JP2023146643A - 処理装置 - Google Patents

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昌史 福田
Masashi Fukuda
泰三 松川
Taizo Matsukawa
淳一 牟田
Junichi Muta
宏典 松本
Hironori Matsumoto
祐人 田村
Yuto Tamura
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Abstract

【課題】撹拌機、及び撹拌機を昇降させる昇降機を備える処理装置において、昇降機の駆動源への被処理物や洗浄液の飛沫の付着の抑制を図ることを目的とする。
【解決手段】
本発明によれば、被処理物を処理する処理装置100であって、処理槽1と、撹拌機2と、昇降機3と、遮蔽材4とを備え、前記処理槽1は、前記被処理物を収容するように構成され、前記撹拌機2は、前記処理槽1内の前記被処理物を撹拌するように構成され、前記昇降機3は、昇降用駆動源31を備え、前記撹拌機2を昇降させるように構成され、前記遮蔽材4は、前記昇降用駆動源31の少なくとも上側及び前記処理槽1に面する側を覆う、処理装置100が提供される。
【選択図】図1

Description

本発明は、被処理物を処理する処理装置に関するものである。
食品の調理等を目的とした処理装置においては、食材等の被処理物を処理槽に収容した後、撹拌機により被処理物の撹拌が行われる場合がある。撹拌機は通常昇降可能であり、撹拌の開始時には撹拌機が処理槽の上方から降下して処理槽内に配置され、撹拌の終了後は撹拌機が上昇して処理槽の外部に取り出される。また、撹拌効率を高めるために、撹拌中に撹拌機を繰り返し上下移動させることも可能である。特許文献1に開示される食品の製造装置は、昇降手段により昇降可能に構成された撹拌羽根を備える。当該昇降手段は駆動源として動力シリンダを備え、当該動力シリンダが生成する動力により撹拌羽根が上下方向に移動可能である。
特開2006-419号公報
撹拌機を昇降させる昇降機は、撹拌機の近傍に通常外部に露出した状態で設置される。このような設置態様においては、撹拌時に発生する被処理物の飛沫や処理槽の洗浄時に発生する洗浄液の飛沫が駆動源である動力シリンダ等に付着しやすく、付着物が菌の温床となり得るため不衛生である他、駆動源の腐食やそれに起因する昇降機の動作不良を引き起こすおそれもあった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、撹拌機と撹拌機を昇降させるための昇降機とを備える処理装置において、昇降機の駆動源への被処理物や洗浄液の飛沫の付着の抑制を図ることを目的とする。
本発明によれば、被処理物を処理する処理装置であって、処理槽と、撹拌機と、昇降機と、遮蔽材とを備え、前記処理槽は、前記被処理物を収容するように構成され、前記撹拌機は、前記処理槽内の前記被処理物を撹拌するように構成され、前記昇降機は、昇降用駆動源を備え、前記撹拌機を昇降させるように構成され、前記遮蔽材は、前記昇降用駆動源の少なくとも上側及び前記処理槽に面する側を覆う、処理装置が提供される。
本発明に係る処理装置は遮蔽材を備え、撹拌機を昇降させるための昇降用駆動源の上側及び側方が、当該遮蔽材により覆われている。このような構成により、被処理物や洗浄液の飛沫が昇降用駆動源に付着することを回避できる。
以下、本発明の種々の実施形態を例示する。以下に示す実施形態は互いに組み合わせ可能である。
好ましくは、前記昇降用駆動源は、前記昇降用駆動源の上側及び前記処理槽に面する側が前記遮蔽材により覆われた状態で動力を生成するように構成される。
好ましくは、前記処理装置は、傾動機を備え、前記傾動機は、傾動用駆動源を備え、前記処理槽を傾動するように構成され、前記遮蔽材は、前記傾動用駆動源の少なくとも前記処理槽に面する側を覆う。
好ましくは、前記昇降機は、前記遮蔽材を貫通して前記撹拌機に接続される接続部材を備え、前記昇降用駆動源は、前記接続部材を介して前記撹拌機に動力を伝達する。
好ましくは、前記昇降機は、動力伝達部材と、前記接続部材としてのシャフトとを備え、前記動力伝達部材は、前記昇降用駆動源が生成する前記動力を前記シャフトに伝達して前記シャフトを回転させるように構成され、前記撹拌機は、前記シャフトの回転により昇降するように構成される。
好ましくは、前記シャフトの外周面の少なくとも一部は、シャフトカバーにより覆われており、前記シャフトカバーは、外側カバーと、内側カバーとを備え、前記外側カバーは、前記内側カバーの少なくとも一端を覆い、前記シャフトと一体的に回転可能に配置され、前記内側カバーは、前記遮蔽材に固定される。
好ましくは、前記内側カバーの前記一端には、前記シャフトの径方向外向きに張り出すフランジ部が設けられる。
本発明の一実施形態に係る処理装置100の上方前面側からの斜視図である。 処理装置100の上方背面側からの斜視図である。 処理装置100の右側面図である。制御装置6は省略されており、遮蔽材4はその外縁のみが二点鎖線で示されている。 処理装置100の背面図である。制御装置6は省略されており、遮蔽材4はその外縁のみが二点鎖線で示されている。 第1カム38の斜視図である。 第2カム57の斜視図である。 図7Aは、処理装置100の平面図である。図7Bは、図7Aにおける領域AのB-B線における断面図である。 図7Bにおける領域Cの拡大図である。 シャフトカバー8の分解斜視図である。 撹拌機2を上昇させた状態の処理装置100の背面図である。制御装置6は省略されており、遮蔽材4はその外縁のみが二点鎖線で示されている。 処理槽1を傾動させた状態の処理装置100の右側面図である。制御装置6は省略されており、遮蔽材4はその外縁のみが二点鎖線で示されている。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。以下に示す実施形態中で示した各特徴事項は、互いに組み合わせ可能である。また、各特徴事項について独立して発明が成立する。
1.全体構成
図1及び図2は、本発明の一実施形態に係る処理装置100の斜視図であり、それぞれ上方前面側及び上方背面側から見た図である。また、図3及び図4は、それぞれ処理装置100の右側面図及び背面図である視認性の観点から、図3及び図4において制御装置6は省略されており、遮蔽材4はその外縁のみが二点鎖線で示されている。処理装置100は、被処理物を処理するための装置である。本実施形態の処理装置100は、被処理物としての食品を加熱調理するために用いられる。処理装置100は、処理槽1と、撹拌機2と、昇降機3と、遮蔽材4と、傾動機5と、制御装置6と、これらの構成要素を設置するためのフレーム7とを備える。なお、以下の説明において、処理装置100の上下、前後、左右方向を、図1に示すように定める。つまり、鉛直方向を上下方向とし、処理装置100において制御装置6がある側を前方向としその反対に向かう方向を後方向とし、制御装置6に向かって左側及び右側に向かう方向をそれぞれ左方向及び右方向と定める。
処理槽1は、被処理物を収容する。本実施形態の処理槽1は、図1及び図2に示すように、上部が開放された容器であり、開口部15から被処理物が投入され、内部に収容される。処理槽1の外側には、処理槽1の底面及び側面の少なくとも一部を覆うようにジャケット11が設けられており、ジャケット11と処理槽1との間には、蒸気を導入可能な空間(蒸気室)が設けられている。ジャケット11の底壁には蒸気導入口12が設けられており、蒸気導入口12に接続された給蒸路(不図示)から蒸気室へ高温の蒸気を供給することにより、処理槽1内の被処理物を間接的に加熱することができる。また、ジャケット11の底壁には、ドレンソケット13が設けられており、蒸気の凝縮水はドレンソケット13に接続された排水路(不図示)を経由して外部へ排出される。
処理槽1は、フレーム7から浮いた状態で、処理槽1を左右の側から挟むように設けられた1対の支持部材14a,14bにより支持されている。具体的には、処理槽1の側面には、左右方向外側へ突出する軸部(不図示)が設けられており、軸部が支持部材14a,14bに支持されている。1対の支持部材14a,14bのうち一方の支持部材14aは、フレーム7から上方に延びるように設けられた第1スタンド71に回転可能に支持されている。また、他方の支持部材14bは、傾動機5に接続されている。処理槽1は傾動機5により駆動されて傾動可能であり、処理槽1を傾動させることで処理後の被処理物を床面からの高さを確保して取り出すことが可能となる。
処理槽1には、処理状態を検出するための各種センサ(不図示)が設けられる。当該センサとしては、処理槽1内の被処理物の重量を検出する重量センサ、蒸気室内の圧力を検出する圧力センサ、及び処理槽内の被処理物の温度を検出する温度センサが例示される。センサによる検出信号は、制御装置6へ送られる。
なお、処理装置100は、食品の加熱調理専用の上記構成に限定されない。例えば、処理装置100を、食品の加熱及び冷却調理が可能(加熱及び冷却調理兼用)となるように、又は冷却調理のみが可能(冷却調理専用)となるように構成してもよい。処理装置100が加熱及び冷却調理兼用の場合、冷却水を導入するための冷却水導入口と冷却水を排出するための冷却水排出口とをジャケット11に設け、蒸気室に冷却水を導入することで、処理槽1内の被処理物を間接的に冷却することができる。
撹拌機2は、処理槽1内の被処理物を攪拌する。本実施形態の撹拌機2は、図2に示すように、撹拌駆動装置21と、回転盤22と、撹拌軸23と、撹拌羽根24と、アーム25とを備える。撹拌駆動装置21は、処理槽1の上方に張り出すように配置されるハウジング21a内に、モータ等の駆動源を配置して構成される。
回転盤22は、円盤状の部材であり、撹拌駆動装置21の下方に配置され、撹拌駆動装置21内に設けられたモータ(不図示)によって回転可能である。回転盤22の底面には、円盤の中心よりも径方向において外側の位置に撹拌軸23の基端が取り付けられている。撹拌軸23の先端には、撹拌羽根24が取り付けられている。なお、本実施形態の撹拌機2は1組の撹拌軸23及び撹拌羽根24を備えるが、回転盤22の底面に2組以上の撹拌軸23及び撹拌羽根24を設けてもよい。
回転盤22が回転すると、撹拌軸23及び撹拌羽根24が円盤の中心の周りを旋回するように回転する。また、撹拌軸23は、少なくとも先端側の一部がモータ(不図示)によって撹拌羽根24と一体的に自転可能に構成されている。撹拌機2により処理槽1内の被処理物を撹拌することにより、被処理物の処理効率を高めることができる。撹拌機2は、底面に設けられたアーム25を介して昇降機3に接続されている。
昇降機3は、昇降用駆動源31を備え、撹拌機2を処理槽1に対して昇降させる。本実施形態における昇降用駆動源31は、電動シリンダであり、図3及び図4に示すように、モータ32によりロッド33をシリンダボディ34に対して伸縮可能に構成される。なお、昇降用駆動源31として、油圧シリンダ、エアシリンダ等の他の動力シリンダを用いてもよい。昇降用駆動源31は、1対の固定部材35を用いて、固定部材35によりシリンダボディ34の側部を前後方向に挟むように、フレーム7上にベース板73を介して設置されている。ここで、昇降用駆動源31は、1対の固定部材35に対して、昇降用駆動源31の長手方向に直交する接続軸36周りに所定の角度範囲で回転可能に取り付けられている。
昇降用駆動源31は、少なくとも上側及び処理槽1に面する側が、遮蔽材4によって覆われている。本実施形態では、昇降用駆動源31の上側及び処理槽1に面する側を含む側方が、遮蔽材4によって覆われている。なお、本実施形態において、「側方」とは上側及び下側以外の面(側面)の側を指す。つまり、本実施形態における昇降用駆動源31の側方は、昇降用駆動源31の前後左右の側面の側を指す。遮蔽材4は、複数の板状部材を用いて構成可能であり、板状部材の素材としては金属や樹脂等を用いることができる。また、本実施形態の昇降用駆動源31は、その上側及び処理槽1に面する側を含む側方が遮蔽材4により覆われた状態で動力を生成する。つまり、ロッド33がシリンダボディ34に対して最大限縮んだ状態から最大限伸びた状態までの何れの状態においても、昇降用駆動源31の上側及び処理槽1に面する側を含む側方は遮蔽材4により覆われており遮蔽材4の外側に露出していない。具体的には、昇降用駆動源31の上側、及び処理槽1に面する側を含む側方が遮蔽材4によって覆われており、昇降用駆動源31は、ロッド33がシリンダボディ34に対して最大限縮んだ状態から最大限伸びた状態までの何れの状態においても、遮蔽材4により画定される空間41内に収容されている。上記の構成により、撹拌時に発生する被処理物や処理槽1の洗浄時に発生する洗浄液の飛沫が昇降用駆動源31に付着することを回避できる。
本実施形態の昇降機3は、接続部材としての第1シャフト37と、動力伝達部材としての第1カム38とをさらに備える。第1シャフト37は、図3に示すように、遮蔽材4を貫通して撹拌機2に接続され、昇降用駆動源31が生成した動力を撹拌機2に伝達する。本実施形態の第1シャフト37は、前後方向に沿って配置され、その一端が遮蔽材4を貫通して空間41内に挿入される。具体的には、遮蔽材4に挿通孔42が形成されており、第1シャフト37の一端は挿通孔42から空間41内に挿入される。第1シャフト37は、空間41内において第1カム38を介して昇降用駆動源31に接続されている。また、第1シャフト37は、撹拌機2のアーム25を貫通し、フレーム7上の第2スタンド72の上面に設けられた軸受け39に回転可能に支持されている。
ここで、挿通孔42の内径は、図7Bにも示すように、第1シャフト37の回転を阻害しないよう、第1シャフト37の外径よりも十分に大きく設定される。また、挿通孔42は、第1シャフト37の外周面を覆うシャフトカバー8により閉止されている。なお、シャフトカバー8の構成の詳細については、後述する。
第1カム38は、昇降用駆動源31が生成する動力を第1シャフト37に伝達して第1シャフト37を回転させるように構成される。本実施形態の第1カム38は、図5に示すように、貫通孔38a1が形成された略環状の第1部分38aと、第1部分38aから延びる略L字状の第2部分38bとを備える。第1部分38aの貫通孔38a1に第1シャフト37の一端が挿通され、第2部分38bに昇降用駆動源31のロッド33の先端が接続される。このような構成においては、昇降用駆動源31のロッド33が伸縮すると、第1カム38が貫通孔38a1の周りに回転するとともに、貫通孔38a1に一端が挿入された第1シャフト37がその長手方向に沿った回転軸周りに回転する。すなわち、昇降用駆動源31のロッド33の直線運動が、第1カム38により回転運動に変換されて第1シャフト37へ伝達される。第1シャフト37が回転すると、アーム25が第1シャフト37と一体的に回転し、撹拌機2の撹拌軸23及び撹拌羽根24が処理槽1に対して昇降する。
上記の昇降機3の構成においては、昇降用駆動源31が生成した動力が第1シャフト37を介して撹拌機2に伝達される。昇降用駆動源31を撹拌機2と距離を取って配置可能であるため、昇降用駆動源31を遮蔽材4で覆うことが容易となる。なお、本実施形態において第1シャフト37の少なくとも一部は外部に露出しているが、第1シャフト37は昇降用駆動源31と比較して形状及び構造が単純で洗浄が容易であるため、被処理物や洗浄液の飛沫が付着しても容易に除去可能である。
傾動機5は、傾動用駆動源51を備え、処理槽1を傾動させる。本実施形態における傾動用駆動源51は、油圧シリンダであり、図3及び図4に示すように、油の供給によりロッド52をシリンダボディ53に対して伸縮可能に構成される。なお、傾動用駆動源51として、電動シリンダ、エアシリンダ等の他の動力シリンダを用いてもよい。傾動用駆動源51は、固定部材54を用いてフレーム7上にベース板73を介して設置されている。ここで、傾動用駆動源51は、固定部材54に対して、傾動用駆動源51の長手方向に直交する接続軸55周りに所定の角度範囲で回転可能に取り付けられている。
傾動用駆動源51は、少なくとも処理槽1に面する側が、遮蔽材4によって覆われている。また、遮蔽材4によって傾動用駆動源51の上側がさらに覆われていることが好ましい。本実施形態では、傾動用駆動源51の処理槽1に面する側を含む側方及び上側が、遮蔽材4によって覆われている。なお、本実施形態における傾動用駆動源51の側方は、傾動用駆動源51の前後左右の側面の側を指す。このような構成により、撹拌時に発生する被処理物や処理槽1の洗浄時に発生する洗浄液の飛沫が傾動用駆動源51に付着することを回避できる。本実施形態においては、傾動用駆動源51の上側、及び処理槽1に面する側を含む側方が遮蔽材4によって覆われており、傾動用駆動源51は、ロッド52がシリンダボディ53に対して最大限縮んだ状態から最大限伸びた状態までの何れの状態においても、空間41内に収容されている。
本実施形態の傾動機5は、第2シャフト56と、第2カム57とをさらに備える。第2シャフト56は、左右方向に沿って配置され、その一端が支持部材14bに接続され、他端が第2カム57を介して傾動用駆動源51に接続される。
第2カム57は、図6に示すように、貫通孔57a1が形成された環状の第1部分57aと、第1部分57aから延びる第2部分57bとを備える。第1部分57aの貫通孔57a1に第2シャフト56の一端が挿通され、第2部分57bの端部に設けられたヒンジ部57cに傾動用駆動源51のロッド52の先端が接続される。このような構成においては、傾動用駆動源51のロッド52が伸縮すると、第2カム57が貫通孔57a1の周りに回転するとともに、貫通孔57a1に一端が挿入された第2シャフト56がその長手方向に沿った回転軸周りに回転する。第2シャフト56が回転すると、支持部材14bが第2シャフト56と一体的に回転し、処理槽1が傾動する。
上記の傾動機5の構成においては、傾動用駆動源51が生成した動力が第2シャフト56を介して処理槽1に伝達される。傾動用駆動源51を処理槽1と距離を取って配置可能であるため、傾動用駆動源51を遮蔽材4で覆うことが容易となる。また、本実施形態においては、傾動用駆動源51及び昇降用駆動源31が遮蔽材4により画定される同一の空間41内に収容されており、処理装置100をコンパクトにできる。
制御装置6は、処理槽1のセンサからの検出信号や、処理開始後の経過時間等に基づき、上記の構成要素を制御する。具体的には、制御装置6は、撹拌駆動装置21、昇降用駆動源31、傾動用駆動源51を制御する他、処理槽1の蒸気室への蒸気の供給に係る制御を行う。
制御装置6は、具体的には例えば、CPU、メモリ(例えばフラッシュメモリ)、入力部及び出力部を備えた情報処理装置により構成することができる。そして、情報処理装置により構成された制御装置6による処理は、メモリに記憶されたプログラムをCPUが読み出して実行することで行われる。情報処理装置としては、例えば、パーソナルコンピュータ、PLC(プログラマラブルロジックコントローラ)あるいはマイコンが用いられる。ただし、制御装置6の一部の機能を、任意の通信手段により接続されたクラウド上で実行されるよう構成しても良い。
2.シャフトカバー8
図7Aから図9を参照して、シャフトカバー8の構成について説明する。図7Aは、処理装置100の平面図であり、図7Bは、図7Aにおける領域AのB-B線における断面図である。図8は、図7Bにおける領域Cの拡大図である。また、図9は、シャフトカバー8の分解斜視図である。
シャフトカバー8は、第1シャフト37の外周面の少なくとも一部を覆う。本実施形態のシャフトカバー8は、第1シャフト37のうち挿通孔42に対して空間41の外側に位置する一部の外周面を覆うとともに、遮蔽材4の挿通孔42を閉止する。シャフトカバー8は、遮蔽材4に固定される内側カバー81と、内側カバー81の少なくとも一部を覆い、第1シャフト37と一体的に回転可能に配置される外側カバー85とを備える。
本実施形態の内側カバー81は、図9に示すように、円筒部82と、被固定部83と、フランジ部84とを備える。図7Bに示すように、円筒状の円筒部82の内径は、第1シャフト37の回転を阻害しないよう第1シャフト37の外径よりも十分に大きく設定される。また、遮蔽材4の挿通孔42をより確実に閉止するために、円筒部82の内径を挿通孔42の内径よりも大きく設定することが好ましい。
フランジ部84は、内側カバー81の一端に、第1シャフト37の径方向外向きに張り出すように設けられる。具体的には、円筒部82の一端から径方向外向きに張り出すように設けられる。
被固定部83は、円筒部82の他端から径方向外向きに張り出すように設けられる。被固定部83を遮蔽材4に対してネジ止め又は溶接することで、内側カバー81を遮蔽材4に固定可能である。
本実施形態の外側カバー85は、嵌合円筒部86と、被覆円筒部87とを備える。嵌合円筒部86は、第1シャフト37の外周面に対して嵌合可能となる程度のクリアランスを設けたうえで、その内径が第1シャフト37の外径と概ね同じとなるように構成されている。嵌合円筒部86が第1シャフト37に嵌合することで、外側カバー85が第1シャフト37と一体的に回転可能となる。
被覆円筒部87は、嵌合円筒部86から径方向外向きに張り出すように設けられ、内側カバー81のフランジ部84と円筒部82の少なくとも一部とを覆う。ここで、外側カバー85は、内側カバー81と接触しておらず、内側カバー81と近接している箇所には微小な間隙が設けられる。具体的には、図7B及び図8に示すように、被覆円筒部87とフランジ部84とが近接している箇所には間隙G1が設けられ、被覆円筒部87と被固定部83とが近接している箇所には間隙G2が設けられる。なお、間隙G1の第1シャフト37の軸方向に沿った大きさは、好ましくは1mm未満であり、間隙G2の当該軸方向に沿った大きさは、好ましくは1~3mmである。
上記の構成においては、シャフトカバー8が挿通孔42を閉止することにより、被処理物や洗浄液の飛沫が挿通孔42から侵入し、昇降用駆動源31や傾動用駆動源51に付着することを回避できる。遮蔽材4の挿通孔42は、第1シャフト37の外径に合わせて高精度に形成することが困難であり、第1シャフト37を確実に挿通可能とするために第1シャフト37の外周面との間のクリアランスを比較的大きく確保する必要がある。このように比較的大きいクリアランスは、Oリングのような部材を埋め込むことで閉止することが難しい。本実施形態のシャフトカバー8は、第1シャフト37の外周面との間のクリアランスが大きい挿通孔42であっても、確実に閉止することが可能である。
また、第1シャフト37と一体的に回転する外側カバー85が内側カバー81と接触していないため、外側カバー85が回転した際に内側カバー81との間に発生する摩擦を抑制することができる。また、内側カバー81には径方向外向きに張り出すフランジ部84が設けられ、フランジ部84が被覆円筒部87により覆われている。これにより、外側カバー85と内側カバー81との間に間隙G1,G2が設けられていても、被処理物や洗浄液の飛沫が挿通孔42から侵入しない構造となっている。
3.処理装置100の動作
処理装置100の動作、特に、昇降機3による撹拌機2の昇降時、及び傾動機5による処理槽1の傾動時の動作について、図3、図4、図10、及び図11を参照して詳細に説明する。図10は、撹拌機2を上昇させた状態の処理装置100の背面図であり、図11は、処理槽1を傾動させた状態の処理装置100の右側図である。視認性の観点から、図10及び図11において制御装置6は省略されており、遮蔽材4はその外縁のみが二点鎖線で示されている。
処理槽1に開口部15から被処理物を投入する際には、撹拌機2を処理槽1に対して上昇させ、図10に示すように撹拌羽根24が処理槽1の外部に取り出された状態とする。この状態において、昇降用駆動源31は、ロッド33がシリンダボディ34に対して最大限伸びた状態にある。また、処理槽1を傾動させずに、開口面が水平面に沿った水平状態とする。この状態において、傾動用駆動源51は、図3に示すようにロッド52がシリンダボディ53に対して最大限縮んだ状態にある。
被処理物の投入完了後、処理が開始される。制御装置6による制御のもと、処理槽1の蒸気室へ蒸気が供給され、被処理物の加熱調理が行われる。この際、被処理物を攪拌するために、撹拌機2を処理槽1に対して下降させ、図4に示すように撹拌羽根24を処理槽1の内部に配置する。具体的には、昇降用駆動源31を作動させ、ロッド33をシリンダボディ34に対して縮ませる。ロッド33の収縮運動に伴い第1カム38及び第1シャフト37が回転し、第1シャフト37に接続された撹拌機2が下降して撹拌羽根24が処理槽1の内部に配置される。この状態において、昇降用駆動源31は、ロッド33がシリンダボディ34に対して最大限縮んだ状態にある。なお、昇降用駆動源31は、ロッド33の伸縮時に、第1カム38の回転に付随して接続軸36周りに回転する。撹拌機2の下降完了後、撹拌駆動装置21が作動して撹拌が行われる。
処理が完了し被処理物を処理槽1から取り出す際には、撹拌機2を処理槽1に対して上昇させ、図10に示すように撹拌羽根24が処理槽1の外部に取り出された状態とする。具体的には、昇降用駆動源31を作動させ、ロッド33をシリンダボディ34に対して伸ばす。ロッド33の伸長運動に伴い第1カム38及び第1シャフト37がロッド33の収縮時とは逆方向に回転し、これにより第1シャフト37に接続された撹拌機2が上昇して撹拌羽根24が処理槽1の外部に取り出される。
さらに、処理槽1を傾動させ、図11に示すように開口面が水平面に対して所定角度(図8においては90°)傾動した状態とする。これにより、処理槽1内の被処理物を開口部15の直下に配置した容器(不図示)等に移すことができる。具体的には、傾動用駆動源51を作動させ、ロッド52をシリンダボディ53に対して伸ばす。ロッド52の伸長運動に伴い第2カム57及び第2シャフト56が回転し、これにより支持部材14bが回転して処理槽1が傾動する。なお、傾動用駆動源51は、ロッド52の伸縮時に、第2カム57の回転に付随して接続軸55周りに回転する。
被処理物の取出しが完了し処理槽1を水平状態に戻す際には、傾動用駆動源51を再び作動させ、ロッド52をシリンダボディ53に対して縮ませる。ロッド52の収縮運動に伴い第2カム57及び第2シャフト56がロッド52の伸長時とは逆方向に回転し、これにより支持部材14bが回転して図3に示すように処理槽1が水平状態に戻る。
撹拌機2の昇降の過程において、昇降用駆動源31は、ロッド33の伸縮状態にかかわらず上側及び処理槽1に面する側が常に遮蔽材4により覆われている。また、処理槽1の傾動の過程において、傾動用駆動源51は、ロッド52の伸縮状態にかかわらず上側及び処理槽1に面する側が常に遮蔽材4により覆われている。処理槽1側から被処理物や洗浄液が飛散したとしても、遮蔽材4の存在により各駆動源31,51への付着が回避できる。
なお、撹拌機2の昇降は、処理の開始時及び被処理物の取出時だけでなく、処理と並行して行われてもよい。例えば、撹拌効率を高めるために、被処理物の処理の最中に撹拌機2を繰り返し上下移動させてもよい。この場合は、撹拌羽根24が処理槽1の内部で被処理槽と接触された状態が維持されるように、比較的小さい距離で撹拌機を上下移動させることが好ましい。
4.他の実施形態
本発明は、以下の態様でも実施可能である。
上記実施形態では、昇降用駆動源31及び傾動用駆動源51として動力シリンダを用いたが、各駆動源の構成はこれに限定されるものではない。一例として、各駆動源を、モータを用いて構成してもよい。この場合、第1カム38及び第2カム57の代わりにギアを用い、各駆動源が生成する動力を、当該ギアを介して第1シャフト37及び第2シャフト56にそれぞれ伝達する構成としてもよい。或いは、モータの回転運動を第1シャフト37及び第2シャフト56に直接伝達する構成としてもよい。また、必要に応じてモータと減速機を組み合わせて用いてもよい。
上記実施形態では、処理装置100に昇降用駆動源31及び傾動用駆動源51が設けられ、遮蔽材4が昇降用駆動源31及び傾動用駆動源51を覆う構成であったが、このような構成に限定されるものではない。一例として、遮蔽材4が昇降用駆動源31のみを覆う構成であってもよい。また、処理装置100に傾動用駆動源51を含む傾動機5を含まない構成であってもよい。
上記実施形態では、第1シャフト37及び第1カム38を介して昇降用駆動源31と撹拌機2を接続したが、昇降用駆動源31と撹拌機2の接続態様はこれに限定されるものではない。一例として、昇降用駆動源31と撹拌機2を直接接続して、昇降用駆動源31の上側及び処理槽1に面する側を遮蔽材4により覆う構成としてもよい。
以上、本発明に係る種々の実施形態を説明したが、これらは例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。当該新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。当該実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1 :処理槽
2 :撹拌機
3 :昇降機
4 :遮蔽材
5 :傾動機
6 :制御装置
7 :フレーム
8 :シャフトカバー
11 :ジャケット
12 :蒸気導入口
13 :ドレンソケット
14a :支持部材
14b :支持部材
15 :開口部
21 :撹拌駆動装置
21a :ハウジング
22 :回転盤
23 :撹拌軸
24 :撹拌羽根
25 :アーム
31 :昇降用駆動源
32 :モータ
33 :ロッド
34 :シリンダボディ
35 :固定部材
36 :接続軸
37 :第1シャフト
38 :第1カム
38a :第1部分
38a1 :貫通孔
38b :第2部分
39 :軸受け
41 :空間
42 :挿通孔
51 :傾動用駆動源
52 :ロッド
53 :シリンダボディ
54 :固定部材
55 :接続軸
56 :第2シャフト
57 :第2カム
57a :第1部分
57a1 :貫通孔
57b :第2部分
57c :ヒンジ部
71 :第1スタンド
72 :第2スタンド
73 :ベース板
81 :内側カバー
82 :円筒部
83 :被固定部
84 :フランジ部
85 :外側カバー
86 :嵌合円筒部
87 :被覆円筒部
100 :処理装置
G1 :間隙
G2 :間隙

Claims (7)

  1. 被処理物を処理する処理装置であって、
    処理槽と、撹拌機と、昇降機と、遮蔽材とを備え、
    前記処理槽は、前記被処理物を収容するように構成され、
    前記撹拌機は、前記処理槽内の前記被処理物を撹拌するように構成され、
    前記昇降機は、昇降用駆動源を備え、前記撹拌機を昇降させるように構成され、
    前記遮蔽材は、前記昇降用駆動源の少なくとも上側及び前記処理槽に面する側を覆う、処理装置。
  2. 請求項1に記載の処理装置であって、
    前記昇降用駆動源は、前記昇降用駆動源の上側及び前記処理槽に面する側が前記遮蔽材により覆われた状態で動力を生成するように構成される、処理装置。
  3. 請求項1又は請求項2に記載の処理装置であって、
    傾動機を備え、
    前記傾動機は、傾動用駆動源を備え、前記処理槽を傾動するように構成され、
    前記遮蔽材は、前記傾動用駆動源の少なくとも前記処理槽に面する側を覆う、処理装置。
  4. 請求項1から請求項3の何れか1つに記載の処理装置であって、
    前記昇降機は、前記遮蔽材を貫通して前記撹拌機に接続される接続部材を備え、
    前記昇降用駆動源は、前記接続部材を介して前記撹拌機に動力を伝達する、処理装置。
  5. 請求項4に記載の処理装置であって、
    前記昇降機は、動力伝達部材と、前記接続部材としてのシャフトとを備え、
    前記動力伝達部材は、前記昇降用駆動源が生成する前記動力を前記シャフトに伝達して前記シャフトを回転させるように構成され、
    前記撹拌機は、前記シャフトの回転により昇降するように構成される、処理装置。
  6. 請求項5に記載の処理装置であって
    前記シャフトの外周面の少なくとも一部は、シャフトカバーにより覆われており、
    前記シャフトカバーは、外側カバーと、内側カバーとを備え、
    前記外側カバーは、前記内側カバーの少なくとも一端を覆い、前記シャフトと一体的に回転可能に配置され、
    前記内側カバーは、前記遮蔽材に固定される、処理装置。
  7. 請求項6に記載の処理装置であって、
    前記内側カバーの前記一端には、前記シャフトの径方向外向きに張り出すフランジ部が設けられる、処理装置。
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