ（Ｌ２，λ２，Δ）、Δ＝ｆ（Ｌ１，λ１，θ１）、Δ＝ｆ（Ｌ２，λ２，θ２）、Δ＝ｆ（Ｌ１，λ１，θ１）＝ｆ（Ｌ２，λ２，θ２）、もしくはそれらの組み合わせなどの１つ以上の式が、モデル化され、またはθ、Δ、θ１、θ２、λ１、λ２、もしくはそれらの組み合わせなどのパラメータの１つ以上について解かれることができる。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、フィーチャ接合境界（例えば、４０６ａ、４０６ｂ）でのフィーチャ幅（Ｌ）は、対応するフィーチャ延長部の反対端幅（例えば、４０８ａ、４０８ｂ）よりも大きい。

［００３５］図４Ｄおよび図４Ｅは、マスクパターンファイル４００の説明図である。図４Ｄは、ピッチ４２２およびピッチ４２４を示す。ピッチ４２２は、フィーチャ４１０の第１の前縁４２１およびフィーチャ４１１の第１の前縁４２３から測定される。同様に、ピッチ４２４は、フィーチャ４１６の第１の前縁４２５およびフィーチャ４１７の第１の前縁４２７から測定される。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、各マスクパターン４０５の隣接するフィーチャ間のピッチ（例えば、４２２、４２４）に基づいてθおよび／またはΔを決定するために、モデルを生成することができる。本明細書で使用される「ピッチ」は、隣接するフィーチャの第１の前縁間の距離である。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、マスクパターン（例えば４０５ｂ）は、フィーチャ（例えば４１０と４１１）間に均一なピッチ（例えば４２２）を有することができる。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、マスクパターン（例えば、４０５ｂ）は、図４Ｄのピッチ４２２および４２４によって示されるように、異なるピッチを有することができる。

［００３６］本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、本開示の方法およびシステムで作成することができるマスクパターン４００は、図４Ｄに示すように、角度を付けられたフィーチャも含むことができる。図から分かるように、図４Ｄに示されたマスクパターンファイル４００は、第１のマスク１０４ａと、スティッチングされた部分４０３で第１のマスク１０４ａとスティッチングしている第２のマスク１０４ｂとを含む。さらに、フィーチャ（例えば、４１０、４１１、４１２、４１３、４１４、４１５、４１６、および４１７）は、フィーチャ（例えば、４１０～４１７）間で角度βが異なり、ピッチ（例えば、４２２、４２４）が異なり得る。例えば、フィーチャ（例えば、４１０～４１７）は、約０度、または約３０度、または約９０度、または約１２０度、または約１５０度で角度βを付けることができる。

［００３７］図４Ｅは、スティッチングされた部分４０３を含む第１のマスク１０４ａおよび第２のマスク１０４ｂを有する別の例示的なマスクパターンファイル４００をさらに示す。図４Ｅのマスクパターンファイル４００は、連続的なフィーチャではなく不連続のフィーチャ（例えば４３０）を示している。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、フィーチャ（例えば、４１０～４１７）は、図４Ｄに示されるように、線フィーチャである。図から分かるように、本開示のスティッチング方法３００およびリソグラフィシステム１００では、多数の異なるマスクパターン４０５が可能である。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、隣接するマスクパターン（例えば、４０５ａおよび４０５ｂ）間のスティッチングされた部分４０３は、シームレスである。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、Δは、λより小さい、例えばλの半分より小さい。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、Δは、Ｌより小さい、例えばＬの２５％より小さい。フィーチャ幅（Ｌ）に関して、マスクパターン（例えば、４０５ａ）は、スティッチングされた部分（例えば、４０３ａ、４０３ｂ、４０３ｃ、４０３ｄ、４０３ｆ）のフィーチャ接合境界（例えば、４０６ａ）で均一なフィーチャ幅を有することができ、またはマスクパターン（例えば、４０５ａ）は、図４Ｅに示されるように、スティッチングされた部分（例えば、４０３ｄ、４０３ｅ）におけるフィーチャ接合境界（例えば、４４２および４４４）で異なるフィーチャ幅（例えば、４３２および４３４）を有することができる。

［００３８］さらにまた、フィーチャ延長部形状は、λ、θ、Ｌ、Δ、およびピッチ（例えば、４２２、４２４）のうちの１つ以上に応じて形状が様々であり得る。図４Ｆ～図４Ｉは、様々な形状を有するフィーチャ延長部４０７の例を示す図である。詳細には、図４Ｆは、三角形の形状を有するフィーチャ延長部４０７を示し、図４Ｇは、凸形状を有するフィーチャ延長部４０７を示し、図４Ｈは、凸形状を有するフィーチャ延長部４０７を示し、図４Ｉは、直角形状のフィーチャ延長部４０７を示している。例えば、図４Ｆを参照すると、定数Δとλが、表示条件として使用されている。スティッチングが、より多くの重なり面積を必要とする場合、図４Ｇのフィーチャ延長部４０７の形状が使用される。あるいは、スティッチングが、より少ない重なり面積を必要とする場合、図４Ｈのフィーチャ延長部４０７の形状が使用される。図４Ｉに見られるように、フィーチャ延長部４０７の形状は、線接合軸（例えば軸ｙ）に垂直な軸（例えば軸ｘ）に関して非対称であってもよい。例えば、フィーチャ延長部４０７の形状は、直角三角形であり得る。

［００３９］要約すると、２つ以上のマスクをスティッチングすることにより、２つ以上のマスクのスティッチングされた部分でのシームレスな転写を伴う、大型基板へのマスクパターンの転写を可能にするリソグラフィプロセスの方法が、提供される。本方法のいくつかの実施形態は、光源の伝搬方向に２つ以上のマスクを配置することを含む。マスクは、マスクの下に配置された基板のフォトレジスト層に書き込まれるパターンに対応している。マスクを配置することは、一対のマスクをスティッチングすることを含む。対における第１のマスクは、一組の第１のフィーチャを含み、第１のフィーチャは、第１のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第１のフィーチャ延長部を有し、第２のマスクは、一組の第２のフィーチャを含み、第２のフィーチャは、第２のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第２のフィーチャ延長部を有する。各第１のフィーチャ延長部は、対応する各第２のフィーチャ延長部とスティッチングして、第１の対のマスクの第１のスティッチングされた部分の各スティッチングされた部分を形成し、第１の対のマスクのスティッチングされた部分は、フォトレジスト層に書き込まれるパターンの一部を画定する。

［００４０］上記は本開示の実施形態に向けられているが、本開示の他のさらなる実施形態が、その基本的な範囲から逸脱することなく考案され、その範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。

［００３６］本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、本開示の方法およびシステムで作成することができるマスクパターンファイル４００は、図４Ｄに示すように、角度を付けられたフィーチャも含むことができる。図から分かるように、図４Ｄに示されたマスクパターンファイル４００は、第１のマスク１０４ａと、スティッチングされた部分４０３で第１のマスク１０４ａとスティッチングしている第２のマスク１０４ｂとを含む。さらに、フィーチャ（例えば、４１０、４１１、４１２、４１３、４１４、４１５、４１６、および４１７）は、フィーチャ（例えば、４１０～４１７）間で角度βが異なり、ピッチ（例えば、４２２、４２４）が異なり得る。例えば、フィーチャ（例えば、４１０?４１７）は、約０度、または約３０度、または約９０度、または約１２０度、または約１５０度で角度βを付けることができる。

［００３８］さらにまた、フィーチャ延長部形状は、λ、θ、Ｌ、Δ、およびピッチ（例えば、４２２、４２４）のうちの１つ以上に応じて形状が様々であり得る。図４Ｆ～図４Ｉは、様々な形状を有するフィーチャ延長部４０７の例を示す図である。詳細には、図４Ｆは、三角形の形状を有するフィーチャ延長部４０７を示し、図４Ｇは、凹形状を有するフィーチャ延長部４０７を示し、図４Ｈは、凸形状を有するフィーチャ延長部４０７を示し、図４Ｉは、直角形状のフィーチャ延長部４０７を示している。例えば、図４Ｆを参照すると、定数Δとλが、表示条件として使用されている。スティッチングが、より多くの重なり面積を必要とする場合、図４Ｇのフィーチャ延長部４０７の形状が使用される。あるいは、スティッチングが、より少ない重なり面積を必要とする場合、図４Ｈのフィーチャ延長部４０７の形状が使用される。図４Ｉに見られるように、フィーチャ延長部４０７の形状は、線接合軸（例えば軸ｙ）に垂直な軸（例えば軸ｘ）に関して非対称であってもよい。例えば、フィーチャ延長部４０７の形状は、直角三角形であり得る。

Claims (20)

1. 光源の伝搬方向に２つ以上のマスクを配置することを含む方法であって、
   前記マスクは、前記マスクの下に配置された基板のフォトレジスト層に書き込まれるパターンに対応しており、
   マスクを配置することは、第１のマスクと第２のマスクを含む第１の対のマスクをスティッチングすることを含み、
   前記第１のマスクは、一組の第１のフィーチャであって、第１のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第１のフィーチャ延長部を有する一組の第１のフィーチャを含み、
   前記第２のマスクは、一組の第２のフィーチャであって、第２のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第２のフィーチャ延長部を有する一組の第２のフィーチャを含み、
   各第１のフィーチャ延長部は、対応する各第２のフィーチャ延長部とスティッチングして、前記第１の対のマスクの第１のスティッチングされた部分の各スティッチングされた部分を形成し、前記第１の対のマスクの前記スティッチングされた部分は、前記フォトレジスト層に書き込まれる前記パターンの一部を画定する、
   方法。
2. 前記第１のスティッチングされた部分において各第２のフィーチャ接合境界から対応する各第１のフィーチャ延長部の反対端までの距離として定義される第１のフィーチャ端ロケーション（θ１）を決定することを、さらに含む、請求項１に記載の方法。
3. 各θ１を決定することが、
   各スティッチングされた部分の前記第１のフィーチャ接合境界の各々における第１のフィーチャ幅として定義される第１のフィーチャ幅（Ｌ１）、および
   前記スティッチングされた部分の各第１のフィーチャ接合境界から対応する各第２のフィーチャ接合境界までの距離の半分として定義されるスティッチングシフト（Δ）
   に基づく、請求項２に記載の方法。
4. θ１を決定することが、
   各スティッチングされた部分の前記第１のフィーチャ接合境界の各々における第１のフィーチャ幅として定義される第１のフィーチャ幅（Ｌ１）、および
   各第１のフィーチャ延長部の長さとして定義される第１のフィーチャ延長部長さ（λ１）
   に基づく、請求項２に記載の方法。
5. 前記第１のマスクの隣接するフィーチャ間のピッチに基づいてθ１を決定することを、さらに含み、前記ピッチが、各隣接するフィーチャの第１の前縁間の距離である、請求項２に記載の方法。
6. 各第１のフィーチャ接合境界は、各第１のフィーチャ接合境界の幅として定義される第１のフィーチャ幅（Ｌ１）を備え、各Ｌ１は、前記第１のフィーチャ延長部の対応する各反対端における幅より大きく、
   各第２のフィーチャ接合境界は、各第２のフィーチャ接合境界の幅として定義される第２のフィーチャ幅（Ｌ２）を備え、各Ｌ２は、前記第２のフィーチャ延長部の対応する各反対端における幅より大きい、請求項１に記載の方法。
7. Ｌ１が、Ｌ２と実質的に等しい、請求項６に記載の方法。
8. Ｌ１が、Ｌ２と等しくない、請求項６に記載の方法。
9. 各スティッチングされた部分において各第２のフィーチャ接合境界から対応する各第１のフィーチャ延長部の反対端までの距離として定義される第１のフィーチャ端ロケーション（θ１）に基づいて、第１のフィーチャ延長部形状を決定することを、さらに含む、請求項１に記載の方法。
10. 前記第１のフィーチャ延長部形状が、１つの三角形状、凸形状、および凹形状を有する、請求項９に記載の方法。
11. θ１＝ｆ（Ｌ１，λ１，Δ）またはΔ＝ｆ（Ｌ１，λ１，θ１）を解くことによって前記スティッチングされた部分の寸法を決定することを、さらに含み、
    第１のフィーチャ端ロケーション（θ１）が、各スティッチングされた部分における各第２のフィーチャ接合境界から対応する各第１のフィーチャ延長部の反対端までの距離として定義され、
    スティッチングシフト（Δ）が、各スティッチングされた部分の各第１のフィーチャ接合境界から対応する各第２のフィーチャ接合境界までの距離の半分として定義され、
    第１のフィーチャ幅（Ｌ１）が、各スティッチングされた部分の前記第１のフィーチャ接合境界の各々における第１のフィーチャ幅として定義され、
    第１のフィーチャ延長部長さ（λ１）が、各第１のフィーチャ延長部の長さとして定義される、請求項１に記載の方法。
12. 前記第１のマスクを第３のマスクとスティッチングして第２のスティッチングされた部分を形成することを、さらに含み、前記第２のスティッチングされた部分が、前記フォトレジスト層に書き込まれる前記パターンの第２の部分を画定する、請求項１に記載の方法。
13. 前記マスクを形成することを、さらに含み、前記マスクを形成することが、
    フォトレジスト層に書き込まれる前記パターンを有する設計ファイルを作成することと、
    前記設計ファイルを２つ以上のマスクパターンの間で分割することと、
    前記マスクパターンの各々について複数のフィーチャを生成することと、
    を含み、
    前記マスクパターンの各々のスティッチングするフィーチャが、隣接するマスクパターンの第２のフィーチャ延長部とスティッチングされるべき第１のフィーチャ延長部を含み、
    前記第２のフィーチャ延長部とスティッチングされる前記第１のフィーチャ延長部が、前記マスクパターンから形成された前記マスクのスティッチングにおいて前記フォトレジスト層に書き込まれる前記パターンの一部を画定する、請求項１に記載の方法。
14. 命令を格納する非一時的なコンピュータ可読媒体であって、
    前記命令は、プロセッサによって実行されると、コンピュータシステムに、
    フォトレジスト層に書き込まれるパターンを有する設計ファイルを作成するステップと、
    前記設計ファイルを複数のマスクパターンの間で分割するステップと、
    前記マスクパターンの各々について複数のフィーチャを生成するステップと、
    を実行させ、
    前記マスクパターンの各々の重なり合うフィーチャが、隣接するマスクパターンの第２のフィーチャ延長部とスティッチングされるべき第１のフィーチャ延長部を含み、
    前記第２のフィーチャ延長部の各々とスティッチングされる前記第１のフィーチャ延長部の各々が、前記マスクパターンから形成されたマスクのスティッチングにおいて前記フォトレジスト層に書き込まれる前記パターンの各スティッチングされた部分を画定する、
    非一時的なコンピュータ可読媒体。
15. θ１＝ｆ（Ｌ１，λ１，Δ）、Δ＝ｆ（Ｌ２，λ２，θ２）、θ２＝ｆ（Ｌ２，λ２，Δ）、およびΔ＝ｆ（Ｌ２，λ２，θ２）のうちの１つ以上を解くことによって各スティッチングされた部分の寸法を決定することを、さらに含み、
    第１のフィーチャ端ロケーション（θ１）が、各スティッチングされた部分における各第２のフィーチャ接合境界から対応する各第１のフィーチャ延長部の反対端までの距離として定義され、
    スティッチングシフト（Δ）が、各スティッチングされた部分の各第１のフィーチャ接合境界から対応する各第２のフィーチャ接合境界までの距離の半分として定義され、
    第１のフィーチャ幅（Ｌ１）が、各スティッチングされた部分の前記第１のフィーチャ接合境界の各々における第１のフィーチャ幅として定義され、
    第１のフィーチャ延長部長さ（λ１）が、各第１のフィーチャ延長部の長さとして定義され、
    第２のフィーチャ端ロケーション（θ２）が、各スティッチングされた部分における各第１のフィーチャ接合境界から対応する各第２のフィーチャ延長部の反対端までの距離として定義され、
    第２のフィーチャ幅（Ｌ２）が、各スティッチングされた部分の前記第２のフィーチャ接合境界の各々における第２のフィーチャ幅として定義され、
    第２のフィーチャ延長部長さ（λ２）が、各第２のフィーチャ延長部の長さとして定義される、請求項１４に記載の非一時的なコンピュータ可読媒体。
16. θ１、Ｌ１、λ１、およびΔのうちの１つ以上に基づいて第１のフィーチャ延長部形状を決定することを、さらに含む、請求項１５に記載の非一時的なコンピュータ可読媒体。
17. 各スティッチングされた部分の各第２のフィーチャ接合境界から対応する各第１のフィーチャ延長部の反対端までの距離として定義される第１のフィーチャ端ロケーション（θ１）を決定することを、さらに含む、請求項１４に記載の非一時的なコンピュータ可読媒体。
18. θ１を決定することが、各スティッチングされた部分の第１のフィーチャ接合境界の各々における第１のフィーチャ幅として定義される第１のフィーチャ幅（Ｌ１）と、各スティッチングされた部分の各第１のフィーチャ接合境界から対応する各第２のフィーチャ接合境界までの距離の半分として定義されるスティッチングシフト（Δ）とに基づく、請求項１７に記載の非一時的なコンピュータ可読媒体。
19. θ１を決定することが、マスクパターンの隣接するフィーチャ間のピッチに基づくことを、さらに含み、前記ピッチが、各隣接するフィーチャの第１の前縁間の距離である、請求項１７に記載の非一時的なコンピュータ可読媒体。
20. 命令を格納する非一時的なコンピュータ可読媒体であって、
    前記命令は、プロセッサによって実行されると、コンピュータシステムに、
    設計ファイルを２つ以上のマスクパターンの間で分割するステップと、
    θ１＝ｆ（Ｌ１，λ１，Δ）、Δ＝ｆ（Ｌ２，λ２，θ２）、θ２＝ｆ（Ｌ２，λ２，Δ）、およびΔ＝ｆ（Ｌ２，λ２，θ２）のうちの１つ以上を用いて、前記２つ以上のマスクパターンのスティッチングされた部分のモデルを生成するステップと、
    を実行させ、
    前記スティッチングされた部分は、第１のフィーチャであって、第１のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第１のフィーチャ延長部を有する第１のフィーチャと、対応する第２のフィーチャであって、第２のフィーチャ接合境界においてそこから延びる第２のフィーチャ延長部を有する第２のフィーチャとを含み、
    第１のフィーチャ端ロケーション（θ１）が、各スティッチングされた部分における各第２のフィーチャ接合境界から対応する各第１のフィーチャ延長部の反対端までの距離として定義され、
    スティッチングシフト（Δ）が、各スティッチングされた部分の各第１のフィーチャ接合境界から対応する各第２のフィーチャ接合境界までの距離の半分として定義され、
    第１のフィーチャ幅（Ｌ１）が、各スティッチングされた部分の前記第１のフィーチャ接合境界の各々における第１のフィーチャ幅として定義され、
    第１のフィーチャ延長部長さ（λ１）が、各第１のフィーチャ延長部の長さとして定義され、
    第２のフィーチャ端ロケーション（θ２）が、各スティッチングされた部分における各第１のフィーチャ接合境界から対応する各第２のフィーチャ延長部の反対端までの距離として定義され、
    第２のフィーチャ幅（Ｌ２）が、各スティッチングされた部分の前記第２のフィーチャ接合境界の各々における第２のフィーチャ幅として定義され、
    第２のフィーチャ延長部長さ（λ２）が、各第２のフィーチャ延長部の長さとして定義される、
    非一時的なコンピュータ可読媒体。

Images