JP2023129800A - バブル液発生器 - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明は、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体に混入及び溶込ませることのできるバブル液発生器を提供する。【解決手段】 円筒本体１１内にピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５を配置し、円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）に貯留した液体Ｗに浸漬する。抵抗体３は、複数の液体噴射穴３２を有する。各液体噴射穴３２は、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗを、抵抗体及び羽根車５の間の液体Ｗに噴射して、抵抗体３及び羽根車５の間に羽根車５に向かう液体Ｗの流れを発生する。羽根車５は、羽根車５に向かう液体Ｗの流れによって回転されて、羽根車５及びピストン４の間の液体Ｗに渦流を発生する。【選択図】 図１６

Description

本発明は、マイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入及び溶込んだバブル液を発生するバブル液発生器に関する。

バブル液を発生する技術として、特許文献１は、マイクロバブル発生装置を開示する。マイクロバブル発生装置は、ホルダー、インレットアダプター及びミキシングアダプターを備え、各アダプターはホルダーに取付けられる。インレットアダプターは、液体流路中に、ミキシングアラプターに向けて段々に縮径する液体絞り穴を有する。ミキシングアダプターは、流体流出口に向けて段々に拡径する液体流路を有する。
マイクロバブル発生装置は、液体流入口から液体をインレットアダプターの液体絞り穴に流入して、液体をミキシングアダプターの液体流路に噴射する。マイクロバブル発生装置は、液体絞り穴の噴出側で空気を液体に混合して、ミキシングアダプターの液体流路にてマイクロバブル液を発生する。

特開２０１５－９３２１９号公報

特許文献１では、液体絞り穴から液体を噴射して、空気と混合することで、空気を粉砕（剪断）して、ある程度の量のマイクロバブルを発生できるものの、更に液体に混入、溶込ませるマイクロバブルの量を増加し、及びウルトラファンバブルを混入、溶込ませることが望まれている。

本発明に係る請求項１は、一方の筒端が開口され、他方の筒端が閉塞された円筒本体、一方の前記筒端を閉塞して前記円筒本体に取外し自在として取付られるガイド蓋を有し、他方の前記筒端及び前記ガイド蓋の間の前記円筒本体内に貯留空間を形成し、前記貯留空間に液体が貯留されるシリンダーと、前記円筒本体に同心として前記貯留空間に配置され、前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記円筒本体の筒中心線の方向に延在され、及び前記円筒中心線の方向に前記ガイド蓋を摺動自在に貫通して前記シリンダーから突出されるピストン軸と、円形状に形成され、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に固定される抵抗体と、円形状に形成され、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記ピストン軸の軸中心線の方向において、前記抵抗体に第１軸線間隔を隔てて前記ガイド蓋及び前記抵抗体の間に配置され、及び前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に固定されるピストンと、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記軸中心線の方向において、前記抵抗体に第２軸線間隔を隔てると共に、前記ピストンに第３軸線間隔を隔てて前記抵抗体及び前記ピストンの間に配置され、及び前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に回転自在に配置される羽根車と、を備え、前記抵抗体は、前記軸中心線の方向において、前記抵抗体を貫通して、他方の前記筒端及び前記抵抗体の間に開口されると共に、前記抵抗体及び前記羽根車の間に開口される複数の液体噴射穴を有し、前記各液体噴射穴は、前記抵抗体の他方の前記筒端に向けた移動に伴って、他方の前記筒端及び前記抵抗体の間の液体を、前記抵抗体及び前記羽根車の間に噴射して、前記羽根車に向かう液体の流れを発生し、前記羽根車は、前記羽根車に向け液体の流れによって回転されて、前記羽根車及び前記ピストの間の液体に渦流を発生することを特徴とするバブル液発生器である。

本発明に係る請求項１によれば、ピストン軸をガイド蓋に対してピストン軸の軸中心線の方向に摺動（移動）することで、抵抗体、ピストン及び羽根車を円筒本体の各筒端の間で往復移動できる。
請求項１では、抵抗体、ピストン及び羽根車を複数回、往復移動することで、ピストン及び羽根車の間の液体に複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量（多量）のマイクロバブル及び十分な量（多量）のウルトラファインバブルを液体に混入及び溶込ませることが可能となる。
請求項１では、各液体噴射穴は、抵抗体の一方の筒端に向けた移動に伴って、抵抗体及び羽根車の間の液体を、他方の筒端及び抵抗体の間に噴射する構成も採用できる。
なお、国際標準化機構（ＩＳＯ）の国際規格「ＩＳＯ２０４８０－１」には、気泡径：１マイクロメート（μｍ）以上、１００マイクロメート（μｍ）未満の気泡を「マイクロバブル」、気泡径：１マイクロメート未満の気泡を「ウルトラファンバブル」と定めている（以下、同様）。

本発明は、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体に混入及び溶込ませることができる。

第１実施形態のバブル液発生器を示す斜視図である。 第１実施形態のバブル液発生器を示す正面図である。 図２のＡ－Ａ断面図である。 図２のＢ－Ｂ拡大断面図（第１実施形態）、図１８のＢ－Ｂ拡大断面図（第２実施形態）、図３２のＢ―Ｂ拡大断面図（第３実施形態）、図４７のＢ－Ｂ拡大断面図（第４実施形態）、図６０のＢ－Ｂ拡大断面図（第５実施形態）である。 図２のＣ－Ｃ拡大断面図（第１実施形態）、図１８のＣ－Ｃ拡大断面図（第２実施形態）、図３２のＣ－Ｃ拡大断面図（第３実施形態）、図４７のＣ－Ｃ拡大断面図（第４実施形態）、図６０のＣ－Ｃ拡大断面図（第５実施形態）である。 図２のＤ－Ｄ拡大断面図である。 図３のＥ部分拡大図である。 （ａ）は、第１実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、（ｂ）は、第１実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す下方斜視図である。 第１実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大底面図（拡大下面図）である。 第１実施形態のバブル液発生の羽根車を示す拡大平面図（拡大上面図）である。 第１実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。 図３のＥ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第１実施形態のバブル液発生器において、抵抗体、ピストン及び羽根車を第１位置に配置した断面図である。 図１３のＦ部分拡大図である。 図３のＥ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第１実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。 図２のＤ－Ｄ拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。 第２実施形態のバブル液発生器を示す正面図である。 図１８のＧ－Ｇ断面図である。 図１８のＨ－Ｈ断面図である。 図１９のＩ部分拡大図である。 （ａ）は、第２実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、（ｂ）は、第２実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す下方斜視図である。 第２実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大底面図（拡大下面図）である。 第２実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大平面図（拡大上面図）である。 第２実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。 図１９のＩ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第２実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車を第１位置に配置した断面図である。 図２７のＪ部分拡大図である。 図１９のＩ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第２実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。 図１８のＨ－Ｈ拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。 第３実施形態のバブル液発生器の正面図である。 図３２のＫ－Ｋ断面図である。 図３２のＬ－Ｌ拡大断面図である。 図３３のＭ部分拡大図である。 （ａ）は、第３実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、（ｂ）は、第３実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す下方斜視図である。 第３実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大底面図（下面図）であって、各流通穴の配置関係を示す図である。 第３実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大底面図（下面図）であって、流入穴及び液ガイド板の配置関係を示す図である。 第３実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大平面図（上面図）である。 第３実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。 図３３のＭ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第３実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車を第１位置に配置した断面図である。 図４２のＮ部分拡大図である。 図３３のＭ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第３実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。 図３２のＬ－Ｌ拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。 第４実施形態のバブル液発生器を示す正面図である。 図４７のＱ－Ｑ断面図である。 図４７のＲ－Ｒ拡大断面図である。 図４８のＳ部分拡大図である。 （ａ）は、第４実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、（ｂ）は、第４実施形態のバブル液発生の羽根車を示す下方斜視図である。 第４実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大平面図（上面図）である。 第４実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。 図４８のＳ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第４実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車を第１位置に配置した断面図である。 図５５のＴ部分拡大図である。 図４８のＳ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第４実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。 図４７のＲ－Ｒ拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。 第５実施形態のバブル液発生器を示す正面図である。 図６０のＵ－Ｕ断面図である。 図６０のＶ－Ｖ拡大断面図である。 図６１のＷ部分拡大図である。 （ａ）は、第５実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、（ｂ）は、第５実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す下方斜視図である。 第５実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大平面図（上面図）である。 第５実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。 図６１のＷ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第５実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車を第１位置に配置した断面図である。 図６８のＹ部分拡大図である。 図６１のＷ部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。 第５実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。 図６０のＶ－Ｖ拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。

本発明に係るバブル液発生器について、図１乃至図７２を参照して説明する。
第１乃至第５実施形態のバブル液発生器（バブル水発生器）について、図１乃至図７２を参照して説明する。

第１実施形態のバブル液発生器について、図１乃至図１７を参照して説明する。

図１乃至図１７において、第１実施形態のバブル液発生器Ｘ１（以下、「バブル液発生器Ｘ１」という）は、シリンダー１、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４、羽根車５（インペラ）及びハンドル６を備える。

シリンダー１は、図１乃至図７に示すように、円筒本体１１、シリンダー蓋１２、及びガイド蓋１３を有する。

円筒本体１１は、図１乃至図７に示すように、例えば、透明な合成樹脂によって円筒状（円筒体）に形成される。円筒本体１１は、一方の筒端１１Ａが開口され、他方の筒端１１Ｂが閉塞される。円筒本体１１は、雌ネジ部１４を有する。雌ネジ部１４は、一方の筒端１１Ａ側に配置されて、円筒本体１１の内周１１ａ（内周面）に形成される。

シリンダー蓋１２は、図１乃至図６に示すように、他方の筒端１１Ｂを閉塞して、円筒本体１１に外嵌される。シリンダー蓋１２は、他方の筒端１１Ｂ側の円筒本体１１の外周１１ｂ（外周面）に外嵌されて、円筒本体１１に固定される。

ガイド蓋１３は、図１乃至図３に示すように、一方の筒端１１Ａを閉塞して、円筒本体１１に取外し自在として取付けられる。ガイド蓋１３は、ガイド板１５、ガイド軸部１６、ガイド穴１７及び雄ネジ部１８を有する。

ガイド板１５は、図１乃至図３に示すように、例えば、正六角形状（正六角形板）に形成され、板厚さ方向に板表面１５Ａ及び板裏面１５Ｂを有する。

ガイド軸部１６は、図３示すように、円柱状（断面円形軸）に形成される。ガイド軸部１６は、ガイド板１５と同心に配置される。ガイド軸部１６は、一方のガイド軸端１６Ａをガイド板１５の板裏面１５Ｂに当接して、ガイド板１５に固定される。ガイド軸部１６は、ガイド板１５の板裏面１５Ｂから突出して配置される。ガイド軸部１６は、ガイド板１５の板裏面１５Ｂから縮径して、ガイド板１５と一体に形成される。

ガイド穴１７は、図２及び図３に示すように、ガイド蓋１３に形成される。ガイド穴１７は、ガイド軸部１６と同心に配置される。ガイド穴１７は、ガイド軸部１６の軸中心線の方向において、ガイド軸部１６及びガイド板１５（ガイド蓋１３）を貫通して、ガイド軸部１６の他方のガイド軸端１６Ｂ、及びガイド板１５の板表面１５Ａに開口される。

雄ネジ部１８は、図３に示すように、ガイド軸部１６の各ガイド軸端１６Ａ，１６Ｂの間に配置されて、ガイド軸部１６の外周（外周面）に形成される。

ガイド蓋１３は、図３に示すように、円筒本体１１と同心に配置される。ガイド蓋１３は、ガイド軸部１６の他方のガイド軸端１６Ｂを円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂに向け、及びガイド板１５の板裏面１５Ｂを円筒本体１１の一方の筒端１１Ａに向けて配置される。

ガイド蓋１３は、図３に示すように、他方のガイド軸端１６Ｂからガイド軸部１６を円筒本体１１の一方の筒端１１Ａ側に挿入して円筒本体１１に配置される。ガイド蓋１３は、他方のガイド軸端１６Ｂから雄ネジ部１８を、円筒本体１１の雌ネジ部１４に螺着（螺着）して円筒本体１１に取外し自在として取付けられる。ガイド蓋１３は、雄ネジ部１８（ガイド軸部１６）を円筒本体１１の雌ネジ部１４に螺入して、ガイド板１５の板裏面１５Ｂを円筒本体１１の一方の筒端１１Ａに当接して、円筒本体１１に取付けられる。
これにより、ガイド蓋１３は、円筒本体１１に取外し自在として配置されて、円筒本体１１の一方の筒端１１Ａを閉塞する。

シリンダー１は、図３及び図１２に示すように、円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及びガイド蓋１３の間の円筒本体１１内に貯留空間Ｃを形成して、貯留空間Ｃに液体Ｗ（水）が貯留される。

ピストン軸２は、図１乃至図７に示すように、円柱状（断面円形軸）に形成される。ピストン軸２は、大径軸部２１、小径軸部２２、雄ネジ部２３、第１抜止め溝２４、第２抜止め溝２５、第３抜止め溝２６、第４抜止め溝２７、及びシール溝２８を有する。

小径軸部２２は、図２、図３及び図７に示すように、大径軸部２１と同心に配置される。小径軸部２２は、小径軸部２２の一方の小径軸端２２Ａを、大径軸部２１の一方の大径軸端２１Ａに当接して、大径軸部２１に連続して形成される。小径軸部２２は、大径軸部２１の一方の大径軸端２１Ａから段差２Ａ（段部）を有して縮径されて、一方の大径軸端２１Ａから突出して形成される。

雄ネジ部２３は、図２、図３及び図７に示すように、ピストン軸２（小径軸部２２）に形成される。雄ネジ部２３は、小径軸部２２の各小径軸端２２Ａ，２２Ｂの間に配置されて、小径軸部２２の外周（外周面）に形成される。

第１乃至第４抜止め溝２４，２５，２６，２７は、図７に示すように、ピストン軸２（大径軸部２１）に形成される。

第１抜止め溝２４は、図７に示すように、ピストン軸２と同心に配置されて、大径軸部２１（ピストン軸２）に形成される。第１抜止め溝２４は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、大径軸部２１の一方の大径軸端２１Ａ（小径軸部２２の一方の小径軸端２２Ａ）に第１溝間隔Ｇ１を隔てて配置される。第１抜止め溝２４は、ピストン軸２（大径軸部２１）の周方向（円周方向）にわたって、大径軸部２１に形成される。第１抜止め溝２４は、ピストン軸２の径方向に溝深さを有し、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａに溝幅を有して、大径軸部２１の外周（ピストン軸２の外周）に開口される。

第２抜止め溝２５は、図７に示すように、ピストン軸２と同心に配置されて、大径軸部２１（ピストン軸２）に形成される。第２抜止め溝２５は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、第１抜止め溝２４に第２溝間隔Ｇ２を隔てて、第１抜止め溝２４及び大径軸部２１の他方の大径軸端２１Ｂの間に配置される。第２抜止め溝２５は、ピストン軸２（大径軸部２１）の周方向にわたって、大径軸部２１に形成される。第２抜止め溝２５は、ピストン軸２の径方向に溝深さを有し、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａに溝幅を有して、大径軸部２１の外周（ピストン軸２の外周）に開口される。

第３抜止め溝２６は、図７に示すように、ピストン軸２と同心に配置されて、大径軸部２１（ピストン軸２）に形成される。第３抜止め溝２６は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、第２抜止め溝２５に第３溝間隔Ｇ３を隔てて、第１抜止め溝２６及び大径軸部２１の他方の大径軸端２１Ｂの間に配置される。第３抜止め溝２６は、ピストン軸２（大径軸部２１）の周方向にわたって、大径軸部２１に形成される。第３抜止め溝２６は、ピストン軸２の径方向に溝深さを有し、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａに溝幅を有して、大径軸部２１の外周（ピストン軸２の外周）に開口される。

第４抜止め溝２７は、図７に示すように、ピストン軸２と同心に配置されて、大径軸部２１（ピストン軸２）に形成される。第４抜止め溝２７は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、第３抜止め溝２６に第４溝間隔Ｇ４を隔てて、第３抜止め溝２６及び大径軸部２１の他方の大径軸端２１Ｂ（ピストン軸２の他方の軸端）の間に配置される。第４抜止め溝２７は、ピストン軸２（大径軸部２１）の周方向にわたって、大径軸部２１に形成される。第４抜止め溝２７は、ピストン軸２の径方向に溝深さを有し、ピストン軸２の軸中心線aの方向Ａに溝幅を有して、大径軸部２１の外周（ピストン軸２の外周）に開口される。

シール溝２８は、図７に示すように、ピストン軸２と同心に配置されて、大径軸部２１（ピストン軸２）に形成される。シール溝２８は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、第３抜止め溝２６及び第４抜止め溝２７の間に配置される。シール溝２８は、ピストン軸２（大径軸部２１）の周方向にわたって、大径軸部２１に形成される。シール溝２８は、ピストン軸２の径方向に溝深さを有し、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａに溝幅を有して、大径軸部２１の外周（ピストン軸２の外周）に開口される。

ピストン軸２は、図１乃至図７に示すように、円筒本体１１と同心にして貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置される。
ピストン軸２は、他方の小径軸端２２Ｂ（ピストン軸２の一方の軸端）から小径軸部２２をガイド蓋１３のガイド穴１７に挿入し、小径軸部２２及び大径軸部２１をガイド蓋１３のガイド穴１７に貫通（挿通）して、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置される。
小径軸部２２は、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）において、円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ側（シリンダー蓋１２側）に配置される。大径軸部２１は、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）において、円筒本体１１の一方の筒端１１Ａ側及びガイド蓋１３（ガイド穴１７）に配置される。

ピストン軸２（大径軸部２１、小径軸部２２）は、図７に示すように、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）において、円筒本体１１の内周１１ａ（内周面）に周間隔Ｓ１を隔てて円筒本体１１の筒中心線ａの方向Ａに延在される。

ピストン軸２は、図３に示すように、円筒本体１１の筒中心線ａの方向Ａにガイド蓋１３（ガイド穴１７）を摺動自在に貫通（挿通）してシリンダー１（円筒本体１１）から突出される。
大径軸部２１は、図３に示すように、円筒本体１１の筒中心線ａの方向Ａにおいて、ガイド穴１７（ガイド蓋１３）を摺動自在に貫通（挿通）して、他方の大径軸端２１Ｂ側（ピストン軸の他方の軸端側）をシリンダー１（円筒本体１１）から突出して配置される。
これにより、ピストン軸２は、小径軸部２２、及び大径軸部２１（大径軸部２１の一部）を貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に位置して配置される。ピストン軸２は、大径軸部２１をガイド穴１７に摺動自在に貫通（挿通）して、ガイド蓋１３に支持される。
ピストン軸２は、大径軸部２１をガイド穴１７（ガイド蓋１３）に摺動しつつ、円筒本体１１の筒中心線ａの方向Ａに移動自在にされる。

抵抗体３は、図１乃至図４、及び図７に示すように、板厚さＴ１の円形状（円形板）に形成される。抵抗体３は、板厚さ方向に抵抗板表面３Ａ及び抵抗板裏面３Ｂを有する。抵抗体３（抵抗円板）は、ネジ穴３１、及び複数（例えば、４つ）の液体噴射穴３２を有する。

ネジ穴３１は、図４及び図７に示すように、抵抗体３に形成される。ネジ穴３１は、抵抗体３（抵抗円板）と同心に配置される。ネジ穴３１は、抵抗体３の板中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３を貫通して、抵抗板表面３Ａ及び抵抗板裏面３Ｂに開口される。

各液体噴射穴３２は、図４及び図７に示すように、円形状（円形穴）に形成される。各液体噴射穴３２は、抵抗体３（抵抗円板）に形成される。各液体噴射穴３２は、抵抗体３の径方向において、ネジ穴３１及び抵抗体３の外周３ａ（外周面）の間に配置される。
各液体噴射穴３２は、図４に示すように、抵抗体３（抵抗円板）の板中心線ａを中心として、抵抗体３に位置する半径ｒ１の円Ｃ１上（同一円Ｃ１上）に配置される。各液体噴射穴３２は、穴中心線ｂを円Ｃ１上に位置（一致）して配置される。各液体噴射穴３２は、抵抗体３（抵抗円板）の周方向（円周方向）において、各液体噴射穴３２の間に穴角度（例えば、穴角度：９０度）を隔てて配置される。
各液体噴射穴３２は、抵抗体３の板中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３を貫通して、抵抗板表面３Ａ及び抵抗板裏面３Ｂに開口される。

抵抗体３は、図１乃至図４、及び図７に示すように、円筒本体１１に同心として貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置されて、貯留空間Ｃの液体Ｗに浸漬される。
抵抗体３（抵抗円板）は、抵抗板表面３Ａを一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向け、及び抵抗板裏面３Ｂを他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）に向けて、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置される。抵抗体３は、抵抗板表面３Ａ及び抵抗板裏面３Ｂをピストン軸２の軸中心線ａ（円筒本体１１の筒中心線ａ）と直交して、貯留空間Ｃに配置される。

抵抗体３は、図７に示すように、円筒本体１１の内周１１ａ（内周面）に周隙間Ｓ３（抵抗体周隙間）を隔ててピストン軸２（小径軸部２２）に固定される。抵抗体３は、抵抗体３（円筒本体１１）の径方向において、円筒本体１１の内周１１ａ及び抵抗体３の外周３ａの間に周隙間Ｓ３を隔ててピストン軸２（小径軸部２２）に固定される。

抵抗体３は、図７に示すように、抵抗板表面３Ａからネジ穴３１に小径軸部２２（ピストン軸２）の雄ネジ部２３を螺入（螺着）して、ピストン軸２（小径軸部２２）に取付けられる。抵抗体３は、抵抗板表面３Ａを段差２Ａ（段部）に当接して、小径軸部２２に外嵌され、及びネジ穴３１に雄ネジ部２３（小径軸部２２）を螺入（螺着）して、小径軸部２２（ピストン軸２）に取付けられる。

抵抗体３は、図７に示すように、雄ネジ部２３及び締付けナット３３によって小径軸部２２（ピストン軸２）に固定される。締付けナット３３は、小径軸部２２に外嵌されて、雄ネジ部２３に螺着される。締付けナット３３は、小径軸部２２（雄ネジ部２３）に対して回転されて、抵抗体３の抵抗板裏面３Ｂに当接される。
これにより、締付けナット３３は、抵抗体３（抵抗円板）を段差２Ａ（段部）とで挟持して、抵抗体３をピストン軸２（小径軸部２２）に固定する。

各液体噴射穴３２は、図７に示すように、抵抗体３をピストン軸２（小径軸部２２）に固定すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３を貫通して、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間に開口されると共に、抵抗体３及び一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）の間に開口される。

ピストン４は、図１乃至図３，図５及び図７に示すように、板厚さＴ２の円形状（円形板／円柱）に形成される。ピストン４（ピストン円板）は、板厚さ方向にピストン表面４Ａ及びピストン裏面４Ｂを有する。ピストン４は、装着穴３６を有する。

装着穴３６は、図５及び図７に示すように、ピストン４に形成される。装着穴３６は、ピストン４（ピストン円板）と同心に配置される。装着穴３６は、ピストン４の中心線ａの方向Ａにおいて、ピストン４を貫通して、ピストン表面４Ａ及びピストン裏面４Ｂに開口される。

ピストン４は、図１乃至図３、図５及び図７に示すように、円筒本体１１に同心として貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置されて、貯留空間Ｃの液体Ｗに浸漬される。
ピストン４は、図３及び図７に示すように、ピストン表面４Ａを一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向け、及びピストン裏面４Ｂを他方の筒端１１Ｂ（抵抗体３）に向けて、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置される。ピストン４は、ピストン表面４Ａ及びピストン裏面４Ｂをピストン軸２の軸中心線ａと直交して、貯留空間Ｃに配置される。ピストン４は、ピストン表面４Ａ及びピストン裏面４Ｂを抵抗体３の抵抗板表面３Ａに平行として、貯留空間Ｃに配置される。

ピストン４は、図７に示すように、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａ（円筒本体１１の筒中心線ａの方向Ａ）において、抵抗体３に第１軸線間隔Ｋ１を隔てて、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）のガイド蓋１３（一方の筒端１１Ａ）及び抵抗体３の間に配置される。第１軸線間隔Ｋ１は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、ピストン４のピストン裏面４Ｂ及び抵抗体３の抵抗板表面３Ａの間の間隔である。

ピストン４は、図７に示すように、円筒本体１１の内周１１ａ（内周面）に周隙間Ｓ４（ピストン周隙間）を隔ててピストン軸２（大径軸部２１）に固定される。ピストン４は、ピストン４（円筒本体１１）の径方向において、円筒本体１１の内周１１ａ及びピストン４の外周４ａ（外周面）の間に周隙間Ｓ４を隔ててピストン軸２に固定される。

ピストン４は、図５及び図７に示すように、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びガイド蓋１３の間において、大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌されて、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、第３抜止め溝２６及び第４抜止め溝２７の間の大径軸部２１に配置される。ピストン４は、装着穴３６にピストン軸２（大径軸部２１）を貫通（挿通）して、大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌される。

ピストン４は、図５及び図７に示すように、一対のスナップリング３７，３８によって大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされる。
各スナップリング３７，３８は、大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌されて、第３抜止め溝２６、第４抜止め溝２４に挿入される。各スナップリング３７，３８は、ピストン軸２の径方向において、大径軸部２１の外周２１ａ（外周面）から突出して配置される。スナップリング３７は、第３抜止め溝２６に挿入されて、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａからピストン４のピストン裏面４Ｂに当接される。スナップリング３８は、第４抜止め溝２７に挿入されて、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａからピストン４のピストン表面４Ａに当接される。
これにより、ピストン４は、各スナップリング３７，３８で挟持されることによって、抵抗体３に第１軸線間隔Ｋ１を隔てる大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされて、ピストン軸２（大径軸部２１）に固定される。

ピストン４は、図７に示すように、シールリング３９を介在して大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌される。シールリング３９は、合成ゴム等の弾性材で円環状に形成される。シールリング３９は、大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌されて、シール溝２８に挿入される。シールリング３９は、ピストン軸２の径方向において、大径軸部２１の外周２１ａから突出してピストン４の装着穴３６に当接（圧接）される。
ピストン４は、装着穴３６（穴内周）をシールリング３９に液密に当接（圧接）して、大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌される。

羽根車５は、図１乃至図３、及び図６乃至図１１に示すように、回転筒部４１（円筒部）、及び羽根円板４２を有する。

回転筒部４１（ボス）は、図８乃至図１１に示すように、外直径ＴＤ（外周直径）の円筒状（円筒体）に形成され、回転筒部４１の筒中心線ａの方向Ａに筒高さＴＨを有する。筒高さＴＨは、第２溝間隔Ｇ２より低い高さである。

羽根円板４２は、図８乃至図１１に示すように、板厚さＴ３及び外直径ＰＤ（外半径ｒｄ）の円形状（円形板）に形成される。羽根円板４２の板厚さＴ３は、回転筒部４１の筒高さＴＨより薄い厚さである（Ｔ３＜ＴＨ）。羽根円板４２の外直径ＰＤは、回転筒部４１の外直径ＴＤ（外周直径）より大きい直径である（ＰＤ＞ＴＤ）。
羽根円板４２は、板厚さ方向に円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂを有する。
円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂは、円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂの間に板厚さＴ３を有して平行に配置される。

羽根円板４２は、図８乃至図１１に示すように、回転筒部４１と同心に配置される。羽根円板４２は、回転筒部４１に外嵌されて、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ側に配置される。羽根円板４２は、円板表面４２Ａを回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂに向け、及び円板裏面４２Ｂを回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａに向けて、回転筒部４１に外嵌される。羽根円板４２は、回転筒部４１に固定される。

羽根円板４２（羽根車５）は、図８乃至図１１に示すように、複数の流通穴４３、及び複数の羽根板４４（羽根翼）を有する。

流通穴４３は、図８乃至図１０に示すように、例えば、羽根円板４２に６つ形成される。各流通穴４３は、回転筒部４１の径方向において、回転筒部４１の外周４１ａ（外周面）、及び羽根円板４２の外周４２ａ（外周面）の間に配置される。各流通穴４３は、図９に示すように、回転筒部４１の筒中心線ａを中心として、羽根円板４２に位置する半径ｒ１の円Ｃ２上（同一円Ｃ２上）に配置される。各流通穴４３は、流通穴中心線ｅ（流通穴中心）を円Ｃ２に位置（一致）して配置される。
各流通穴４３は、回転筒部４１（羽根円板４２）の周方向（円周方向）において、各流通穴４３の間に流通穴角度θ１（第１流通穴角度）を隔てて配置される。流通穴角度θ１は、例えば、１２０度（１２０°）である。

各流通穴４３は、図９に示すように、回転筒部４１の筒中心線ａを中心として、羽根円板４２の外周４２ａ及び円Ｃ２の間に位置する半径ｒｅの外側穴面４３ａ、円Ｃ２及び回転筒部４１の外周４１ａの間に位置する半径ｒｆの内側穴面４３ｂを有する。
各流通穴４３は、回転筒部４１の周方向に穴幅角度θＡを隔てる一対の穴幅側面４３ｃ，４３ｄを有する。各穴幅側面４３ｃ，４３ｄは、回転筒部４１（羽根円板４２）の周方向において、各穴幅側面４３ｃ，４３ｄの間に穴幅角度θＡを隔てて配置され、外側穴面４３ａ（外側穴弧面）及び内側穴面４３ｂ（外側穴弧面）に交差される。穴幅角度θＡは、例えば、４５度（４５°）である。

各流通穴４３は、図８乃至図１０に示すように、回転筒部４１の筒中心線ａの方向Ａにおいて、外側穴面４３ａ、内側穴面４３ｂ、及び各穴幅側面４３ｃ，４３ｄを有して羽根円板４２を貫通して、羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂに開口される。

各羽根板４４は、図８乃至図１１に示すように、板厚さＴ４の矩形状に形成される。各羽根板４４は、板厚さ方向に羽根板表面４４Ａ（板表面）及び羽根板裏面４４Ｂ（板裏面）を有する。羽根板表面４４Ａ、及び羽根板裏面４４Ｂは、板厚さ方向において、羽根板表面４４Ａ及び羽根板裏面４４Ｂの間に板厚さＴ４を有して平行に配置される。
羽根板４４は、流通穴４３と同数であって、例えば、羽根円板４２に６つ形成される。

各羽根板４４は、円Ｃ２上（同一円Ｃ２上）に配置される。各羽根板４４は、回転筒部４１の周方向において、各羽根板４４の間に流通穴角度θ１と同一の羽根板角度θ１（第１羽根板角度）を隔てて各流通穴４３内に配置される。
各羽根板４４は、回転筒部４１の周方向に羽根板角度θ１を隔てる各流通穴４３の一方の穴幅側面４３ｃに連続して配置され、羽根円板４２に連結（固定）される。各羽根板４４は、羽根板裏面４４Ｂを羽根円板４２の円板表面４２Ａ（各流通穴４３内）に向けて配置される。

各羽根板４４は、図１１に示すように、羽根円板４２の円板表面４２Ａ（回転筒部４１の筒中心線ａと直交する水平方向）に傾斜角度θＢ（鋭角度）をなして、各流通穴４３の一方の穴幅側面４３ｃから他方の回転筒端４１Ｂ及び他方の穴幅側面４３ｄに延在して、各流通穴４３内に突出される。各羽根板４４は、各流通穴４３の一方の穴幅側面４３ｃから羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂから離間しつつ羽根円板４２の円板表面４２Ａに傾斜角度θＢで傾斜して、各流通穴４３内に突出される。
羽根板表面４４Ａ、及び羽根板裏面４４Ｂは、円板表面４２Ａに傾斜角度θＢをなして、一方の穴幅側面４３ｃから他方の回転筒端４１Ｂ及び他方の穴幅側面４３ｄに延在して、各流通穴４３内に突出される。傾斜角度θＢは、３０度（３０°）以上、６０度（６０°）以下であって、例えば、４５度（４５°）である。

各羽根板４４は、図１０に示すように、回転筒部４１（羽根円板４２）の径方向において、各流通穴４３の外側穴面４３ａ及び内側穴面４３ｂに板幅隙間δを隔てて各流通穴４３内に突出される。
各羽根板４４は、図１０に示すように、回転筒部４１（羽根円板４２）の周方向において、各流通穴４３の他方の穴幅側面４３ｄに板長隙間εを隔てて各流通穴４３内に突出される。
各羽根板４４は、回転筒部４１の径方向に板幅、及び回転筒部４１の周方向に板長さを有して、各流通穴４３の一方の穴幅側面４３ｃから各流通穴４３内に突出される。

羽根車５は、図１乃至図３、図６及び図７に示すように、円筒本体１１に同心として貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置されて、貯留空間Ｃの液体Ｗに浸漬される。
羽根車５は、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂ及び羽根円板４２の円板表面４２Ａ（各羽根板４４）をピストン４に向け、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ及び羽根円板４２の円板裏面４２Ｂを抵抗体３に向けて、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。
羽根車５は、羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂをピストン軸２の軸中心線a（円筒本体１１の筒中心線ａ）と直交して、貯留空間Ｃに配置される。羽根車５は、羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂを抵抗体３の抵抗板表面３Ａ及びピストン４のピストン裏面４Ｂに平行として、貯留空間Ｃに配置される。

羽根車５は、図７に示すように、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔てると共に、ピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てて貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。
第２軸線間隔Ｋ２は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３の抵抗板表面３Ａ及び羽根円板４２の円板裏面４２Ｂの間の間隔である。第３軸線間隔Ｋ３は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、ピストン４のピストン裏面４Ｂ及び羽根円板４２の円板表面４２Ａの間の間隔である。

羽根車５は、図７に示すように、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ及び抵抗体３の抵抗板表面３Ａの間に間隔（第１筒間隔）を隔てると共に、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂ及びピストン４のピストン裏面４Ｂの間に間隔（第２筒間隔）を隔てて、抵抗体３及びピストン４の間の貯留空間Ｃに配置される。

羽根車５は、図６及び図７に示すように、円筒本体１１の内周１１ａに周隙間Ｓ５（羽根車周隙間）を隔ててピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在に配置される。
羽根車５は、羽根円板４２（円筒本体１１）の径方向において、円筒本体１１の内周１１ａ及び羽根円板４２の外周４２ａ（外周面）の間に周隙間Ｓ５を隔てて、大径軸部２１に回転自在に配置される。

羽根車５は、図６及び図７に示すように、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間において、回転筒部４１を大径軸部２１（ピストン軸２）に回転自在に外嵌して、第１抜止め溝２４及び第２抜止め溝２５の間の大径軸部２１に配置される。羽根車５は、回転筒部４１内にピストン軸２（大径軸部２１）を貫通（挿通）して、大径軸部２１に回転自在に外嵌される。回転筒部４１は、一方の回転筒端４１Ａを第１抜止め溝２４（抵抗体３）に向け、他方の回転筒端４１Ｂを第２抜止め溝２５（ピストン４）に向けて、第１及び第２抜止め溝２４，２５の間の大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌される。

羽根車５は、図６及び図７に示すように、ワッシャー４５（平座金）及び複数（一対）のスナップリング４６，４７によって大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされる。

ワッシャー４５は、図７に示すように、大径軸部２１に外嵌されて、第１抜止め溝２４及び回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａの間に配置される。ワッシャー４５は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａから一方の回転筒端４１Ａに当接される。

各スナップリング４６，４７は、図７に示すように、大径軸部２１に外嵌されて、第１抜止め溝２４、第２抜止め溝２５に挿入される。各スナップリング４６，４７は、ピストン軸２の径方向において、大径軸部２１の外周２１ａ（外周面）から突出して配置される。スナップリング４６は、第１抜止め溝２４に挿入されて、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａからワッシャー４５に当接される。スナップリング４７は、第２抜止め溝２５に挿入されて、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａから回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂに当接される。

羽根車５は、図７に示すように、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａをワッシャー４５（平座金）に回転自在に当接し、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂをスナップリング４７に回転自在に当接して、各スナップリング４６，４７の間（第１及び第２抜止め溝２４，２５の間）の大径軸部２１に配置（外嵌）される。
羽根車５は、回転筒部４１を回転自在として各スナップリング４６，４７によって挟持することで、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔てると共に、ピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされて、ピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在として配置（外嵌）される。
これにより、羽根車５は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３及び羽根車５の間に第２軸線間隔Ｋ２を隔てる噴射空間Ｄと、ピストン４及び羽根車５の間に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる渦流空間Ｅを区画する。

各流通穴４３は、図６に示すように、羽根車５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、羽根円板４２（羽根車５）を貫通して、抵抗体３及び羽根車５の間（噴射空間Ｄ）に開口されると共に、羽根車５及びピストン４の間（渦流空間Ｅ）に開口される。
各流通穴４３は、羽根車５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線aの方向Ａにおいて、各液体噴射穴３２に対向（対峙）して配置される。

各羽根板４４は、図６及び図７に示すように、羽根車５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、羽根円板４２の円板表面４２Ａに傾斜角度θＢをなして、ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）に突出される。
各羽根板４４は、羽根車５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線aの方向Ａにおいて、各液体噴射穴３２に対向（対峙）して配置される。

各液体噴射穴３２は、図７に示すように、羽根車５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３を貫通して、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間に開口されると共に、抵抗体３及び羽根車５の間（抵抗体３及び羽根車５の間の貯留空間Ｃの間）に開口される。
各液体噴射穴３２は、羽根車５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、羽根円板４２（羽根車５）の流通穴４３（羽根板４４）に対向（対峙）して配置される。

ハンドル６は、図１乃至図３に示すように、シリンダー１（円筒本体１１）から突出される大径軸部２１の他方の大径軸端２１Ｂ側（ピストン軸２の他方の軸端側）に固定される。

バブル液発生器Ｘ１は、図１乃至図３、及び図１３に示すように、ガイド蓋１３を円筒本体１１に対し回転して円筒本体１１から取外すことで、円筒本体１１（貯留空間Ｃ）の一方の筒端１１Ａを開口（解放）する。
バブル液発生器Ｘ１は、円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂを重力方向（上下方向の下方）に向けて配置され、ガイド蓋１３を取外した円筒本体１１の一方の筒端１１Ａから液体Ｗが円筒本体１１内に注入（流入）される。
これにより、バブル液発生器Ｘ１は、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に液体Ｗが貯留される。液体Ｗは、貯留空間Ｃにおいて、円筒本体１１の一方の筒端１１Ａ側まで貯留（注入）される。液体Ｗは、例えば、水（水道水）である。
バブル液発生器Ｘ１において、円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）に液体Ｗを貯留（注入）すると、雄ネジ部１８（ガイド軸部１６）を雌ネジ部１４（円筒本体１１）に螺着して、ガイド蓋１３を円筒本体１１に対し回転する。
ガイド蓋１３は、図３及び図１３に示すように、円筒本体１１に対する回転によって、ガイド板１５の板裏面１５Ｂを円筒本体１１の一方の筒端１１Ａに当接して、円筒本体１１の一方の筒端１１Ａを閉塞する。

貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に液体Ｗを貯留すると、ハンドル６を、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａであって、ガイド蓋１３（シリンダー１）から離間する方向（図３及び図１３の矢印Ｍの方向）に引上げて、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５を第１位置ＰＸに配置する（図１３及び図１４参照）。
ピストン軸２は、ハンドル６の引上げ（引っ張り）によって、ガイド蓋１３のガイド穴１７を摺動して、円筒本体１１の筒中心線ａの方向Ａに移動され、大径軸部２１をガイド蓋１３（シリンダー１）から突出させる。
抵抗体３、ピストン４及び羽根車５は、ピストン軸２と共に、円筒本体１１の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けて移動され、例えば、ピストン４のピストン表面４Ａ（スナップリング３８）をガイド軸部１６（ガイド蓋１３）の他方のガイド軸端１６Ｂに当接する第１位置ＰＸに配置される（図１４参照）。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、ピストン４及び一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）の間の液体Ｗは、図１２に示すように、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａを通って、ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに流出される。

ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、図１２に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、羽根車５を回転すると共に、羽根円板４２（羽根車５）の各流通穴４３を通って、抵抗体３及び羽根車５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。ピストン４及び羽根車５の間の液体Ｗは、羽根円板４２の外周４２ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ５）を通って、抵抗体３及び羽根車５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の一方の筒端１１Ａに向けた移動に伴って、負圧状態（負圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、図１２に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、抵抗体３及び羽根車５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗを、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射する。
抵抗体３及び羽根車５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、抵抗体３の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射される。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗは、各液体噴射穴３２から噴射される噴射空間Ｄの液体Ｗによって乱流となる。他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗには、乱流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の液体Ｗ中の空気（気泡）は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに混入及び溶込む。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車５を第１位置ＰＸに位置（配置）すると、ハンドル６をガイド蓋１３（円筒本体１１の一方の筒端１１Ａ）に向けて押して、ピストン軸２（大径軸部２１）を円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）に移動する（図３及び図１５のＮ方向に移動する）。
抵抗体３、ピストン４及び羽根車５は、ピストン軸２と共に、第１位置ＰＸから円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）に向けて移動される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、高圧状態（高圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、図１５及び図１６に示すように、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗ（他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の貯留空間Ｃの液体Ｗ）を、抵抗体３及び羽根車５の間（噴射空間Ｄ）に噴射する。
各液体噴射穴３２は、液体Ｗを抵抗体３（抵抗板表面３Ａ）及び羽根車５（羽根円板４２の円板裏面４２Ｂ）の間（噴射空間Ｄ）に噴射することで、抵抗体３及び羽根車５の間の液体Ｗに羽根車５に向かう液体Ｗの流れを発生する。
他方の筒端１１Ａ及び抵抗体３の間の液体Ｗは、図１５及び図１６に示すように、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から抵抗体３及び羽根車５の間（噴射空間Ｄ）に噴射される。
抵抗体３及び羽根車５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、各液体噴射穴３２から噴射される液体Ｗによって、ピストン軸２の軸中心線ａの方向において、抵抗体３から羽根車５に向けて流れる。

抵抗体３及び羽根車５の間の貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）において、抵抗体３から羽根車５に向けて流れる液体Ｗは、羽根円板４２の各流通穴４３に流入し、各羽根板４４の羽根板裏面４４Ｂに衝突（作用）する。
羽根車５は、液体Ｗの各羽根板４４（羽根板裏面４４Ｂ）への衝突（作用）によって、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａに流れる液体Ｗの運動エネルギーを、各羽根板４４（傾斜角度θＢで傾斜する各羽根板４４）によって回転運動（回転運動のエネルギー）に変換する。
羽根車５（回転筒部４１及び羽根円板４２）は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸２（大径軸部２１）を回転中心として時計方向（図１６及び図１７のＱ方向）に回転される。
これにより、羽根車５は、羽根車５に向かう液体Ｗの流れによって、ピストン軸２（大径軸部２１）の軸中心線ａを回転中心として、Ｑ方向（時計方向）に回転される。
回転筒部４１、及び羽根円板４２は、ピストン軸２の軸中心線ａを回転中心ａとして、Ｑ方向（時計方向）に回転される。

羽根車５において、各流通穴４３に流入した液体Ｗは、図１６及び図１７に示すように、羽根車５（円板表面４２Ａ）及びピストン４（ピストン裏面４Ｂ）の間（渦流空間Ｅ）に流出する。

羽根車５は、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４）と共に、他方の筒端１１Ｂに向けて円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を移動しつつ、各液体噴射穴３２から連続して噴射空間Ｄに噴射される液体Ｗ（羽根車５に向かう液体Ｗの流れ）によって、Ｑ方向に回転される。

羽根車５は、Ｑ方向の回転によって、ピストン４（ピストン裏面４Ｂ）及び羽根車５（円板表面４２Ａ）の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生する。
ピストン４及び羽根車５の間の貯留空間Ｃ（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、羽根車５の回転によって、ピストン軸２の軸中心線ａを中心として、Ｑ方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Ｅにおいて、ピストン軸２（大径軸部２１）周りに旋回される。
ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ（液体Ｗの一部）は、図１５に示すように、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４及び羽根車５）の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ４）から一方の筒端１１Ａ側に流出される。

ピストン４及び羽根車５の間の液体Ｗは、渦流空間Ｅにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗには、渦流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ中の空気（気泡）は、渦流（乱流）及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器Ｘ１は、羽根車５を回転して、ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生することで、渦流空間Ｅの液体Ｗ中の空気（気体）を微細な気泡に粉砕（剪断）でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることができる。

バブル液発生器Ｘ１では、ハンドル６をガイド蓋１３から引上げ、及びガイド蓋１３に向けて押すことで、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５を、円筒本体１１の各筒端１１Ａ，１１Ｂの間（シリンダー蓋１２及びガイド蓋１３の間）で往復移動する。
バブル液発生器Ｘ１は、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５を複数回、往復移動することで、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに複数回、乱流を発生でき、ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量（多量）のマイクロバブル及び十分な量（多量）のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることが可能となる。

第２実施形態のバブル液発生器について、図１８乃至図３１を参照して説明する。
なお、図１８乃至図３１において、図１乃至図１７と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。

図１８乃至図３１において、第２実施形態のバブル液発生器Ｘ２（以下、「バブル液発生器Ｘ２」という）は、シリンダー１、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４、羽根車５５（インペラ）及びハンドル６を備える。

羽根車５５は、図２２乃至図２５に示すように、回転筒部４１、及び羽根円板４２を有する。

バブル液発生器Ｘ２において、羽根円板４２は、図２２乃至図２５に示すように、複数の流通穴４３、複数の流出穴５６、及び複数の羽根板４４を有する。

バブル液発生器Ｘ２において、流通穴４３は、図２１乃至図２４に示すように、例えば、羽根円板４２に３つ形成される。各流通穴４３は、円Ｃ２上（同一円Ｃ２上）に配置される。各流通穴４３は、回転筒部４１（羽根円板４２）の周方向において、各流通穴４３の間に流通穴角度θ２（第２流通穴角度）を隔てて配置される。流通穴角度θ２は、例えば、１２０度（１２０°）である。

各流出穴５６は、図２２乃至図２４に示すように、円形状（円形穴）に形成される。流出穴５６は、例えば、羽根円板４２に３つ形成される。

各流出穴５６は、図２２乃至図２４に示すように、回転筒部４１（羽根円板４２）の径方向において、回転筒部４１の外周４１ａ及び羽根円板４２の外周４２ａ（外周面）の間に配置される。各流出穴５６は、円Ｃ２上（同一円Ｃ２上）に配置される。各流出穴５６は、流出穴中心線ｇ（流出穴中心）を円Ｃ２上に位置（一致）して配置される。

各流出穴５６は、図２３に示すように、回転筒部４１（羽根円板４２）の周方向において、各流出穴５６の間に流出穴角度θ３を隔てて配置される。流出穴角度θ３は、例えば、１２０度（１２０°）である。各流出穴５６は、回転筒部４１の周方向において、各流通穴４３に穴間角度θ４（第１穴間角度）を隔てて、各流通穴４３の間に配置される。穴間角度θ４は、例えば、６０度（６０°）である。

各流出穴５６は、図２２乃至図２４に示すように、回転筒部４１の筒中心線ａの方向Ａにおいて、羽根円板４２を貫通して、羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂに開口される。

バブル液発生器Ｘ２において、各羽根板４４は、図２２乃至図２５に示すように、流通穴４３と同数であって、例えば、羽根円板４２に３つ形成され、円Ｃ２上に配置される。

バブル液発生器Ｘ２において、各羽根板４４は、図２４に示すように、回転筒部４１の周方向において、各羽根板４４の間に流通穴角度θ２と同一の羽根板角度θ２（第２羽根板角度）を隔てて各流通穴４３内に配置される。

バブル液発生器Ｘ２において、各羽板４４は、図８乃至図１１で説明したと同様に、羽根円板４２の円板表面４２Ａ（回転筒部４１の筒中心線ａと直交する水平方向）に傾斜角度θＢ（鋭角度）をなして、各流通穴４３の一方の穴幅側面４３ｃから他方の回転筒端４１Ｂ及び他方の穴幅側面４３ｄに延在して、各流通穴４３内に突出される（図２５参照）。
羽根板表面４４Ａ、及び羽根板裏面４４Ｂは、円板表面４２Ａに傾斜角度θＢをなして、一方の穴幅側面４３ｃから他方の回転筒端４１Ｂ及び他方の穴幅側面４３ｄに延在して、各流通穴４３内に突出される。

羽根車５５は、図１８乃至図２１に示すように、円筒本体１１に同心として貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置されて、貯留空間Ｃの液体Ｗに浸漬される。
羽根車５５は、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂ及び羽根円板４２の円板表面４２Ａ（各羽根板４４）をピストン４に向け、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ及び羽根円板４２の円板裏面４２Ｂを抵抗体３に向けて、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。
羽根車５５は、羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂをピストン軸２の軸中心線a（円筒本体１１の筒中心線ａ）と直交して、貯留空間Ｃに配置される。羽根車５５は、羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂを抵抗体３の抵抗板表面３Ａ及びピストン４のピストン裏面４Ｂに平行として、貯留空間Ｃに配置される。

羽根車５５は、図２１に示すように、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔てると共に、ピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てて貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。

羽根車５５は、図２１に示すように、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ及び抵抗体３の抵抗板表面３Ａの間に間隔（第１筒間隔）を隔て、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂ及びピストン４のピストン裏面４Ｂの間に間隔（第２筒間隔）を隔てて、抵抗体３及びピストン４の間の貯留空間Ｃに配置される。

羽根車５５は、図２０及び図２１に示すように、円筒本体１１の内周１１ａに周隙間Ｓ５（羽根車周隙間）を隔ててピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在に配置される。
羽根車５５は、羽根円板４２（円筒本体１１）の径方向において、円筒本体１１の内周１１ａ及び羽根円板４２の外周４２ａ（外周面）の間に周隙間Ｓ５を隔てて、大径軸部２１に回転自在に配置される。

羽根車５５は、図２０及び図２１に示すように、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間において、回転筒部４１を大径軸部２１（ピストン軸２）に回転自在に外嵌して、第１抜止め溝２４及び第２抜止め溝２５の間の大径軸部２１に配置される。羽根車５５は、回転筒部４１内にピストン軸２（大径軸部２１）を貫通（挿通）して、大径軸部２１に回転自在に外嵌される。

羽根車５５は、図２０及び図２１に示すように、ワッシャー４５（平座金）及び一対のスナップリング４６，４７によって大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされる。
羽根車５５は、図７で説明したと同様に、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａをワッシャー４５に回転自在に当接し、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂを第２抜止め溝２５に挿入したスナップリング４７に回転自在に当接して、各スナップリング４６，４７の間（第１及び第２抜止め溝２４，２５の間）の大径軸部２１に配置（外嵌）される。
これにより、羽根車５５は、回転筒部４１を回転自在として各スナップリング４６，４７によって挟持することで、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔て、及びピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされて、ピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在として配置（外嵌）される。
羽根車５５は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３及び羽根車５５の間に第２軸線間隔Ｋ２を隔てる噴射空間Ｄと、ピストン４及び羽根車５５の間に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる渦流空間Ｅを区画する。

各流通穴４３は、図２０に示すように、羽根車５５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、羽根円板４２（羽根車５５）を貫通して、抵抗体３及び羽根車５５の間（噴射空間Ｄ）に開口されると共に、羽根車５５及びピストン４の間（渦流空間Ｅ）に開口される。
各流通穴４３は、羽根車５５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、各液体噴射穴３２に対向（対峙）して配置される。

羽根車５５の各羽根板４４は、図２０及び図２１に示すように、羽根車５５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、羽根円板４２の円板表面４２Ａに傾斜角度θＢをなして、ピストン４及び羽根車５５の間（渦流空間Ｅ）に突出される。

各流出穴５６は、図２０に示すように、羽根車５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、羽根円板４２（羽根車５５）を貫通して、抵抗体３及び羽根車５５の間（噴射空間Ｄ）に開口されると共に、羽根車５５及びピストン４の間（渦流空間Ｅ）に開口される。
各流出穴５６は、羽根車５５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、各液体噴射穴３２に対向（対峙）して配置される。

各液体噴射穴３２は、図２１に示すように、羽根車５５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３を貫通して、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間に開口されると共に、抵抗体３及び羽根車５５の間（抵抗体３及び羽根車５５の間の貯留空間Ｃの間）に開口される。
各液体噴射穴３２は、羽根車５５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、羽根円板４２（羽根車５５）の流通穴４３（羽根板４４）に対向（対峙）して配置される。

バブル液発生器Ｘ２は、図１８、図１９及び図２７に示すように、円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）を重力方向（上下方向の下方）に向けて配置する。

バブル液発生器Ｘ２は、図３及び図１３で説明したと同様に、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に液体Ｗが貯留される（図１９及び図１７参照）。
バブル液発生器Ｘ２は、図１２及び図１３で説明したと同様に、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５を一方の筒端１１Ａに向けて移動して、第１位置ＰＸに配置する（図２７及び図２８参照）。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、ピストン４及び一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）の間の液体Ｗは、図２６に示すように、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａを通って、ピストン４及び羽根車５５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに流出される。

ピストン４及び羽根車５５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、図２６に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、羽根車５５を回転すると共に、羽根円板４２（羽根車５）の各流通穴４３を通って、抵抗体３及び羽根車５５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。ピストン４及び羽根車５５の間の液体Ｗは、羽根円板４２の外周４２ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ５）を通って、抵抗体３及び羽根車５５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の一方の筒端１１Ａに向けた移動に伴って、負圧状態（負圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、図２６に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、抵抗体３及び羽根車５５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗを、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射する。
抵抗体３及び羽根車５５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、抵抗体３の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射される。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗは、各液体噴射穴３２から噴射される噴射空間Ｄの液体Ｗによって乱流となる。他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗには、乱流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の液体Ｗ中の空気（気泡）は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに混入及び溶込む。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５を第１位置ＰＸに位置（配置）すると、ハンドル６をガイド蓋１３（円筒本体１１の一方の筒端１１Ａ）に向けて押して、ピストン軸２（大径軸部２１）を円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）に移動する（図１９及び図２７のＮ方向に移動する）。
抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５は、ピストン軸２と共に、第１位置ＰＸから円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）に向けて移動される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、高圧状態（高圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、図２９及び図３０に示すように、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗ（他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の貯留空間Ｃの液体Ｗ）を、抵抗体３及び羽根車５５の間（噴射空間Ｄ）に噴射する。
各液体噴射穴３２は、液体Ｗを抵抗体３（抵抗板表面３Ａ）及び羽根車５５（羽根円板４２の円板裏面４２Ｂ）の間（噴射空間Ｄ）に噴射することで、抵抗体３及び羽根車５５の間の液体Ｗに羽根車５に向かう液体Ｗの流れを発生する。
他方の筒端１１Ａ及び抵抗体３の間の液体Ｗは、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から抵抗体３及び羽根車５５の間（噴射空間Ｄ）に噴射される。
抵抗体３及び羽根車５５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、各液体噴射穴３２から噴射される液体Ｗによって、ピストン軸２の軸中心線ａの方向において、抵抗体３から羽根車５５に向けて流れる。

抵抗体３及び羽根車５５の間の貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）において、抵抗体３から羽根車５５に向けて流れる液体Ｗは、図２９及び図３０に示すように、羽根円板４２の各流通穴４３及び各流出穴５６に流入し、各流通穴４３内の各羽根板４４の羽根板裏面４４Ｂに衝突（作用）する。
羽根車５５は、液体Ｗの各羽根板４４（羽根板裏面４４Ｂ）への衝突（作用）によって、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａに流れる液体Ｗの運動エネルギーを、各羽根板４４（傾斜角度θＢで傾斜する各羽根板４４）によって回転運動（回転運動のエネルギー）に変換する。
羽根車５５（回転筒部４１及び羽根円板４２）は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸２（大径軸部２１）を回転中心として時計方向（図３０及び図３１のＱ方向）に回転される。
これにより、羽根車５５は、羽根車５５に向かう液体Ｗの流れによって、ピストン軸２（大径軸部２１）の軸中心線ａを回転中心として、Ｑ方向（時計方向）に回転される。

羽根車５５において、各流通穴４３及び流出穴５６に流入した液体Ｗは、図２９及び図３０に示すように、羽根車５５（円板表面４２Ａ）及びピストン４（ピストン裏面４Ｂ）の間（渦流空間Ｅ）に流出する。

羽根車５５は、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４）と共に、他方の筒端１１Ｂに向けて円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を移動しつつ、各液体噴射穴３２から連続して噴射空間Ｄに噴射される液体Ｗ（羽根車５５に向かう液体Ｗの流れ）によって、Ｑ方向に回転される。

羽根車５５は、Ｑ方向の回転によって、ピストン４（ピストン裏面４Ｂ）及び羽根車５５（円板表面４２Ａ）の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生する。
ピストン４及び羽根車５５の間の貯留空間Ｃ（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、羽根車５５の回転によって、ピストン軸２の軸中心線ａを中心として、Ｑ方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Ｅにおいて、ピストン軸２（大径軸部２１）周りに旋回される
ピストン４及び羽根車５５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ（液体Ｗの一部）は、図２９に示すように、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５）の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ４）から一方の筒端１１Ａ側に流出される。

ピストン４及び羽根車５５の間の液体Ｗは、渦流空間Ｅにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン４及び羽根車５５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗには、渦流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
ピストン４及び羽根車５５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ中の空気（気泡）は、渦流（乱流）及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン４及び羽根車５５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器Ｘ２は、羽根車５５を回転して、ピストン４及び羽根車５５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生することで、渦流空間Ｅの液体Ｗ中の空気（気体）を微細な気泡に粉砕（剪断）でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることができる。

バブル液発生器Ｘ２では、ハンドル６をガイド蓋１３から引上げ、及びガイド蓋１３に向けて押すことで、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５を、円筒本体１１の各筒端１１Ａ，１１Ｂの間（シリンダー蓋１２及びガイド蓋１３の間）で往復移動する。
バブル液発生器Ｘ２は、抵抗体３、ピストン４及び羽根車５５を複数回、往復移動することで、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに複数回、乱流を発生でき、ピストン４及び羽根車５５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量（多量）のマイクロバブル及び十分な量（多量）のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることが可能となる。

第３実施形態のバブル液発生器について、図３２乃至図４６を参照して説明する。
なお、図３２乃至図４６において、図１乃至図３１と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。

図３２乃至図４６において、第３実施形態のバブル液発生器Ｘ３（以下、「バブル液発生器Ｘ３」という）は、シリンダー１、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４、羽根車６５（インペラ）及びハンドル６を備える。

羽根車６５は、図３６乃至図４０に示すように、回転筒部４１及び羽根円板４２を有る。

バブル液発生器Ｘ３において、羽根円板４２は、図３６乃至図４０に示すように、複数の流通穴４３、複数の流入穴６６、複数の羽根板４４、及び複数の液ガイド板６７を有する。

バブル液発生器Ｘ３において、流通穴４３は、図３６乃至図３９に示すように、例えば、羽根円板４２に３つ形成される。各流通穴４３は、図３７に示すように、円Ｃ２上（同一円Ｃ２上）に配置される。各流通穴４３は、回転筒部４１（羽根円板４２）の周方向において、各流通穴４３の間に流通穴角度θ２（第２流通穴角度）を隔てて配置される。流通穴角度θ２は、例えば、１２０度（１２０°）である。

流入穴６６は、図３６乃至図３９に示すように、例えば、羽根円板４２に３つ形成される。各流入穴６６は、回転筒部４１（羽根円板４２）の径方向において、回転筒部４１の外周４１ａ及び羽根円板４２の外周４２ａの間に配置される。各流入穴６６は、円Ｃ２上（同一円Ｃ２上）に配置される。

各流入穴６６は、図３８に示すように、回転筒部４１（羽根円板４２）の周方向において、各流入穴６６の間に流入穴角度θ５を隔てて配置される。流入穴角度θ５は、例えば、１２０度（１２０°）である。
各流入穴６６は、回転筒部４１の周方向において、各流通穴４３に穴間角度θ６（第２穴間角度）を隔てて各流通穴４３の間に配置される。

各流入穴６６は、例えば、矩形状（矩形穴）に形成される。各流入穴６６は、図３８に示すように、回転筒部４１（羽根円板４２）の径方向において、羽根円板４２の外周４２ａ及び円Ｃ２の間に位置する外側穴面６６ａ、円Ｃ２及び回転筒部４１の外周４１ａの間に位置する内側穴面６６ｂを有する。各流入穴６６は、回転筒部４１の周方向に穴幅を隔てる一対の穴幅側面６６ｃ，６６ｄを有する。外側穴面６６ａは、回転筒部４１の径方向において、内側穴面６６ｂ穴長さを隔てて平行に配置される。各穴幅側面６６ｃ，６６ｄは、回転筒部４１の周方向において、各穴幅側面６６ｃ，６６ｄの間に穴幅を隔てて平行に配置され、外側穴面６６ａ及び内側穴面６６ｂに直交（交差）される。

各流入穴６６は、図３６乃至図３９に示すように、回転筒部４１の筒中心線ａの方向Ａにおいて、外側穴面６６ａ、内側穴面６６ｂ、及び各穴幅側面６６ｃ，６６ｄを有して羽根円板４２を貫通して、羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂに開口される。

バブル液発生器Ｘ３において、各羽根板４４は、図３６乃至図４０に示すように、流通穴４３と同数であって、例えば、羽根円板４２に３つ形成され、円Ｃ２上に配置される。

バブル液発生器Ｘ３において、各羽根板４４は、図３９に示すように、回転筒部４１の周方向において、各羽根板４４の間に流通穴角度θ２と同一の羽根板角度θ２（第１羽根板角度）を隔てて各流通穴４３内に配置される。

バブル液発生器Ｘ３において、各羽根板４４は、図８乃至図１１で説明したと同様に、羽根円板４２の円板表面４２Ａ（回転筒部４１の筒中心線ａと直交する水平方向）に傾斜角度θＢ（鋭角度）をなして、各流通穴４３の一方の穴幅側面４３ｃから他方の回転筒端４１Ｂ及び他方の穴幅側面４３ｄに延在して、各流通穴４３内に突出される（図４０参照）。
羽根板表面４４Ａ、及び羽根板裏面４４Ｂは、円板表面４２Ａに傾斜角度θＢをなして、一方の穴幅側面４３ｃから他方の回転筒端４１Ｂ及び他方の穴幅側面４３ｄに延在して、各流通穴４３内に突出される。

各液ガイド板６７は、図３６乃至図４０に示すように、板厚さＴ８の矩形状に形成される。各液ガイド板６７は、板厚さ方向にガイド板表面６７Ａ（板表面）及びガイド板裏面６７Ｂ（板裏面）を有する。液ガイド板６７は、流入穴６６と同数であって、例えば、羽根円板４２に３つ形成される。

各液ガイド板６７は、図３９に示すように、円Ｃ２上（同一円Ｃ２上）に配置される。各液ガイド板６７は、回転筒部４１の周方向において、各液ガイド板６７の間に流入穴角度θ５と同一のガイド板角度θ５を隔てて各流入穴６６内に配置される。
各液ガイド板６７は、各流入穴６６の内側穴面６６ｂに連続して配置され、羽根円板４２に連結（固定）される。各液ガイド板６７は、ガイド板表面６７Ａを羽根円板４２の円板裏面４２Ｂ（各流入穴６６内）に向けて配置される。

各液ガイド板６７は、図４０に示すように、羽根円板４２の円板裏面４２Ｂ（回転筒部４１の筒中心線ａと直交する水平方向）に傾斜角度θＣ（ガイド板傾斜角度）をなして、内側穴面６６ｂから一方の回転筒端４１Ａ及び外側穴面６６ａに延在して、各流入穴６６内に突出される。各液ガイド板６７は、各流入穴６６の内側穴面６６ｂから羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂ（各羽根板４４）から離間しつつ羽根円板４２の円板裏面４２Ｂに傾斜角度θＣ（鋭角度）で傾斜して、各流入穴６６内に突出される。傾斜角度θＣは、３０度（３０°）以上、６０度（６０°）以下であって、例えば、３０度（３０°）である。
ガイド板表面６７Ａ、及びガイド板裏面６７Ｂは、円板裏面４２Ｂに傾斜角度θＣ（ガイド板傾斜角度）をなして、内側穴面６６ｂから一方の回転筒端４１Ａ及び外側穴面６６ａに延在して、各流入穴６６内に突出される。

羽根車６５は、図３２乃至図３５に示すように、円筒本体１１に同心として貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置されて、貯留空間Ｃの液体Ｗに浸漬される。
羽根車６５は、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂ及び羽根円板４２の円板表面４２Ａ（羽根板４４）をピストン４に向け、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ及び羽根円板４２の円板裏面４２Ｂ（各液ガイド板６７）を抵抗体３に向けて、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。
羽根車６５は、羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂをピストン軸２の軸中心線ａ（円筒本体１１の筒中心線ａ）と直交して、貯留空間Ｃに配置される。羽根車６５は、羽根円板４２の円板表面４２Ａ及び円板裏面４２Ｂを抵抗体３の抵抗板表面３Ａ及びピストン４のピストン裏面４Ｂに平行として、貯留空間Ｃに配置される。

羽根車６５は、図３５に示すように、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔てると共に、ピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てて貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。

羽根車６５は、図３５に示すように、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ及び抵抗体３の抵抗板表面３Ａの間に間隔（第１筒間隔）を隔て、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂ及びピストン４のピストン裏面４Ｂの間に間隔（第１筒間隔）を隔てて、抵抗体３及びピストン４の間の貯留空間Ｃに配置される。

羽根車６５は、図３４及び図３５に示すように、円筒本体１１の内周１１ａに周隙間Ｓ５（羽根車周隙間）を隔ててピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在に配置される。
羽根車６５は、羽根円板４２（円筒本体１１）の径方向において、円筒本体１１の内周１１ａ及び羽根円板４２の外周４２ａの間に周隙間Ｓ５を隔てて、大径軸部２１に回転自在に配置される。

羽根車６５は、図３５に示すように、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間において、回転筒部４１を大径軸部２１（ピストン軸２）に回転自在に外嵌して、第１抜止め溝２４及び第２抜止め溝２５の間の大径軸部２１に配置される。羽根車６５は、回転筒部４１内にピストン軸２（大径軸部２１）を貫通（挿入）して、大径軸部２１に回転自在に外嵌される。

羽根車６５は、図３５に示すように、ワッシャー４５（平座金）及び一対のスナップリング４６，４７によって大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされる。
羽根車６５は、図７で説明したと同様に、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａをワッシャー４５に回転自在に当接し、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂを第２抜止め溝２５に挿入したスナップリング４７に回転自在に当接して、各スナップリング４６，４７の間（第１及び第２抜止め溝２４，２５の間）の大径軸部２１に配置（外嵌）される。
これにより、羽根車６５は、回転筒部４１を回転自在として各スナップリング４６，４７によって挟持することで、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔て、及びピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされて、ピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在として配置（外嵌）される。
これにより、羽根車６５は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３及び羽根車６５の間に第２軸線間隔Ｋ２を隔てる噴射空間Ｄと、ピストン４及び羽根車６５の間に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる渦流空間Ｅを区画する。

羽根車６５の各羽根板４４は、図３４及び図３５に示すように、羽根車６５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、羽根円板４２の円板表面４２Ａに傾斜角度θＢをなして、ピストン４及び羽根車６５の間（渦流空間Ｅ）に突出される。

各流通穴４３は、図３４及び図３５に示すように、羽根車６５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、羽根円板４２（羽根車６５）を貫通して、抵抗体３及び羽根車６５の間（噴射空間Ｄ）に開口されると共に、羽根車６５及びピストン４の間（渦流空間Ｅ）に開口される。
各流通穴４３は、羽根車６５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、各液体噴射穴３２に対向（対峙）して配置される。

各流入穴６６は、図３４及び図３５に示すように、羽根車６５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、羽根円板４２（羽根車６５）を貫通して、抵抗体３及び羽根車６５の間（噴射空間Ｄ）に開口されると共に、羽根車６５及びピストン４の間（渦流空間Ｅ）に開口される。
各流入穴６６は、羽根車６５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、各液体噴射穴３２に対向（対峙）して配置される。

各液体噴射穴３２は、図３５に示すように、羽根車６５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向において、抵抗体３を貫通して、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間に開口されると共に、抵抗体３及び羽根車６５の間（抵抗体３及び羽根車６５の間の貯留空間Ｃ）に開口される。
各液体噴射穴３２は、羽根車６５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線aの方向Ａにおいて、羽根円板４２（羽根車６５）の流通穴４３（羽根板４４）に対向（対峙）して配置される。

バブル液発生器Ｘ３は、図３２、図３３及び図４２に示すように、円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）を重力方向（上下方向の下方）に向けて配置する。

バブル液発生器Ｘ３は、図３及び図１３で説明したと同様に、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に液体Ｗが貯留される（図３３及び図４２参照）。
バブル液発生器Ｘ３は、図１２及び図１３で説明したと同様に、抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５を一方の筒端１１Ａに向けて移動して、第１位置ＰＸに配置する（図４２及び図４３参照）。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、ピストン４及び一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）の間の液体Ｗは、図４１に示すように、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａを通って、ピストン４及び羽根車６５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに流出される。

ピストン４及び羽根車６５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、図４１に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、羽根車６５を回転すると共に、羽根円板４２（羽根車５）の各流通穴４３及び各流入穴６６を通って、抵抗体３及び羽根車６５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。ピストン４及び羽根車６５の間の液体Ｗは、羽根円板４２の外周４２ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ５）を通って、抵抗体３及び羽根車６５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の一方の筒端１１Ａに向けた移動に伴って、負圧状態（負圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、図４１に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、抵抗体３及び羽根車６５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗを、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射する。
抵抗体３及び羽根車６５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、抵抗体３の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射される。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗは、各液体噴射穴３２から噴射される噴射空間Ｄの液体Ｗによって乱流となる。他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗには、乱流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の液体Ｗ中の空気（気泡）は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに混入及び溶込む。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５を第１位置ＰＸに位置（配置）すると、ハンドル６をガイド蓋１３（円筒本体１１の一方の筒端１１Ａ）に向けて押して、ピストン軸２（大径軸部２１）を円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）に移動する（図３３及び図４２のＮ方向に移動する）。
抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５は、ピストン軸２と共に、第１位置ＰＸから円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）に向けて移動される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、高圧状態（高圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、図４４及び図４５に示すように、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗ（他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の貯留空間Ｃの液体Ｗ）を、抵抗体３及び羽根車６５の間（噴射空間Ｄ）に噴射する。
各液体噴射穴３２は、液体Ｗを抵抗体３（抵抗板表面３Ａ）及び羽根車６５（羽根円板４２の円板裏面４２Ｂ）の間（噴射空間Ｄ）に噴射することで、抵抗体３及び羽根車６５の間の液体Ｗに羽根車５に向かう液体Ｗの流れを発生する。
他方の筒端１１Ａ及び抵抗体３の間の液体Ｗは、図４４及び図４５に示すように、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から抵抗体３及び羽根車６５の間（噴射空間Ｄ）に噴射される。
抵抗体３及び羽根車６５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、各液体噴射穴３２から噴射される液体Ｗによって、ピストン軸２の軸中心線ａの方向において、抵抗体３から羽根車６５に向けて流れる。

抵抗体３及び羽根車６５の間の貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）において、抵抗体３から羽根車６５に向けて流れる液体Ｗは、羽根円板４２の各流通穴４３に流入し、各羽根板４４の羽根板裏面４４Ｂに衝突（作用）する。抵抗体３から羽根車６５に向けて流れる液体Ｗは、羽根円板４２の各液ガイド板６７に衝突して、各液ガイド板６７に沿って流れて、各流入穴６６に流入する。
羽根車６５は、液体Ｗの各羽根板４４（羽根板裏面４４Ｂ）への衝突（作用）によって、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａに流れる液体Ｗの運動エネルギーを、各羽根板４４（傾斜角度θＢで傾斜する各羽根板４４）によって回転運動（回転運動のエネルギー）に変換する。
羽根車６５（回転筒部４１及び羽根円板４２）は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸２（大径軸部２１）を回転中心として時計方向（図４５及び図４６のＱ方向）に回転される。
これにより、羽根車６５は、羽根車５に向かう液体Ｗの流れによって、ピストン軸２（大径軸部２１）の軸中心線ａを回転中心として、Ｑ方向（時計方向）に回転される。
回転筒部４１、及び羽根円板４２は、ピストン軸２の軸中心線ａを回転中心ａとして、Ｑ方向（時計方向）に回転される。

羽根車６５において、各流通穴４３及び各流入穴６６に流入した液体Ｗは、図４４及び図４５に示すように、羽根車６５（円板表面４２Ａ）及びピストン４（ピストン裏面４Ｂ）の間（渦流空間Ｅ）に流出する。

羽根車６５は、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４）と共に、他方の筒端１１Ｂに向けて円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を移動しつつ、各液体噴射穴３２から連続して噴射空間Ｄに噴射される液体Ｗ（羽根車６５に向かう液体Ｗの流れ）によって、Ｑ方向に回転される。

羽根車６５は、Ｑ方向の回転によって、ピストン４（ピストン裏面４Ｂ）及び羽根車６５（円板表面４２Ａ）の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生する。
ピストン４及び羽根車６５の間の貯留空間Ｃ（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、羽根車６５の回転によって、ピストン軸２の軸中心線ａを中心として、Ｑ方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Ｅにおいて、ピストン軸２（大径軸部２１）周りに旋回される。
ピストン４及び羽根車６５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ（液体Ｗの一部）は、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５）の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ４）から一方の筒端１１Ａ側に流出される。

ピストン４及び羽根車６５の間の液体Ｗは、渦流空間Ｅにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン４及び羽根車６５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗには、渦流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
ピストン４及び羽根車６５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ中の空気（気泡）は、渦流（乱流）及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン４及び羽根車５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器Ｘ３は、羽根車６５を回転して、ピストン４及び羽根車６５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生することで、渦流空間Ｅの液体Ｗ中の空気（気体）を微細な気泡に粉砕（剪断）でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることができる。

バブル液発生器Ｘ３では、ハンドル６をガイド蓋１３から引上げ、及びガイド蓋１３に向けて押すことで、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５を、円筒本体１１の各筒端１１Ａ，１１Ｂの間（シリンダー蓋１２及びガイド蓋１３の間）で往復移動する。
バブル液発生器Ｘ３は、抵抗体３、ピストン４及び羽根車６５を複数回、往復移動することで、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに複数回、乱流を発生でき、ピストン４及び羽根車６５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量（多量）のマイクロバブル及び十分な量（多量）のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることが可能となる。

第４実施形態のバブル液発生器について、図４７乃至図５９を参照して説明する。
なお、図４７乃至図５９において、図１乃至図１７と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。

図４７乃至図５９において、第４実施形態のバブル液発生器Ｘ４（以下、「バブル液発生器Ｘ４」という）は、シリンダー１、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４、羽根車７５（インペラ）及びハンドル６を備える。

羽根車７５は、図５１乃至図５３に示すように、回転筒部４１、及び複数の羽根板７７（羽根翼）を有する。

羽根板７７は、図５１乃至図５３に示すように、２以上、４以下の枚数であって、例えば、回転筒部４１に４枚の羽根板が形成される。
各羽根板７７は、図５２に示すように、回転筒部４１の周方向において、各羽根板７７の間に羽根板角度θＰ（第２羽根板角度）を隔てて配置される。羽根板角度θＰは、例えば、９０度（９０°）である。各羽根板７７は、図５３に示すように、回転筒部４１の筒中心線ａと直交する水平方向Ｕ（以下、「水平方向Ｕ」という）に傾斜角度θＤ（鋭角度）をなして、回転筒部４１の各回転筒端４１Ａ，４１Ｂの間に配置される。各羽根板７７は、回転筒部４１の周方向において、同一方向に傾斜角度θＤを有して傾斜される。傾斜角度θＤは、３０度（３０°）以上、６０度（６０°）以下であって、例えば、３０度（３０°）である。

各羽根板７７は、図５１乃至図５３に示すように、回転筒部４１の外周４１ａ（外周面）に固定（連結）される。各羽根板７７は、回転筒部４１の径方向において、回転筒部４１の外周４１ａから羽根板長さＬＤを有して突出される。各羽根板７７は、傾斜する方向Ｓ（以下、「傾斜方向Ｓ」という）に羽根板幅ＨＤを有して、各回転筒部４１の各回転筒端４１Ａ，４１Ｂの間に配置される。

各羽根板７７は、図５１乃至図５３に示すように、傾斜方向Ｓと直交する方向Ｔに板厚さＴ７を有する。各羽根板７７は、板厚さ方向Ｔ（傾斜方向Ｓと直交する方向）に板表曲面７７Ａ及び板裏平面７７Ｂを有する。板表曲面７７Ａは、水平方向Ｕに傾斜角度θＤを有して、回転筒部４１の他方の筒端４１Ｂ側に形成される。板表曲面７７Ａは、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ａ側に弧状に突出して形成される。板裏平面７７Ｂは、水平方向Ｕに傾斜角度θＤを有して、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ側に形成される。
各羽根板７７は、図５１及び図５３に示すように、回転筒部４１の周方向において、各羽根板７７の間（隣設する一方の羽根板７７の板表曲面７７Ａ、及び隣設する他方の羽根板７７の板裏平面７７Ｂの間）に傾斜流路τを形成して、水平方向Ｕに傾斜角度θＤをなして傾斜される。
傾斜流路τは、回転筒部４１の周方向において、隣設する羽根板７７の板表曲面７７Ａ及び板裏平面７７Ｂの間に形成され、傾斜角度θＤで傾斜しつつ回転筒部４１の各回転筒端４１Ａ，４１Ｂに開口される。

羽根車７５は、図４７乃至図５０に示すように、円筒本体１１に同心として貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置されて、貯留空間Ｃの液体Ｗに浸漬される。
羽根車７５は、回転筒部４１の他方の筒端４１Ｂ及び各羽根板７７の板表曲面７７Ａ（傾斜曲面）をピストン４に向け、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ及び各羽根板７７の板裏平面７７Ｂ（傾斜平面）を抵抗体３に向けて、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。
羽根車７５は、羽根板７７の板裏平面７７Ｂ（板表曲面）を抵抗体３の抵抗板表面３Ａに傾斜角度θＤをなして、貯留空間Ｃに配置される。羽根車７５は、羽根板７７の板裏平面７７Ｂ（板表曲面）をピストン４のピストン裏面４Ｂに傾斜角度θＤをなして、貯留空間Ｃに配置される。

羽根車７５は、図５０に示すように、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔てると共に、ピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てて貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。
バブル液発生器Ｘ４の第２軸線間隔Ｋ２は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３の抵抗板表面３Ａ及び回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａの間の間隔である。バブル液発生器Ｘ４の第３軸線間隔Ｋ３は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、ピストン４のピストン裏面４Ｂ及び回転筒部４１の他方の筒端４１Ｂの間の間隔である。

羽根車７５は、図４９及び図５０に示すように、円筒本体１１の内周１１ａに周隙間Ｓ５（羽根車周隙間）を隔ててピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在に配置される。
羽根車７５は、回転筒部４１（円筒本体１１）の径方向において、円筒本体１１の内周１１ａ、及び各羽根板７７の先端７７ａの間に周隙間Ｓ５を隔てて、大径軸部２１に回転自在に配置される。

羽根車７５は、図５０に示すように、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間において、回転筒部４１を大径軸部２１（ピストン軸２）に回転自在に外嵌して、第１抜止め溝２４及び第２抜止め溝２５の間の大径軸部２１に配置される。羽根車７５は、回転筒部４１内にピストン軸２（大径軸部２１）を貫通（挿通）して、大径軸部２１に回転自在に外嵌される。

羽根車７５は、図５０に示すように、ワッシャー４５（平座金）及び一対のスナップリング４６，４７によって大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされる。
羽根車７５は、図７で説明したと同様に、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａをワッシャー４５に回転自在に当接し、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂを第２抜止め溝２５に挿入したスナップリング４７に回転自在に当接して、各スナップリング４６，４７の間（第１及び第２抜止め溝２４，２５の間）の大径軸部２１に配置（外嵌）される。
羽根車７５は、回転筒部４１を回転自在として各スナップリング４６，４７によって挟持することで、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔て、及びピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされて、ピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在として配置（外嵌）される。
これにより、羽根車７５は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３及び羽根車７５の間に第２軸線間隔Ｋ２を隔てる噴射空間Ｄと、ピストン４及び羽根車７５の間に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる渦流空間Ｅを区画する。

各羽根板７７（各傾斜流路τ）は、図５０に示すように、羽根車７５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３の各液体噴射穴３２に対向（対峙）して配置される。

各液体噴射穴３２は、図４９及び図５０に示すように、羽根車７５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３を貫通して、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間に開口されると共に、抵抗体３及び羽根車７５の間（抵抗体３及び羽根車７５の間の貯留空間Ｃ）に開口される。
各液体噴射穴３２は、羽根車７５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、羽根車７５の各羽根板７７（各傾斜流路τ）に対向（対峙）して配置される。

バブル液発生器Ｘ４は、図４７、図４８及び図５５に示すように、円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）を重力方向（上下方向の下方）に向けて配置する。

バブル液発生器Ｘ４は、図３及び図１３で説明したと同様に、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に液体Ｗが貯留される（図４８及び図５５参照）。
バブル液発生器Ｘ４は、図１２及び図１３で説明したと同様に、抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５を一方の筒端１１Ａに向けて移動して、第１位置ＰＸに配置する（図５５及び図５６参照）。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、ピストン４及び一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）の間の液体Ｗは、図５４に示すように、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａを通って、ピストン４及び羽根車７５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに流出される。

ピストン４及び羽根車７５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、図５４に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、羽根車７５を回転すると共に、各傾斜流路τを通って、抵抗体３及び羽根車７５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。ピストン４及び羽根車７５の間の液体Ｗは、羽根円板４２の外周４２ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ５）を通って、抵抗体３及び羽根車７５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の一方の筒端１１Ａに向けた移動に伴って、負圧状態（負圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、図５４に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、抵抗体３及び羽根車７５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗを、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射する。
抵抗体３及び羽根車７５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、抵抗体３の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射される。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗは、各液体噴射穴３２から噴射される噴射空間Ｄの液体Ｗによって乱流となる。他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗには、乱流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の液体Ｗ中の空気（気泡）は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに混入及び溶込む。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５を第１位置ＰＸに位置（配置）すると、ハンドル６をガイド蓋１３（円筒本体１１の一方の筒端１１Ａ）に向けて押して、ピストン軸２（大径軸部２１）を円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）に移動する（図４８及び図５５のＮ方向に移動する）。
抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５は、ピストン軸２と共に、第１位置ＰＸから円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）に向けて移動される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、高圧状態（高圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗ（他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の貯留空間Ｃの液体Ｗ）を、抵抗体３及び羽根車７５の間（噴射空間Ｄ）に噴射する。
これにより、各液体噴射穴３２は、液体Ｗを抵抗体３（抵抗板表面３Ａ）及び羽根車７５（羽根円板４２の円板裏面４２Ｂ）の間（噴射空間Ｄ）に噴射することで、抵抗体３及び羽根車７５の間の液体Ｗに羽根車５に向かう液体Ｗの流れを発生する。
他方の筒端１１Ａ及び抵抗体３の間の液体Ｗは、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から抵抗体３及び羽根車７５の間（噴射空間Ｄ）に噴射される。
抵抗体３及び羽根車７５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、図５７及び図５８に示すように、各液体噴射穴３２から噴射される液体Ｗによって、ピストン軸２の軸中心線ａの方向において、抵抗体３から羽根車７５に向けて流れる。

抵抗体３及び羽根車７５の間の貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）において、抵抗体３から羽根車７５に向けて流れる液体Ｗは、羽根車７５の各傾斜流路τ（各羽根板７７の間）に流入し、各羽根板７７の板裏表面７７Ａに衝突（作用）する。
羽根車７５は、液体Ｗの各羽根板７７（板表曲面７７Ａ）への衝突（作用）によって、傾斜角度θＤで流れる液体Ｗの運動エネルギーを、各羽根板７７（傾斜角度θＤで傾斜する各羽根板７７）によって回転運動（回転運動のエネルギー）に変換する。
羽根車７５（回転筒部４１）は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸２（大径軸部２１）を回転中心として反時計方向（図５８及び図５９のＶ方向）に回転される。
これにより、羽根車７５は、羽根車７５に向かう液体Ｗの流れによって、ピストン軸２（大径軸部２１）の軸中心線ａを回転中心として、Ｖ方向（反時計方向）に回転される。

羽根車７５において、各傾斜流路τに流入した液体Ｗは、図５７及び図５８に示すように、羽根車７５（他方の回転筒端４１Ｂ）及びピストン４（ピストン裏面４Ｂ）の間（渦流空間Ｅ）に流出する。

羽根車７５は、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４）と共に、他方の筒端１１Ｂに向けて円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を移動しつつ、各液体噴射穴３２から連続して噴射空間Ｄに噴射される液体Ｗ（羽根車７５に向かう液体Ｗの流れ）によって、Ｖ方向に回転される。

羽根車７５は、Ｖ方向の回転によって、ピストン４（ピストン裏面４Ｂ）及び羽根車７５（他方の回転筒端４１Ｂ）の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生する。
ピストン４及び羽根車７５の間の貯留空間Ｃ（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、羽根車７５の回転によって、ピストン軸２の軸中心線ａを中心として、Ｖ方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Ｅにおいて、ピストン軸２（大径軸部２１）周りに旋回される。
ピストン４及び羽根車７５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ（液体Ｗの一部）は、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５）の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ４）から一方の筒端１１Ａ側に流出される。

ピストン４及び羽根車７５の間の液体Ｗは、渦流空間Ｅにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン４及び羽根車７５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗには、渦流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
ピストン４及び羽根車７５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ中の空気（気泡）は、渦流（乱流）及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン４及び羽根車７５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器Ｘ４は、羽根車７５を回転して、ピストン４及び羽根車７５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生することで、渦流空間Ｅの液体Ｗ中の空気（気体）を微細な気泡に粉砕（剪断）でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることができる。

バブル液発生器Ｘ４では、ハンドル６をガイド蓋１３から引上げ、及びガイド蓋１３に向けて押すことで、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５を、円筒本体１１の各筒端１１Ａ，１１Ｂの間（シリンダー蓋１２及びガイド蓋１３の間）で往復移動する。
バブル液発生器Ｘ４は、抵抗体３、ピストン４及び羽根車７５を複数回、往復移動することで、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに複数回、乱流を発生でき、ピストン４及び羽根車７５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量（多量）のマイクロバブル及び十分な量（多量）のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることが可能となる。

第５実施形態のバブル液発生器について、図６０乃至図７２を参照して説明する。
なお、図６０乃至図７２において、図１乃至図１７と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。

図６０乃至図７２において、第５実施形態のバブル液発生器Ｘ５（以下、「バブル液発生器Ｘ５」という）は、シリンダー１、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４、羽根車８５（インペラ）及びハンドル６を備える。

羽根車８５は、図６４乃至図６６に示すように、回転筒部４１、及び複数の羽根板８７（羽根翼）を有する。

羽根板８７は、図６４乃至図６６に示すように、５以上の枚数であって、例えば、回転筒部４１に１２枚の羽根板が形成される。
各羽根板８７は、回転筒部４１の周方向において、各羽根板８７の間に羽根板角度θＱ（第３羽根板角度）を隔てて配置される。羽根板角度θＱは、例えば、３０度（３０°）である。各羽根板８７は、回転筒部４１の筒中心線ａと直交する水平方向Ｕ（水平方向）に傾斜角度θＥ（鋭角度）をなして、回転筒部４１の各回転筒端４１Ａ，４１Ｂの間に配置される。各羽根板８７は、回転筒部４１の周方向において、同一方向に傾斜角度θＥを有して傾斜される。傾斜角度θＥは、４５度（４５°）以上、６０度（６０°）以下であって、例えば、６０度（６０°）である。

各羽根板８７は、回転筒部４１の外周４１ａ（外周面）に固定（連結）される。各羽根板８７は、図６５に示すように、回転筒部４１の径方向において、各回転筒部４１の外周４１ａから羽根長さＬＤを有して突出される。各羽根板８７は、傾斜する方向Ｓ（傾斜方向）に羽根板幅ＨＥを有して、各回転筒部４１の各回転筒端４１Ａ，４１Ｂの間に配置される。

各羽根板８７は、図６６に示すように、傾斜方向Ｓと直交する方向Ｔに板厚さＴ８を有する。各羽根板８７は、図６４乃至図６６に示すように、板厚さ方向Ｔ（傾斜方向Ｓと直交する方向）に板表曲面８７Ａ及び板裏平面８７Ｂを有する。板表曲面８７Ａは、水平方向Ｕに傾斜角度θＥを有して、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂ側に形成される。板表曲面８７Ａは、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂ側に弧状に突出して形成される。板裏平面８７Ｂは、水平方向Ｕに傾斜角度θＥを有して、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ側に形成される。
各羽根板８７は、図６４及び図６６に示すように、回転筒部４１の周方向において、各羽根板８７の間（隣設する一方の羽根板８７の板表曲面８７Ａ、及び隣設する他方の羽根板８７の板裏平面８７Ｂの間）に傾斜流路λを形成して、水平方向Ｕに傾斜角度θＥをなして傾斜される。
傾斜流路λは、回転筒部４１の周方向において、隣設する羽根板８７の板表曲面８７Ａ及び板裏平面８７Ｂの間に形成され、傾斜角度θＥで傾斜しつつ回転筒部４１の各回転筒端４１Ａ，４１Ｂに開口される。

羽根車８５は、図６０乃至図６３に示すように、円筒本体１１に同心として貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に配置されて、貯留空間Ｃの液体Ｗに浸漬される。
羽根車８５は、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂ及び各羽根板８７の板表曲面８７Ａ（傾斜曲面）をピストン４に向け、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ及び各羽根板８７の板裏平面８７Ｂ（傾斜平面）を抵抗体３に向けて、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。
羽根車８５は、羽根板８７の板裏平面７７Ｂ（板表曲面８７Ａ）を抵抗体３の抵抗板表面３Ａに傾斜角度θＥをなして、貯留空間Ｃに配置される。羽根車８５は、羽根板８７の板裏平面８７Ｂ（板表曲面８７Ａをピストン４のピストン裏面４Ｂに傾斜角度θＥをなして、貯留空間Ｃに配置される。

羽根車８５は、図６３に示すように、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔てると共に、ピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てて貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間に配置される。
バブル液発生器Ｘ５の第２軸線間隔Ｋ２は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３の抵抗板表面３Ａ及び回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａの間の間隔である。バブル液発生器Ｘ５の第３軸線間隔Ｋ３は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、ピストン４のピストン裏面４Ｂ及び回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂの間の間隔である。

羽根車８５は、図６２及び図６３に示すように、円筒本体１１の内周１１ａに周隙間Ｓ５（羽根車周隙間）を隔ててピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在に配置される。
羽根車８５は、回転筒部４１（円筒本体１１）の径方向において、円筒本体１１の内周１１ａ、及び各羽根板８７の先端８７ａの間に周隙間Ｓ５を隔てて、大径軸部２１に回転自在に配置される。

羽根車８５は、図６３に示すように、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）の抵抗体３及びピストン４の間において、回転筒部４１を大径軸部２１（ピストン軸２）に回転自在に外嵌して、第１抜止め溝２４及び第２抜止め溝２５の間の大径軸部２１に配置される。羽根車８５は、回転筒部４１内にピストン軸２（大径軸部２１）を貫通（挿通）して、大径軸部２１に回転自在に外嵌される。

羽根車８５は、図６３に示すように、ワッシャー４５（平座金）及び一対のスナップリング４６，４７によって大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされる。
羽根車８５は、図７で説明したと同様に、回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａをワッシャー４５に回転自在に当接し、回転筒部４１の他方の回転筒端４１Ｂを第２抜止め溝２５に挿入したスナップリング４７に回転自在に当接して、各スナップリング４６，４７の間（第１及び第２抜止め溝２４，２５の間）の大径軸部２１に配置（外嵌）される。
羽根車８５は、回転筒部４１を回転自在として各スナップリング４６，４７によって挟持することで、抵抗体３に第２軸線間隔Ｋ２を隔て、及びピストン４に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる大径軸部２１（ピストン軸２）に位置決めされて、ピストン軸２（大径軸部２１）に回転自在として配置（外嵌）される。
これにより、羽根車８５は、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３及び羽根車８５の間に第２軸線間隔Ｋ２を隔てる噴射空間Ｄと、ピストン４及び羽根車８５の間に第３軸線間隔Ｋ３を隔てる渦流空間Ｅを区画する。

各羽根板８７（各傾斜流路λ）は、図６３に示すように、羽根車８５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３の各液体噴射穴３２に対向（対峙）して配置される。

各液体噴射穴３２は、図６３に示すように、羽根車８５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、抵抗体３を貫通して、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間に開口されると共に、抵抗体３及び羽根車８５の間（抵抗体３及び羽根車８５の間の貯留空間Ｃ）に開口される。
各液体噴射穴３２は、羽根車８５を大径軸部２１（ピストン軸２）に外嵌すると、ピストン軸２の軸中心線ａの方向Ａにおいて、羽根車８５の各羽根板８７（各傾斜流路λ）に対向（対峙）して配置される。

バブル液発生器Ｘ５は、図６０、図６１及び図６８に示すように、円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）を重力方向（上下方向の下方）に向けて配置する。

バブル液発生器Ｘ５は、図３及び図１３で説明したと同様に、貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）に液体Ｗが貯留される（図６１及び図６８参照）。
バブル液発生器Ｘ５は、図１２及び図１３で説明したと同様に、抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５を一方の筒端１１Ａに向けて移動して、第１位置ＰＸに配置する（図６８及び図６９参照）。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、ピストン４及び一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）の間の液体Ｗは、図６７に示すように、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａを通って、ピストン４及び羽根車８５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに流出される。

ピストン４及び羽根車８５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、図６７に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、羽根車８５を回転すると共に、各傾斜流路λを通って、抵抗体３及び羽根車８５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。ピストン４及び羽根車８５の間の液体Ｗは、羽根円板４２の外周４２ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ５）を通って、抵抗体３及び羽根車８５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗに流出される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の一方の筒端１１Ａに向けた移動に伴って、負圧状態（負圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、図６７に示すように、抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、抵抗体３及び羽根車８５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗを、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射する。
抵抗体３及び羽根車８５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、抵抗体３の一方の筒端１１Ａ（ガイド蓋１３）に向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに噴射される。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗは、各液体噴射穴３２から噴射される噴射空間Ｄの液体Ｗによって乱流となる。他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗには、乱流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の液体Ｗ中の空気（気泡）は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに混入及び溶込む。

抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５を第１位置ＰＸに位置（配置）すると、ハンドル６をガイド蓋１３（円筒本体１１の一方の筒端１１Ａ）に向けて押して、ピストン軸２（大径軸部２１）を円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）に移動する（図６１及び図６８のＮ方向に移動する）。
抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５は、ピストン軸２と共に、第１位置ＰＸから円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）に向けて移動される。

貯留空間Ｃにおいて、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間は、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、高圧状態（高圧）となる。
これにより、各液体噴射穴３２（抵抗体３）は、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、他方の筒端１１Ｂ（シリンダー蓋１２）及び抵抗体３の間の液体Ｗ（他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の貯留空間Ｃの液体Ｗ）を、抵抗体３及び羽根車８５の間（噴射空間Ｄ）に噴射する。
各液体噴射穴３２は、液体Ｗを抵抗体３（抵抗板表面３Ａ）及び羽根車８５（回転筒部４１の一方の回転筒端４１Ａ）の間（噴射空間Ｄ）に噴射することで、抵抗体３及び羽根車８５の間の液体Ｗに羽根車８５に向かう液体Ｗの流れを発生する。
他方の筒端１１Ａ及び抵抗体３の間の液体Ｗ（他方の筒端１１Ａ及び抵抗体３の間の貯留空間Ｃの液体Ｗ）は、図７０及び図７１に示すように、抵抗体３の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、各液体噴射穴３２に流入して、各液体噴射穴３２から抵抗体３及び羽根車８５の間（噴射空間Ｄ）に噴射される。
抵抗体３及び羽根車８５の間（噴射空間Ｄ）の液体Ｗは、各液体噴射穴３２から噴射される液体Ｗによって、ピストン軸２の軸中心線ａの方向において、抵抗体３から羽根車８５に向けて流れる。

抵抗体３及び羽根車８５の間に貯留空間Ｃ（円筒本体１１内）において、抵抗体３から羽根車８５に向けて流れる液体Ｗは、羽根車８５の各傾斜流路λ（各羽根板８７の間）に流入し、各羽根板８７の板表曲面８７Ａに衝突（作用）する。
羽根車８５は、液体Ｗの各羽根板８７（板表曲面８７Ａ）への衝突（作用）によって、傾斜角度θＥで流れる液体Ｗの運動エネルギーを、各羽根板８７（傾斜角度θＥで傾斜する各羽根板８７）によって回転運動（回転運動のエネルギー）に変換する。
羽根車８５（回転筒部４１）は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸２（大径軸部２１）を回転中心として反時計方向（図７１及び図７２のＶ方向）に回転される。
これにより、羽根車８５は、羽根車８５の向かう液体Ｗの流れによって、ピストン軸２（大径軸部２１）の軸中心線ａを回転中心として、Ｖ方向（反時計方向）に回転される。

羽根車８５において、各傾斜流路τに流入した液体Ｗは、図７０及び図７１に示すように、羽根車８５（他方の回転筒端４１Ｂ）及びピストン４（ピストン裏面４Ｂ）の間（渦流空間Ｅ）に流出する。

羽根車８５は、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４）と共に、他方の筒端１１Ｂに向けて円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）を移動しつつ、各液体噴射穴３２から連続して噴射空間Ｄに噴射される液体Ｗ（羽根車８５に向かう液体Ｗの流れ）によって、Ｖ方向に回転される。

羽根車８５は、Ｖ方向の回転によって、ピストン４（ピストン裏面４Ｂ）及び羽根車８５（他方の回転筒端４１Ｂ）の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生する。
ピストン４及び羽根車８５の間の貯留空間Ｃ（渦流空間Ｅ）の液体Ｗは、羽根車８５の回転によって、ピストン軸２の軸中心線ａを中心として、Ｖ方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Ｅにおいて、ピストン軸２（大径軸部２１）周りに旋回される。
ピストン４及び羽根車８５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ（液体Ｗの一部）は、ピストン軸２（抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５）の他方の筒端１１Ｂに向けた移動に伴って、ピストン４の外周４ａ及び円筒本体１１の内周１１ａの間（周隙間Ｓ４）から一方の筒端１１Ａ側に流出される。

ピストン４及び羽根車８５の間の液体Ｗは、渦流空間Ｅにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン４及び羽根車８５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗには、渦流の圧力差によるキャビテーション（洞窟現象）が発生する。
ピストン４及び羽根車８５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗ中の空気（気泡）は、渦流（乱流）及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕（剪断）される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン４及び羽根車８５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器Ｘ５は、羽根車８５を回転して、ピストン４及び羽根車８５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに渦流を発生することで、渦流空間Ｅの液体Ｗ中の空気（気体）を微細な気泡に粉砕（剪断）でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることができる。

バブル液発生器Ｘ５では、ハンドル６をガイド蓋１３から引上げ、及びガイド蓋１３に向けて押すことで、ピストン軸２、抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５を、円筒本体１１の各筒端１１Ａ，１１Ｂの間（シリンダー蓋１２及びガイド蓋１３の間）で往復移動する。
バブル液発生器Ｘ５は、抵抗体３、ピストン４及び羽根車８５を複数回、往復移動することで、他方の筒端１１Ｂ及び抵抗体３の間の液体Ｗに複数回、乱流を発生でき、ピストン４及び羽根車８５の間（渦流空間Ｅ）の液体Ｗに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量（多量）のマイクロバブル及び十分な量（多量）のウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませることが可能となる。

バブル液発生器Ｘ１～Ｘ５では、ガイド蓋１３を円筒本体１１から取外して、マイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入及び溶込んだ液体Ｗ（以下、「バブル液」という）を円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）から取出す。
バブル発生器Ｘ１～Ｘ５では、円筒本体１１の他方の筒端１１Ｂ（閉塞筒端／シリンダー蓋１２）にスプレーガン（図示しない）の管を接続（連結）して、スプレーガンの操作（トリガー操作）によって円筒本体１１内（貯留空間Ｃ）のバブル液をスプレーガンから噴霧（噴射）しても良い。

本発明は、マイクロバブル及びウルトラファインバブルを液体Ｗに混入及び溶込ませるのに最適である。

Ｘ１ バブル液発生器（バブル水発生器）
１ シリンダー
２ ピストン軸
３ 抵抗体（抵抗円板）
４ ピストン（ピストン円板）
５ 羽根車
１１ 円筒本体
１３ ガイド蓋
Ｃ 貯留空間
Ｗ 液体（水）

Claims (1)

1. 一方の筒端が開口され、他方の筒端が閉塞された円筒本体、一方の前記筒端を閉塞して前記円筒本体に取外し自在として取付られるガイド蓋を有し、他方の前記筒端及び前記ガイド蓋の間の前記円筒本体内に貯留空間を形成し、前記貯留空間に液体が貯留されるシリンダーと、
   前記円筒本体に同心として前記貯留空間に配置され、前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記円筒本体の筒中心線の方向に延在され、及び前記筒中心線の方向に前記ガイド蓋を摺動自在に貫通して前記シリンダーから突出されるピストン軸と、
   円形状に形成され、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に固定される抵抗体と、
   円形状に形成され、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記ピストン軸の軸中心線の方向において、前記抵抗体に第１軸線間隔を隔てて前記ガイド蓋及び前記抵抗体の間に配置され、及び前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に固定されるピストンと、
   前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記軸中心線の方向において、前記抵抗体に第２軸線間隔を隔てると共に、前記ピストンに第３軸線間隔を隔てて前記抵抗体及び前記ピストンの間に配置され、及び前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に回転自在に配置される羽根車と、を備え、
   前記抵抗体は、
   前記軸中心線の方向において、前記抵抗体を貫通して、他方の前記筒端及び前記抵抗体の間に開口されると共に、前記抵抗体及び前記羽根車の間に開口される複数の液体噴射穴を有し、
   前記各液体噴射穴は、
   前記抵抗体の他方の前記筒端に向けた移動に伴って、他方の前記筒端及び前記抵抗体の間の液体を、前記抵抗体及び前記羽根車の間の液体に噴射して、前記羽根車に向かう液体の流れを発生し、
   前記羽根車は、
   前記羽根車に向かう液体に流れによって回転されて、前記羽根車及び前記ピストンの間の液体に渦流を発生する
   ことを特徴とするバブル液発生器。

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