JP2023142035A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本開示は、カップ部材の状態を精度よく取得することが可能な基板処理装置及び基板処理方法を説明する。【解決手段】基板処理装置は、ベース部と、ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、基板又は検査用基板を保持するように構成された保持部と、保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、保持部に保持された基板に処理液を供給するように構成された処理液供給部と、保持部を外側から取り囲むように構成されたカップ部材と、制御部とを備える。制御部は、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、カップ部材に対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、第１の処理の後に、撮像部を制御して、第１の撮像位置においてベース部の外周縁よりもカップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第２の処理とを実行するように構成されている。【選択図】図２

Description

本開示は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。

特許文献１は、基板を保持する保持部と、保持部の周囲に配置された飛散防止カップと、保持部に保持された基板に処理液を供給する処理液供給ノズルと、処理液供給ノズル及び飛散防止カップの上方に配置され且つ処理液供給ノズルと基板面との間における処理液の供給経路を撮像する撮像手段と、撮像手段によって撮像された処理液の供給状態が異常である場合に、予め決められた動作を行う制御手段とを備える基板処理装置を開示している。

特開平１１－３２９９３６号公報

本開示は、カップ部材の状態を精度よく取得することが可能な基板処理装置及び基板処理方法を説明する。

基板処理装置の一例は、ベース部と、ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、基板又は検査用基板を保持するように構成された保持部と、保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、保持部に保持された基板に処理液を供給するように構成された処理液供給部と、保持部を外側から取り囲むように構成されたカップ部材と、制御部とを備える。制御部は、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、カップ部材に対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、第１の処理の後に、撮像部を制御して、第１の撮像位置においてベース部の外周縁よりもカップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第２の処理とを実行するように構成されている。

本開示に係る基板処理装置及び基板処理方法によれば、カップ部材の状態を精度よく取得することが可能となる。

図１は、基板処理システムの一例を模式的に示す平面図である。 図２は、液処理ユニットの一例を模式的に示す側面図である。 図３は、基板処理システムの主要部の一例を示すブロック図である。 図４は、コントローラのハードウェア構成の一例を示す概略図である。 図５は、カップ部材の状態を検査する手順の一例を説明するためのフローチャートである。 図６は、撮像位置の調整の一例を説明するための、検査用基板の上面図である。 図７は、カップ部材の高さの算出方法を説明するための図であり、図７（ａ）は、液処理ユニットの一部を模式的に示す側面図であり、図７（ｂ）は、カップ部材が略全周にわたって撮像された撮像画像を平面に展開した画像の一例を示す図である。 図８は、カップ部材の傾きの算出方法を説明するための図であり、図８（ａ）は、液処理ユニットの一部を模式的に示す側面図であり、図８（ｂ）は、カップ部材が略全周にわたって撮像された撮像画像を平面に展開した画像の一例を示す図である。 図９は、カップ部材における異常の算出方法を説明するための図であり、カップ部材が略全周にわたって撮像された撮像画像を平面に展開した画像の一例を示す図である。 図１０は、検査用基板の他の例を示す側面図である。

以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。なお、本明細書において、図の上、下、右、左というときは、図中の符号の向きを基準とすることとする。

［基板処理システム］
まず、図１を参照して、基板Ｗを処理するように構成された基板処理システム１（基板処理装置）について説明する。基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３と、コントローラＣｔｒ（制御部）とを備える。搬入出ステーション２及び処理ステーション３は、例えば水平方向に一列に並んでいてもよい。

基板Ｗは、円板状を呈してもよいし、多角形など円形以外の板状を呈していてもよい。基板Ｗは、一部が切り欠かれた切欠部を有していてもよい。切欠部は、例えば、ノッチ（Ｕ字形、Ｖ字形等の溝）であってもよいし、直線状に延びる直線部（いわゆる、オリエンテーション・フラット）であってもよい。基板Ｗは、例えば、半導体基板（シリコンウエハ）、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）基板その他の各種基板であってもよい。基板Ｗの直径は、例えば２００ｍｍ～４５０ｍｍ程度であってもよい。

搬入出ステーション２は、載置部４と、搬入搬出部５と、棚ユニット６（収容チャンバ）とを含む。載置部４は、幅方向（図１の上下方向）において並ぶ複数の載置台（図示せず）を含んでいる。各載置台は、キャリア７を載置可能に構成されている。キャリア７は、少なくとも一つの基板Ｗを密封状態で収容するように構成されている。キャリア７は、基板Ｗを出し入れするための開閉扉（図示せず）を含む。

搬入搬出部５は、搬入出ステーション２及び処理ステーション３が並ぶ方向（図１の左右方向）において、載置部４に隣接して配置されている。搬入搬出部５は、載置部４に対して設けられた開閉扉（図示せず）を含む。載置部４上にキャリア７が載置された状態で、キャリア７の開閉扉と搬入搬出部５の開閉扉とが共に開放されることで、搬入搬出部５内とキャリア７内とが連通する。

搬入搬出部５は、搬送アームＡ１及び棚ユニット６を内蔵している。搬送アームＡ１は、搬入搬出部５の幅方向における水平移動と、鉛直方向における上下動と、鉛直軸周りにおける旋回動作とが可能に構成されている。搬送アームＡ１は、キャリア７から基板Ｗを取り出して棚ユニット６に渡し、また、棚ユニット６から基板Ｗを受け取ってキャリア７内に戻すように構成されている。棚ユニット６は、処理ステーション３の近傍に位置しており、基板Ｗ及び検査用基板Ｊ（詳しくは後述する）を収容するように構成されている。

処理ステーション３は、搬送部８と、複数の液処理ユニットＵとを含む。搬送部８は、例えば、搬入出ステーション２及び処理ステーション３が並ぶ方向（図１の左右方向）において水平に延びている。搬送部８は、搬送アームＡ２（搬送部）を内蔵している。搬送アームＡ２は、搬送部８の長手方向における水平移動と、鉛直方向における上下動と、鉛直軸周りにおける旋回動作とが可能に構成されている。搬送アームＡ２は、棚ユニット６から基板Ｗ又は検査用基板Ｊを取り出して液処理ユニットＵに渡し、また、液処理ユニットＵから基板Ｗ又は検査用基板Ｊを受け取って棚ユニット６内に戻すように構成されている。

［液処理ユニット］
続いて、図２を参照して、液処理ユニットＵについて詳しく説明する。液処理ユニットＵは、チャンバ１０と、送風部２０と、整流部３０と、回転保持部４０と、回収カップ５０（カップ部材、外側カップ体）と、洗浄カップ６０（カップ部材）と、ミストガード７０（カップ部材）と、上側供給部８０（処理液供給部、洗浄液供給部）と、下側供給部９０とを含む。

チャンバ１０は、その内部において、処理液等による基板Ｗの処理が行われるように構成されている。チャンバ１０の側壁には、図示しない搬入搬出口が形成されている。基板Ｗは、搬送アームＡ２により、当該搬入搬出口を通じて、チャンバ１０の内部に搬送され、また、チャンバ１０から外部に搬出される。

送風部２０は、チャンバ１０の天壁に形成された開口１０ａを覆うように取り付けられている。送風部２０は、送風部２０は、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、下方に向かう下降流をチャンバ１０内に形成するように構成されている。

整流部３０は、チャンバ１０内の上部に配置されており、チャンバ１０の内部空間を上下に区画するように水平に延びている。整流部３０は、多数の孔が形成された板状体であり、例えばパンチングメタル、エキスパンドメタル、金網などであってもよい。整流部３０は、送風部２０によって形成された下降流を整流して、整流部３０よりも下方のチャンバ１０内における下降流の分布を整えるように構成されている。

回転保持部４０は、回転軸４１と、駆動部４２と、支持プレート４３（保持部）と、複数の支持ピン４４（保持部）と、内側カップ体４５（カップ部材）とを含む。回転軸４１は、鉛直方向に沿って延びる中空の管状部材である。回転軸４１は、回転中心軸Ａｘ周りにおいて回転可能となるように構成されている。

駆動部４２は、回転軸４１に接続されている。駆動部４２は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、回転軸４１を回転させるように構成されている。駆動部４２は、例えば電動モータ等の動力源であってもよい。

支持プレート４３は、例えば円環状を呈する平板であり、水平に沿って延びている。すなわち、支持プレート４３の中央部には、貫通孔４３ａが形成されている。支持プレート４３の内周部は、回転軸４１の先端部に接続されている。そのため、支持プレート４３は、回転軸４１の回転中心軸Ａｘ周りに、回転軸４１の回転に伴って回転するように構成されている。

複数の支持ピン４４は、支持プレート４３の上面４３ｂから上方に向けて突出するように支持プレート４３に設けられている。複数の支持ピン４４は、これらの先端と基板Ｗの裏面とが当接することで、基板Ｗを略水平に支持するように構成されている。複数の支持ピン４４は、例えば、円柱形状を呈していてもよいし、錐台状を呈していてもよい。複数の支持ピン４４は、支持プレート４３の外周部の近傍において、上方から見て全体として円形状をなすように略等間隔に配置されていてもよい。例えば、複数の支持ピン４４が１２個の場合、複数の支持ピン４４は、略３０°間隔で配置されていてもよい。

内側カップ体４５は、環状（例えば円環状）を呈しており、支持プレート４３から離隔して支持プレート４３の上方に位置するように複数の接続部材４６によって支持プレート４３に接続されている。内側カップ体４５は、複数の支持ピン４４に支持された状態の基板Ｗを外側から取り囲むように配置されている。そのため、内側カップ体４５は、回転軸４１の回転中心軸Ａｘ周りに、回転軸４１の回転に伴って回転するように構成されている。内側カップ体４５と支持プレート４３との間には隙間が存在しているので、基板Ｗに供給される液体は、当該隙間を通って内側カップ体４５及び支持プレート４３の外方に流れ出る。

回収カップ５０は、回転保持部４０を外側から取り囲むように配置されている。回転保持部４０が回転可能に構成されている一方で、回収カップ５０は、回転せず静止したままである。回収カップ５０は、図２に例示されるように、駆動部４２に固定されていてもよい。回収カップ５０は、内側に位置する排液カップ５１と、排液カップ５１を外側から取り囲むように配置された排気カップ５２とを含む。

排液カップ５１は、内周部５１ａと、排液カップ本体５１ｂと、可動カップ５１ｃと、可動カップ５１ｄとを含む。内周部５１ａは、支持プレート４３の下面に沿って延びるように支持プレート４３の下方に位置している。排液カップ本体５１ｂは、内側カップ体４５と支持プレート４３との間の隙間に連通する筒状の空間を形成している。可動カップ５１ｃ及び可動カップ５１ｄは、当該筒状の空間内に配置されている。

可動カップ５１ｃは、排液カップ本体５１ｂの内側に位置しており、排液カップ本体５１ｂとの間に筒状の液溜まりＲＥ１を形成している。液溜まりＲＥ１は、基板処理の際に基板Ｗの表面から飛散した処理液を回収して貯留するように構成されている。液溜まりＲＥ１の下端部には、回収した処理液を液処理ユニットＵの外部に排液するための配管が接続されている。

可動カップ５１ｃは、図示しない駆動源に接続されており、昇降可能に構成されている。可動カップ５１ｃが上昇位置（図２参照）に位置する場合、可動カップ５１ｃの上部が排液カップ本体５１ｂの上部と当接して、液溜まりＲＥ１が閉じられる。一方、可動カップ５１ｃが降下位置（図示せず）に位置する場合、可動カップ５１ｃの上部が排液カップ本体５１ｂの上部から離隔して、液溜まりＲＥ１が外部と連通する。

可動カップ５１ｄは、可動カップ５１ｃの内側に位置しており、可動カップ５１ｃとの間に筒状の液溜まりＲＥ２を形成していると共に、内周部５１ａとの間に筒状の液溜まりＲＥ３を形成している。液溜まりＲＥ２，ＲＥ３はそれぞれ、基板処理の際に基板Ｗの表面から飛散した処理液を回収して貯留するように構成されている。液溜まりＲＥ２，ＲＥ３の下端部にはそれぞれ、回収した処理液を液処理ユニットＵの外部に排液するための配管が接続されている。

可動カップ５１ｄは、図示しない駆動源に接続されており、昇降可能に構成されている。可動カップ５１ｃ，５１ｄが共に上昇位置（図２参照）に位置する場合、可動カップ５１ｄの上部が可動カップ５１ｃの上部と当接して、液溜まりＲＥ２が閉じられ且つ液溜まりＲＥ３が外部と連通する。一方、可動カップ５１ｃが上昇位置に位置し且つ可動カップ５１ｄが降下位置に位置する場合（図示せず）、可動カップ５１ｄの上部が可動カップ５１ｃの上部から離隔して、液溜まりＲＥ２が外部と連通し且つ液溜まりＲＥ３が閉じられる。

排気カップ５２は、排液カップ５１との間に筒状の空間を形成しており、当該空間は、負圧に調節されている。排気カップ５２の下端部には、内側カップ体４５の近傍の雰囲気を吸引して液処理ユニットＵの外部に排気するための配管が接続されている。

洗浄カップ６０は、洗浄液を内部に貯留可能に構成されている。洗浄カップ６０は、排気カップ５２を外側から取り囲む筒状を呈しており、チャンバ１０の下端部と排気カップ５２とを接続するように延びている。例えば、洗浄カップ６０の内部空間（洗浄液の貯留空間）は、洗浄カップ６０と排気カップ５２の上端部とで囲まれた空間であってもよい。洗浄カップ６０は、図２に例示されるように、上下方向に延びる筒状の周壁部６１と、周壁部６１の下端部から径方向内方（回収カップ５０側）に向けて水平方向に延びる環状の底壁部６２とを含んでいてもよい。洗浄カップ６０の下端部には、使用済の洗浄液を液処理ユニットＵの外部に排液するための配管が接続されている。

ミストガード７０は、回収カップ５０を外側から取り囲むように配置されている。すなわち、ミストガード７０の内側には、回転保持部４０及び回収カップ５０が位置している。ミストガード７０は、図２に例示されるように、上下方向に延びる筒状部７１と、筒状部７１の上端部から径方向内方（回収カップ５０側）に向けて水平方向に延びる環状の張出部７２とを含んでいてもよい。

ミストガード７０は、駆動部７３に接続されており、上下方向に昇降可能に構成されている。ミストガード７０は、例えば、筒状部７１の少なくとも下部が洗浄カップ６０内に位置する降下位置（図２参照）と、筒状部７１の全体又はほぼ全体が洗浄カップ６０から露出した上昇位置（図示せず）との間で上下に移動しうる。降下位置においては、洗浄カップ６０内の貯留空間に洗浄液が貯留されている状態で、筒状部７１の少なくとも下部が洗浄液に浸漬される。上昇位置においては、基板Ｗに供給された処理液（後述する）が周囲に飛散して生じたミストが、ミストガード７０の内周面７０ａに付着する。そのため、当該ミストがチャンバ１０の内壁に付着することが、ミストガード７０によって抑制される。

上側供給部８０は、種類の異なる複数の処理液を基板Ｗの表面に供給するように構成されている。上側供給部８０は、供給部８１～８３と、ノズル８４～８６と、アーム８７（保持アーム）と、駆動部８８とを含む。

供給部８１は、図示しない液源、バルブ、ポンプなどを含んでおり、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、ノズル８４から下方に向けて液体Ｌ１を供給するように構成されている。液体Ｌ１は、アルカリ性の液体であってもよい。液体Ｌ１は、例えば、基板Ｗを処理（例えば、汚れや異物の除去処理、エッチング処理など）するための薬液として用いられてもよいし、ミストガード７０の内周面７０ａ及びチャンバ１０の内壁面を洗浄するための洗浄液として用いられてもよい。アルカリ性の薬液は、例えば、ＳＣ－１液（アンモニア、過酸化水素及び純水の混合液）、過酸化水素水などを含んでいてもよい。

供給部８２は、図示しない液源、バルブ、ポンプなどを含んでおり、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、ノズル８５から下方に向けて液体Ｌ２を供給するように構成されている。液体Ｌ２は、酸性の液体であってもよい。液体Ｌ２は、例えば、基板Ｗを処理（例えば、汚れや異物の除去処理、エッチング処理など）するための薬液として用いられてもよいし、ミストガード７０の内周面７０ａ及びチャンバ１０の内壁面を洗浄するための洗浄液として用いられてもよい。酸性の薬液は、例えば、ＳＣ－２液（塩酸、過酸化水素水及び純水の混合液）、ＳＰＭ（硫酸、過酸化水素水及び純水の混合液）、ＨＦ液（フッ酸）、ＤＨＦ液（希フッ酸）、ＨＦ／ＨＮＯ_３液（フッ酸及び硝酸の混合液）、硫酸などを含んでいてもよい。

供給部８３は、図示しない液源、バルブ、ポンプなどを含んでおり、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、ノズル８６から下方に向けて液体Ｌ３を供給するように構成されている。液体Ｌ３は、例えば、基板Ｗやミストガード７０の内周面７０ａを洗浄するための洗浄液として用いられてもよい。液体Ｌ３は、水であってもよい。水は、例えば、純水（ＤＩＷ：deionized water）、オゾン水、炭酸水（ＣＯ_２水）、アンモニア水などを含んでいてもよい。水は、冷水（例えば１０℃程度以下）であってもよいし、常温水（例えば１０℃～３０℃程度）であってもよいし、温水（例えば、３０℃程度以上）であってもよい。

ノズル８４～８６は、所定間隔をもってアーム８７に取り付けられている。アーム８７は、回転保持部４０の上方の空間に位置している。駆動部８８は、アーム８７に接続されており、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、アーム８７を昇降させるように構成されていると共に、アーム８７を回転保持部４０の上方において水平方向に移動させるように構成されている。ノズル８４～８６から基板Ｗの表面に液体Ｌ１～Ｌ３が吐出される際には、ノズル８４～８６は、アーム８７と共に移動して、その吐出口が基板Ｗの表面に向かうように基板Ｗの上方に位置してもよい。

下側供給部９０は、供給部９１，９２と、ノズル９３とを含む。供給部９１は、図示しない液源、バルブ、ポンプなどを含んでおり、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、ノズル９３の内部に形成されている流路９３ａを通じて上方に向けて液体Ｌ４を供給するように構成されている。液体Ｌ４は、上述した液体Ｌ１～Ｌ３のいずれかであってもよい。供給部９２は、図示しないガス源、バルブ、ポンプなどを含んでおり、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、ノズル９３の内部に形成されている流路９３ｂを通じて上方に向けて乾燥ガスＧを供給するように構成されている。乾燥ガスＧは、例えば、不活性ガス（例えば、窒素ガス）であってもよい。

［検査用基板］
検査用基板Ｊは、内側カップ体４５及び回収カップ５０（以下、単に「カップ部材Ｎ」という）の状態を検査するように構成されている。検査用基板Ｊは、図２に例示されるように、ベース部Ｊ１と、撮像部Ｊ２と、照明部Ｊ３と、バッテリＪ４と、通信部Ｊ５とを含む。ベース部Ｊ１は、基板Ｗと同様に、円板状を呈してもよいし、多角形など円形以外の板状を呈していてもよい。ベース部Ｊ１は、撮像部Ｊ２、照明部Ｊ３、バッテリＪ４及び通信部Ｊ５を保持している。

撮像部Ｊ２は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、カップ部材Ｎを撮像するように構成されている。撮像部Ｊ２は、例えば、ＣＣＤカメラ、ＣＯＭＳカメラなどであってもよい。撮像部Ｊ２は、ベース部Ｊ１上に配置されており、ベース部Ｊ１の外周縁側を向いている。撮像部Ｊ２は、図示しない駆動部によってその仰角が変更可能に構成されていてもよい。当該仰角は、例えば、０°～９０°であってもよい。

照明部Ｊ３は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、撮像部Ｊ２によるカップ部材Ｎの撮像時に、カップ部材Ｎに対して光を照射するように構成されている。照明部Ｊ３は、ベース部Ｊ１上に配置されている。照明部Ｊ３は、撮像部Ｊ２の近傍に配置されていてもよい。

バッテリＪ４は、検査用基板Ｊに設けられている電子機器に電力を供給するように構成されている。バッテリＪ４の充電のために、例えば棚ユニット６に充電ポートが設けられていてもよい。この場合、検査用基板Ｊが棚ユニット６に退避して棚ユニット６において保持されている状態で、バッテリＪ４が充電ポートを介して充電される。バッテリＪ４の充電方式は、充電ポートの金属端子と接触して充電が行われる接触式充電であってもよいし、金属端子等を介さずに電力を伝送する非接触式充電であってもよい。

通信部Ｊ５は、コントローラＣｔｒ（例えば、後述する処理部Ｍ３）と通信可能に構成されている。通信部Ｊ５は、撮像部Ｊ２及び照明部Ｊ３を動作させるための動作信号をコントローラＣｔｒから受信可能である。通信部Ｊ５は、撮像部Ｊ２が撮像した撮像画像のデータをコントローラＣｔｒに送信可能である。通信部Ｊ５とコントローラＣｔｒとの通信方式は特に限定されず、例えば、無線通信であってもよいし、有線（通信ケーブル）による通信であってもよい。無線通信の例として、ＬＴＥ（Long Term Evolution）、ＬＴＥ－Ａ（LTE-Advanced）、ＳＵＰＥＲ３Ｇ、ＩＭＴ－Ａｄｖａｎｃｅｄ、４Ｇ、５Ｇ、ＦＲＡ（Future Radio Access）、Ｗ－ＣＤＭＡ（登録商標）、ＧＳＭ（登録商標）、ＣＤＭＡ２０００、ＵＭＢ（Ultra Mobile Broadband）、ＩＥＥＥ ８０２．１１（Ｗｉ－Ｆｉ）、ＩＥＥＥ ８０２．１６（ＷｉＭＡＸ）、ＩＥＥＥ ８０２．２０、ＵＷＢ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、その他の通信方式が用いられてもよい。

［コントローラの詳細］
コントローラＣｔｒは、基板処理システム１を部分的又は全体的に制御するように構成されている。コントローラＣｔｒは、図３に例示されるように、機能モジュールとして、読取部Ｍ１と、記憶部Ｍ２と、処理部Ｍ３と、指示部Ｍ４と、通信部Ｍ５とを有する。これらの機能モジュールは、コントローラＣｔｒの機能を便宜上複数のモジュールに区切ったものに過ぎず、コントローラＣｔｒを構成するハードウェアがこのようなモジュールに分かれていることを必ずしも意味するものではない。各機能モジュールは、プログラムの実行により実現されるものに限られず、専用の電気回路（例えば論理回路）、又は、これを集積した集積回路（ＡＳＩＣ：Application Specific Integrated Circuit）により実現されるものであってもよい。

読取部Ｍ１は、コンピュータ読み取り可能な記録媒体ＲＭからプログラムを読み取るように構成されている。記録媒体ＲＭは、基板処理システム１の各部を動作させるためのプログラムを記録している。記録媒体ＲＭは、例えば、半導体メモリ、光記録ディスク、磁気記録ディスク、光磁気記録ディスクであってもよい。なお、以下では、基板処理システム１の各部は、送風部２０、駆動部４２，７３，８８、供給部８１～８３，９１，９２、撮像部Ｊ２、照明部Ｊ３及び通信部Ｊ５の各部を含みうる。

記憶部Ｍ２は、種々のデータを記憶するように構成されている。記憶部Ｍ２は、例えば、読取部Ｍ１において記録媒体ＲＭから読み出したプログラム、外部入力装置（図示せず）を介してオペレータから入力された設定データなどを記憶してもよい。記憶部Ｍ２は、例えば、基板Ｗの処理のための処理条件（処理レシピ）のデータを記憶してもよい。記憶部Ｍ２は、例えば、通信部Ｊ５，Ｍ５を介して送信された撮像部Ｊ２の撮像画像のデータを記憶してもよい。

処理部Ｍ３は、各種データを処理するように構成されている。処理部Ｍ３は、例えば、記憶部Ｍ２に記憶されている各種データに基づいて、基板処理システム１の各部を動作させるための信号を生成してもよい。処理部Ｍ３は、例えば、撮像開始又は撮像停止を撮像部Ｊ２に実行させるための動作信号を生成してもよい。処理部Ｍ３は、例えば、撮像部Ｊ２の仰角やピントを調整するための動作信号を生成してもよい。処理部Ｍ３は、例えば、光の照射開始又は照射停止を照明部Ｊ３に実行させるための動作信号を生成してもよい。

処理部Ｍ３は、例えば、撮像部Ｊ２によって撮像された撮像画像のデータに基づいて、カップ部材Ｎの状態を算出してもよい。カップ部材Ｎの状態としては、例えば、カップ部材の姿勢（カップ部材Ｎの高さ、カップ部材Ｎの傾きなど）や、カップ部材Ｎの表面における異常などを含んでいてもよい。処理部Ｍ３は、カップ部材Ｎの表面に異常があるときに、図示しない報知部から警報を報知するようにしてもよい（例えば、ディスプレイに警報を表示してもよいし、スピーカから警報音や警報案内を発してもよい）。

指示部Ｍ４は、処理部Ｍ３において生成された動作信号を、基板処理システム１の各部に送信するように構成されている。通信部Ｍ５は、上述したように、通信部Ｊ５と通信可能に構成されている。通信部Ｍ５が通信部Ｊ５と無線通信を行う場合、通信部Ｍ５は、通信部Ｊ５と同様に構成されていてもよい。

コントローラＣｔｒのハードウェアは、例えば一つ又は複数の制御用のコンピュータにより構成されていてもよい。コントローラＣｔｒは、図４に例示されるように、ハードウェア上の構成として回路Ｃ１を含んでいてもよい。回路Ｃ１は、電気回路要素（circuitry）で構成されていてもよい。回路Ｃ１は、例えば、プロセッサＣ２と、メモリＣ３と、ストレージＣ４と、ドライバＣ５と、入出力ポートＣ６とを含んでいてもよい。

プロセッサＣ２は、メモリＣ３及びストレージＣ４の少なくとも一方と協働してプログラムを実行し、入出力ポートＣ６を介した信号の入出力を実行することで、上述した各機能モジュールを実現するように構成されていてもよい。メモリＣ３及びストレージＣ４は、記憶部Ｍ２として機能してもよい。ドライバＣ５は、基板処理システム１の各部をそれぞれ駆動するように構成された回路であってもよい。入出力ポートＣ６は、ドライバＣ５と基板処理システム１の各部との間で、信号の入出力を仲介するように構成されていてもよい。

基板処理システム１は、一つのコントローラＣｔｒを備えていてもよいし、複数のコントローラＣｔｒで構成されるコントローラ群（制御部）を備えていてもよい。基板処理システム１がコントローラ群を備えている場合には、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのコントローラＣｔｒによって実現されていてもよいし、２個以上のコントローラＣｔｒの組み合わせによって実現されていてもよい。コントローラＣｔｒが複数のコンピュータ（回路Ｃ１）で構成されている場合には、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのコンピュータ（回路Ｃ１）によって実現されていてもよいし、２つ以上のコンピュータ（回路Ｃ１）の組み合わせによって実現されていてもよい。コントローラＣｔｒは、複数のプロセッサＣ２を有していてもよい。この場合、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのプロセッサＣ２によって実現されていてもよいし、２つ以上のプロセッサＣ２の組み合わせによって実現されていてもよい。

［カップ部材の状態を検査する方法］
続いて、図５～図９を参照して、カップ部材Ｎの状態を検査する方法の例について説明する。なお、以下では、検査用基板Ｊが棚ユニット６に配置されている状態で検査が開始される例について説明する。また、撮像部Ｊ２によって撮像された撮像画像は、グレースケール画像であってもよいし、カラー画像であってもよい。

まず、コントローラＣｔｒが搬送アームＡ２を制御して、検査用基板Ｊを棚ユニット６から液処理ユニットＵに搬送する。次に、検査用基板Ｊを液処理ユニットＵの回転保持部４０に保持させる（図５のステップＳ１参照）。

次に、コントローラＣｔｒが回転保持部４０を制御して、カップ部材Ｎに対する撮像部Ｊ２が所定の撮像位置Ｐ１（図６参照）に位置するように、回転保持部４０を介して検査用基板Ｊを回転させる（図５のステップＳ２参照）。なお、検査用基板Ｊが搬送アームＡ２から回転保持部４０に保持された時点で撮像部Ｊ２が当該撮像位置に位置していた場合には、ステップＳ２の処理が実行されなくてもよい。

次に、コントローラＣｔｒが通信部Ｍ５，Ｊ５を介して撮像部Ｊ２及び照明部Ｊ３を制御して、照明部Ｊ３によってカップ部材Ｎに光を照射しつつ、撮像部Ｊ２によってカップ部材Ｎを撮像する（図５のステップＳ３参照）。撮像部Ｊ２によるカップ部材Ｎの撮像の例を、図７（ａ）に示す。図７（ａ）に例示されるように、撮像部Ｊ２は、カップ部材Ｎの上端縁Ｎａを含むように、ベース部Ｊ１の外周縁よりもカップ部材Ｎ側の空間を撮像する。撮像された撮像画像のデータは、通信部Ｍ５，Ｊ５を介してコントローラＣｔｒに送信される。なお、カップ部材Ｎの撮像前に、コントローラＣｔｒが通信部Ｍ５，Ｊ５を介して撮像部Ｊ２を制御して、撮像部Ｊ２の仰角やピントを調整してもよい。

検査の必要に応じてステップＳ２，Ｓ３を繰り返して、撮像位置を変更しながらカップ部材Ｎを異なる方向から撮像部Ｊ２によって撮像してもよい。例えば、図６に例示されるように、略９０°ごとに異なる撮像位置Ｐ１～Ｐ４からカップ部材Ｎを撮像部Ｊ２によって撮像してもよい。この場合、撮像位置Ｐ１～Ｐ４からそれぞれ撮像した４枚の撮像画像が得られる。あるいは、図示していないが、略１５°ごとに異なる撮像位置からカップ部材Ｎを撮像部Ｊ２によって撮像してもよい。この場合、各撮像位置からそれぞれ撮像した２４枚の撮像画像が得られる。あるいは、図示していないが、検査用基板Ｊを回転させつつ、連続的に撮像部Ｊ２でカップ部材Ｎを撮像してもよい。この場合、カップ部材Ｎの全周についての撮像画像（いわゆるパノラマ画像）が得られる。なお、撮像位置を変更しながらカップ部材Ｎを異なる方向から撮像する場合、これらの複数の撮像位置は、検査用基板Ｊの回転方向において略等間隔をもって互いに離隔していてもよい（すなわち、所定角度ごとに離隔していてもよい）し、離隔間隔が等しくなくてもよい。

次に、カップ部材Ｎのパノラマ画像のデータをコントローラＣｔｒが処理することにより、カップ部材Ｎの姿勢を算出する（図５のステップＳ４参照）。ここでは、カップ部材Ｎの姿勢として、（Ａ）カップ部材Ｎの高さ、及び、（Ｂ）カップ部材Ｎの傾き算出する例を説明する。

（Ａ）カップ部材Ｎの高さ
まず、パノラマ画像のうちカップ部材Ｎの上端縁Ｎａ（図７（ｂ）参照）を特定する。カップ部材Ｎの上端縁Ｎａの特定方法としては、例えば、作業者が撮像画像を観察してカップ部材Ｎの上端縁Ｎａを指定する方法や、コントローラＣｔｒが、公知のエッジ検出技術を用いて撮像画像を処理し、処理後画像に基づいてカップ部材Ｎの上端縁Ｎａを検出する方法が挙げられる。

次に、パノラマ画像におけるカップ部材Ｎの上端縁Ｎａとベース部Ｊ１の表面との直線距離を算出し、カップ部材Ｎの高さを得る。具体的には、コントローラＣｔｒが、パノラマ画像におけるカップ部材Ｎの上端縁Ｎａとベース部Ｊ１の表面とのピクセル数を求め、予め取得した１ピクセルあたりの長さ（ｍｍ／ｐｉｘｅｌ）を乗算して、カップ部材Ｎの上端縁Ｎａの高さ（ｍｍ）を算出してもよい。あるいは、図７（ｂ）に例示されるように、カップ部材Ｎと同時にスケールＳＣを撮像したパノラマ画像を用いて、カップ部材Ｎの上端縁Ｎａの高さを作業者がスケールＳＣを用いて読み取ることで、カップ部材Ｎの高さを取得してもよい。なお、スケールＳＣは、カップ部材Ｎの近傍に位置すると共に、ベース部Ｊ１の表面から上方に向けて延びるように、ベース部Ｊ１に設けられていてもよいし、撮像部Ｊ２のレンズの前面に設けられていてもよい。

（Ｂ）カップ部材Ｎの傾き
まず、パノラマ画像のうちカップ部材Ｎの上端縁Ｎａ（図８（ｂ）参照）を特定する。カップ部材Ｎの上端縁Ｎａの特定方法は、カップ部材Ｎの高さにおいて述べたのと同様の手法であってもよい。

ここで、図７（ａ）に例示されるようにカップ部材Ｎが傾いていない場合には、カップ部材Ｎの上端縁Ｎａは、水平方向に延びる直線としてパノラマ画像に表現される。一方、図８（ａ）に例示されるようにカップ部材Ｎが傾いている場合には、カップ部材Ｎの上端縁Ｎａは、湾曲線としてパノラマ画像に表現される。すなわち、当該湾曲線の極小値を示す位置が、カップ部材Ｎの傾きが低い側となり、当該湾曲線の極大値を示す位置が、カップ部材Ｎの傾きが高い側となる。

そこで、コントローラＣｔｒは、当該湾曲線の極小値を示す撮像位置Ｘ１（撮像角度）と、当該湾曲線の極大値を示す撮像位置Ｘ２（撮像角度）とを特定する（図８（ｂ）参照）。この場合、撮像位置Ｘ２から撮像位置Ｘ１に向かう方向にカップ部材Ｎが下向きに傾斜していると判断できる。これにより、カップ部材Ｎの傾斜方向が算出される。また、コントローラＣｔｒは、当該湾曲線の極大値と極小値との差分ΔＸのピクセル数を求め、予め取得した１ピクセルあたりの長さ（ｍｍ／ｐｉｘｅｌ）を乗算する、これにより、カップ部材Ｎの傾斜量が算出される。

次に、コントローラＣｔｒは、ステップＳ４において算出されたカップ部材Ｎの姿勢（例えば、カップ部材Ｎの高さ、カップ部材Ｎの傾斜など）が所定の許容範囲内にあるか否かを判断する（図５のステップＳ５）。ステップＳ５の判断の結果、カップ部材Ｎの姿勢が許容範囲内ではない場合（図５のステップＳ５においてＮＯ）、ステップＳ８に進んで、カップ部材Ｎの調整が必要である旨の警報を報知する。当該警報に基づいて作業者がカップ部材Ｎの調整を手動で行ってもよいし、コントローラＣｔｒが液処理ユニットＵの各部（例えば、カップ部材Ｎの姿勢（高さや傾きなど）を調節するように構成されたカップ制御部（図示せず））を制御して、カップ部材Ｎの調整を自動的に行ってもよい。この場合、カップ部材Ｎのメンテナンスを効率的に実行することが可能となる。その後、コントローラＣｔｒが搬送アームＡ２を制御して、検査用基板Ｊを液処理ユニットＵから搬出し、棚ユニット６へと検査用基板Ｊを搬送する（図５のステップＳ９参照）。

一方、ステップＳ５の判断の結果、カップ部材Ｎの姿勢が許容範囲内である場合（図５のステップＳ５においてＹＥＳ）、コントローラＣｔｒは、カップ部材Ｎにおける異常の有無を検出する（図５のステップＳ６参照）。以下では、図９に例示されるように、カップ部材Ｎのパノラマ画像に基づいて、カップ部材Ｎにおける異常の有無を検出する例について説明する。

まず、予め、異常がないカップ部材Ｎのパノラマ画像を基準画像として取得しておく。次に、コントローラＣｔｒは、基準画像と検査対象のパノラマ画像とで対応する座標に位置する画素ごとに輝度値を減算し、補正画像を算出する。次に、コントローラＣｔｒは、公知のエッジ検出技術を用いて当該補正画像を処理し、エッジが強調された領域の大きさを算出する。次に、コントローラＣｔｒは、当該領域の大きさが所定の許容範囲内であるか否かを判断する。当該領域の大きさが所定の許容範囲内ではない場合、コントローラＣｔｒは、カップ部材Ｎに異常Ａｂ（図９参照）が存在すると判定する。なお、上記の基準画像は、検査対象のパノラマ画像における全画素の輝度値を平均化することにより得られてもよい。また、基準画像を用いず、公知のエッジ検出技術を用いて、検査対象のパノラマ画像を直接処理してもよい。

コントローラＣｔｒは、カップ部材Ｎに異常Ａｂが存在すると判定した場合（図５のステップＳ７においてＮＯ）、ステップＳ８に進んで、カップ部材Ｎに異常が存在する旨の警報を報知する。なお、警報が報知された場合、作業者がカップ部材Ｎを新たなカップ部材Ｎに交換してもよい。あるいは、カップ部材Ｎの異常Ａｂがカップ部材Ｎに付着した付着物である場合には、コントローラＣｔｒが液処理ユニットＵの各部を制御して、カップ部材Ｎに液体Ｌ１～Ｌ４の少なくともいずれか一つを供給し、当該付着物をカップ部材Ｎから除去してもよい。

一方、ステップＳ７の判断の結果、カップ部材Ｎに異常Ａｂが存在しない場合（図５のステップＳ７においてＹＥＳ）、ステップＳ９に進んで、コントローラＣｔｒが搬送アームＡ２を制御して、検査用基板Ｊを液処理ユニットＵから搬出し、棚ユニット６へと検査用基板Ｊを搬送する。以上により、カップ部材Ｎの状態の検査が終了する。

なお、一の液処理ユニットＵのカップ部材Ｎの状態の検査が終了したら、検査用基板Ｊを棚ユニット６に戻さずに、他の液処理ユニットＵのカップ部材Ｎの状態の検査のために、当該他の液処理ユニットＵに検査用基板Ｊが搬送されてもよい。また、液処理ユニットＵにおいて基板Ｗが所定回数処理されるごとに、定期的に液処理ユニットＵに検査用基板を搬入して、液処理ユニットＵのカップ部材Ｎの状態を検査してもよい。この場合、コントローラＣｔｒは、今回のカップ部材Ｎの状態のデータと、前回のカップ部材Ｎの状態のデータとを比較し、今回のカップ部材Ｎの状態が所定の許容範囲内であるか否かを判断してもよい。許容範囲内でない場合には、コントローラＣｔｒは、ステップＳ１０のように警報を報知してもよい。

［作用］
以上の例によれば、検査用基板Ｊが回転保持部４０に保持された状態において、回転保持部４０を回転させることにより、カップ部材Ｎに対する撮像部Ｊ２の位置を所定の撮像位置に調節している。そのため、撮像部Ｊ２と、撮像対象であるカップ部材Ｎとの間に遮蔽物が存在せず、適切な位置からカップ部材Ｎが撮像される。したがって、カップ部材Ｎの状態を精度よく取得することが可能となる。

以上の例によれば、複数の撮像位置からカップ部材Ｎが撮像される。そのため、カップ部材Ｎの状態をより精度よく取得することが可能となる。

以上の例によれば、検査用基板Ｊの回転方向において略等間隔をもって互いに離隔する複数の撮像位置からカップ部材Ｎが撮像されうる。この場合、カップ部材Ｎの外周面が略全周にわたって撮像される。そのため、カップ部材Ｎの状態をさらに精度よく取得することが可能となる。

以上の例によれば、撮像部Ｊ２によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、カップ部材Ｎにおける異常の有無が検出される。そのため、カップ部材Ｎにおける付着物又は傷の有無、カップ部材Ｎの変形の有無などが検出される。したがって、検出結果に基づいてカップ部材Ｎを調整（例えば、交換、清掃など）することにより、カップ部材Ｎにおける異常による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

以上の例によれば、処理液による基板Ｗの処理が行われる前に撮像部Ｊ２によって撮像されたカップ部材Ｎの撮像画像（異常がないカップ部材Ｎの撮像画像）と、処理液による基板Ｗの処理が行われた後に撮像部Ｊ２によって撮像されたカップ部材Ｎの撮像画像との比較により、カップ部材Ｎにおける異常の有無が検出される。そのため、２つの撮像画像の比較によって、カップ部材Ｎにおける異常の箇所がより際立つ。そのため、カップ部材Ｎにおける異常の有無をより正確に検出することが可能となる。

以上の例によれば、カップ部材Ｎにおける異常が検出された場合に、カップ部材Ｎに液体Ｌ１～Ｌ４が供給されうる。この場合、カップ部材Ｎにおける異常（例えば、付着物）が液体Ｌ１～Ｌ４によって除去される。そのため、カップ部材Ｎにおける異常（例えば、付着物）による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

以上の例によれば、撮像部Ｊ２によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、カップ部材Ｎの高さ又はカップ部材Ｎの傾きが検出される。そのため、検出結果に基づいて、カップ部材Ｎの姿勢を特定することが可能となる。

以上の例によれば、カップ部材Ｎの高さ又はカップ部材Ｎの傾きが所定の許容範囲外であると判断された場合に、警報が報知される。そのため、カップ部材の姿勢が異常であることによる基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

以上の例によれば、撮像部Ｊ２によるカップ部材Ｎの撮像時に、カップ部材Ｎに対して照明部Ｊ３から光を照射される。そのため、カップ部材Ｎをより鮮明に撮像することが可能となる。

以上の例によれば、撮像部Ｊ２とコントローラＣｔｒとは、無線によって互いに通信可能に接続されうる。この場合、検査用基板Ｊに通信ケーブルが接続されている必要がなくなるので、回転保持部４０による検査用基板Ｊの回転が阻害され難くなる。そのため、カップ部材Ｎの撮像位置の自由度を高めることが可能となる。

以上の例によれば、検査用基板Ｊは、撮像部Ｊ２に電力を供給すると共に充電可能に構成されたバッテリＪ４を含んでいる。そのため、検査用基板Ｊに電源ケーブルが接続されている必要がなくなるので、回転保持部４０による検査用基板Ｊの回転が阻害され難くなる。そのため、カップ部材Ｎの撮像位置の自由度を高めることが可能となる。

以上の例によれば、検査用基板Ｊは、搬送アームＡ２によって、液処理ユニットＵと棚ユニット６との間で搬送される。そのため、液処理ユニットＵによる基板処理時に、検査用基板Ｊを棚ユニット６に退避させておくことが可能となる。

［変形例］
本明細書における開示はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。特許請求の範囲及びその要旨を逸脱しない範囲において、以上の例に対して種々の省略、置換、変更などが行われてもよい。

（１）以上の例では、基板処理システム１が基板洗浄装置である例について説明したが、基板処理システム１は塗布・現像装置であってもよい。すなわち、基板Ｗの表面に供給される処理液は、例えば、基板Ｗの表面に成膜するための塗布液であってもよいし、レジスト膜を現像処理するための現像液であってもよい。

（２）検査用基板Ｊは、照明部Ｊ３を含んでいなくてもよい。あるいは、検査用基板Ｊは、複数の照明部Ｊ３を含んでいてもよい。この場合、図１０に例示されるように、複数の照明部Ｊ３は、検査用基板Ｊの回転方向において略等間隔をもって互いに離隔していてもよい。

（３）検査用基板Ｊは、複数の撮像部Ｊ２を含んでいてもよい。この場合、図１０に例示されるように、複数の撮像部Ｊ２は、検査用基板Ｊの回転方向において略等間隔をもって互いに離隔していてもよい。複数の撮像部Ｊ２によってカップ部材Ｎが撮像される場合、カップ部材Ｎに対する複数の撮像部Ｊ２の位置を所定の撮像位置に調節するだけで、カップ部材Ｎの複数箇所を同時に撮像することができる。したがって、カップ部材Ｎの状態を精度よく且つ迅速に取得することが可能となる。

（４）撮像部Ｊ２は、ベース部Ｊ１の表面上に配置されていてもよいし、ベース部Ｊ１に内蔵されていてもよい。

（５）回転保持部４０は、基板Ｗを吸着保持するように構成されていてもよい。

（６）コントローラＣｔｒは、撮像位置を変更しながらカップ部材Ｎを異なる方向から撮像部Ｊ２によって撮像して得られた複数の撮像画像を画像処理することにより、カップ部材Ｎの立体形状データを生成してもよい。この場合、生成された立体形状データに基づいて、カップ部材Ｎをより詳しく観察することができる。そのため、カップ部材Ｎの状態をより精度よく取得することが可能となる。なお、撮像部Ｊ２ではなく、非接触式の３Ｄスキャナを用いて、カップ部材Ｎの立体形状データを取得してもよい。

（７）検査用基板Ｊを用いてミストガード７０を撮像することにより、ミストガード７０の高さ又は傾きを算出してもよいし、ミストガード７０の異常を検出してもよい。この際、ミストガード７０を上昇位置に位置させてもよい。さらに、ミストガード７０における異常（例えば、付着物）が検出された場合に、ミストガード７０に液体Ｌ１～Ｌ４が供給されてもよい。この場合、ミストガード７０における異常（例えば、付着物）が液体Ｌ１～Ｌ４によって除去される。そのため、ミストガード７０における異常（例えば、付着物）による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。なお、撮像部Ｊ２は、内側カップ体４５及び回収カップ５０と同時に、又は、ピントを変更しつつ内側カップ体４５及び回収カップ５０とは別々に、ミストガード７０を撮像してもよい。

（８）検査用基板Ｊを用いてチャンバ１０の内壁面を撮像することにより、チャンバ１０の内壁面の異常を検出してもよい。この際、ミストガード７０を降下位置に位置させてもよい。チャンバ１０の内壁面における異常（例えば、付着物）が検出された場合に、チャンバ１０の内壁面に液体Ｌ１～Ｌ４が供給されてもよい。この場合、チャンバ１０の内壁面における異常（例えば、付着物）が液体Ｌ１～Ｌ４によって除去される。そのため、チャンバ１０の内壁面における異常（例えば、付着物）による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。なお、撮像部Ｊ２は、内側カップ体４５及び回収カップ５０と同時に、又は、ピントを変更しつつ内側カップ体４５及び回収カップ５０とは別々に、チャンバ１０の内壁面を撮像してもよい。

［他の例］
例１．基板処理装置の一例は、ベース部と、ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、基板又は検査用基板を保持するように構成された保持部と、保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、保持部に保持された基板に処理液を供給するように構成された処理液供給部と、保持部を外側から取り囲むように構成されたカップ部材と、制御部とを備える。制御部は、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、カップ部材に対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、第１の処理の後に、撮像部を制御して、第１の撮像位置においてベース部の外周縁よりもカップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第２の処理とを実行するように構成されている。ところで、特許文献１に記載の基板処理装置によれば、撮像手段が処理液供給ノズル及び飛散防止カップの上方に配置されている。そのため、ノズルの先端近傍を撮像しようとする場合に、これらが遮蔽物として機能してしまい、撮像対象箇所が遮られたり、撮像対象箇所に光が均一に当たらなかったりして、撮像対象箇所を明瞭に撮像できない可能性がある。また、処理液供給ノズル及び飛散防止カップを避けて撮像する必要があり、また、撮像方向も斜め上からに限られるため、撮像範囲が限定されてしまう可能性がある。しかしながら、例１の装置によれば、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、カップ部材に対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節している。そのため、撮像部と、撮像対象であるカップ部材との間に遮蔽物が存在せず、適切な位置からノズルが撮像される。したがって、カップ部材の状態を精度よく取得することが可能となる。

例２．例１の装置において、カップ部材は、保持部に設けられた内側カップ体と、内側カップ体を外側から取り囲むように構成された外側カップ体と、外側カップ体を外側から取り囲み且つ昇降可能に構成されたミストガードとを含んでいてもよい。この場合、内側カップ体、外側カップ体及びミストガードのそれぞれの状態を精度よく取得することが可能となる。

例３．例１又は例２の装置において、制御部は、第２の処理の後に、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、カップ部材に対する撮像部の位置を第１の撮像位置とは別の第２の撮像位置に調節する第３の処理と、第３の処理の後に、撮像部を制御して、第２の撮像位置においてベース部の外周縁よりもカップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第４の処理とを実行するように構成されていてもよい。この場合、カップ部材が複数の撮像位置から撮像される。そのため、カップ部材の状態をより精度よく取得することが可能となる。

例４．例３の装置において、制御部は、駆動部を制御して保持部を回転させながら、第１の処理、第２の処理、第３の処理及び第４の処理を連続的に実行するように構成されていてもよい。

例５．例３又は例４の装置において、制御部は、第４の処理の後に、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、カップ部材に対する撮像部の位置を第１の撮像位置及び第２の撮像位置とは別の第３の撮像位置に調節する第５の処理と、第５の処理の後に、撮像部を制御して、第３の撮像位置においてベース部の外周縁よりもカップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第６の処理とを実行するように構成されており、第１の撮像位置と、第２の撮像位置と、第３の撮像位置とは、検査用基板の回転方向において略等間隔をもって互いに離隔していてもよい。この場合、検査用基板の回転方向において略等間隔をもって互いに離隔する３箇所の撮像位置からカップ部材が撮像される。すなわち、カップ部材の外周面が略全周にわたって撮像される。そのため、ノズルの状態をさらに精度よく取得することが可能となる。

例６．例１～例５のいずれかの装置において、制御部は、撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、カップ部材における異常の有無を検出する第７の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、検出結果に基づいてカップ部材を調整（例えば、交換、清掃など）することにより、カップ部材における異常による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

例７．例６の装置において、第７の処理は、処理液による基板の処理が行われる前に撮像部によって撮像された撮像画像と、処理液による基板の処理が行われた後に撮像部によって撮像された撮像画像との比較により、カップ部材における異常の有無を検出することを含んでいてもよい。この場合、２つの撮像画像の比較によって、カップ部材における異常の箇所がより際立つ。そのため、カップ部材における異常の有無をより正確に検出することが可能となる。

例８．例６又は例７の装置は、洗浄液を供給するように構成された洗浄液供給部を備え、制御部は、第７の処理によって異常が検出された場合に洗浄液供給部を制御して、カップ部材に洗浄液を供給する第８の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、カップ部材における異常（例えば、付着物）が洗浄液によって除去される。そのため、カップ部材における異常（例えば、付着物）による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

例９．例１～例８のいずれかの装置において、制御部は、撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、カップ部材の高さ又はカップ部材の傾きを検出する第９の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、検出結果に基づいて、カップ部材の姿勢（高さ又は傾き）を特定することが可能となる。

例１０．例９の装置において、制御部は、第９の処理によって検出されたカップ部材の高さ又はカップ部材の傾きが所定の許容範囲外であると判断した場合に警報を報知する第１０の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、カップ部材の姿勢が異常であることによる基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

例１１．例９又は例１０の装置は、カップ部材の高さ又は前記カップ部材の傾きを変更させるように構成されたカップ駆動部をさらに備え、制御部は、第９の処理において検出されたカップ部材の高さ又はカップ部材の傾きが所定の許容範囲外であると判断した場合にカップ駆動部を制御して、カップ部材の高さ又はカップ部材の傾きが許容範囲内となるようにカップ部材の高さ又はカップ部材を調節する第１１の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、偏差が許容範囲外であるときに、制御部が自動的にカップ部材の姿勢を制御するので、カップ部材のメンテナンスを効率的に実行することが可能となる。

例１２．例１～例１１のいずれかの装置は、保持部、駆動部及びカップ部材を収容するように構成された処理チャンバを備え、制御部は、撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、処理チャンバの内壁面に付着した付着物の有無を検出する第１２の処理を実行するように構成されていてもよい。ここで、処理チャンバの内壁面は、カップ部材のさらに外方に位置しているので、検査用基板の撮像部がカップ部材側を向いていると、処理チャンバの内壁面も撮像部の撮像範囲に含まれることとなる。そのため、カップ部材と同時に、又は、ピントを変更しつつカップ部材とは別々に処理チャンバの内壁面を撮像することができる。この場合、検出結果に基づいて処理チャンバの内壁面を清掃することにより、処理チャンバの内壁面の付着物による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

例１３．例１～例１２のいずれかの装置において、検査用基板は、ベース部に配置された照明部を含み、照明部は、ベース部の外周縁よりもカップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像部が撮像する際に、当該撮像対象物に対して光を照射するように構成されていてもよい。この場合、撮像対象物をより鮮明に撮像することが可能となる。

例１４．例１～例１３のいずれかの装置において、検査用基板は、ベース部のうち撮像部とは別の箇所に配置された別の撮像部を含んでいてもよい。この場合、複数の撮像部によってカップ部材が撮像される。そのため、カップ部材に対する複数の撮像部の位置を所定の撮像位置に調節するだけで、カップ部材の複数箇所を同時に撮像することができる。したがって、カップ部材の状態を精度よく且つ迅速に取得することが可能となる。

例１５．例１～例１４のいずれかの装置において、撮像部と制御部とは、無線によって互いに通信可能に接続されていてもよい。この場合、検査用基板の周囲にケーブル類が存在しないので、保持部による検査用基板の回転が阻害されない。そのため、カップ部材の撮像位置の自由度を高めることが可能となる。

例１６．例１～例１５のいずれかの装置において、検査用基板は、撮像部に電力を供給すると共に充電可能に構成されたバッテリを含んでいてもよい。この場合、検査用基板に電源ケーブルが接続されている必要がなくなるので、保持部による検査用基板の回転が阻害され難くなる。そのため、カップ部材の撮像位置の自由度を高めることが可能となる。

例１７．例１～例１６のいずれかの装置は、保持部、駆動部、処理液供給部の少なくとも一部及びカップ部材を収容するように構成された処理チャンバと、検査用基板を収容するように構成された収容チャンバと、検査用基板を処理チャンバと収容チャンバとの間で搬送するように構成された搬送部とを備えていてもよい。この場合、処理チャンバによる基板処理時に、検査用基板を収容チャンバに退避させておくことが可能となる。

例１８．基板処理方法の一例は、ベース部と、ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、第１の工程の後に、保持部を回転させることにより、保持部を外側から取り囲むように構成されたカップ部材に対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、第２の工程の後に、第１の撮像位置においてベース部の外周縁よりもカップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第３の工程と、第３の工程の後に、保持部から検査用基板を搬出する第４の工程と、第４の工程の後に、基板を保持部に保持させる第５の工程と、第５の工程の後に、基板に処理液を供給して基板を処理する第６の工程とを含む。この場合、例１の装置と同様の作用効果が得られる。

１…基板処理システム（基板処理装置）、６…棚ユニット（収容チャンバ）、１０…チャンバ（処理チャンバ）、４０…回転保持部、４２…駆動部、４３…支持プレート（保持部）、４４…支持ピン（保持部）、４５…内側カップ体（カップ部材）、５０…回収カップ（カップ部材、外側カップ体）、６０…洗浄カップ（カップ部材）、７０…ミストガード（カップ部材）、８０…上側供給部（処理液供給部、洗浄液供給部）、Ａ２…搬送アーム（搬送部）、Ａｘ…回転中心軸、Ｃｔｒ…コントローラ（制御部）、Ｊ…検査用基板、Ｊ１…ベース部、Ｊ２…撮像部、Ｊ３…照明部、Ｊ４…バッテリ、Ｊ５…通信部、Ｕ…液処理ユニット、Ｗ…基板。

図１は、基板処理システムの一例を模式的に示す平面図である。 図２は、液処理ユニットの一例を模式的に示す側面図である。 図３は、基板処理システムの主要部の一例を示すブロック図である。 図４は、コントローラのハードウェア構成の一例を示す概略図である。 図５は、カップ部材の状態を検査する手順の一例を説明するためのフローチャートである。 図６は、撮像位置の調整の一例を説明するための、検査用基板の上面図である。 図７は、カップ部材の高さの算出方法を説明するための図であり、図７（ａ）は、液処理ユニットの一部を模式的に示す側面図であり、図７（ｂ）は、カップ部材が略全周にわたって撮像された撮像画像を平面に展開した画像の一例を示す図である。 図８は、カップ部材の傾きの算出方法を説明するための図であり、図８（ａ）は、液処理ユニットの一部を模式的に示す側面図であり、図８（ｂ）は、カップ部材が略全周にわたって撮像された撮像画像を平面に展開した画像の一例を示す図である。 図９は、カップ部材における異常の算出方法を説明するための図であり、カップ部材が略全周にわたって撮像された撮像画像を平面に展開した画像の一例を示す図である。 図１０は、検査用基板の他の例を示す上面図である。

送風部２０は、チャンバ１０の天壁に形成された開口１０ａを覆うように取り付けられている。送風部２０は、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、下方に向かう下降流をチャンバ１０内に形成するように構成されている。

次に、カップ部材Ｎのパノラマ画像のデータをコントローラＣｔｒが処理することにより、カップ部材Ｎの姿勢を算出する（図５のステップＳ４参照）。ここでは、カップ部材Ｎの姿勢として、（Ａ）カップ部材Ｎの高さ、及び、（Ｂ）カップ部材Ｎの傾きを算出する例を説明する。

［他の例］
例１．基板処理装置の一例は、ベース部と、ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、基板又は検査用基板を保持するように構成された保持部と、保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、保持部に保持された基板に処理液を供給するように構成された処理液供給部と、保持部を外側から取り囲むように構成されたカップ部材と、制御部とを備える。制御部は、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、カップ部材に対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、第１の処理の後に、撮像部を制御して、第１の撮像位置においてベース部の外周縁よりもカップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第２の処理とを実行するように構成されている。ところで、特許文献１に記載の基板処理装置によれば、撮像手段が処理液供給ノズル及び飛散防止カップの上方に配置されている。そのため、ノズルの先端近傍を撮像しようとする場合に、これらが遮蔽物として機能してしまい、撮像対象箇所が遮られたり、撮像対象箇所に光が均一に当たらなかったりして、撮像対象箇所を明瞭に撮像できない可能性がある。また、処理液供給ノズル及び飛散防止カップを避けて撮像する必要があり、また、撮像方向も斜め上からに限られるため、撮像範囲が限定されてしまう可能性がある。しかしながら、例１の装置によれば、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、カップ部材に対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節している。そのため、撮像部と、撮像対象であるカップ部材との間に遮蔽物が存在せず、適切な位置からカップ部材が撮像される。したがって、カップ部材の状態を精度よく取得することが可能となる。

例５．例３又は例４の装置において、制御部は、第４の処理の後に、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、カップ部材に対する撮像部の位置を第１の撮像位置及び第２の撮像位置とは別の第３の撮像位置に調節する第５の処理と、第５の処理の後に、撮像部を制御して、第３の撮像位置においてベース部の外周縁よりもカップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第６の処理とを実行するように構成されており、第１の撮像位置と、第２の撮像位置と、第３の撮像位置とは、検査用基板の回転方向において略等間隔をもって互いに離隔していてもよい。この場合、検査用基板の回転方向において略等間隔をもって互いに離隔する３箇所の撮像位置からカップ部材が撮像される。すなわち、カップ部材の外周面が略全周にわたって撮像される。そのため、カップ部材の状態をさらに精度よく取得することが可能となる。

例１１．例９又は例１０の装置は、カップ部材の高さ又は前記カップ部材の傾きを変更させるように構成されたカップ駆動部をさらに備え、制御部は、第９の処理において検出されたカップ部材の高さ又はカップ部材の傾きが所定の許容範囲外であると判断した場合にカップ駆動部を制御して、カップ部材の高さ又はカップ部材の傾きが許容範囲内となるようにカップ部材の高さ又はカップ部材の傾きを調節する第１１の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、偏差が許容範囲外であるときに、制御部が自動的にカップ部材の姿勢を制御するので、カップ部材のメンテナンスを効率的に実行することが可能となる。

Claims (18)

1. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
   基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
   前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
   前記保持部に保持された前記基板に処理液を供給するように構成された処理液供給部と、
   前記保持部を外側から取り囲むように構成されたカップ部材と、
   制御部とを備え、
   前記制御部は、
   前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記カップ部材に対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
   前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ベース部の外周縁よりも前記カップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第２の処理とを実行するように構成されている、基板処理装置。
2. 前記カップ部材は、
   前記保持部に設けられた内側カップ体と、
   前記内側カップ体を外側から取り囲むように構成された外側カップ体と、
   前記外側カップ体を外側から取り囲み且つ昇降可能に構成されたミストガードとを含む、請求項１に記載の装置。
3. 前記制御部は、
   前記第２の処理の後に、前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記カップ部材に対する前記撮像部の位置を前記第１の撮像位置とは別の第２の撮像位置に調節する第３の処理と、
   前記第３の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第２の撮像位置において前記ベース部の外周縁よりも前記カップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第４の処理とを実行するように構成されている、請求項１又は２に記載の装置。
4. 前記制御部は、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させながら、前記第１の処理、前記第２の処理、前記第３の処理及び前記第４の処理を連続的に実行するように構成されている、請求項３に記載の装置。
5. 前記制御部は、
   前記第４の処理の後に、前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記カップ部材に対する前記撮像部の位置を前記第１の撮像位置及び前記第２の撮像位置とは別の第３の撮像位置に調節する第５の処理と、
   前記第５の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第３の撮像位置において前記ベース部の外周縁よりも前記カップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第６の処理とを実行するように構成されており、
   前記第１の撮像位置と、前記第２の撮像位置と、前記第３の撮像位置とは、前記検査用基板の回転方向において略等間隔をもって互いに離隔している、請求項３又は４に記載の装置。
6. 前記制御部は、前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記カップ部材における異常の有無を検出する第７の処理を実行するように構成されている、請求項１～５のいずれか一項に記載の装置。
7. 前記第７の処理は、処理液による前記基板の処理が行われる前に前記撮像部によって撮像された撮像画像と、処理液による前記基板の処理が行われた後に前記撮像部によって撮像された撮像画像との比較により、前記カップ部材における異常の有無を検出することを含む、請求項６に記載の装置。
8. 洗浄液を供給するように構成された洗浄液供給部を備え、
   前記制御部は、前記第７の処理によって異常が検出された場合に前記洗浄液供給部を制御して、前記カップ部材に洗浄液を供給する第８の処理を実行するように構成されている、請求項６又は７に記載の装置。
9. 前記制御部は、前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記カップ部材の高さ又は前記カップ部材の傾きを検出する第９の処理を実行するように構成されている、請求項１～８のいずれか一項に記載の装置。
10. 前記制御部は、前記第９の処理によって検出された前記カップ部材の高さ又は前記カップ部材の傾きが所定の許容範囲外であると判断した場合に警報を報知する第１０の処理を実行するように構成されている、請求項９に記載の装置。
11. 前記カップ部材の高さ又は前記カップ部材の傾きを変更させるように構成されたカップ駆動部をさらに備え、
    前記制御部は、前記第９の処理において検出された前記カップ部材の高さ又は前記カップ部材の傾きが所定の許容範囲外であると判断した場合に前記カップ駆動部を制御して、前記カップ部材の高さ又は前記カップ部材の傾きが前記許容範囲内となるように前記カップ部材の高さ又は前記カップ部材を調節する第１１の処理を実行するように構成されている、請求項９又は１０に記載の装置。
12. 前記保持部、前記駆動部及び前記カップ部材を収容するように構成された処理チャンバを備え、
    前記制御部は、前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記処理チャンバの内壁面に付着した付着物の有無を検出する第１２の処理を実行するように構成されている、請求項１～１１のいずれか一項に記載の装置。
13. 前記検査用基板は、前記ベース部に配置された照明部を含み、
    前記照明部は、前記ベース部の外周縁よりも前記カップ部材側の空間に位置する撮像対象物を前記撮像部が撮像する際に、当該撮像対象物に対して光を照射するように構成されている、請求項１～１２のいずれか一項に記載の装置。
14. 前記検査用基板は、前記ベース部のうち前記撮像部とは別の箇所に配置された別の撮像部を含む、請求項１～１３のいずれか一項に記載の装置。
15. 前記撮像部と前記制御部とは、無線によって互いに通信可能に接続されている、請求項１～１４のいずれか一項に記載の装置。
16. 前記検査用基板は、前記撮像部に電力を供給すると共に充電可能に構成されたバッテリを含む、請求項１～１５のいずれか一項に記載の装置。
17. 前記保持部、前記駆動部、前記処理液供給部の少なくとも一部及び前記カップ部材を収容するように構成された処理チャンバと、
    前記検査用基板を収容するように構成された収容チャンバと、
    前記検査用基板を前記処理チャンバと前記収容チャンバとの間で搬送するように構成された搬送部とを備える、請求項１～１６のいずれか一項に記載の装置。
18. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、
    前記第１の工程の後に、前記保持部を回転させることにより、前記保持部を外側から取り囲むように構成されたカップ部材に対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、
    前記第２の工程の後に、前記第１の撮像位置において前記ベース部の外周縁よりも前記カップ部材側の空間に位置する撮像対象物を撮像する第３の工程と、
    前記第３の工程の後に、前記保持部から前記検査用基板を搬出する第４の工程と、
    前記第４の工程の後に、基板を前記保持部に保持させる第５の工程と、
    前記第５の工程の後に、前記基板に処理液を供給して前記基板を処理する第６の工程とを含む、基板処理方法。

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