JP2023129800A - bubble liquid generator - Google Patents

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Abstract

To provide a bubble liquid generator that can mix and blend a large amount of micro bubbles and a large amount of ultra bubbles into liquid.SOLUTION: A piston shaft 2, a resistor 3, a piston 4 and an impeller 5 are arranged in a cylindrical main body 11 and are immersed in liquid W stored in the cylindrical main body 11 (a storage space C). The resistor 3 has a plurality of liquid jetting holes 32. Each liquid jetting hole 32 jets liquid W between a cylindrical end 11B at the other side and the resistor 3 to liquid W between the resistor and the impeller 5, accompanying a movement toward the cylindrical end 11B at the other side of the resistor 3, so as to generate a flow of the liquid W toward the impeller 5, between the resistor 3 and the impeller 5. The impeller 5 is rotated by the flow of the liquid W toward the impeller 5, so as to generate an eddying flow in the liquid W between the impeller 5 and the piston 4.SELECTED DRAWING: Figure 16

Description

本発明は、マイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入及び溶込んだバブル液を発生するバブル液発生器に関する。 The present invention relates to a bubble liquid generator that generates a bubble liquid in which microbubbles and ultrafine bubbles are mixed and dissolved.

バブル液を発生する技術として、特許文献1は、マイクロバブル発生装置を開示する。マイクロバブル発生装置は、ホルダー、インレットアダプター及びミキシングアダプターを備え、各アダプターはホルダーに取付けられる。インレットアダプターは、液体流路中に、ミキシングアラプターに向けて段々に縮径する液体絞り穴を有する。ミキシングアダプターは、流体流出口に向けて段々に拡径する液体流路を有する。
マイクロバブル発生装置は、液体流入口から液体をインレットアダプターの液体絞り穴に流入して、液体をミキシングアダプターの液体流路に噴射する。マイクロバブル発生装置は、液体絞り穴の噴出側で空気を液体に混合して、ミキシングアダプターの液体流路にてマイクロバブル液を発生する。
As a technique for generating bubble liquid, Patent Document 1 discloses a microbubble generator. The microbubble generator includes a holder, an inlet adapter, and a mixing adapter, and each adapter is attached to the holder. The inlet adapter has a liquid throttle hole in the liquid flow path whose diameter gradually decreases toward the mixing aruptor. The mixing adapter has a liquid flow path that gradually increases in diameter toward the fluid outlet.
The microbubble generator causes liquid to flow into the liquid throttle hole of the inlet adapter from the liquid inlet, and injects the liquid into the liquid flow path of the mixing adapter. A microbubble generator mixes air with a liquid on the ejection side of a liquid throttle hole, and generates a microbubble liquid in a liquid flow path of a mixing adapter.

特開2015-93219号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-93219

特許文献1では、液体絞り穴から液体を噴射して、空気と混合することで、空気を粉砕(剪断)して、ある程度の量のマイクロバブルを発生できるものの、更に液体に混入、溶込ませるマイクロバブルの量を増加し、及びウルトラファンバブルを混入、溶込ませることが望まれている。 In Patent Document 1, by injecting liquid from a liquid aperture hole and mixing it with air, the air is pulverized (sheared) and a certain amount of microbubbles can be generated, but they are further mixed into and dissolved in the liquid. It is desired to increase the amount of microbubbles and to mix and dissolve ultrafan bubbles.

本発明に係る請求項1は、一方の筒端が開口され、他方の筒端が閉塞された円筒本体、一方の前記筒端を閉塞して前記円筒本体に取外し自在として取付られるガイド蓋を有し、他方の前記筒端及び前記ガイド蓋の間の前記円筒本体内に貯留空間を形成し、前記貯留空間に液体が貯留されるシリンダーと、前記円筒本体に同心として前記貯留空間に配置され、前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記円筒本体の筒中心線の方向に延在され、及び前記円筒中心線の方向に前記ガイド蓋を摺動自在に貫通して前記シリンダーから突出されるピストン軸と、円形状に形成され、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に固定される抵抗体と、円形状に形成され、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記ピストン軸の軸中心線の方向において、前記抵抗体に第1軸線間隔を隔てて前記ガイド蓋及び前記抵抗体の間に配置され、及び前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に固定されるピストンと、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記軸中心線の方向において、前記抵抗体に第2軸線間隔を隔てると共に、前記ピストンに第3軸線間隔を隔てて前記抵抗体及び前記ピストンの間に配置され、及び前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に回転自在に配置される羽根車と、を備え、前記抵抗体は、前記軸中心線の方向において、前記抵抗体を貫通して、他方の前記筒端及び前記抵抗体の間に開口されると共に、前記抵抗体及び前記羽根車の間に開口される複数の液体噴射穴を有し、前記各液体噴射穴は、前記抵抗体の他方の前記筒端に向けた移動に伴って、他方の前記筒端及び前記抵抗体の間の液体を、前記抵抗体及び前記羽根車の間に噴射して、前記羽根車に向かう液体の流れを発生し、前記羽根車は、前記羽根車に向け液体の流れによって回転されて、前記羽根車及び前記ピストの間の液体に渦流を発生することを特徴とするバブル液発生器である。 Claim 1 of the present invention has a cylindrical body with one cylindrical end open and the other cylindrical end closed, and a guide lid that is removably attached to the cylindrical body with one cylindrical end closed. a storage space is formed in the cylindrical main body between the other cylindrical end and the guide lid, and the cylinder in which liquid is stored in the storage space is arranged in the storage space concentrically with the cylindrical main body, Extending in the direction of the cylinder center line of the cylindrical body with a circumferential gap on the inner periphery of the cylindrical body, and protruding from the cylinder by slidably penetrating the guide lid in the direction of the cylinder center line. a resistor formed in a circular shape, concentric with the cylindrical body, immersed in the liquid in the storage space, and fixed to the piston shaft with a circumferential gap on the inner periphery of the cylindrical body; The guide lid and the resistor are formed in a circular shape, are immersed in the liquid in the storage space concentrically with the cylindrical body, and are spaced apart from the resistor by a first axial distance in the direction of the axial center line of the piston shaft. a piston disposed between the cylinder bodies and fixed to the piston shaft with a circumferential gap in the inner periphery of the cylindrical body; a second axis spacing between the resistor body and a third axis spacing between the piston and a circumferential gap around the inner periphery of the cylindrical body; an impeller rotatably disposed on the piston shaft, the resistor passing through the resistor in the direction of the shaft center line and between the other cylindrical end and the resistor. and has a plurality of liquid injection holes opened between the resistor and the impeller, each liquid injection hole opening as the resistor moves toward the other cylindrical end. The liquid between the other cylindrical end and the resistor is injected between the resistor and the impeller to generate a flow of liquid toward the impeller, and the impeller The bubble liquid generator is characterized in that it is rotated by the flow of liquid toward the wheel to generate a vortex in the liquid between the impeller and the piston.

本発明に係る請求項1によれば、ピストン軸をガイド蓋に対してピストン軸の軸中心線の方向に摺動(移動)することで、抵抗体、ピストン及び羽根車を円筒本体の各筒端の間で往復移動できる。
請求項1では、抵抗体、ピストン及び羽根車を複数回、往復移動することで、ピストン及び羽根車の間の液体に複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量(多量)のマイクロバブル及び十分な量(多量)のウルトラファインバブルを液体に混入及び溶込ませることが可能となる。
請求項1では、各液体噴射穴は、抵抗体の一方の筒端に向けた移動に伴って、抵抗体及び羽根車の間の液体を、他方の筒端及び抵抗体の間に噴射する構成も採用できる。
なお、国際標準化機構(ISO)の国際規格「ISO20480-1」には、気泡径:1マイクロメート(μm)以上、100マイクロメート(μm)未満の気泡を「マイクロバブル」、気泡径:1マイクロメート未満の気泡を「ウルトラファンバブル」と定めている(以下、同様)。
According to claim 1 of the present invention, by sliding (moving) the piston shaft relative to the guide lid in the direction of the axis center line of the piston shaft, the resistor, the piston, and the impeller can be moved to each cylinder of the cylindrical body. Can be moved back and forth between the ends.
In claim 1, by reciprocating the resistor, the piston, and the impeller a plurality of times, a vortex can be generated in the liquid between the piston and the impeller multiple times, and a sufficient amount (a large amount) can be generated by the plurality of vortices. It becomes possible to mix and dissolve microbubbles and a sufficient amount (a large amount) of ultrafine bubbles into the liquid.
In claim 1, each liquid injection hole is configured to inject the liquid between the resistor and the impeller between the other cylinder end and the resistor as the resistor moves toward one cylinder end. can also be adopted.
In addition, the international standard "ISO 20480-1" of the International Organization for Standardization (ISO) states that bubbles with a bubble diameter of 1 micrometer (μm) or more and less than 100 micrometers (μm) are called "microbubbles". Bubbles of less than 100 ft are defined as "ultrafan bubbles" (hereinafter the same).

本発明は、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体に混入及び溶込ませることができる。 The present invention can mix and dissolve a large amount of microbubbles and a large amount of ultrafine bubbles into a liquid.

第1実施形態のバブル液発生器を示す斜視図である。It is a perspective view showing a bubble liquid generator of a 1st embodiment. 第1実施形態のバブル液発生器を示す正面図である。It is a front view showing a bubble liquid generator of a 1st embodiment. 図2のA-A断面図である。3 is a sectional view taken along line AA in FIG. 2. FIG. 図2のB-B拡大断面図(第1実施形態)、図18のB-B拡大断面図(第2実施形態)、図32のB―B拡大断面図(第3実施形態)、図47のB-B拡大断面図(第4実施形態)、図60のB-B拡大断面図(第5実施形態)である。BB enlarged sectional view in FIG. 2 (first embodiment), BB enlarged sectional view in FIG. 18 (second embodiment), BB enlarged sectional view in FIG. 32 (third embodiment), FIG. 60 is an enlarged sectional view taken along line BB (fourth embodiment) and an enlarged sectional view taken along line BB in FIG. 60 (fifth embodiment). 図2のC-C拡大断面図(第1実施形態)、図18のC-C拡大断面図(第2実施形態)、図32のC-C拡大断面図(第3実施形態)、図47のC-C拡大断面図(第4実施形態)、図60のC-C拡大断面図(第5実施形態)である。2 (first embodiment), CC enlarged sectional view in FIG. 18 (second embodiment), CC enlarged sectional view in FIG. 32 (third embodiment), FIG. 60 is an enlarged cross-sectional view taken along line CC (fourth embodiment) and an enlarged cross-sectional view taken along line CC in FIG. 60 (fifth embodiment). 図2のD-D拡大断面図である。3 is an enlarged sectional view taken along line DD in FIG. 2. FIG. 図3のE部分拡大図である。It is an enlarged view of E part of FIG. 3. (a)は、第1実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、(b)は、第1実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す下方斜視図である。(a) is an upper perspective view showing the impeller of the bubble liquid generator of the first embodiment, and (b) is a downward perspective view showing the impeller of the bubble liquid generator of the first embodiment. 第1実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大底面図(拡大下面図)である。It is an enlarged bottom view (enlarged bottom view) showing the impeller of the bubble liquid generator of a 1st embodiment. 第1実施形態のバブル液発生の羽根車を示す拡大平面図(拡大上面図)である。FIG. 2 is an enlarged plan view (enlarged top view) showing the impeller for generating bubble liquid according to the first embodiment. 第1実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。It is an enlarged side view showing the impeller of the bubble liquid generator of a 1st embodiment. 図3のE部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。FIG. 4 is an enlarged view of part E in FIG. 3, showing the flow of liquid. 第1実施形態のバブル液発生器において、抵抗体、ピストン及び羽根車を第1位置に配置した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the bubble generator of the first embodiment in which a resistor, a piston, and an impeller are arranged at a first position. 図13のF部分拡大図である。14 is an enlarged view of part F in FIG. 13. FIG. 図3のE部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。FIG. 4 is an enlarged view of part E in FIG. 3, showing the flow of liquid. 第1実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。In the bubble liquid generator of the first embodiment, it is a perspective view of a piston shaft, a resistor, a piston, and an impeller, and is a diagram showing the flow of liquid. 図2のD-D拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。FIG. 3 is an enlarged sectional view taken along the line DD in FIG. 2 and shows the rotation of the impeller. 第2実施形態のバブル液発生器を示す正面図である。It is a front view which shows the bubble liquid generator of 2nd Embodiment. 図18のG-G断面図である。19 is a sectional view taken along line GG in FIG. 18. 図18のH-H断面図である。19 is a sectional view taken along line HH in FIG. 18. FIG. 図19のI部分拡大図である。FIG. 20 is an enlarged view of part I in FIG. 19; (a)は、第2実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、(b)は、第2実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す下方斜視図である。(a) is an upper perspective view showing the impeller of the bubble liquid generator of 2nd Embodiment, (b) is a downward perspective view showing the impeller of the bubble liquid generator of 2nd Embodiment. 第2実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大底面図(拡大下面図)である。It is an enlarged bottom view (enlarged bottom view) showing the impeller of the bubble liquid generator of a 2nd embodiment. 第2実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大平面図(拡大上面図)である。It is an enlarged plan view (enlarged top view) showing the impeller of the bubble liquid generator of a 2nd embodiment. 第2実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。It is an enlarged side view showing the impeller of the bubble liquid generator of a 2nd embodiment. 図19のI部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。FIG. 20 is an enlarged view of part I in FIG. 19, showing the flow of liquid. 第2実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車を第1位置に配置した断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a bubble generator of a second embodiment in which a piston shaft, a resistor, a piston, and an impeller are arranged at a first position. 図27のJ部分拡大図である。FIG. 28 is an enlarged view of part J in FIG. 27; 図19のI部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。FIG. 20 is an enlarged view of part I in FIG. 19, showing the flow of liquid. 第2実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。In the bubble liquid generator of 2nd Embodiment, it is a perspective view of a piston shaft, a resistor, a piston, and an impeller, Comprising: It is a figure which shows the flow of a liquid. 図18のH-H拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。FIG. 19 is an enlarged sectional view taken along the line HH in FIG. 18, showing the rotation of the impeller. 第3実施形態のバブル液発生器の正面図である。It is a front view of the bubble liquid generator of 3rd Embodiment. 図32のK-K断面図である。33 is a sectional view taken along line KK in FIG. 32. FIG. 図32のL-L拡大断面図である。33 is an enlarged cross-sectional view taken along line LL in FIG. 32. FIG. 図33のM部分拡大図である。34 is an enlarged view of part M in FIG. 33. FIG. (a)は、第3実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、(b)は、第3実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す下方斜視図である。(a) is an upper perspective view which shows the impeller of the bubble liquid generator of 3rd Embodiment, (b) is a downward perspective view which shows the impeller of the bubble liquid generator of 3rd Embodiment. 第3実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大底面図(下面図)であって、各流通穴の配置関係を示す図である。It is an enlarged bottom view (bottom view) which shows the impeller of the bubble liquid generator of 3rd Embodiment, Comprising: It is a figure which shows the arrangement|positioning relationship of each circulation hole. 第3実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大底面図(下面図)であって、流入穴及び液ガイド板の配置関係を示す図である。It is an enlarged bottom view (bottom view) which shows the impeller of the bubble liquid generator of 3rd Embodiment, Comprising: It is a figure which shows the arrangement|positioning relationship of an inflow hole and a liquid guide plate. 第3実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大平面図(上面図)である。It is an enlarged plan view (top view) showing the impeller of the bubble liquid generator of a 3rd embodiment. 第3実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。It is an enlarged side view which shows the impeller of the bubble liquid generator of 3rd Embodiment. 図33のM部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。34 is an enlarged view of part M in FIG. 33, showing the flow of liquid. FIG. 第3実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車を第1位置に配置した断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a bubble generator of a third embodiment in which a piston shaft, a resistor, a piston, and an impeller are arranged at a first position. 図42のN部分拡大図である。43 is an enlarged view of part N in FIG. 42. FIG. 図33のM部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。34 is an enlarged view of part M in FIG. 33, showing the flow of liquid. FIG. 第3実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。In the bubble liquid generator of 3rd Embodiment, it is a perspective view of a piston shaft, a resistor, a piston, and an impeller, Comprising: It is a figure which shows the flow of liquid. 図32のL-L拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。FIG. 33 is an enlarged cross-sectional view taken along the line LL in FIG. 32, showing the rotation of the impeller. 第4実施形態のバブル液発生器を示す正面図である。It is a front view which shows the bubble liquid generator of 4th Embodiment. 図47のQ-Q断面図である。48 is a sectional view taken along the line QQ in FIG. 47. FIG. 図47のR-R拡大断面図である。48 is an enlarged cross-sectional view taken along the line RR in FIG. 47. FIG. 図48のS部分拡大図である。49 is an enlarged view of part S in FIG. 48. FIG. (a)は、第4実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、(b)は、第4実施形態のバブル液発生の羽根車を示す下方斜視図である。(a) is an upper perspective view showing the impeller of the bubble liquid generator of 4th Embodiment, (b) is a downward perspective view which shows the impeller for bubble liquid generation of 4th Embodiment. 第4実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大平面図(上面図)である。It is an enlarged plan view (top view) showing the impeller of the bubble liquid generator of a 4th embodiment. 第4実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。It is an enlarged side view which shows the impeller of the bubble liquid generator of 4th Embodiment. 図48のS部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。FIG. 49 is an enlarged view of part S in FIG. 48, showing the flow of liquid. 第4実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車を第1位置に配置した断面図である。In the bubble liquid generator of 4th Embodiment, it is sectional drawing which arrange|positioned the piston shaft, the resistor, the piston, and the impeller at the 1st position. 図55のT部分拡大図である。56 is an enlarged view of the T portion of FIG. 55. FIG. 図48のS部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。FIG. 49 is an enlarged view of part S in FIG. 48, showing the flow of liquid. 第4実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。In the bubble liquid generator of 4th Embodiment, it is a perspective view of a piston shaft, a resistor, a piston, and an impeller, Comprising: It is a figure which shows the flow of liquid. 図47のR-R拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。FIG. 48 is an enlarged cross-sectional view taken along the line RR in FIG. 47, showing the rotation of the impeller. 第5実施形態のバブル液発生器を示す正面図である。It is a front view which shows the bubble liquid generator of 5th Embodiment. 図60のU-U断面図である。61 is a sectional view taken along the line U-U in FIG. 60. FIG. 図60のV-V拡大断面図である。61 is an enlarged sectional view taken along the line VV in FIG. 60. FIG. 図61のW部分拡大図である。62 is an enlarged view of part W in FIG. 61. FIG. (a)は、第5実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す上方斜視図、(b)は、第5実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す下方斜視図である。(a) is an upper perspective view which shows the impeller of the bubble liquid generator of 5th Embodiment, (b) is a downward perspective view which shows the impeller of the bubble liquid generator of 5th Embodiment. 第5実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大平面図(上面図)である。It is an enlarged plan view (top view) showing the impeller of the bubble liquid generator of a 5th embodiment. 第5実施形態のバブル液発生器の羽根車を示す拡大側面図である。It is an enlarged side view showing the impeller of the bubble liquid generator of a 5th embodiment. 図61のW部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。62 is an enlarged view of part W in FIG. 61, showing the flow of liquid. FIG. 第5実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車を第1位置に配置した断面図である。In the bubble liquid generator of 5th Embodiment, it is sectional drawing which arrange|positioned the piston shaft, the resistor, the piston, and the impeller at the 1st position. 図68のY部分拡大図である。69 is an enlarged view of the Y portion of FIG. 68. FIG. 図61のW部分拡大図であって、液体の流れを示す図である。62 is an enlarged view of part W in FIG. 61, showing the flow of liquid. FIG. 第5実施形態のバブル液発生器において、ピストン軸、抵抗体、ピストン及び羽根車の斜視図であって、液体の流れを示す図である。In the bubble liquid generator of 5th Embodiment, it is a perspective view of a piston shaft, a resistor, a piston, and an impeller, Comprising: It is a figure which shows the flow of a liquid. 図60のV-V拡大断面図であって、羽根車の回転を示す図である。FIG. 61 is an enlarged sectional view taken along the line VV in FIG. 60 and shows the rotation of the impeller.

本発明に係るバブル液発生器について、図1乃至図72を参照して説明する。
第1乃至第5実施形態のバブル液発生器(バブル水発生器)について、図1乃至図72を参照して説明する。
A bubble liquid generator according to the present invention will be explained with reference to FIGS. 1 to 72.
Bubble liquid generators (bubble water generators) according to the first to fifth embodiments will be described with reference to FIGS. 1 to 72.

第1実施形態のバブル液発生器について、図1乃至図17を参照して説明する。 The bubble liquid generator of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 17.

図1乃至図17において、第1実施形態のバブル液発生器X1(以下、「バブル液発生器X1」という)は、シリンダー1、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4、羽根車5(インペラ)及びハンドル6を備える。 1 to 17, the bubble liquid generator X1 of the first embodiment (hereinafter referred to as "bubble liquid generator X1") includes a cylinder 1, a piston shaft 2, a resistor 3, a piston 4, an impeller 5 ) and a handle 6.

シリンダー1は、図1乃至図7に示すように、円筒本体11、シリンダー蓋12、及びガイド蓋13を有する。 The cylinder 1 has a cylindrical body 11, a cylinder lid 12, and a guide lid 13, as shown in FIGS. 1 to 7.

円筒本体11は、図1乃至図7に示すように、例えば、透明な合成樹脂によって円筒状(円筒体)に形成される。円筒本体11は、一方の筒端11Aが開口され、他方の筒端11Bが閉塞される。円筒本体11は、雌ネジ部14を有する。雌ネジ部14は、一方の筒端11A側に配置されて、円筒本体11の内周11a(内周面)に形成される。 As shown in FIGS. 1 to 7, the cylindrical main body 11 is formed into a cylindrical shape (cylindrical body) from, for example, transparent synthetic resin. The cylindrical body 11 has one cylindrical end 11A open and the other cylindrical end 11B closed. The cylindrical body 11 has a female threaded portion 14 . The female threaded portion 14 is disposed on the one cylindrical end 11A side and is formed on the inner periphery 11a (inner periphery surface) of the cylindrical body 11.

シリンダー蓋12は、図1乃至図6に示すように、他方の筒端11Bを閉塞して、円筒本体11に外嵌される。シリンダー蓋12は、他方の筒端11B側の円筒本体11の外周11b(外周面)に外嵌されて、円筒本体11に固定される。 As shown in FIGS. 1 to 6, the cylinder lid 12 is fitted onto the cylindrical body 11 with the other cylindrical end 11B closed. The cylinder lid 12 is fitted onto the outer periphery 11b (outer peripheral surface) of the cylindrical body 11 on the other cylinder end 11B side and is fixed to the cylindrical body 11.

ガイド蓋13は、図1乃至図3に示すように、一方の筒端11Aを閉塞して、円筒本体11に取外し自在として取付けられる。ガイド蓋13は、ガイド板15、ガイド軸部16、ガイド穴17及び雄ネジ部18を有する。 As shown in FIGS. 1 to 3, the guide lid 13 is removably attached to the cylindrical body 11 with one cylindrical end 11A closed. The guide lid 13 has a guide plate 15, a guide shaft portion 16, a guide hole 17, and a male screw portion 18.

ガイド板15は、図1乃至図3に示すように、例えば、正六角形状(正六角形板)に形成され、板厚さ方向に板表面15A及び板裏面15Bを有する。 As shown in FIGS. 1 to 3, the guide plate 15 is formed, for example, in a regular hexagonal shape (regular hexagonal plate), and has a plate surface 15A and a plate back surface 15B in the thickness direction.

ガイド軸部16は、図3示すように、円柱状(断面円形軸)に形成される。ガイド軸部16は、ガイド板15と同心に配置される。ガイド軸部16は、一方のガイド軸端16Aをガイド板15の板裏面15Bに当接して、ガイド板15に固定される。ガイド軸部16は、ガイド板15の板裏面15Bから突出して配置される。ガイド軸部16は、ガイド板15の板裏面15Bから縮径して、ガイド板15と一体に形成される。 As shown in FIG. 3, the guide shaft portion 16 is formed in a cylindrical shape (a shaft with a circular cross section). The guide shaft portion 16 is arranged concentrically with the guide plate 15. The guide shaft portion 16 is fixed to the guide plate 15 by bringing one guide shaft end 16A into contact with the back surface 15B of the guide plate 15. The guide shaft portion 16 is arranged to protrude from the back surface 15B of the guide plate 15. The guide shaft portion 16 is formed integrally with the guide plate 15 by reducing its diameter from the back surface 15B of the guide plate 15.

ガイド穴17は、図2及び図3に示すように、ガイド蓋13に形成される。ガイド穴17は、ガイド軸部16と同心に配置される。ガイド穴17は、ガイド軸部16の軸中心線の方向において、ガイド軸部16及びガイド板15(ガイド蓋13)を貫通して、ガイド軸部16の他方のガイド軸端16B、及びガイド板15の板表面15Aに開口される。 The guide hole 17 is formed in the guide lid 13, as shown in FIGS. 2 and 3. The guide hole 17 is arranged concentrically with the guide shaft portion 16. The guide hole 17 passes through the guide shaft 16 and the guide plate 15 (guide lid 13) in the direction of the axial center line of the guide shaft 16, and connects the other guide shaft end 16B of the guide shaft 16 and the guide plate. The opening is made on the plate surface 15A of No. 15.

雄ネジ部18は、図3に示すように、ガイド軸部16の各ガイド軸端16A,16Bの間に配置されて、ガイド軸部16の外周(外周面)に形成される。 As shown in FIG. 3, the male threaded portion 18 is disposed between each guide shaft end 16A, 16B of the guide shaft portion 16, and is formed on the outer periphery (outer peripheral surface) of the guide shaft portion 16.

ガイド蓋13は、図3に示すように、円筒本体11と同心に配置される。ガイド蓋13は、ガイド軸部16の他方のガイド軸端16Bを円筒本体11の他方の筒端11Bに向け、及びガイド板15の板裏面15Bを円筒本体11の一方の筒端11Aに向けて配置される。 The guide lid 13 is arranged concentrically with the cylindrical body 11, as shown in FIG. The guide lid 13 has the other guide shaft end 16B of the guide shaft portion 16 facing the other cylinder end 11B of the cylindrical body 11, and the plate back surface 15B of the guide plate 15 facing the one cylinder end 11A of the cylindrical body 11. Placed.

ガイド蓋13は、図3に示すように、他方のガイド軸端16Bからガイド軸部16を円筒本体11の一方の筒端11A側に挿入して円筒本体11に配置される。ガイド蓋13は、他方のガイド軸端16Bから雄ネジ部18を、円筒本体11の雌ネジ部14に螺着(螺着)して円筒本体11に取外し自在として取付けられる。ガイド蓋13は、雄ネジ部18(ガイド軸部16)を円筒本体11の雌ネジ部14に螺入して、ガイド板15の板裏面15Bを円筒本体11の一方の筒端11Aに当接して、円筒本体11に取付けられる。
これにより、ガイド蓋13は、円筒本体11に取外し自在として配置されて、円筒本体11の一方の筒端11Aを閉塞する。
As shown in FIG. 3, the guide lid 13 is placed in the cylindrical body 11 by inserting the guide shaft portion 16 into the one cylindrical end 11A of the cylindrical body 11 from the other guide shaft end 16B. The guide lid 13 is removably attached to the cylindrical body 11 by screwing (screwing) the male threaded portion 18 from the other guide shaft end 16B into the female threaded portion 14 of the cylindrical body 11. The guide lid 13 is constructed by screwing the male threaded portion 18 (guide shaft portion 16) into the female threaded portion 14 of the cylindrical body 11, and abuts the back surface 15B of the guide plate 15 against one tube end 11A of the cylindrical body 11. and is attached to the cylindrical body 11.
Thereby, the guide lid 13 is removably disposed on the cylindrical body 11 and closes one tube end 11A of the cylindrical body 11.

シリンダー1は、図3及び図12に示すように、円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及びガイド蓋13の間の円筒本体11内に貯留空間Cを形成して、貯留空間Cに液体W(水)が貯留される。 As shown in FIGS. 3 and 12, the cylinder 1 forms a storage space C in the cylindrical body 11 between the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11 and the guide lid 13. Liquid W (water) is stored in C.

ピストン軸2は、図1乃至図7に示すように、円柱状(断面円形軸)に形成される。ピストン軸2は、大径軸部21、小径軸部22、雄ネジ部23、第1抜止め溝24、第2抜止め溝25、第3抜止め溝26、第4抜止め溝27、及びシール溝28を有する。 As shown in FIGS. 1 to 7, the piston shaft 2 is formed into a cylindrical shape (a shaft with a circular cross section). The piston shaft 2 has a large diameter shaft portion 21, a small diameter shaft portion 22, a male thread portion 23, a first retaining groove 24, a second retaining groove 25, a third retaining groove 26, a fourth retaining groove 27, and It has a seal groove 28.

小径軸部22は、図2、図3及び図7に示すように、大径軸部21と同心に配置される。小径軸部22は、小径軸部22の一方の小径軸端22Aを、大径軸部21の一方の大径軸端21Aに当接して、大径軸部21に連続して形成される。小径軸部22は、大径軸部21の一方の大径軸端21Aから段差2A(段部)を有して縮径されて、一方の大径軸端21Aから突出して形成される。 The small-diameter shaft portion 22 is arranged concentrically with the large-diameter shaft portion 21, as shown in FIGS. 2, 3, and 7. The small-diameter shaft portion 22 is formed continuously from the large-diameter shaft portion 21, with one small-diameter shaft end 22A of the small-diameter shaft portion 22 abutting one large-diameter shaft end 21A of the large-diameter shaft portion 21. The small-diameter shaft portion 22 is formed to have a reduced diameter with a step 2A (step portion) from one large-diameter shaft end 21A of the large-diameter shaft portion 21, and protrude from one large-diameter shaft end 21A.

雄ネジ部23は、図2、図3及び図7に示すように、ピストン軸2(小径軸部22)に形成される。雄ネジ部23は、小径軸部22の各小径軸端22A,22Bの間に配置されて、小径軸部22の外周(外周面)に形成される。 The male threaded portion 23 is formed on the piston shaft 2 (small diameter shaft portion 22), as shown in FIGS. 2, 3, and 7. The male threaded portion 23 is disposed between each of the small diameter shaft ends 22A and 22B of the small diameter shaft portion 22, and is formed on the outer periphery (outer peripheral surface) of the small diameter shaft portion 22.

第1乃至第4抜止め溝24,25,26,27は、図7に示すように、ピストン軸2(大径軸部21)に形成される。 The first to fourth retaining grooves 24, 25, 26, and 27 are formed in the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21), as shown in FIG.

第1抜止め溝24は、図7に示すように、ピストン軸2と同心に配置されて、大径軸部21(ピストン軸2)に形成される。第1抜止め溝24は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、大径軸部21の一方の大径軸端21A(小径軸部22の一方の小径軸端22A)に第1溝間隔G1を隔てて配置される。第1抜止め溝24は、ピストン軸2(大径軸部21)の周方向(円周方向)にわたって、大径軸部21に形成される。第1抜止め溝24は、ピストン軸2の径方向に溝深さを有し、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aに溝幅を有して、大径軸部21の外周(ピストン軸2の外周)に開口される。 As shown in FIG. 7, the first retaining groove 24 is arranged concentrically with the piston shaft 2 and is formed in the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2). The first retaining groove 24 is provided at one large-diameter shaft end 21A of the large-diameter shaft portion 21 (one small-diameter shaft end 22A of the small-diameter shaft portion 22) in the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. The grooves are arranged at a groove interval G1. The first retaining groove 24 is formed in the large diameter shaft portion 21 over the circumferential direction (circumferential direction) of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21). The first retaining groove 24 has a groove depth in the radial direction of the piston shaft 2, a groove width in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and has a groove width in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2. The outer periphery of the shaft 2 is opened.

第2抜止め溝25は、図7に示すように、ピストン軸2と同心に配置されて、大径軸部21(ピストン軸2)に形成される。第2抜止め溝25は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、第1抜止め溝24に第2溝間隔G2を隔てて、第1抜止め溝24及び大径軸部21の他方の大径軸端21Bの間に配置される。第2抜止め溝25は、ピストン軸2(大径軸部21)の周方向にわたって、大径軸部21に形成される。第2抜止め溝25は、ピストン軸2の径方向に溝深さを有し、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aに溝幅を有して、大径軸部21の外周(ピストン軸2の外周)に開口される。 As shown in FIG. 7, the second retaining groove 25 is arranged concentrically with the piston shaft 2 and formed in the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2). The second retaining groove 25 is spaced apart from the first retaining groove 24 by a second groove interval G2 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and is located between the first retaining groove 24 and the large diameter shaft portion 21. It is arranged between the other large diameter shaft end 21B. The second retaining groove 25 is formed in the large diameter shaft portion 21 over the circumferential direction of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21). The second retaining groove 25 has a groove depth in the radial direction of the piston shaft 2, a groove width in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and has a groove width in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2. It is opened at the outer periphery of the shaft 2.

第3抜止め溝26は、図7に示すように、ピストン軸2と同心に配置されて、大径軸部21(ピストン軸2)に形成される。第3抜止め溝26は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、第2抜止め溝25に第3溝間隔G3を隔てて、第1抜止め溝26及び大径軸部21の他方の大径軸端21Bの間に配置される。第3抜止め溝26は、ピストン軸2(大径軸部21)の周方向にわたって、大径軸部21に形成される。第3抜止め溝26は、ピストン軸2の径方向に溝深さを有し、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aに溝幅を有して、大径軸部21の外周(ピストン軸2の外周)に開口される。 As shown in FIG. 7, the third retaining groove 26 is arranged concentrically with the piston shaft 2 and is formed in the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2). The third retaining groove 26 is spaced apart from the second retaining groove 25 by a third groove interval G3 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and is located between the first retaining groove 26 and the large diameter shaft portion 21. It is arranged between the other large diameter shaft end 21B. The third retaining groove 26 is formed in the large diameter shaft portion 21 over the circumferential direction of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21). The third retaining groove 26 has a groove depth in the radial direction of the piston shaft 2, a groove width in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and has a groove width in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2. The outer periphery of the shaft 2 is opened.

第4抜止め溝27は、図7に示すように、ピストン軸2と同心に配置されて、大径軸部21(ピストン軸2)に形成される。第4抜止め溝27は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、第3抜止め溝26に第4溝間隔G4を隔てて、第3抜止め溝26及び大径軸部21の他方の大径軸端21B(ピストン軸2の他方の軸端)の間に配置される。第4抜止め溝27は、ピストン軸2(大径軸部21)の周方向にわたって、大径軸部21に形成される。第4抜止め溝27は、ピストン軸2の径方向に溝深さを有し、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aに溝幅を有して、大径軸部21の外周(ピストン軸2の外周)に開口される。 As shown in FIG. 7, the fourth retaining groove 27 is arranged concentrically with the piston shaft 2 and formed in the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2). The fourth retaining groove 27 is spaced apart from the third retaining groove 26 by a fourth groove interval G4 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2. It is arranged between the other large diameter shaft end 21B (the other shaft end of the piston shaft 2). The fourth retaining groove 27 is formed in the large diameter shaft portion 21 over the circumferential direction of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21). The fourth retaining groove 27 has a groove depth in the radial direction of the piston shaft 2, a groove width in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and has a groove width in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2. It is opened at the outer periphery of the shaft 2.

シール溝28は、図7に示すように、ピストン軸2と同心に配置されて、大径軸部21(ピストン軸2)に形成される。シール溝28は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、第3抜止め溝26及び第4抜止め溝27の間に配置される。シール溝28は、ピストン軸2(大径軸部21)の周方向にわたって、大径軸部21に形成される。シール溝28は、ピストン軸2の径方向に溝深さを有し、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aに溝幅を有して、大径軸部21の外周(ピストン軸2の外周)に開口される。 As shown in FIG. 7, the seal groove 28 is arranged concentrically with the piston shaft 2 and formed in the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2). The seal groove 28 is arranged between the third retaining groove 26 and the fourth retaining groove 27 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2 . The seal groove 28 is formed in the large diameter shaft portion 21 over the circumferential direction of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21). The seal groove 28 has a groove depth in the radial direction of the piston shaft 2, a groove width in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2, and has a groove width in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. The outer periphery) is opened.

ピストン軸2は、図1乃至図7に示すように、円筒本体11と同心にして貯留空間C(円筒本体11内)に配置される。
ピストン軸2は、他方の小径軸端22B(ピストン軸2の一方の軸端)から小径軸部22をガイド蓋13のガイド穴17に挿入し、小径軸部22及び大径軸部21をガイド蓋13のガイド穴17に貫通(挿通)して、貯留空間C(円筒本体11内)に配置される。
小径軸部22は、貯留空間C(円筒本体11内)において、円筒本体11の他方の筒端11B側(シリンダー蓋12側)に配置される。大径軸部21は、貯留空間C(円筒本体11内)において、円筒本体11の一方の筒端11A側及びガイド蓋13(ガイド穴17)に配置される。
As shown in FIGS. 1 to 7, the piston shaft 2 is arranged in the storage space C (inside the cylindrical body 11) concentrically with the cylindrical body 11.
The piston shaft 2 inserts the small diameter shaft portion 22 into the guide hole 17 of the guide lid 13 from the other small diameter shaft end 22B (one shaft end of the piston shaft 2), and guides the small diameter shaft portion 22 and the large diameter shaft portion 21. It penetrates (inserts) into the guide hole 17 of the lid 13 and is arranged in the storage space C (inside the cylindrical body 11).
The small diameter shaft portion 22 is arranged on the other cylindrical end 11B side (the cylinder lid 12 side) of the cylindrical body 11 in the storage space C (inside the cylindrical body 11). The large-diameter shaft portion 21 is arranged in the storage space C (inside the cylindrical body 11) on one cylinder end 11A side of the cylindrical body 11 and on the guide lid 13 (guide hole 17).

ピストン軸2(大径軸部21、小径軸部22)は、図7に示すように、貯留空間C(円筒本体11内)において、円筒本体11の内周11a(内周面)に周間隔S1を隔てて円筒本体11の筒中心線aの方向Aに延在される。 As shown in FIG. 7, the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21, small diameter shaft portion 22) is arranged at circumferential intervals on the inner circumference 11a (inner circumferential surface) of the cylindrical body 11 in the storage space C (inside the cylindrical body 11). It extends in the direction A of the cylinder center line a of the cylindrical body 11 across S1.

ピストン軸2は、図3に示すように、円筒本体11の筒中心線aの方向Aにガイド蓋13(ガイド穴17)を摺動自在に貫通(挿通)してシリンダー1(円筒本体11)から突出される。
大径軸部21は、図3に示すように、円筒本体11の筒中心線aの方向Aにおいて、ガイド穴17(ガイド蓋13)を摺動自在に貫通(挿通)して、他方の大径軸端21B側(ピストン軸の他方の軸端側)をシリンダー1(円筒本体11)から突出して配置される。
これにより、ピストン軸2は、小径軸部22、及び大径軸部21(大径軸部21の一部)を貯留空間C(円筒本体11内)に位置して配置される。ピストン軸2は、大径軸部21をガイド穴17に摺動自在に貫通(挿通)して、ガイド蓋13に支持される。
ピストン軸2は、大径軸部21をガイド穴17(ガイド蓋13)に摺動しつつ、円筒本体11の筒中心線aの方向Aに移動自在にされる。
As shown in FIG. 3, the piston shaft 2 slidably penetrates (inserts) the guide lid 13 (guide hole 17) in the direction A of the cylinder center line a of the cylindrical body 11 to connect the cylinder 1 (cylindrical body 11). projected from.
As shown in FIG. 3, the large diameter shaft portion 21 is slidably inserted into the guide hole 17 (guide lid 13) in the direction A of the cylinder center line a of the cylindrical body 11, and is inserted into the other large diameter shaft portion 21. It is arranged with the radial shaft end 21B side (the other shaft end side of the piston shaft) protruding from the cylinder 1 (cylindrical body 11).
Thereby, the piston shaft 2 is arranged with the small diameter shaft portion 22 and the large diameter shaft portion 21 (a part of the large diameter shaft portion 21) located in the storage space C (inside the cylindrical body 11). The piston shaft 2 slidably passes through the large-diameter shaft portion 21 into the guide hole 17 and is supported by the guide lid 13 .
The piston shaft 2 is made movable in the direction A of the cylinder center line a of the cylindrical body 11 while sliding the large diameter shaft portion 21 into the guide hole 17 (guide lid 13).

抵抗体3は、図1乃至図4、及び図7に示すように、板厚さT1の円形状(円形板)に形成される。抵抗体3は、板厚さ方向に抵抗板表面3A及び抵抗板裏面3Bを有する。抵抗体3(抵抗円板)は、ネジ穴31、及び複数(例えば、4つ)の液体噴射穴32を有する。 As shown in FIGS. 1 to 4 and 7, the resistor 3 is formed into a circular shape (circular plate) with a thickness T1. The resistor 3 has a resistor plate front surface 3A and a resistor plate back surface 3B in the thickness direction. The resistor 3 (resistance disk) has a screw hole 31 and a plurality of (for example, four) liquid injection holes 32.

ネジ穴31は、図4及び図7に示すように、抵抗体3に形成される。ネジ穴31は、抵抗体3(抵抗円板)と同心に配置される。ネジ穴31は、抵抗体3の板中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3を貫通して、抵抗板表面3A及び抵抗板裏面3Bに開口される。 The screw hole 31 is formed in the resistor 3, as shown in FIGS. 4 and 7. The screw hole 31 is arranged concentrically with the resistor 3 (resistance disk). The screw hole 31 passes through the resistor 3 in the direction A of the plate center line a of the resistor 3 and is opened on the front surface 3A of the resistor plate and the back surface 3B of the resistor plate.

各液体噴射穴32は、図4及び図7に示すように、円形状(円形穴)に形成される。各液体噴射穴32は、抵抗体3(抵抗円板)に形成される。各液体噴射穴32は、抵抗体3の径方向において、ネジ穴31及び抵抗体3の外周3a(外周面)の間に配置される。
各液体噴射穴32は、図4に示すように、抵抗体3(抵抗円板)の板中心線aを中心として、抵抗体3に位置する半径r1の円C1上(同一円C1上)に配置される。各液体噴射穴32は、穴中心線bを円C1上に位置(一致)して配置される。各液体噴射穴32は、抵抗体3(抵抗円板)の周方向(円周方向)において、各液体噴射穴32の間に穴角度(例えば、穴角度:90度)を隔てて配置される。
各液体噴射穴32は、抵抗体3の板中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3を貫通して、抵抗板表面3A及び抵抗板裏面3Bに開口される。
Each liquid injection hole 32 is formed in a circular shape (circular hole), as shown in FIGS. 4 and 7. Each liquid injection hole 32 is formed in the resistor 3 (resistance disk). Each liquid injection hole 32 is arranged between the screw hole 31 and the outer periphery 3a (outer circumferential surface) of the resistor 3 in the radial direction of the resistor 3.
As shown in FIG. 4, each liquid injection hole 32 is located on a circle C1 with a radius r1 located on the resistor 3 (on the same circle C1), centered on the plate center line a of the resistor 3 (resistance disk). Placed. Each liquid injection hole 32 is arranged with the hole center line b positioned on (coinciding with) the circle C1. Each liquid injection hole 32 is arranged with a hole angle (for example, hole angle: 90 degrees) between each liquid injection hole 32 in the circumferential direction (circumferential direction) of the resistor 3 (resistance disk). .
Each liquid injection hole 32 passes through the resistor 3 in the direction A of the plate center line a of the resistor 3 and is opened on the resistor plate front surface 3A and the resistor plate back surface 3B.

抵抗体3は、図1乃至図4、及び図7に示すように、円筒本体11に同心として貯留空間C(円筒本体11内)に配置されて、貯留空間Cの液体Wに浸漬される。
抵抗体3(抵抗円板)は、抵抗板表面3Aを一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向け、及び抵抗板裏面3Bを他方の筒端11B(シリンダー蓋12)に向けて、貯留空間C(円筒本体11内)に配置される。抵抗体3は、抵抗板表面3A及び抵抗板裏面3Bをピストン軸2の軸中心線a(円筒本体11の筒中心線a)と直交して、貯留空間Cに配置される。
As shown in FIGS. 1 to 4 and 7, the resistor 3 is disposed concentrically with the cylindrical body 11 in the storage space C (inside the cylindrical body 11), and is immersed in the liquid W in the storage space C.
The resistor 3 (resistance disk) has a storage space with the resistance plate surface 3A facing one cylinder end 11A (guide lid 13) and the resistance plate back surface 3B facing the other cylinder end 11B (cylinder lid 12). C (inside the cylindrical body 11). The resistor 3 is arranged in the storage space C with the front surface 3A of the resistor plate and the back surface 3B of the resistor plate perpendicular to the axis center line a of the piston shaft 2 (the cylinder center line a of the cylindrical body 11).

抵抗体3は、図7に示すように、円筒本体11の内周11a(内周面)に周隙間S3(抵抗体周隙間)を隔ててピストン軸2(小径軸部22)に固定される。抵抗体3は、抵抗体3(円筒本体11)の径方向において、円筒本体11の内周11a及び抵抗体3の外周3aの間に周隙間S3を隔ててピストン軸2(小径軸部22)に固定される。 As shown in FIG. 7, the resistor 3 is fixed to the piston shaft 2 (small diameter shaft portion 22) on the inner periphery 11a (inner peripheral surface) of the cylindrical body 11 with a circumferential gap S3 (resistor circumferential gap). . The resistor 3 is connected to the piston shaft 2 (small diameter shaft portion 22) with a circumferential gap S3 between the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 and the outer periphery 3a of the resistor 3 in the radial direction of the resistor 3 (cylindrical body 11). Fixed.

抵抗体3は、図7に示すように、抵抗板表面3Aからネジ穴31に小径軸部22(ピストン軸2)の雄ネジ部23を螺入(螺着)して、ピストン軸2(小径軸部22)に取付けられる。抵抗体3は、抵抗板表面3Aを段差2A(段部)に当接して、小径軸部22に外嵌され、及びネジ穴31に雄ネジ部23(小径軸部22)を螺入(螺着)して、小径軸部22(ピストン軸2)に取付けられる。 As shown in FIG. 7, the resistor 3 is assembled by screwing (screwing) the male threaded part 23 of the small diameter shaft part 22 (piston shaft 2) into the screw hole 31 from the resistance plate surface 3A. It is attached to the shaft portion 22). The resistor 3 is externally fitted onto the small diameter shaft portion 22 with the resistance plate surface 3A in contact with the step 2A (step portion), and the male screw portion 23 (small diameter shaft portion 22) is screwed into the screw hole 31. The small diameter shaft portion 22 (piston shaft 2) is attached to the small diameter shaft portion 22 (piston shaft 2).

抵抗体3は、図7に示すように、雄ネジ部23及び締付けナット33によって小径軸部22(ピストン軸2)に固定される。締付けナット33は、小径軸部22に外嵌されて、雄ネジ部23に螺着される。締付けナット33は、小径軸部22(雄ネジ部23)に対して回転されて、抵抗体3の抵抗板裏面3Bに当接される。
これにより、締付けナット33は、抵抗体3(抵抗円板)を段差2A(段部)とで挟持して、抵抗体3をピストン軸2(小径軸部22)に固定する。
As shown in FIG. 7, the resistor 3 is fixed to the small diameter shaft portion 22 (piston shaft 2) by a male screw portion 23 and a tightening nut 33. The tightening nut 33 is fitted onto the small diameter shaft portion 22 and screwed onto the male threaded portion 23 . The tightening nut 33 is rotated with respect to the small diameter shaft portion 22 (male thread portion 23) and comes into contact with the back surface 3B of the resistance plate of the resistor 3.
Thereby, the tightening nut 33 clamps the resistor 3 (resistance disk) between the step 2A (step portion) and fixes the resistor 3 to the piston shaft 2 (small diameter shaft portion 22).

各液体噴射穴32は、図7に示すように、抵抗体3をピストン軸2(小径軸部22)に固定すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3を貫通して、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間に開口されると共に、抵抗体3及び一方の筒端11A(ガイド蓋13)の間に開口される。 As shown in FIG. 7, when the resistor 3 is fixed to the piston shaft 2 (small diameter shaft portion 22), each liquid injection hole 32 penetrates the resistor 3 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2. It is opened between the other cylinder end 11B (cylinder lid 12) and the resistor 3, and is opened between the resistor 3 and one cylinder end 11A (guide lid 13).

ピストン4は、図1乃至図3,図5及び図7に示すように、板厚さT2の円形状(円形板/円柱)に形成される。ピストン4(ピストン円板)は、板厚さ方向にピストン表面4A及びピストン裏面4Bを有する。ピストン4は、装着穴36を有する。 The piston 4 is formed into a circular shape (circular plate/cylindrical column) with a plate thickness T2, as shown in FIGS. 1 to 3, 5, and 7. The piston 4 (piston disk) has a piston surface 4A and a piston back surface 4B in the thickness direction. The piston 4 has a mounting hole 36.

装着穴36は、図5及び図7に示すように、ピストン4に形成される。装着穴36は、ピストン4(ピストン円板)と同心に配置される。装着穴36は、ピストン4の中心線aの方向Aにおいて、ピストン4を貫通して、ピストン表面4A及びピストン裏面4Bに開口される。 The mounting hole 36 is formed in the piston 4, as shown in FIGS. 5 and 7. The mounting hole 36 is arranged concentrically with the piston 4 (piston disk). The mounting hole 36 penetrates the piston 4 in the direction A of the centerline a of the piston 4 and is opened to the piston surface 4A and the piston back surface 4B.

ピストン4は、図1乃至図3、図5及び図7に示すように、円筒本体11に同心として貯留空間C(円筒本体11内)に配置されて、貯留空間Cの液体Wに浸漬される。
ピストン4は、図3及び図7に示すように、ピストン表面4Aを一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向け、及びピストン裏面4Bを他方の筒端11B(抵抗体3)に向けて、貯留空間C(円筒本体11内)に配置される。ピストン4は、ピストン表面4A及びピストン裏面4Bをピストン軸2の軸中心線aと直交して、貯留空間Cに配置される。ピストン4は、ピストン表面4A及びピストン裏面4Bを抵抗体3の抵抗板表面3Aに平行として、貯留空間Cに配置される。
As shown in FIGS. 1 to 3, 5, and 7, the piston 4 is disposed concentrically with the cylindrical body 11 in the storage space C (inside the cylindrical body 11), and is immersed in the liquid W in the storage space C. .
As shown in FIGS. 3 and 7, the piston 4 has a piston surface 4A facing one cylinder end 11A (guide lid 13), and a piston back surface 4B facing the other cylinder end 11B (resistor 3). It is arranged in the storage space C (inside the cylindrical body 11). The piston 4 is arranged in the storage space C with the piston front surface 4A and the piston back surface 4B perpendicular to the axial center line a of the piston shaft 2. The piston 4 is arranged in the storage space C with the piston front surface 4A and the piston back surface 4B parallel to the resistance plate surface 3A of the resistor 3.

ピストン4は、図7に示すように、ピストン軸2の軸中心線aの方向A(円筒本体11の筒中心線aの方向A)において、抵抗体3に第1軸線間隔K1を隔てて、貯留空間C(円筒本体11内)のガイド蓋13(一方の筒端11A)及び抵抗体3の間に配置される。第1軸線間隔K1は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、ピストン4のピストン裏面4B及び抵抗体3の抵抗板表面3Aの間の間隔である。 As shown in FIG. 7, the piston 4 is spaced apart from the resistor 3 by a first axis interval K1 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2 (direction A of the cylinder center line a of the cylindrical body 11). It is arranged between the guide lid 13 (one cylinder end 11A) and the resistor 3 in the storage space C (inside the cylindrical body 11). The first axial distance K1 is the distance between the piston back surface 4B of the piston 4 and the resistance plate surface 3A of the resistor 3 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2.

ピストン4は、図7に示すように、円筒本体11の内周11a(内周面)に周隙間S4(ピストン周隙間)を隔ててピストン軸2(大径軸部21)に固定される。ピストン4は、ピストン4(円筒本体11)の径方向において、円筒本体11の内周11a及びピストン4の外周4a(外周面)の間に周隙間S4を隔ててピストン軸2に固定される。 As shown in FIG. 7, the piston 4 is fixed to the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) on the inner periphery 11a (inner peripheral surface) of the cylindrical body 11 with a circumferential gap S4 (piston circumferential gap) in between. The piston 4 is fixed to the piston shaft 2 with a circumferential gap S4 between the inner circumference 11a of the cylindrical body 11 and the outer circumference 4a (outer circumferential surface) of the piston 4 in the radial direction of the piston 4 (cylindrical body 11).

ピストン4は、図5及び図7に示すように、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びガイド蓋13の間において、大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌されて、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、第3抜止め溝26及び第4抜止め溝27の間の大径軸部21に配置される。ピストン4は、装着穴36にピストン軸2(大径軸部21)を貫通(挿通)して、大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌される。 As shown in FIGS. 5 and 7, the piston 4 is externally fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) between the resistor 3 and the guide lid 13 in the storage space C (inside the cylindrical body 11). , is arranged in the large diameter shaft portion 21 between the third retaining groove 26 and the fourth retaining groove 27 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2 . The piston 4 penetrates (inserts) the piston shaft 2 (large-diameter shaft portion 21) into the mounting hole 36, and is externally fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2).

ピストン4は、図5及び図7に示すように、一対のスナップリング37,38によって大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされる。
各スナップリング37,38は、大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌されて、第3抜止め溝26、第4抜止め溝24に挿入される。各スナップリング37,38は、ピストン軸2の径方向において、大径軸部21の外周21a(外周面)から突出して配置される。スナップリング37は、第3抜止め溝26に挿入されて、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aからピストン4のピストン裏面4Bに当接される。スナップリング38は、第4抜止め溝27に挿入されて、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aからピストン4のピストン表面4Aに当接される。
これにより、ピストン4は、各スナップリング37,38で挟持されることによって、抵抗体3に第1軸線間隔K1を隔てる大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされて、ピストン軸2(大径軸部21)に固定される。
As shown in FIGS. 5 and 7, the piston 4 is positioned on the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) by a pair of snap rings 37, 38.
Each of the snap rings 37 and 38 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) and inserted into the third retaining groove 26 and the fourth retaining groove 24. Each of the snap rings 37 and 38 is arranged to protrude from the outer periphery 21a (outer circumferential surface) of the large diameter shaft portion 21 in the radial direction of the piston shaft 2. The snap ring 37 is inserted into the third retaining groove 26 and comes into contact with the piston back surface 4B of the piston 4 from the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. The snap ring 38 is inserted into the fourth retaining groove 27 and comes into contact with the piston surface 4A of the piston 4 from the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2.
As a result, the piston 4 is held between the snap rings 37 and 38, and is positioned on the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) that is separated from the resistor 3 by the first axial distance K1, and the piston shaft 2 ( It is fixed to the large diameter shaft portion 21).

ピストン4は、図7に示すように、シールリング39を介在して大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌される。シールリング39は、合成ゴム等の弾性材で円環状に形成される。シールリング39は、大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌されて、シール溝28に挿入される。シールリング39は、ピストン軸2の径方向において、大径軸部21の外周21aから突出してピストン4の装着穴36に当接(圧接)される。
ピストン4は、装着穴36(穴内周)をシールリング39に液密に当接(圧接)して、大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌される。
As shown in FIG. 7, the piston 4 is externally fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) with a seal ring 39 interposed therebetween. The seal ring 39 is formed in an annular shape from an elastic material such as synthetic rubber. The seal ring 39 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) and inserted into the seal groove 28. The seal ring 39 protrudes from the outer periphery 21 a of the large-diameter shaft portion 21 in the radial direction of the piston shaft 2 and comes into contact (pressure contact) with the mounting hole 36 of the piston 4 .
The piston 4 is externally fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) with the mounting hole 36 (inner periphery of the hole) in fluid-tight contact (pressure contact) with the seal ring 39.

羽根車5は、図1乃至図3、及び図6乃至図11に示すように、回転筒部41(円筒部)、及び羽根円板42を有する。 The impeller 5 has a rotating tube portion 41 (cylindrical portion) and a blade disk 42, as shown in FIGS. 1 to 3 and 6 to 11.

回転筒部41(ボス)は、図8乃至図11に示すように、外直径TD(外周直径)の円筒状(円筒体)に形成され、回転筒部41の筒中心線aの方向Aに筒高さTHを有する。筒高さTHは、第2溝間隔G2より低い高さである。 The rotating cylinder part 41 (boss) is formed into a cylindrical shape (cylindrical body) with an outer diameter TD (outer diameter), as shown in FIGS. It has a cylinder height TH. The cylinder height TH is lower than the second groove interval G2.

羽根円板42は、図8乃至図11に示すように、板厚さT3及び外直径PD(外半径rd)の円形状(円形板)に形成される。羽根円板42の板厚さT3は、回転筒部41の筒高さTHより薄い厚さである(T3<TH)。羽根円板42の外直径PDは、回転筒部41の外直径TD(外周直径)より大きい直径である(PD>TD)。
羽根円板42は、板厚さ方向に円板表面42A及び円板裏面42Bを有する。
円板表面42A及び円板裏面42Bは、円板表面42A及び円板裏面42Bの間に板厚さT3を有して平行に配置される。
The blade disk 42 is formed into a circular shape (circular plate) with a thickness T3 and an outer diameter PD (outer radius rd), as shown in FIGS. 8 to 11. The plate thickness T3 of the vane disk 42 is thinner than the cylinder height TH of the rotary cylinder part 41 (T3<TH). The outer diameter PD of the vane disk 42 is larger than the outer diameter TD (outer circumferential diameter) of the rotary cylinder portion 41 (PD>TD).
The vane disk 42 has a disk surface 42A and a disk back surface 42B in the thickness direction.
The disk front surface 42A and the disk back surface 42B are arranged in parallel with a thickness T3 between the disk surface 42A and the disk back surface 42B.

羽根円板42は、図8乃至図11に示すように、回転筒部41と同心に配置される。羽根円板42は、回転筒部41に外嵌されて、回転筒部41の一方の回転筒端41A側に配置される。羽根円板42は、円板表面42Aを回転筒部41の他方の回転筒端41Bに向け、及び円板裏面42Bを回転筒部41の一方の回転筒端41Aに向けて、回転筒部41に外嵌される。羽根円板42は、回転筒部41に固定される。 The vane disk 42 is arranged concentrically with the rotary tube portion 41, as shown in FIGS. 8 to 11. The vane disk 42 is fitted onto the rotary tube portion 41 and placed on one rotary tube end 41A side of the rotary tube portion 41 . The vane disk 42 is arranged so that the disk surface 42A faces the other rotating cylinder end 41B of the rotating cylinder part 41, and the disk back surface 42B faces the one rotating cylinder end 41A of the rotating cylinder part 41. is fitted externally. The vane disk 42 is fixed to the rotary cylinder part 41.

羽根円板42(羽根車5)は、図8乃至図11に示すように、複数の流通穴43、及び複数の羽根板44(羽根翼)を有する。 The vane disk 42 (impeller 5) has a plurality of communication holes 43 and a plurality of vanes 44 (vanes), as shown in FIGS. 8 to 11.

流通穴43は、図8乃至図10に示すように、例えば、羽根円板42に6つ形成される。各流通穴43は、回転筒部41の径方向において、回転筒部41の外周41a(外周面)、及び羽根円板42の外周42a(外周面)の間に配置される。各流通穴43は、図9に示すように、回転筒部41の筒中心線aを中心として、羽根円板42に位置する半径r1の円C2上(同一円C2上)に配置される。各流通穴43は、流通穴中心線e(流通穴中心)を円C2に位置(一致)して配置される。
各流通穴43は、回転筒部41(羽根円板42)の周方向(円周方向)において、各流通穴43の間に流通穴角度θ1(第1流通穴角度)を隔てて配置される。流通穴角度θ1は、例えば、120度(120°)である。
For example, six circulation holes 43 are formed in the vane disk 42, as shown in FIGS. 8 to 10. Each communication hole 43 is arranged between the outer circumference 41 a (outer circumferential surface) of the rotary tube section 41 and the outer circumference 42 a (outer circumferential surface) of the vane disk 42 in the radial direction of the rotary tube section 41 . As shown in FIG. 9, each communication hole 43 is arranged on a circle C2 having a radius r1 located on the vane disk 42 (on the same circle C2), centered on the cylinder center line a of the rotary cylinder part 41. Each communication hole 43 is arranged so that the communication hole center line e (the center of the communication hole) is located (coinciding) with the circle C2.
Each communication hole 43 is arranged with a communication hole angle θ1 (first communication hole angle) between each communication hole 43 in the circumferential direction (circumferential direction) of the rotary cylinder part 41 (blade disk 42). . The communication hole angle θ1 is, for example, 120 degrees (120°).

各流通穴43は、図9に示すように、回転筒部41の筒中心線aを中心として、羽根円板42の外周42a及び円C2の間に位置する半径reの外側穴面43a、円C2及び回転筒部41の外周41aの間に位置する半径rfの内側穴面43bを有する。
各流通穴43は、回転筒部41の周方向に穴幅角度θAを隔てる一対の穴幅側面43c,43dを有する。各穴幅側面43c,43dは、回転筒部41(羽根円板42)の周方向において、各穴幅側面43c,43dの間に穴幅角度θAを隔てて配置され、外側穴面43a(外側穴弧面)及び内側穴面43b(外側穴弧面)に交差される。穴幅角度θAは、例えば、45度(45°)である。
As shown in FIG. 9, each communication hole 43 has an outer hole surface 43a with a radius re located between the outer periphery 42a of the vane disk 42 and a circle C2, centered on the cylinder center line a of the rotary cylinder part 41, and a circular It has an inner hole surface 43b with a radius rf located between C2 and the outer periphery 41a of the rotating cylinder portion 41.
Each communication hole 43 has a pair of hole width side surfaces 43c and 43d separated by a hole width angle θA in the circumferential direction of the rotary cylinder portion 41. Each hole width side surface 43c, 43d is arranged with a hole width angle θA between each hole width side surface 43c, 43d in the circumferential direction of the rotary tube part 41 (blade disc 42), and the outer hole surface 43a (outer side hole arc surface) and the inner hole surface 43b (outer hole arc surface). The hole width angle θA is, for example, 45 degrees (45°).

各流通穴43は、図8乃至図10に示すように、回転筒部41の筒中心線aの方向Aにおいて、外側穴面43a、内側穴面43b、及び各穴幅側面43c,43dを有して羽根円板42を貫通して、羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bに開口される。 As shown in FIGS. 8 to 10, each communication hole 43 has an outer hole surface 43a, an inner hole surface 43b, and each hole width side surface 43c, 43d in the direction A of the cylinder center line a of the rotating cylinder part 41. It penetrates the vane disc 42 and opens on the disc surface 42A and the disc back surface 42B of the vane disc 42.

各羽根板44は、図8乃至図11に示すように、板厚さT4の矩形状に形成される。各羽根板44は、板厚さ方向に羽根板表面44A(板表面)及び羽根板裏面44B(板裏面)を有する。羽根板表面44A、及び羽根板裏面44Bは、板厚さ方向において、羽根板表面44A及び羽根板裏面44Bの間に板厚さT4を有して平行に配置される。
羽根板44は、流通穴43と同数であって、例えば、羽根円板42に6つ形成される。
Each blade plate 44 is formed into a rectangular shape with a plate thickness T4, as shown in FIGS. 8 to 11. Each slat 44 has a slat surface 44A (board surface) and a slat back surface 44B (board back surface) in the board thickness direction. The front surface 44A of the vane and the back surface 44B of the vane are arranged in parallel in the thickness direction with a thickness T4 between the front surface 44A of the vane and the back surface 44B.
The number of blade plates 44 is the same as that of the communication holes 43, and for example, six blade plates 44 are formed on the blade disk 42.

各羽根板44は、円C2上(同一円C2上)に配置される。各羽根板44は、回転筒部41の周方向において、各羽根板44の間に流通穴角度θ1と同一の羽根板角度θ1(第1羽根板角度)を隔てて各流通穴43内に配置される。
各羽根板44は、回転筒部41の周方向に羽根板角度θ1を隔てる各流通穴43の一方の穴幅側面43cに連続して配置され、羽根円板42に連結(固定)される。各羽根板44は、羽根板裏面44Bを羽根円板42の円板表面42A(各流通穴43内)に向けて配置される。
Each blade plate 44 is arranged on a circle C2 (on the same circle C2). Each blade plate 44 is arranged in each communication hole 43 in the circumferential direction of the rotary tube portion 41 with a blade plate angle θ1 (first blade angle) that is the same as the communication hole angle θ1 between each blade plate 44. be done.
Each vane plate 44 is disposed continuously on one hole width side surface 43c of each communication hole 43 separated by a vane plate angle θ1 in the circumferential direction of the rotary tube portion 41, and is connected (fixed) to the vane disc 42. Each blade plate 44 is arranged with the blade back surface 44B facing the disk surface 42A (inside each communication hole 43) of the blade disk 42.

各羽根板44は、図11に示すように、羽根円板42の円板表面42A(回転筒部41の筒中心線aと直交する水平方向)に傾斜角度θB(鋭角度)をなして、各流通穴43の一方の穴幅側面43cから他方の回転筒端41B及び他方の穴幅側面43dに延在して、各流通穴43内に突出される。各羽根板44は、各流通穴43の一方の穴幅側面43cから羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bから離間しつつ羽根円板42の円板表面42Aに傾斜角度θBで傾斜して、各流通穴43内に突出される。
羽根板表面44A、及び羽根板裏面44Bは、円板表面42Aに傾斜角度θBをなして、一方の穴幅側面43cから他方の回転筒端41B及び他方の穴幅側面43dに延在して、各流通穴43内に突出される。傾斜角度θBは、30度(30°)以上、60度(60°)以下であって、例えば、45度(45°)である。
As shown in FIG. 11, each vane plate 44 forms an inclination angle θB (acute angle) with respect to the disc surface 42A of the vane disc 42 (horizontal direction perpendicular to the cylinder center line a of the rotating cylinder part 41). It extends from one hole width side surface 43c of each communication hole 43 to the other rotary tube end 41B and the other hole width side surface 43d, and projects into each communication hole 43. Each blade plate 44 is spaced apart from the disk surface 42A and the disk back surface 42B of the blade disk 42 from one hole-width side surface 43c of each circulation hole 43, and is attached to the disk surface 42A of the blade disk 42 at an inclination angle θB. It projects into each communication hole 43 at an angle.
The vane plate surface 44A and the vane plate back surface 44B form an inclination angle θB to the disc surface 42A, and extend from one hole width side surface 43c to the other rotary tube end 41B and the other hole width side surface 43d, It protrudes into each communication hole 43. The inclination angle θB is greater than or equal to 30 degrees (30°) and less than or equal to 60 degrees (60°), and is, for example, 45 degrees (45°).

各羽根板44は、図10に示すように、回転筒部41(羽根円板42)の径方向において、各流通穴43の外側穴面43a及び内側穴面43bに板幅隙間δを隔てて各流通穴43内に突出される。
各羽根板44は、図10に示すように、回転筒部41(羽根円板42)の周方向において、各流通穴43の他方の穴幅側面43dに板長隙間εを隔てて各流通穴43内に突出される。
各羽根板44は、回転筒部41の径方向に板幅、及び回転筒部41の周方向に板長さを有して、各流通穴43の一方の穴幅側面43cから各流通穴43内に突出される。
As shown in FIG. 10, each blade plate 44 is provided with a plate width gap δ between an outer hole surface 43a and an inner hole surface 43b of each communication hole 43 in the radial direction of the rotary tube portion 41 (blade disc 42). It protrudes into each communication hole 43.
As shown in FIG. 10, each blade plate 44 is provided with a hole width side surface 43d of the other side of each circulation hole 43 with a plate length gap ε in between in the circumferential direction of the rotary tube portion 41 (blade disc 42). 43.
Each blade plate 44 has a plate width in the radial direction of the rotary cylinder part 41 and a plate length in the circumferential direction of the rotary cylinder part 41, and extends from one hole width side surface 43c of each communication hole 43 to each communication hole 43. protruded inward.

羽根車5は、図1乃至図3、図6及び図7に示すように、円筒本体11に同心として貯留空間C(円筒本体11内)に配置されて、貯留空間Cの液体Wに浸漬される。
羽根車5は、回転筒部41の他方の回転筒端41B及び羽根円板42の円板表面42A(各羽根板44)をピストン4に向け、回転筒部41の一方の回転筒端41A及び羽根円板42の円板裏面42Bを抵抗体3に向けて、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。
羽根車5は、羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bをピストン軸2の軸中心線a(円筒本体11の筒中心線a)と直交して、貯留空間Cに配置される。羽根車5は、羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bを抵抗体3の抵抗板表面3A及びピストン4のピストン裏面4Bに平行として、貯留空間Cに配置される。
As shown in FIGS. 1 to 3, 6, and 7, the impeller 5 is disposed concentrically with the cylindrical body 11 in the storage space C (inside the cylindrical body 11), and is immersed in the liquid W in the storage space C. Ru.
The impeller 5 has the other rotating tube end 41B of the rotating tube section 41 and the disk surface 42A of the blade disk 42 (each blade plate 44) facing the piston 4, and the one rotating tube end 41A of the rotating tube section 41 and the disk surface 42A of the blade disk 42 (each blade plate 44) facing the piston 4. The vane disk 42 is placed between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (within the cylindrical body 11), with the disk back surface 42B of the blade disk 42 facing the resistor 3.
The impeller 5 is arranged in the storage space C with the disk surface 42A and the disk back surface 42B of the blade disk 42 perpendicular to the axial center line a of the piston shaft 2 (the cylinder center line a of the cylindrical body 11). . The impeller 5 is arranged in the storage space C with the disk surface 42A and disk back surface 42B of the blade disk 42 parallel to the resistance plate surface 3A of the resistor 3 and the piston back surface 4B of the piston 4.

羽根車5は、図7に示すように、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔てると共に、ピストン4に第3軸線間隔K3を隔てて貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。
第2軸線間隔K2は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3の抵抗板表面3A及び羽根円板42の円板裏面42Bの間の間隔である。第3軸線間隔K3は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、ピストン4のピストン裏面4B及び羽根円板42の円板表面42Aの間の間隔である。
As shown in FIG. 7, the impeller 5 is spaced apart from the resistor 3 by a second axial spacing K2 and is spaced from the piston 4 by a third axial spacing K3 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is arranged between the resistor 3 and the piston 4 in the space C (inside the cylindrical body 11).
The second axial distance K2 is the distance between the resistance plate surface 3A of the resistor 3 and the disk back surface 42B of the vane disk 42 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. The third axial distance K3 is the distance between the piston back surface 4B of the piston 4 and the disc surface 42A of the vane disc 42 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2.

羽根車5は、図7に示すように、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、回転筒部41の一方の回転筒端41A及び抵抗体3の抵抗板表面3Aの間に間隔(第1筒間隔)を隔てると共に、回転筒部41の他方の回転筒端41B及びピストン4のピストン裏面4Bの間に間隔(第2筒間隔)を隔てて、抵抗体3及びピストン4の間の貯留空間Cに配置される。 As shown in FIG. 7, the impeller 5 has an interval ( The resistor 3 and the piston 4 are separated by a distance (first cylinder distance) and a distance (second cylinder distance) between the other rotary cylinder end 41B of the rotary cylinder portion 41 and the piston back surface 4B of the piston 4. It is arranged in storage space C.

羽根車5は、図6及び図7に示すように、円筒本体11の内周11aに周隙間S5(羽根車周隙間)を隔ててピストン軸2(大径軸部21)に回転自在に配置される。
羽根車5は、羽根円板42(円筒本体11)の径方向において、円筒本体11の内周11a及び羽根円板42の外周42a(外周面)の間に周隙間S5を隔てて、大径軸部21に回転自在に配置される。
As shown in FIGS. 6 and 7, the impeller 5 is rotatably disposed on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) with a circumferential gap S5 (impeller circumferential gap) on the inner circumference 11a of the cylindrical body 11. be done.
The impeller 5 has a large diameter with a circumferential gap S5 between the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 and the outer periphery 42a (outer circumferential surface) of the vane disc 42 in the radial direction of the blade disc 42 (cylindrical body 11). It is rotatably arranged on the shaft portion 21 .

羽根車5は、図6及び図7に示すように、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間において、回転筒部41を大径軸部21(ピストン軸2)に回転自在に外嵌して、第1抜止め溝24及び第2抜止め溝25の間の大径軸部21に配置される。羽根車5は、回転筒部41内にピストン軸2(大径軸部21)を貫通(挿通)して、大径軸部21に回転自在に外嵌される。回転筒部41は、一方の回転筒端41Aを第1抜止め溝24(抵抗体3)に向け、他方の回転筒端41Bを第2抜止め溝25(ピストン4)に向けて、第1及び第2抜止め溝24,25の間の大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌される。 As shown in FIGS. 6 and 7, the impeller 5 connects the rotating cylindrical portion 41 to the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (inside the cylindrical body 11). It is rotatably fitted onto the outside and disposed on the large diameter shaft portion 21 between the first retaining groove 24 and the second retaining groove 25 . The impeller 5 penetrates (inserts) the piston shaft 2 (large-diameter shaft section 21) into the rotating cylinder section 41, and is rotatably fitted onto the large-diameter shaft section 21. The rotating cylinder part 41 has one rotating cylinder end 41A facing the first retaining groove 24 (resistance element 3) and the other rotating cylinder end 41B facing the second retaining groove 25 (piston 4). The large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) is externally fitted between the second retaining grooves 24 and 25.

羽根車5は、図6及び図7に示すように、ワッシャー45(平座金)及び複数(一対)のスナップリング46,47によって大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされる。 As shown in FIGS. 6 and 7, the impeller 5 is positioned on the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) by a washer 45 (flat washer) and a plurality (pair) of snap rings 46, 47.

ワッシャー45は、図7に示すように、大径軸部21に外嵌されて、第1抜止め溝24及び回転筒部41の一方の回転筒端41Aの間に配置される。ワッシャー45は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aから一方の回転筒端41Aに当接される。 As shown in FIG. 7, the washer 45 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 and disposed between the first retaining groove 24 and one rotary tube end 41A of the rotary tube portion 41. As shown in FIG. The washer 45 is brought into contact with one rotary cylinder end 41A from the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2.

各スナップリング46,47は、図7に示すように、大径軸部21に外嵌されて、第1抜止め溝24、第2抜止め溝25に挿入される。各スナップリング46,47は、ピストン軸2の径方向において、大径軸部21の外周21a(外周面)から突出して配置される。スナップリング46は、第1抜止め溝24に挿入されて、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aからワッシャー45に当接される。スナップリング47は、第2抜止め溝25に挿入されて、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aから回転筒部41の他方の回転筒端41Bに当接される。 As shown in FIG. 7, each snap ring 46, 47 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 and inserted into the first retaining groove 24 and the second retaining groove 25. Each snap ring 46, 47 is arranged to protrude from the outer periphery 21a (outer circumferential surface) of the large diameter shaft portion 21 in the radial direction of the piston shaft 2. The snap ring 46 is inserted into the first retaining groove 24 and comes into contact with the washer 45 from the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2 . The snap ring 47 is inserted into the second retaining groove 25 and comes into contact with the other rotating cylinder end 41B of the rotating cylinder part 41 from the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2.

羽根車5は、図7に示すように、回転筒部41の一方の回転筒端41Aをワッシャー45(平座金)に回転自在に当接し、回転筒部41の他方の回転筒端41Bをスナップリング47に回転自在に当接して、各スナップリング46,47の間(第1及び第2抜止め溝24,25の間)の大径軸部21に配置(外嵌)される。
羽根車5は、回転筒部41を回転自在として各スナップリング46,47によって挟持することで、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔てると共に、ピストン4に第3軸線間隔K3を隔てる大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされて、ピストン軸2(大径軸部21)に回転自在として配置(外嵌)される。
これにより、羽根車5は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3及び羽根車5の間に第2軸線間隔K2を隔てる噴射空間Dと、ピストン4及び羽根車5の間に第3軸線間隔K3を隔てる渦流空間Eを区画する。
As shown in FIG. 7, the impeller 5 rotatably contacts one rotary tube end 41A of the rotary tube portion 41 with a washer 45 (flat washer), and snaps the other rotary tube end 41B of the rotary tube portion 41. It is rotatably abutted on the ring 47 and is disposed (fitted externally) on the large diameter shaft portion 21 between the respective snap rings 46 and 47 (between the first and second retaining grooves 24 and 25).
The impeller 5 has a rotary cylinder part 41 that is rotatable and is held between snap rings 46 and 47, so that the impeller 5 has a large diameter that separates the resistor 3 by a second axial distance K2 and the piston 4 by a third axial distance K3. It is positioned on the shaft portion 21 (piston shaft 2) and rotatably disposed (fitted externally) on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21).
Thereby, the impeller 5 is connected to the injection space D which separates the second axial distance K2 between the resistor 3 and the impeller 5 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and A vortex space E is defined with a third axial spacing K3 therebetween.

各流通穴43は、図6に示すように、羽根車5を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根円板42(羽根車5)を貫通して、抵抗体3及び羽根車5の間(噴射空間D)に開口されると共に、羽根車5及びピストン4の間(渦流空間E)に開口される。
各流通穴43は、羽根車5を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、各液体噴射穴32に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIG. 6, when the impeller 5 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each of the flow holes 43 is formed in the blade disk 42 ( It penetrates the impeller 5) and is opened between the resistor 3 and the impeller 5 (injection space D) and between the impeller 5 and the piston 4 (vortex space E).
When the impeller 5 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each circulation hole 43 faces (opposes) each liquid injection hole 32 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. Placed.

各羽根板44は、図6及び図7に示すように、羽根車5を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、羽根円板42の円板表面42Aに傾斜角度θBをなして、ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)に突出される。
各羽根板44は、羽根車5を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、各液体噴射穴32に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIGS. 6 and 7, each vane plate 44 forms an inclination angle θB on the disc surface 42A of the vane disc 42 when the impeller 5 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2). It is projected between the piston 4 and the impeller 5 (vortex space E).
When the impeller 5 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each vane plate 44 faces (opposes) each liquid injection hole 32 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. Placed.

各液体噴射穴32は、図7に示すように、羽根車5を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3を貫通して、他方の筒端11B及び抵抗体3の間に開口されると共に、抵抗体3及び羽根車5の間(抵抗体3及び羽根車5の間の貯留空間Cの間)に開口される。
各液体噴射穴32は、羽根車5を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根円板42(羽根車5)の流通穴43(羽根板44)に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIG. 7, when the impeller 5 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 has a resistor 3 in the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. It penetrates and is opened between the other cylindrical end 11B and the resistor 3, as well as between the resistor 3 and the impeller 5 (between the storage space C between the resistor 3 and the impeller 5). Ru.
When the impeller 5 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 allows the flow of the impeller disk 42 (impeller 5) in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is arranged to face the hole 43 (the blade plate 44).

ハンドル6は、図1乃至図3に示すように、シリンダー1(円筒本体11)から突出される大径軸部21の他方の大径軸端21B側(ピストン軸2の他方の軸端側)に固定される。 As shown in FIGS. 1 to 3, the handle 6 is located at the other large-diameter shaft end 21B side of the large-diameter shaft portion 21 protruding from the cylinder 1 (cylindrical body 11) (the other shaft end side of the piston shaft 2). Fixed.

バブル液発生器X1は、図1乃至図3、及び図13に示すように、ガイド蓋13を円筒本体11に対し回転して円筒本体11から取外すことで、円筒本体11(貯留空間C)の一方の筒端11Aを開口(解放)する。
バブル液発生器X1は、円筒本体11の他方の筒端11Bを重力方向(上下方向の下方)に向けて配置され、ガイド蓋13を取外した円筒本体11の一方の筒端11Aから液体Wが円筒本体11内に注入(流入)される。
これにより、バブル液発生器X1は、貯留空間C(円筒本体11内)に液体Wが貯留される。液体Wは、貯留空間Cにおいて、円筒本体11の一方の筒端11A側まで貯留(注入)される。液体Wは、例えば、水(水道水)である。
バブル液発生器X1において、円筒本体11内(貯留空間C)に液体Wを貯留(注入)すると、雄ネジ部18(ガイド軸部16)を雌ネジ部14(円筒本体11)に螺着して、ガイド蓋13を円筒本体11に対し回転する。
ガイド蓋13は、図3及び図13に示すように、円筒本体11に対する回転によって、ガイド板15の板裏面15Bを円筒本体11の一方の筒端11Aに当接して、円筒本体11の一方の筒端11Aを閉塞する。
As shown in FIGS. 1 to 3 and 13, in the bubble liquid generator X1, the guide lid 13 is rotated relative to the cylindrical body 11 and removed from the cylindrical body 11, so that the cylindrical body 11 (storage space C) is removed. One cylindrical end 11A is opened (released).
The bubble liquid generator X1 is arranged with the other end 11B of the cylindrical body 11 facing the gravity direction (downward in the vertical direction), and the liquid W is generated from the one end 11A of the cylindrical body 11 with the guide lid 13 removed. It is injected (flowed) into the cylindrical body 11.
Thereby, in the bubble liquid generator X1, the liquid W is stored in the storage space C (inside the cylindrical body 11). The liquid W is stored (injected) in the storage space C up to one cylindrical end 11A side of the cylindrical body 11. The liquid W is, for example, water (tap water).
In the bubble liquid generator X1, when the liquid W is stored (injected) into the cylindrical body 11 (storage space C), the male threaded part 18 (guide shaft part 16) is screwed into the female threaded part 14 (cylindrical main body 11). Then, the guide lid 13 is rotated relative to the cylindrical body 11.
As shown in FIGS. 3 and 13, when the guide lid 13 rotates relative to the cylindrical body 11, the back surface 15B of the guide plate 15 comes into contact with one cylindrical end 11A of the cylindrical body 11. The tube end 11A is closed.

貯留空間C(円筒本体11内)に液体Wを貯留すると、ハンドル6を、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aであって、ガイド蓋13(シリンダー1)から離間する方向(図3及び図13の矢印Mの方向)に引上げて、抵抗体3、ピストン4及び羽根車5を第1位置PXに配置する(図13及び図14参照)。
ピストン軸2は、ハンドル6の引上げ(引っ張り)によって、ガイド蓋13のガイド穴17を摺動して、円筒本体11の筒中心線aの方向Aに移動され、大径軸部21をガイド蓋13(シリンダー1)から突出させる。
抵抗体3、ピストン4及び羽根車5は、ピストン軸2と共に、円筒本体11の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けて移動され、例えば、ピストン4のピストン表面4A(スナップリング38)をガイド軸部16(ガイド蓋13)の他方のガイド軸端16Bに当接する第1位置PXに配置される(図14参照)。
When the liquid W is stored in the storage space C (inside the cylindrical body 11), the handle 6 is moved in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2 and in the direction away from the guide lid 13 (cylinder 1) (see FIGS. direction of arrow M in FIG. 13), and the resistor 3, piston 4, and impeller 5 are placed in the first position PX (see FIGS. 13 and 14).
By pulling up (pulling) the handle 6, the piston shaft 2 slides through the guide hole 17 of the guide lid 13 and is moved in the direction A of the cylinder center line a of the cylindrical body 11, and the large diameter shaft portion 21 is moved into the guide lid. 13 (cylinder 1).
The resistor 3, piston 4, and impeller 5 are moved together with the piston shaft 2 toward one cylindrical end 11A (guide lid 13) of the cylindrical body 11, and for example, the piston surface 4A of the piston 4 (snap ring 38) is arranged at a first position PX where it abuts the other guide shaft end 16B of the guide shaft portion 16 (guide lid 13) (see FIG. 14).

抵抗体3、ピストン4及び羽根車5の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、ピストン4及び一方の筒端11A(ガイド蓋13)の間の液体Wは、図12に示すように、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aを通って、ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)の液体Wに流出される。 As the resistor 3, piston 4, and impeller 5 move toward one cylindrical end 11A (guide lid 13), the liquid W between the piston 4 and one cylindrical end 11A (guide lid 13) moves as shown in the figure. As shown in 12, the liquid passes through the outer circumference 4a of the piston 4 and the inner circumference 11a of the cylindrical body 11, and flows out into the liquid W between the piston 4 and the impeller 5 (vortex space E).

ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)の液体Wは、図12に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車5の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、羽根車5を回転すると共に、羽根円板42(羽根車5)の各流通穴43を通って、抵抗体3及び羽根車5の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。ピストン4及び羽根車5の間の液体Wは、羽根円板42の外周42a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S5)を通って、抵抗体3及び羽根車5の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。 As shown in FIG. 12, the liquid W between the piston 4 and the impeller 5 (vortex space E) moves toward one cylindrical end 11A (guide lid 13) of the resistor 3, the piston 4, and the impeller 5. As the impeller 5 rotates, the liquid flows out into the liquid W between the resistor 3 and the impeller 5 (injection space D) through each circulation hole 43 of the impeller disk 42 (impeller 5). Ru. The liquid W between the piston 4 and the impeller 5 passes between the outer periphery 42a of the impeller disk 42 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 (circumferential gap S5), and passes between the resistor 3 and the impeller 5 (injection It flows out into the liquid W in the space D).

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の一方の筒端11Aに向けた移動に伴って、負圧状態(負圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、図12に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車5の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、抵抗体3及び羽根車5の間(噴射空間D)の液体Wを、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体Wに噴射する。
抵抗体3及び羽根車5の間(噴射空間D)の液体Wは、抵抗体3の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに噴射される。
他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wは、各液体噴射穴32から噴射される噴射空間Dの液体Wによって乱流となる。他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wには、乱流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
他方の筒端11B及び抵抗体3の液体W中の空気(気泡)は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに混入及び溶込む。
In the storage space C, a negative pressure state (negative pressure) is created between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the one cylindrical end 11A.
As a result, as shown in FIG. 12, each liquid injection hole 32 (resistor 3) is moved toward one cylinder end 11A (guide lid 13) of the resistor 3, piston 4, and impeller 5. , the liquid W between the resistor 3 and the impeller 5 (injection space D) is injected into the liquid W between the other cylinder end 11B (cylinder lid 12) and the resistor 3.
The liquid W between the resistor 3 and the impeller 5 (injection space D) flows into each liquid injection hole 32 as the resistor 3 moves toward one cylinder end 11A (guide lid 13). , is injected from each liquid injection hole 32 into the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3.
The liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 becomes a turbulent flow due to the liquid W in the injection space D injected from each liquid injection hole 32. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 due to the turbulent pressure difference.
The air (bubbles) in the liquid W at the other tube end 11B and the resistor 3 are pulverized (sheared) into microbubbles and ultrafine bubbles by turbulence and cavitation. The microbubbles and ultrafine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the other tube end 11B and the resistor 3.

抵抗体3、ピストン4及び羽根車5を第1位置PXに位置(配置)すると、ハンドル6をガイド蓋13(円筒本体11の一方の筒端11A)に向けて押して、ピストン軸2(大径軸部21)を円筒本体11内(貯留空間C)に移動する(図3及び図15のN方向に移動する)。
抵抗体3、ピストン4及び羽根車5は、ピストン軸2と共に、第1位置PXから円筒本体11内(貯留空間C)を円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)に向けて移動される。
When the resistor 3, piston 4, and impeller 5 are positioned (arranged) at the first position PX, the handle 6 is pushed toward the guide lid 13 (one end 11A of the cylindrical body 11), and the piston shaft 2 (large diameter The shaft portion 21) is moved into the cylindrical body 11 (storage space C) (moved in the N direction in FIGS. 3 and 15).
The resistor 3, the piston 4, and the impeller 5 move together with the piston shaft 2 from the first position PX within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11. be done.

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、高圧状態(高圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、図15及び図16に示すように、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車5の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体W(他方の筒端11B及び抵抗体3の間の貯留空間Cの液体W)を、抵抗体3及び羽根車5の間(噴射空間D)に噴射する。
各液体噴射穴32は、液体Wを抵抗体3(抵抗板表面3A)及び羽根車5(羽根円板42の円板裏面42B)の間(噴射空間D)に噴射することで、抵抗体3及び羽根車5の間の液体Wに羽根車5に向かう液体Wの流れを発生する。
他方の筒端11A及び抵抗体3の間の液体Wは、図15及び図16に示すように、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から抵抗体3及び羽根車5の間(噴射空間D)に噴射される。
抵抗体3及び羽根車5の間(噴射空間D)の液体Wは、各液体噴射穴32から噴射される液体Wによって、ピストン軸2の軸中心線aの方向において、抵抗体3から羽根車5に向けて流れる。
In the storage space C, a high pressure state (high pressure) is established between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the other cylindrical end 11B.
As a result, each liquid injection hole 32 (resistor 3) is moved toward the other cylindrical end 11B of the piston shaft 2, resistor 3, piston 4, and impeller 5, as shown in FIGS. 15 and 16. Accordingly, the liquid W between the other cylinder end 11B (cylinder lid 12) and the resistor 3 (the liquid W in the storage space C between the other cylinder end 11B and the resistor 3) is transferred to the resistor 3 and the impeller. 5 (injection space D).
Each liquid injection hole 32 injects the liquid W between the resistor 3 (resistance plate surface 3A) and the impeller 5 (disc back surface 42B of the vane disc 42) (injection space D). and generates a flow of liquid W toward the impeller 5 in the liquid W between the impellers 5.
As shown in FIGS. 15 and 16, the liquid W between the other cylindrical end 11A and the resistor 3 flows into each liquid injection hole 32 as the resistor 3 moves toward the other cylindrical end 11B. The liquid is then injected from each liquid injection hole 32 between the resistor 3 and the impeller 5 (injection space D).
The liquid W between the resistor 3 and the impeller 5 (injection space D) is moved from the resistor 3 to the impeller in the direction of the axis center line a of the piston shaft 2 by the liquid W injected from each liquid injection hole 32. It flows towards 5.

抵抗体3及び羽根車5の間の貯留空間C(円筒本体11内)において、抵抗体3から羽根車5に向けて流れる液体Wは、羽根円板42の各流通穴43に流入し、各羽根板44の羽根板裏面44Bに衝突(作用)する。
羽根車5は、液体Wの各羽根板44(羽根板裏面44B)への衝突(作用)によって、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aに流れる液体Wの運動エネルギーを、各羽根板44(傾斜角度θBで傾斜する各羽根板44)によって回転運動(回転運動のエネルギー)に変換する。
羽根車5(回転筒部41及び羽根円板42)は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸2(大径軸部21)を回転中心として時計方向(図16及び図17のQ方向)に回転される。
これにより、羽根車5は、羽根車5に向かう液体Wの流れによって、ピストン軸2(大径軸部21)の軸中心線aを回転中心として、Q方向(時計方向)に回転される。
回転筒部41、及び羽根円板42は、ピストン軸2の軸中心線aを回転中心aとして、Q方向(時計方向)に回転される。
In the storage space C (inside the cylindrical body 11) between the resistor 3 and the impeller 5, the liquid W flowing from the resistor 3 toward the impeller 5 flows into each circulation hole 43 of the vane disc 42, and each It collides with (acts on) the back surface 44B of the blade plate 44.
The impeller 5 transfers the kinetic energy of the liquid W flowing in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2 to each blade plate 44 by the collision (action) of the liquid W with each blade plate 44 (the back surface 44B of the blade plate). (Each blade plate 44 tilted at an inclination angle θB) converts it into rotational motion (energy of rotational motion).
The impeller 5 (rotating cylinder part 41 and vane disk 42) rotates clockwise (Q direction in FIGS. 16 and 17) about the piston shaft 2 (large diameter shaft part 21) as a rotation center due to the energy of rotational motion. be done.
Thereby, the impeller 5 is rotated in the Q direction (clockwise) about the axis center line a of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) by the flow of the liquid W toward the impeller 5.
The rotating cylinder portion 41 and the vane disk 42 are rotated in the Q direction (clockwise) with the axial center line a of the piston shaft 2 as the rotation center a.

羽根車5において、各流通穴43に流入した液体Wは、図16及び図17に示すように、羽根車5(円板表面42A)及びピストン4(ピストン裏面4B)の間(渦流空間E)に流出する。 In the impeller 5, the liquid W flowing into each circulation hole 43 flows between the impeller 5 (disk surface 42A) and the piston 4 (piston back surface 4B) (vortex space E), as shown in FIGS. 16 and 17. leaks to.

羽根車5は、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4)と共に、他方の筒端11Bに向けて円筒本体11内(貯留空間C)を移動しつつ、各液体噴射穴32から連続して噴射空間Dに噴射される液体W(羽根車5に向かう液体Wの流れ)によって、Q方向に回転される。 The impeller 5 continuously injects liquid from each liquid injection hole 32 while moving within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylinder end 11B together with the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4). It is rotated in the Q direction by the liquid W injected into the space D (the flow of the liquid W toward the impeller 5).

羽根車5は、Q方向の回転によって、ピストン4(ピストン裏面4B)及び羽根車5(円板表面42A)の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生する。
ピストン4及び羽根車5の間の貯留空間C(渦流空間E)の液体Wは、羽根車5の回転によって、ピストン軸2の軸中心線aを中心として、Q方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Eにおいて、ピストン軸2(大径軸部21)周りに旋回される。
ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)の液体W(液体Wの一部)は、図15に示すように、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4及び羽根車5)の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S4)から一方の筒端11A側に流出される。
The impeller 5 generates a vortex in the liquid W between the piston 4 (piston back surface 4B) and the impeller 5 (disc surface 42A) (in the vortex space E) by rotation in the Q direction.
The liquid W in the storage space C (vortex space E) between the piston 4 and the impeller 5 becomes a vortex that swirls in the Q direction about the axial center line a of the piston shaft 2 due to the rotation of the impeller 5. The vortex is swirled around the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) in the vortex space E.
As shown in FIG. 15, the liquid W (part of the liquid W) between the piston 4 and the impeller 5 (vortex space E) is transferred to the other side of the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4, and impeller 5). As it moves toward the cylinder end 11B, it flows out from between the outer periphery 4a of the piston 4 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 (circumferential gap S4) to the one cylinder end 11A side.

ピストン4及び羽根車5の間の液体Wは、渦流空間Eにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)の液体Wには、渦流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)の液体W中の空気(気泡)は、渦流(乱流)及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)の液体Wに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器X1は、羽根車5を回転して、ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生することで、渦流空間Eの液体W中の空気(気体)を微細な気泡に粉砕(剪断)でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることができる。
The liquid W between the piston 4 and the impeller 5 becomes turbulent in the vortex space E due to the vortex. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the piston 4 and the impeller 5 (vortex space E) due to the pressure difference of the vortex.
Air (bubbles) in the liquid W between the piston 4 and the impeller 5 (vortex space E) is crushed (sheared) into microbubbles and ultrafan bubbles by the vortex (turbulent flow) and cavitation. The microbubbles and ultrafine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the piston 4 and the impeller 5 (vortex space E).
In this way, the bubble liquid generator X1 rotates the impeller 5 to generate a vortex in the liquid W between the piston 4 and the impeller 5 (the vortex space E). of air (gas) can be pulverized (sheared) into fine bubbles, and a large amount of microbubbles and a large amount of ultrafine bubbles can be mixed and dissolved into the liquid W.

バブル液発生器X1では、ハンドル6をガイド蓋13から引上げ、及びガイド蓋13に向けて押すことで、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車5を、円筒本体11の各筒端11A,11Bの間(シリンダー蓋12及びガイド蓋13の間)で往復移動する。
バブル液発生器X1は、抵抗体3、ピストン4及び羽根車5を複数回、往復移動することで、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに複数回、乱流を発生でき、ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)の液体Wに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量(多量)のマイクロバブル及び十分な量(多量)のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることが可能となる。
In the bubble liquid generator X1, by pulling up the handle 6 from the guide lid 13 and pushing it toward the guide lid 13, the piston shaft 2, the resistor 3, the piston 4, and the impeller 5 are moved to each end of the cylindrical body 11. It reciprocates between 11A and 11B (between cylinder lid 12 and guide lid 13).
The bubble liquid generator X1 can generate turbulence in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 multiple times by reciprocating the resistor 3, piston 4, and impeller 5 multiple times. , a vortex can be generated multiple times in the liquid W between the piston 4 and the impeller 5 (vortex space E), and a sufficient amount (a large amount) of microbubbles and a sufficient amount (a large amount) of ultrafine are generated by the multiple vortices. It becomes possible to mix and dissolve bubbles into the liquid W.

第2実施形態のバブル液発生器について、図18乃至図31を参照して説明する。
なお、図18乃至図31において、図1乃至図17と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。
The bubble liquid generator of the second embodiment will be described with reference to FIGS. 18 to 31.
Note that in FIGS. 18 to 31, the same reference numerals as in FIGS. 1 to 17 indicate the same members and the same configurations, so detailed explanation thereof will be omitted.

図18乃至図31において、第2実施形態のバブル液発生器X2(以下、「バブル液発生器X2」という)は、シリンダー1、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4、羽根車55(インペラ)及びハンドル6を備える。 18 to 31, the bubble liquid generator X2 of the second embodiment (hereinafter referred to as "bubble liquid generator ) and a handle 6.

羽根車55は、図22乃至図25に示すように、回転筒部41、及び羽根円板42を有する。 The impeller 55 has a rotating cylinder portion 41 and a blade disk 42, as shown in FIGS. 22 to 25.

バブル液発生器X2において、羽根円板42は、図22乃至図25に示すように、複数の流通穴43、複数の流出穴56、及び複数の羽根板44を有する。 In the bubble liquid generator X2, the blade disk 42 has a plurality of communication holes 43, a plurality of outflow holes 56, and a plurality of blade plates 44, as shown in FIGS. 22 to 25.

バブル液発生器X2において、流通穴43は、図21乃至図24に示すように、例えば、羽根円板42に3つ形成される。各流通穴43は、円C2上(同一円C2上)に配置される。各流通穴43は、回転筒部41(羽根円板42)の周方向において、各流通穴43の間に流通穴角度θ2(第2流通穴角度)を隔てて配置される。流通穴角度θ2は、例えば、120度(120°)である。 In the bubble liquid generator X2, for example, three circulation holes 43 are formed in the vane disk 42, as shown in FIGS. 21 to 24. Each communication hole 43 is arranged on a circle C2 (on the same circle C2). Each communication hole 43 is arranged with a communication hole angle θ2 (second communication hole angle) between each communication hole 43 in the circumferential direction of the rotary tube portion 41 (blade disk 42). The communication hole angle θ2 is, for example, 120 degrees (120°).

各流出穴56は、図22乃至図24に示すように、円形状(円形穴)に形成される。流出穴56は、例えば、羽根円板42に3つ形成される。 Each outflow hole 56 is formed in a circular shape (circular hole), as shown in FIGS. 22 to 24. For example, three outflow holes 56 are formed in the vane disk 42.

各流出穴56は、図22乃至図24に示すように、回転筒部41(羽根円板42)の径方向において、回転筒部41の外周41a及び羽根円板42の外周42a(外周面)の間に配置される。各流出穴56は、円C2上(同一円C2上)に配置される。各流出穴56は、流出穴中心線g(流出穴中心)を円C2上に位置(一致)して配置される。 As shown in FIGS. 22 to 24, each outflow hole 56 is formed at the outer periphery 41a of the rotary cylinder part 41 and the outer periphery 42a (outer peripheral surface) of the blade disk 42 in the radial direction of the rotary cylinder part 41 (blade disk 42). placed between. Each outflow hole 56 is arranged on the circle C2 (on the same circle C2). Each outflow hole 56 is arranged with the outflow hole center line g (outflow hole center) located on (coinciding with) the circle C2.

各流出穴56は、図23に示すように、回転筒部41(羽根円板42)の周方向において、各流出穴56の間に流出穴角度θ3を隔てて配置される。流出穴角度θ3は、例えば、120度(120°)である。各流出穴56は、回転筒部41の周方向において、各流通穴43に穴間角度θ4(第1穴間角度)を隔てて、各流通穴43の間に配置される。穴間角度θ4は、例えば、60度(60°)である。 As shown in FIG. 23, the outflow holes 56 are arranged at an outflow hole angle θ3 between the outflow holes 56 in the circumferential direction of the rotary tube portion 41 (blade disk 42). The outflow hole angle θ3 is, for example, 120 degrees (120°). Each outflow hole 56 is arranged between each communication hole 43 in the circumferential direction of the rotary cylinder portion 41 with an inter-hole angle θ4 (first inter-hole angle) interposed therebetween. The inter-hole angle θ4 is, for example, 60 degrees (60°).

各流出穴56は、図22乃至図24に示すように、回転筒部41の筒中心線aの方向Aにおいて、羽根円板42を貫通して、羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bに開口される。 As shown in FIGS. 22 to 24, each outflow hole 56 penetrates the vane disc 42 in the direction A of the cylinder center line a of the rotary cylinder part 41, and extends through the disc surface 42A of the vane disc 42 and the circular It is opened on the back surface 42B of the plate.

バブル液発生器X2において、各羽根板44は、図22乃至図25に示すように、流通穴43と同数であって、例えば、羽根円板42に3つ形成され、円C2上に配置される。 In the bubble liquid generator X2, each vane plate 44 has the same number of circulation holes 43 as shown in FIGS. Ru.

バブル液発生器X2において、各羽根板44は、図24に示すように、回転筒部41の周方向において、各羽根板44の間に流通穴角度θ2と同一の羽根板角度θ2(第2羽根板角度)を隔てて各流通穴43内に配置される。 In the bubble liquid generator X2, as shown in FIG. 24, each blade plate 44 has a blade angle θ2 (second They are arranged in each of the communication holes 43 with a slat angle) between them.

バブル液発生器X2において、各羽板44は、図8乃至図11で説明したと同様に、羽根円板42の円板表面42A(回転筒部41の筒中心線aと直交する水平方向)に傾斜角度θB(鋭角度)をなして、各流通穴43の一方の穴幅側面43cから他方の回転筒端41B及び他方の穴幅側面43dに延在して、各流通穴43内に突出される(図25参照)。
羽根板表面44A、及び羽根板裏面44Bは、円板表面42Aに傾斜角度θBをなして、一方の穴幅側面43cから他方の回転筒端41B及び他方の穴幅側面43dに延在して、各流通穴43内に突出される。
In the bubble liquid generator X2, each blade 44 has a disk surface 42A of the blade disk 42 (horizontal direction perpendicular to the cylinder center line a of the rotary cylinder part 41), as described in FIGS. 8 to 11. It forms an inclination angle θB (acute angle), extends from one hole width side surface 43c of each circulation hole 43 to the other rotating cylinder end 41B and the other hole width side surface 43d, and projects into each circulation hole 43. (See Figure 25).
The vane plate surface 44A and the vane plate back surface 44B form an inclination angle θB to the disc surface 42A, and extend from one hole width side surface 43c to the other rotary tube end 41B and the other hole width side surface 43d, It protrudes into each communication hole 43.

羽根車55は、図18乃至図21に示すように、円筒本体11に同心として貯留空間C(円筒本体11内)に配置されて、貯留空間Cの液体Wに浸漬される。
羽根車55は、回転筒部41の他方の回転筒端41B及び羽根円板42の円板表面42A(各羽根板44)をピストン4に向け、回転筒部41の一方の回転筒端41A及び羽根円板42の円板裏面42Bを抵抗体3に向けて、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。
羽根車55は、羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bをピストン軸2の軸中心線a(円筒本体11の筒中心線a)と直交して、貯留空間Cに配置される。羽根車55は、羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bを抵抗体3の抵抗板表面3A及びピストン4のピストン裏面4Bに平行として、貯留空間Cに配置される。
As shown in FIGS. 18 to 21, the impeller 55 is disposed concentrically with the cylindrical body 11 in the storage space C (inside the cylindrical body 11), and is immersed in the liquid W in the storage space C.
The impeller 55 has the other rotating tube end 41B of the rotating tube section 41 and the disk surface 42A of the blade disk 42 (each blade plate 44) facing the piston 4, and the one rotating tube end 41A of the rotating tube section 41 and the disk surface 42A of the blade disk 42 (each blade plate 44) facing the piston 4. The vane disk 42 is placed between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (within the cylindrical body 11) with the disk back surface 42B facing the resistor 3.
The impeller 55 is arranged in the storage space C with the disk surface 42A and the disk back surface 42B of the blade disk 42 perpendicular to the axial center line a of the piston shaft 2 (the cylinder center line a of the cylindrical body 11). . The impeller 55 is arranged in the storage space C with the disk surface 42A and the disk back surface 42B of the vane disk 42 parallel to the resistance plate surface 3A of the resistor 3 and the piston back surface 4B of the piston 4.

羽根車55は、図21に示すように、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔てると共に、ピストン4に第3軸線間隔K3を隔てて貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。 As shown in FIG. 21, the impeller 55 is spaced apart from the resistor 3 by a second axial spacing K2 and from the piston 4 by a third axial spacing K3 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is arranged between the resistor 3 and the piston 4 in the space C (inside the cylindrical body 11).

羽根車55は、図21に示すように、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、回転筒部41の一方の回転筒端41A及び抵抗体3の抵抗板表面3Aの間に間隔(第1筒間隔)を隔て、回転筒部41の他方の回転筒端41B及びピストン4のピストン裏面4Bの間に間隔(第2筒間隔)を隔てて、抵抗体3及びピストン4の間の貯留空間Cに配置される。 As shown in FIG. 21, the impeller 55 has an interval ( The storage between the resistor 3 and the piston 4 is separated by a distance (second cylinder distance) between the other rotary cylinder end 41B of the rotary cylinder part 41 and the piston back surface 4B of the piston 4. It is placed in space C.

羽根車55は、図20及び図21に示すように、円筒本体11の内周11aに周隙間S5(羽根車周隙間)を隔ててピストン軸2(大径軸部21)に回転自在に配置される。
羽根車55は、羽根円板42(円筒本体11)の径方向において、円筒本体11の内周11a及び羽根円板42の外周42a(外周面)の間に周隙間S5を隔てて、大径軸部21に回転自在に配置される。
As shown in FIGS. 20 and 21, the impeller 55 is rotatably disposed on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) with a circumferential gap S5 (impeller circumferential gap) on the inner circumference 11a of the cylindrical body 11. be done.
The impeller 55 has a large diameter, with a circumferential gap S5 between the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 and the outer periphery 42a (outer peripheral surface) of the vane disc 42 in the radial direction of the vane disc 42 (cylindrical body 11). It is rotatably arranged on the shaft portion 21 .

羽根車55は、図20及び図21に示すように、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間において、回転筒部41を大径軸部21(ピストン軸2)に回転自在に外嵌して、第1抜止め溝24及び第2抜止め溝25の間の大径軸部21に配置される。羽根車55は、回転筒部41内にピストン軸2(大径軸部21)を貫通(挿通)して、大径軸部21に回転自在に外嵌される。 As shown in FIGS. 20 and 21, the impeller 55 connects the rotating cylindrical portion 41 to the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (inside the cylindrical body 11). It is rotatably fitted onto the outside and disposed on the large diameter shaft portion 21 between the first retaining groove 24 and the second retaining groove 25 . The impeller 55 penetrates (inserts) the piston shaft 2 (large-diameter shaft portion 21) into the rotary cylinder portion 41, and is rotatably fitted onto the large-diameter shaft portion 21.

羽根車55は、図20及び図21に示すように、ワッシャー45(平座金)及び一対のスナップリング46,47によって大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされる。
羽根車55は、図7で説明したと同様に、回転筒部41の一方の回転筒端41Aをワッシャー45に回転自在に当接し、回転筒部41の他方の回転筒端41Bを第2抜止め溝25に挿入したスナップリング47に回転自在に当接して、各スナップリング46,47の間(第1及び第2抜止め溝24,25の間)の大径軸部21に配置(外嵌)される。
これにより、羽根車55は、回転筒部41を回転自在として各スナップリング46,47によって挟持することで、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔て、及びピストン4に第3軸線間隔K3を隔てる大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされて、ピストン軸2(大径軸部21)に回転自在として配置(外嵌)される。
羽根車55は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3及び羽根車55の間に第2軸線間隔K2を隔てる噴射空間Dと、ピストン4及び羽根車55の間に第3軸線間隔K3を隔てる渦流空間Eを区画する。
The impeller 55 is positioned on the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) by a washer 45 (flat washer) and a pair of snap rings 46, 47, as shown in FIGS. 20 and 21.
As described in FIG. 7, the impeller 55 rotatably contacts one rotary cylinder end 41A of the rotary cylinder part 41 with the washer 45, and brings the other rotary cylinder end 41B of the rotary cylinder part 41 into contact with the second rotary cylinder end 41B. It rotatably abuts the snap ring 47 inserted into the retaining groove 25 and is disposed (outer) on the large diameter shaft portion 21 between the respective snap rings 46 and 47 (between the first and second retaining grooves 24 and 25). be fitted).
As a result, the impeller 55 has the rotary cylinder portion 41 rotatable and held between the snap rings 46 and 47, so that the resistor 3 is spaced by the second axial distance K2, and the piston 4 is spaced from the third axial distance K3. It is positioned on the separating large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), and is rotatably disposed (fitted externally) on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21).
The impeller 55 has an injection space D that separates a second axial distance K2 between the resistor 3 and the impeller 55 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and an injection space D that separates the second axial distance K2 between the resistor 3 and the impeller 55, and a second space between the piston 4 and the impeller 55. A vortex space E is defined which is separated by a three-axis distance K3.

各流通穴43は、図20に示すように、羽根車55を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根円板42(羽根車55)を貫通して、抵抗体3及び羽根車55の間(噴射空間D)に開口されると共に、羽根車55及びピストン4の間(渦流空間E)に開口される。
各流通穴43は、羽根車55を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、各液体噴射穴32に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIG. 20, when the impeller 55 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each of the flow holes 43 is formed in the blade disk 42 ( The impeller 55) is opened between the resistor 3 and the impeller 55 (injection space D), and between the impeller 55 and the piston 4 (vortex space E).
When the impeller 55 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each circulation hole 43 faces (opposes) each liquid injection hole 32 in the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. Placed.

羽根車55の各羽根板44は、図20及び図21に示すように、羽根車55を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、羽根円板42の円板表面42Aに傾斜角度θBをなして、ピストン4及び羽根車55の間(渦流空間E)に突出される。 As shown in FIGS. 20 and 21, each blade plate 44 of the impeller 55 is inclined to the disk surface 42A of the blade disk 42 when the impeller 55 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2). It is projected into the space between the piston 4 and the impeller 55 (vortex space E) at an angle θB.

各流出穴56は、図20に示すように、羽根車5を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根円板42(羽根車55)を貫通して、抵抗体3及び羽根車55の間(噴射空間D)に開口されると共に、羽根車55及びピストン4の間(渦流空間E)に開口される。
各流出穴56は、羽根車55を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、各液体噴射穴32に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIG. 20, when the impeller 5 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each outflow hole 56 is formed in the blade disk 42 ( The impeller 55) is opened between the resistor 3 and the impeller 55 (injection space D), and between the impeller 55 and the piston 4 (vortex space E).
When the impeller 55 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each outflow hole 56 faces (opposes) each liquid injection hole 32 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. Placed.

各液体噴射穴32は、図21に示すように、羽根車55を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3を貫通して、他方の筒端11B及び抵抗体3の間に開口されると共に、抵抗体3及び羽根車55の間(抵抗体3及び羽根車55の間の貯留空間Cの間)に開口される。
各液体噴射穴32は、羽根車55を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根円板42(羽根車55)の流通穴43(羽根板44)に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIG. 21, when the impeller 55 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 has a resistor 3 in the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. It penetrates and is opened between the other cylindrical end 11B and the resistor 3, as well as between the resistor 3 and the impeller 55 (between the storage space C between the resistor 3 and the impeller 55). Ru.
When the impeller 55 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 allows the flow of the impeller disk 42 (impeller 55) in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is arranged to face the hole 43 (the blade plate 44).

バブル液発生器X2は、図18、図19及び図27に示すように、円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)を重力方向(上下方向の下方)に向けて配置する。 As shown in FIGS. 18, 19, and 27, the bubble liquid generator X2 is arranged with the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11 facing the direction of gravity (downward in the vertical direction).

バブル液発生器X2は、図3及び図13で説明したと同様に、貯留空間C(円筒本体11内)に液体Wが貯留される(図19及び図17参照)。
バブル液発生器X2は、図12及び図13で説明したと同様に、抵抗体3、ピストン4及び羽根車55を一方の筒端11Aに向けて移動して、第1位置PXに配置する(図27及び図28参照)。
In the bubble liquid generator X2, the liquid W is stored in the storage space C (inside the cylindrical body 11) as described in FIGS. 3 and 13 (see FIGS. 19 and 17).
The bubble liquid generator X2 moves the resistor 3, piston 4, and impeller 55 toward one cylindrical end 11A and arranges them at the first position PX, as described in FIGS. 12 and 13 ( (See FIGS. 27 and 28).

抵抗体3、ピストン4及び羽根車55の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、ピストン4及び一方の筒端11A(ガイド蓋13)の間の液体Wは、図26に示すように、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aを通って、ピストン4及び羽根車55の間(渦流空間E)の液体Wに流出される。 As the resistor 3, piston 4, and impeller 55 move toward one cylindrical end 11A (guide lid 13), the liquid W between the piston 4 and one cylindrical end 11A (guide lid 13) moves as shown in the figure. As shown in 26, the liquid passes through the outer circumference 4a of the piston 4 and the inner circumference 11a of the cylindrical body 11, and flows out into the liquid W between the piston 4 and the impeller 55 (vortex space E).

ピストン4及び羽根車55の間(渦流空間E)の液体Wは、図26に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車55の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、羽根車55を回転すると共に、羽根円板42(羽根車5)の各流通穴43を通って、抵抗体3及び羽根車55の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。ピストン4及び羽根車55の間の液体Wは、羽根円板42の外周42a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S5)を通って、抵抗体3及び羽根車55の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。 As shown in FIG. 26, the liquid W between the piston 4 and the impeller 55 (vortex space E) moves toward one cylindrical end 11A (guide lid 13) of the resistor 3, the piston 4, and the impeller 55. As the impeller 55 rotates, the liquid flows through the flow holes 43 of the impeller disk 42 (impeller 5) and flows out into the liquid W between the resistor 3 and the impeller 55 (injection space D). Ru. The liquid W between the piston 4 and the impeller 55 passes between the outer periphery 42a of the impeller disk 42 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 (circumferential gap S5), and passes between the resistor 3 and the impeller 55 (injection It flows out into the liquid W in the space D).

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の一方の筒端11Aに向けた移動に伴って、負圧状態(負圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、図26に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車55の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、抵抗体3及び羽根車55の間(噴射空間D)の液体Wを、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体Wに噴射する。
抵抗体3及び羽根車55の間(噴射空間D)の液体Wは、抵抗体3の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに噴射される。
他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wは、各液体噴射穴32から噴射される噴射空間Dの液体Wによって乱流となる。他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wには、乱流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
他方の筒端11B及び抵抗体3の液体W中の空気(気泡)は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに混入及び溶込む。
In the storage space C, a negative pressure state (negative pressure) is created between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the one cylindrical end 11A.
As a result, each liquid injection hole 32 (resistor 3) moves as the resistor 3, piston 4, and impeller 55 move toward one cylindrical end 11A (guide lid 13), as shown in FIG. , the liquid W between the resistor 3 and the impeller 55 (injection space D) is injected into the liquid W between the other cylinder end 11B (cylinder lid 12) and the resistor 3.
The liquid W between the resistor 3 and the impeller 55 (injection space D) flows into each liquid injection hole 32 as the resistor 3 moves toward one cylindrical end 11A (guide lid 13). , is injected from each liquid injection hole 32 into the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3.
The liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 becomes a turbulent flow due to the liquid W in the injection space D injected from each liquid injection hole 32. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 due to the turbulent pressure difference.
The air (bubbles) in the liquid W at the other tube end 11B and the resistor 3 are pulverized (sheared) into microbubbles and ultrafine bubbles by turbulence and cavitation. The microbubbles and ultrafine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the other tube end 11B and the resistor 3.

抵抗体3、ピストン4及び羽根車55を第1位置PXに位置(配置)すると、ハンドル6をガイド蓋13(円筒本体11の一方の筒端11A)に向けて押して、ピストン軸2(大径軸部21)を円筒本体11内(貯留空間C)に移動する(図19及び図27のN方向に移動する)。
抵抗体3、ピストン4及び羽根車55は、ピストン軸2と共に、第1位置PXから円筒本体11内(貯留空間C)を円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)に向けて移動される。
When the resistor 3, the piston 4, and the impeller 55 are positioned (arranged) at the first position PX, the handle 6 is pushed toward the guide lid 13 (one end 11A of the cylindrical body 11), and the piston shaft 2 (large diameter The shaft portion 21) is moved into the cylindrical body 11 (storage space C) (moved in the N direction in FIGS. 19 and 27).
The resistor 3, the piston 4, and the impeller 55 move together with the piston shaft 2 from the first position PX within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11. be done.

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、高圧状態(高圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、図29及び図30に示すように、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車55の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体W(他方の筒端11B及び抵抗体3の間の貯留空間Cの液体W)を、抵抗体3及び羽根車55の間(噴射空間D)に噴射する。
各液体噴射穴32は、液体Wを抵抗体3(抵抗板表面3A)及び羽根車55(羽根円板42の円板裏面42B)の間(噴射空間D)に噴射することで、抵抗体3及び羽根車55の間の液体Wに羽根車5に向かう液体Wの流れを発生する。
他方の筒端11A及び抵抗体3の間の液体Wは、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から抵抗体3及び羽根車55の間(噴射空間D)に噴射される。
抵抗体3及び羽根車55の間(噴射空間D)の液体Wは、各液体噴射穴32から噴射される液体Wによって、ピストン軸2の軸中心線aの方向において、抵抗体3から羽根車55に向けて流れる。
In the storage space C, a high pressure state (high pressure) occurs between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the other cylindrical end 11B.
As a result, each liquid injection hole 32 (resistor 3) is moved toward the other cylindrical end 11B of the piston shaft 2, resistor 3, piston 4, and impeller 55, as shown in FIGS. 29 and 30. Accordingly, the liquid W between the other cylinder end 11B (cylinder lid 12) and the resistor 3 (the liquid W in the storage space C between the other cylinder end 11B and the resistor 3) is transferred to the resistor 3 and the impeller. 55 (injection space D).
Each liquid injection hole 32 injects the liquid W between the resistor 3 (resistance plate surface 3A) and the impeller 55 (disk back surface 42B of the vane disk 42) (injection space D). and generates a flow of liquid W toward the impeller 5 in the liquid W between the impellers 55.
The liquid W between the other cylindrical end 11A and the resistor 3 flows into each liquid injection hole 32 as the resistor 3 moves toward the other cylindrical end 11B. It is injected between the body 3 and the impeller 55 (injection space D).
The liquid W between the resistor 3 and the impeller 55 (injection space D) is moved from the resistor 3 to the impeller in the direction of the axis center line a of the piston shaft 2 by the liquid W injected from each liquid injection hole 32. It flows towards 55.

抵抗体3及び羽根車55の間の貯留空間C(円筒本体11内)において、抵抗体3から羽根車55に向けて流れる液体Wは、図29及び図30に示すように、羽根円板42の各流通穴43及び各流出穴56に流入し、各流通穴43内の各羽根板44の羽根板裏面44Bに衝突(作用)する。
羽根車55は、液体Wの各羽根板44(羽根板裏面44B)への衝突(作用)によって、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aに流れる液体Wの運動エネルギーを、各羽根板44(傾斜角度θBで傾斜する各羽根板44)によって回転運動(回転運動のエネルギー)に変換する。
羽根車55(回転筒部41及び羽根円板42)は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸2(大径軸部21)を回転中心として時計方向(図30及び図31のQ方向)に回転される。
これにより、羽根車55は、羽根車55に向かう液体Wの流れによって、ピストン軸2(大径軸部21)の軸中心線aを回転中心として、Q方向(時計方向)に回転される。
In the storage space C (inside the cylindrical body 11) between the resistor 3 and the impeller 55, the liquid W flowing from the resistor 3 toward the impeller 55 flows through the vane disk 42 as shown in FIGS. 29 and 30. The liquid flows into each of the communication holes 43 and each of the outflow holes 56 and collides with (acts on) the blade back surface 44B of each blade plate 44 in each of the communication holes 43.
The impeller 55 transfers the kinetic energy of the liquid W flowing in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2 to each vane plate 44 by the collision (action) of the liquid W with each vane plate 44 (the back surface 44B of the vane plate). (Each vane plate 44 tilted at an inclination angle θB) converts it into rotational motion (energy of rotational motion).
The impeller 55 (rotating cylinder part 41 and vane disc 42) rotates clockwise (Q direction in FIGS. 30 and 31) about the piston shaft 2 (large diameter shaft part 21) as the rotation center due to the energy of rotational motion. be done.
Thereby, the impeller 55 is rotated in the Q direction (clockwise) about the axis center line a of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) by the flow of the liquid W toward the impeller 55.

羽根車55において、各流通穴43及び流出穴56に流入した液体Wは、図29及び図30に示すように、羽根車55(円板表面42A)及びピストン4(ピストン裏面4B)の間(渦流空間E)に流出する。 In the impeller 55, the liquid W that has flowed into each of the circulation holes 43 and the outflow holes 56 flows between the impeller 55 (disk surface 42A) and the piston 4 (piston back surface 4B), as shown in FIGS. 29 and 30. flows out into the vortex space E).

羽根車55は、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4)と共に、他方の筒端11Bに向けて円筒本体11内(貯留空間C)を移動しつつ、各液体噴射穴32から連続して噴射空間Dに噴射される液体W(羽根車55に向かう液体Wの流れ)によって、Q方向に回転される。 The impeller 55 continuously injects liquid from each liquid injection hole 32 while moving within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylinder end 11B together with the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4). It is rotated in the Q direction by the liquid W injected into the space D (the flow of the liquid W toward the impeller 55).

羽根車55は、Q方向の回転によって、ピストン4(ピストン裏面4B)及び羽根車55(円板表面42A)の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生する。
ピストン4及び羽根車55の間の貯留空間C(渦流空間E)の液体Wは、羽根車55の回転によって、ピストン軸2の軸中心線aを中心として、Q方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Eにおいて、ピストン軸2(大径軸部21)周りに旋回される
ピストン4及び羽根車55の間(渦流空間E)の液体W(液体Wの一部)は、図29に示すように、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4及び羽根車55)の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S4)から一方の筒端11A側に流出される。
The impeller 55 generates a vortex in the liquid W between the piston 4 (piston back surface 4B) and the impeller 55 (disc surface 42A) (vortex space E) by rotation in the Q direction.
The liquid W in the storage space C (vortex space E) between the piston 4 and the impeller 55 becomes a vortex that swirls in the Q direction about the axial center line a of the piston shaft 2 due to the rotation of the impeller 55. The vortex is swirled around the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) in the vortex space E. The liquid W (part of the liquid W) between the piston 4 and the impeller 55 (the vortex space E) is as shown in FIG. As shown in FIG. 2, as the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4, and impeller 55) moves toward the other cylindrical end 11B, a gap between the outer periphery 4a of the piston 4 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 ( It flows out from the circumferential gap S4) to one cylinder end 11A side.

ピストン4及び羽根車55の間の液体Wは、渦流空間Eにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン4及び羽根車55の間(渦流空間E)の液体Wには、渦流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
ピストン4及び羽根車55の間(渦流空間E)の液体W中の空気(気泡)は、渦流(乱流)及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン4及び羽根車55の間(渦流空間E)の液体Wに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器X2は、羽根車55を回転して、ピストン4及び羽根車55の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生することで、渦流空間Eの液体W中の空気(気体)を微細な気泡に粉砕(剪断)でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることができる。
The liquid W between the piston 4 and the impeller 55 becomes turbulent in the vortex space E due to the vortex. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the piston 4 and the impeller 55 (vortex space E) due to the pressure difference of the vortex.
Air (bubbles) in the liquid W between the piston 4 and the impeller 55 (vortex space E) is crushed (sheared) into microbubbles and ultrafan bubbles by the vortex (turbulent flow) and cavitation. The microbubbles and ultra-fine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the piston 4 and the impeller 55 (vortex space E).
In this way, the bubble liquid generator X2 rotates the impeller 55 to generate a vortex in the liquid W between the piston 4 and the impeller 55 (the vortex space E). of air (gas) can be pulverized (sheared) into fine bubbles, and a large amount of microbubbles and a large amount of ultrafine bubbles can be mixed and dissolved into the liquid W.

バブル液発生器X2では、ハンドル6をガイド蓋13から引上げ、及びガイド蓋13に向けて押すことで、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車55を、円筒本体11の各筒端11A,11Bの間(シリンダー蓋12及びガイド蓋13の間)で往復移動する。
バブル液発生器X2は、抵抗体3、ピストン4及び羽根車55を複数回、往復移動することで、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに複数回、乱流を発生でき、ピストン4及び羽根車55の間(渦流空間E)の液体Wに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量(多量)のマイクロバブル及び十分な量(多量)のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることが可能となる。
In the bubble liquid generator It reciprocates between 11A and 11B (between cylinder lid 12 and guide lid 13).
The bubble liquid generator X2 can generate turbulence in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 multiple times by reciprocating the resistor 3, piston 4, and impeller 55 multiple times. , a vortex can be generated multiple times in the liquid W between the piston 4 and the impeller 55 (vortex space E), and a sufficient amount (a large amount) of microbubbles and a sufficient amount (a large amount) of ultrafine can be generated by the multiple vortices. It becomes possible to mix and dissolve bubbles into the liquid W.

第3実施形態のバブル液発生器について、図32乃至図46を参照して説明する。
なお、図32乃至図46において、図1乃至図31と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。
A bubble liquid generator according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 32 to 46.
Note that in FIGS. 32 to 46, the same reference numerals as in FIGS. 1 to 31 indicate the same members and the same configurations, so detailed explanation thereof will be omitted.

図32乃至図46において、第3実施形態のバブル液発生器X3(以下、「バブル液発生器X3」という)は、シリンダー1、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4、羽根車65(インペラ)及びハンドル6を備える。 32 to 46, the bubble liquid generator X3 of the third embodiment (hereinafter referred to as "bubble liquid generator ) and a handle 6.

羽根車65は、図36乃至図40に示すように、回転筒部41及び羽根円板42を有る。 As shown in FIGS. 36 to 40, the impeller 65 has a rotating cylinder portion 41 and a blade disk 42.

バブル液発生器X3において、羽根円板42は、図36乃至図40に示すように、複数の流通穴43、複数の流入穴66、複数の羽根板44、及び複数の液ガイド板67を有する。 In the bubble liquid generator X3, the blade disk 42 has a plurality of circulation holes 43, a plurality of inflow holes 66, a plurality of blade plates 44, and a plurality of liquid guide plates 67, as shown in FIGS. 36 to 40. .

バブル液発生器X3において、流通穴43は、図36乃至図39に示すように、例えば、羽根円板42に3つ形成される。各流通穴43は、図37に示すように、円C2上(同一円C2上)に配置される。各流通穴43は、回転筒部41(羽根円板42)の周方向において、各流通穴43の間に流通穴角度θ2(第2流通穴角度)を隔てて配置される。流通穴角度θ2は、例えば、120度(120°)である。 In the bubble liquid generator X3, for example, three circulation holes 43 are formed in the vane disk 42, as shown in FIGS. 36 to 39. As shown in FIG. 37, each communication hole 43 is arranged on a circle C2 (on the same circle C2). Each communication hole 43 is arranged with a communication hole angle θ2 (second communication hole angle) between each communication hole 43 in the circumferential direction of the rotary tube portion 41 (blade disk 42). The communication hole angle θ2 is, for example, 120 degrees (120°).

流入穴66は、図36乃至図39に示すように、例えば、羽根円板42に3つ形成される。各流入穴66は、回転筒部41(羽根円板42)の径方向において、回転筒部41の外周41a及び羽根円板42の外周42aの間に配置される。各流入穴66は、円C2上(同一円C2上)に配置される。 For example, three inflow holes 66 are formed in the vane disk 42, as shown in FIGS. 36 to 39. Each inflow hole 66 is arranged between the outer periphery 41a of the rotary cylinder part 41 and the outer periphery 42a of the blade disk 42 in the radial direction of the rotary cylinder part 41 (blade disk 42). Each inflow hole 66 is arranged on the circle C2 (on the same circle C2).

各流入穴66は、図38に示すように、回転筒部41(羽根円板42)の周方向において、各流入穴66の間に流入穴角度θ5を隔てて配置される。流入穴角度θ5は、例えば、120度(120°)である。
各流入穴66は、回転筒部41の周方向において、各流通穴43に穴間角度θ6(第2穴間角度)を隔てて各流通穴43の間に配置される。
As shown in FIG. 38, the inflow holes 66 are arranged at an inflow hole angle θ5 between the inflow holes 66 in the circumferential direction of the rotary cylinder portion 41 (blade disk 42). The inflow hole angle θ5 is, for example, 120 degrees (120°).
Each inflow hole 66 is arranged between each communication hole 43 in the circumferential direction of the rotary cylinder portion 41 with an inter-hole angle θ6 (second inter-hole angle) between each communication hole 43 .

各流入穴66は、例えば、矩形状(矩形穴)に形成される。各流入穴66は、図38に示すように、回転筒部41(羽根円板42)の径方向において、羽根円板42の外周42a及び円C2の間に位置する外側穴面66a、円C2及び回転筒部41の外周41aの間に位置する内側穴面66bを有する。各流入穴66は、回転筒部41の周方向に穴幅を隔てる一対の穴幅側面66c,66dを有する。外側穴面66aは、回転筒部41の径方向において、内側穴面66b穴長さを隔てて平行に配置される。各穴幅側面66c,66dは、回転筒部41の周方向において、各穴幅側面66c,66dの間に穴幅を隔てて平行に配置され、外側穴面66a及び内側穴面66bに直交(交差)される。 Each inflow hole 66 is formed, for example, in a rectangular shape (rectangular hole). As shown in FIG. 38, each inflow hole 66 has an outer hole surface 66a located between the outer periphery 42a of the blade disk 42 and the circle C2 in the radial direction of the rotary cylinder portion 41 (the blade disk 42), and a circle C2. and an inner hole surface 66b located between the outer periphery 41a of the rotary cylinder portion 41. Each inflow hole 66 has a pair of hole-width side surfaces 66c and 66d that are separated by a hole width in the circumferential direction of the rotary cylinder portion 41. The outer hole surfaces 66a are arranged parallel to each other in the radial direction of the rotary cylinder portion 41, with the inner hole surface 66b being spaced apart by the hole length. Each hole width side surface 66c, 66d is arranged in parallel with the hole width between each hole width side surface 66c, 66d in the circumferential direction of the rotary cylinder part 41, and is perpendicular to the outer hole surface 66a and the inner hole surface 66b ( crossed).

各流入穴66は、図36乃至図39に示すように、回転筒部41の筒中心線aの方向Aにおいて、外側穴面66a、内側穴面66b、及び各穴幅側面66c,66dを有して羽根円板42を貫通して、羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bに開口される。 As shown in FIGS. 36 to 39, each inlet hole 66 has an outer hole surface 66a, an inner hole surface 66b, and each hole width side surface 66c, 66d in the direction A of the cylinder center line a of the rotating cylinder portion 41. It penetrates the vane disc 42 and opens on the disc surface 42A and the disc back surface 42B of the vane disc 42.

バブル液発生器X3において、各羽根板44は、図36乃至図40に示すように、流通穴43と同数であって、例えば、羽根円板42に3つ形成され、円C2上に配置される。 In the bubble liquid generator X3, each blade plate 44 has the same number as the circulation holes 43, as shown in FIGS. Ru.

バブル液発生器X3において、各羽根板44は、図39に示すように、回転筒部41の周方向において、各羽根板44の間に流通穴角度θ2と同一の羽根板角度θ2(第1羽根板角度)を隔てて各流通穴43内に配置される。 In the bubble liquid generator X3, as shown in FIG. 39, each blade plate 44 has a blade angle θ2 (the first They are arranged in each of the communication holes 43 with a slat angle) between them.

バブル液発生器X3において、各羽根板44は、図8乃至図11で説明したと同様に、羽根円板42の円板表面42A(回転筒部41の筒中心線aと直交する水平方向)に傾斜角度θB(鋭角度)をなして、各流通穴43の一方の穴幅側面43cから他方の回転筒端41B及び他方の穴幅側面43dに延在して、各流通穴43内に突出される(図40参照)。
羽根板表面44A、及び羽根板裏面44Bは、円板表面42Aに傾斜角度θBをなして、一方の穴幅側面43cから他方の回転筒端41B及び他方の穴幅側面43dに延在して、各流通穴43内に突出される。
In the bubble liquid generator X3, each blade plate 44 has a disk surface 42A of the blade disk 42 (horizontal direction perpendicular to the cylinder center line a of the rotary cylinder part 41), as described in FIGS. 8 to 11. It forms an inclination angle θB (acute angle), extends from one hole width side surface 43c of each circulation hole 43 to the other rotating cylinder end 41B and the other hole width side surface 43d, and projects into each circulation hole 43. (See Figure 40).
The vane plate surface 44A and the vane plate back surface 44B form an inclination angle θB to the disc surface 42A, and extend from one hole width side surface 43c to the other rotary tube end 41B and the other hole width side surface 43d, It protrudes into each communication hole 43.

各液ガイド板67は、図36乃至図40に示すように、板厚さT8の矩形状に形成される。各液ガイド板67は、板厚さ方向にガイド板表面67A(板表面)及びガイド板裏面67B(板裏面)を有する。液ガイド板67は、流入穴66と同数であって、例えば、羽根円板42に3つ形成される。 Each liquid guide plate 67 is formed into a rectangular shape with a plate thickness T8, as shown in FIGS. 36 to 40. Each liquid guide plate 67 has a guide plate surface 67A (plate surface) and a guide plate back surface 67B (plate back surface) in the plate thickness direction. The number of liquid guide plates 67 is the same as that of the inflow holes 66, and for example, three liquid guide plates 67 are formed on the vane disk 42.

各液ガイド板67は、図39に示すように、円C2上(同一円C2上)に配置される。各液ガイド板67は、回転筒部41の周方向において、各液ガイド板67の間に流入穴角度θ5と同一のガイド板角度θ5を隔てて各流入穴66内に配置される。
各液ガイド板67は、各流入穴66の内側穴面66bに連続して配置され、羽根円板42に連結(固定)される。各液ガイド板67は、ガイド板表面67Aを羽根円板42の円板裏面42B(各流入穴66内)に向けて配置される。
As shown in FIG. 39, each liquid guide plate 67 is arranged on a circle C2 (on the same circle C2). Each liquid guide plate 67 is arranged in each inflow hole 66 in the circumferential direction of the rotary cylinder portion 41 with the same guide plate angle θ5 as the inflow hole angle θ5 between each liquid guide plate 67 .
Each liquid guide plate 67 is arranged continuously on the inner hole surface 66b of each inflow hole 66, and is connected (fixed) to the vane disk 42. Each liquid guide plate 67 is arranged with the guide plate surface 67A facing the disk back surface 42B of the vane disk 42 (inside each inflow hole 66).

各液ガイド板67は、図40に示すように、羽根円板42の円板裏面42B(回転筒部41の筒中心線aと直交する水平方向)に傾斜角度θC(ガイド板傾斜角度)をなして、内側穴面66bから一方の回転筒端41A及び外側穴面66aに延在して、各流入穴66内に突出される。各液ガイド板67は、各流入穴66の内側穴面66bから羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42B(各羽根板44)から離間しつつ羽根円板42の円板裏面42Bに傾斜角度θC(鋭角度)で傾斜して、各流入穴66内に突出される。傾斜角度θCは、30度(30°)以上、60度(60°)以下であって、例えば、30度(30°)である。
ガイド板表面67A、及びガイド板裏面67Bは、円板裏面42Bに傾斜角度θC(ガイド板傾斜角度)をなして、内側穴面66bから一方の回転筒端41A及び外側穴面66aに延在して、各流入穴66内に突出される。
As shown in FIG. 40, each liquid guide plate 67 has an inclination angle θC (guide plate inclination angle) on the disk back surface 42B of the vane disk 42 (horizontal direction perpendicular to the cylinder center line a of the rotating cylinder part 41). It extends from the inner hole surface 66b to one rotary cylinder end 41A and the outer hole surface 66a, and projects into each inflow hole 66. Each liquid guide plate 67 is spaced from the inner hole surface 66b of each inflow hole 66 from the disk surface 42A of the vane disk 42 and the disk back surface 42B (each vane plate 44), while being spaced from the disk back surface 42B of the vane disk 42. It is inclined at an inclination angle θC (acute angle) and protrudes into each inflow hole 66. The inclination angle θC is greater than or equal to 30 degrees (30°) and less than or equal to 60 degrees (60°), and is, for example, 30 degrees (30°).
The guide plate surface 67A and the guide plate back surface 67B form an inclination angle θC (guide plate inclination angle) to the disk back surface 42B, and extend from the inner hole surface 66b to one rotating cylinder end 41A and the outer hole surface 66a. and protrudes into each inflow hole 66.

羽根車65は、図32乃至図35に示すように、円筒本体11に同心として貯留空間C(円筒本体11内)に配置されて、貯留空間Cの液体Wに浸漬される。
羽根車65は、回転筒部41の他方の回転筒端41B及び羽根円板42の円板表面42A(羽根板44)をピストン4に向け、回転筒部41の一方の回転筒端41A及び羽根円板42の円板裏面42B(各液ガイド板67)を抵抗体3に向けて、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。
羽根車65は、羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bをピストン軸2の軸中心線a(円筒本体11の筒中心線a)と直交して、貯留空間Cに配置される。羽根車65は、羽根円板42の円板表面42A及び円板裏面42Bを抵抗体3の抵抗板表面3A及びピストン4のピストン裏面4Bに平行として、貯留空間Cに配置される。
As shown in FIGS. 32 to 35, the impeller 65 is disposed concentrically with the cylindrical body 11 in the storage space C (inside the cylindrical body 11), and is immersed in the liquid W in the storage space C.
The impeller 65 has the other rotating cylinder end 41B of the rotating cylinder part 41 and the disk surface 42A (vane plate 44) of the blade disk 42 facing the piston 4, and the one rotating cylinder end 41A of the rotating cylinder part 41 and the blades. The disk 42 is placed between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (inside the cylindrical body 11) with the disk back surface 42B (each liquid guide plate 67) facing the resistor 3.
The impeller 65 is arranged in the storage space C with the disk surface 42A and the disk back surface 42B of the blade disk 42 perpendicular to the axial center line a of the piston shaft 2 (the cylinder center line a of the cylindrical body 11). . The impeller 65 is arranged in the storage space C with the disk surface 42A and disk back surface 42B of the blade disk 42 parallel to the resistance plate surface 3A of the resistor 3 and the piston back surface 4B of the piston 4.

羽根車65は、図35に示すように、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔てると共に、ピストン4に第3軸線間隔K3を隔てて貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。 As shown in FIG. 35, the impeller 65 is spaced apart from the resistor 3 by a second axial spacing K2 and from the piston 4 by a third axial spacing K3 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is arranged between the resistor 3 and the piston 4 in the space C (inside the cylindrical body 11).

羽根車65は、図35に示すように、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、回転筒部41の一方の回転筒端41A及び抵抗体3の抵抗板表面3Aの間に間隔(第1筒間隔)を隔て、回転筒部41の他方の回転筒端41B及びピストン4のピストン裏面4Bの間に間隔(第1筒間隔)を隔てて、抵抗体3及びピストン4の間の貯留空間Cに配置される。 As shown in FIG. 35, the impeller 65 has an interval ( The storage between the resistor 3 and the piston 4 is separated by a distance (first cylinder distance) between the other rotary cylinder end 41B of the rotary cylinder part 41 and the piston back surface 4B of the piston 4. It is placed in space C.

羽根車65は、図34及び図35に示すように、円筒本体11の内周11aに周隙間S5(羽根車周隙間)を隔ててピストン軸2(大径軸部21)に回転自在に配置される。
羽根車65は、羽根円板42(円筒本体11)の径方向において、円筒本体11の内周11a及び羽根円板42の外周42aの間に周隙間S5を隔てて、大径軸部21に回転自在に配置される。
As shown in FIGS. 34 and 35, the impeller 65 is rotatably disposed on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) with a circumferential gap S5 (impeller circumferential gap) on the inner circumference 11a of the cylindrical body 11. be done.
The impeller 65 is attached to the large diameter shaft portion 21 with a circumferential gap S5 between the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 and the outer periphery 42a of the vane disc 42 in the radial direction of the blade disc 42 (cylindrical body 11). It is arranged so that it can rotate freely.

羽根車65は、図35に示すように、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間において、回転筒部41を大径軸部21(ピストン軸2)に回転自在に外嵌して、第1抜止め溝24及び第2抜止め溝25の間の大径軸部21に配置される。羽根車65は、回転筒部41内にピストン軸2(大径軸部21)を貫通(挿入)して、大径軸部21に回転自在に外嵌される。 As shown in FIG. 35, the impeller 65 rotates the rotary cylinder part 41 around the large diameter shaft part 21 (piston shaft 2) between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (inside the cylindrical body 11). It is disposed on the large diameter shaft portion 21 between the first retaining groove 24 and the second retaining groove 25 so as to fit outwardly. The impeller 65 penetrates (inserts) the piston shaft 2 (large-diameter shaft section 21) into the rotating cylinder section 41, and is rotatably fitted onto the large-diameter shaft section 21.

羽根車65は、図35に示すように、ワッシャー45(平座金)及び一対のスナップリング46,47によって大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされる。
羽根車65は、図7で説明したと同様に、回転筒部41の一方の回転筒端41Aをワッシャー45に回転自在に当接し、回転筒部41の他方の回転筒端41Bを第2抜止め溝25に挿入したスナップリング47に回転自在に当接して、各スナップリング46,47の間(第1及び第2抜止め溝24,25の間)の大径軸部21に配置(外嵌)される。
これにより、羽根車65は、回転筒部41を回転自在として各スナップリング46,47によって挟持することで、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔て、及びピストン4に第3軸線間隔K3を隔てる大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされて、ピストン軸2(大径軸部21)に回転自在として配置(外嵌)される。
これにより、羽根車65は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3及び羽根車65の間に第2軸線間隔K2を隔てる噴射空間Dと、ピストン4及び羽根車65の間に第3軸線間隔K3を隔てる渦流空間Eを区画する。
As shown in FIG. 35, the impeller 65 is positioned on the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) by a washer 45 (flat washer) and a pair of snap rings 46, 47.
As described in FIG. 7, the impeller 65 rotatably abuts one rotary tube end 41A of the rotary tube portion 41 against the washer 45, and brings the other rotary tube end 41B of the rotary tube portion 41 into contact with the second rotary tube end 41B. It rotatably abuts the snap ring 47 inserted into the retaining groove 25 and is disposed (outer) on the large diameter shaft portion 21 between the respective snap rings 46 and 47 (between the first and second retaining grooves 24 and 25). be fitted).
As a result, the impeller 65 allows the rotary cylinder part 41 to be freely rotated and is held between the snap rings 46 and 47, so that the resistor 3 is spaced by the second axial distance K2, and the piston 4 is spaced from the third axial distance K3. It is positioned on the separating large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), and is rotatably disposed (fitted externally) on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21).
Thereby, the impeller 65 is connected to the injection space D which separates the second axis distance K2 between the resistor 3 and the impeller 65 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and A vortex space E is defined with a third axial spacing K3 therebetween.

羽根車65の各羽根板44は、図34及び図35に示すように、羽根車65を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、羽根円板42の円板表面42Aに傾斜角度θBをなして、ピストン4及び羽根車65の間(渦流空間E)に突出される。 As shown in FIGS. 34 and 35, each blade plate 44 of the impeller 65 is inclined to the disk surface 42A of the blade disk 42 when the impeller 65 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2). It is projected into the space between the piston 4 and the impeller 65 (vortex space E) at an angle θB.

各流通穴43は、図34及び図35に示すように、羽根車65を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根円板42(羽根車65)を貫通して、抵抗体3及び羽根車65の間(噴射空間D)に開口されると共に、羽根車65及びピストン4の間(渦流空間E)に開口される。
各流通穴43は、羽根車65を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、各液体噴射穴32に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIGS. 34 and 35, when the impeller 65 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each of the circulation holes 43 is formed in a direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. It penetrates the plate 42 (impeller 65) and is opened between the resistor 3 and the impeller 65 (injection space D), and between the impeller 65 and the piston 4 (vortex space E).
When the impeller 65 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each circulation hole 43 faces (opposes) each liquid injection hole 32 in the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. Placed.

各流入穴66は、図34及び図35に示すように、羽根車65を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根円板42(羽根車65)を貫通して、抵抗体3及び羽根車65の間(噴射空間D)に開口されると共に、羽根車65及びピストン4の間(渦流空間E)に開口される。
各流入穴66は、羽根車65を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、各液体噴射穴32に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIGS. 34 and 35, when the impeller 65 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each inflow hole 66 has an impeller circle in the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. It penetrates the plate 42 (impeller 65) and is opened between the resistor 3 and the impeller 65 (injection space D), and between the impeller 65 and the piston 4 (vortex space E).
When the impeller 65 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each inflow hole 66 faces (opposes) each liquid injection hole 32 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. Placed.

各液体噴射穴32は、図35に示すように、羽根車65を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向において、抵抗体3を貫通して、他方の筒端11B及び抵抗体3の間に開口されると共に、抵抗体3及び羽根車65の間(抵抗体3及び羽根車65の間の貯留空間C)に開口される。
各液体噴射穴32は、羽根車65を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根円板42(羽根車65)の流通穴43(羽根板44)に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIG. 35, when the impeller 65 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 penetrates the resistor 3 in the direction of the shaft center line a of the piston shaft 2. Thus, it is opened between the other cylindrical end 11B and the resistor 3, and also between the resistor 3 and the impeller 65 (storage space C between the resistor 3 and the impeller 65).
When the impeller 65 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 allows the flow of the impeller disk 42 (impeller 65) in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is arranged to face the hole 43 (the blade plate 44).

バブル液発生器X3は、図32、図33及び図42に示すように、円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)を重力方向(上下方向の下方)に向けて配置する。 As shown in FIGS. 32, 33, and 42, the bubble liquid generator X3 is arranged with the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11 facing the direction of gravity (downward in the vertical direction).

バブル液発生器X3は、図3及び図13で説明したと同様に、貯留空間C(円筒本体11内)に液体Wが貯留される(図33及び図42参照)。
バブル液発生器X3は、図12及び図13で説明したと同様に、抵抗体3、ピストン4及び羽根車65を一方の筒端11Aに向けて移動して、第1位置PXに配置する(図42及び図43参照)。
In the bubble liquid generator X3, the liquid W is stored in the storage space C (inside the cylindrical body 11) as described in FIGS. 3 and 13 (see FIGS. 33 and 42).
The bubble liquid generator X3 moves the resistor 3, piston 4, and impeller 65 toward one cylinder end 11A and arranges them at the first position PX in the same manner as described in FIGS. 12 and 13 ( (See FIGS. 42 and 43).

抵抗体3、ピストン4及び羽根車65の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、ピストン4及び一方の筒端11A(ガイド蓋13)の間の液体Wは、図41に示すように、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aを通って、ピストン4及び羽根車65の間(渦流空間E)の液体Wに流出される。 As the resistor 3, piston 4, and impeller 65 move toward one cylindrical end 11A (guide lid 13), the liquid W between the piston 4 and one cylindrical end 11A (guide lid 13) moves as shown in FIG. 41, the liquid flows out through the outer circumference 4a of the piston 4 and the inner circumference 11a of the cylindrical body 11 into the liquid W between the piston 4 and the impeller 65 (vortex space E).

ピストン4及び羽根車65の間(渦流空間E)の液体Wは、図41に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車65の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、羽根車65を回転すると共に、羽根円板42(羽根車5)の各流通穴43及び各流入穴66を通って、抵抗体3及び羽根車65の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。ピストン4及び羽根車65の間の液体Wは、羽根円板42の外周42a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S5)を通って、抵抗体3及び羽根車65の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。 As shown in FIG. 41, the liquid W between the piston 4 and the impeller 65 (vortex space E) moves toward one cylindrical end 11A (guide lid 13) of the resistor 3, the piston 4, and the impeller 65. Accordingly, the impeller 65 is rotated, and the air flows between the resistor 3 and the impeller 65 (injection space D) through each circulation hole 43 and each inflow hole 66 of the impeller disk 42 (impeller 5). The liquid W flows out. The liquid W between the piston 4 and the impeller 65 passes between the outer periphery 42a of the impeller disk 42 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 (circumferential gap S5), and passes between the resistor 3 and the impeller 65 (injection It flows out into the liquid W in the space D).

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の一方の筒端11Aに向けた移動に伴って、負圧状態(負圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、図41に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車65の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、抵抗体3及び羽根車65の間(噴射空間D)の液体Wを、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体Wに噴射する。
抵抗体3及び羽根車65の間(噴射空間D)の液体Wは、抵抗体3の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに噴射される。
他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wは、各液体噴射穴32から噴射される噴射空間Dの液体Wによって乱流となる。他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wには、乱流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
他方の筒端11B及び抵抗体3の液体W中の空気(気泡)は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに混入及び溶込む。
In the storage space C, a negative pressure state (negative pressure) occurs between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the one cylindrical end 11A.
As a result, each liquid injection hole 32 (resistor 3) moves as the resistor 3, piston 4, and impeller 65 move toward one cylindrical end 11A (guide lid 13), as shown in FIG. , the liquid W between the resistor 3 and the impeller 65 (injection space D) is injected into the liquid W between the other cylinder end 11B (cylinder lid 12) and the resistor 3.
The liquid W between the resistor 3 and the impeller 65 (injection space D) flows into each liquid injection hole 32 as the resistor 3 moves toward one cylindrical end 11A (guide lid 13). , is injected from each liquid injection hole 32 into the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3.
The liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 becomes a turbulent flow due to the liquid W in the injection space D injected from each liquid injection hole 32. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 due to the turbulent pressure difference.
The air (bubbles) in the liquid W at the other tube end 11B and the resistor 3 are pulverized (sheared) into microbubbles and ultrafine bubbles by turbulence and cavitation. The microbubbles and ultrafine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the other tube end 11B and the resistor 3.

抵抗体3、ピストン4及び羽根車65を第1位置PXに位置(配置)すると、ハンドル6をガイド蓋13(円筒本体11の一方の筒端11A)に向けて押して、ピストン軸2(大径軸部21)を円筒本体11内(貯留空間C)に移動する(図33及び図42のN方向に移動する)。
抵抗体3、ピストン4及び羽根車65は、ピストン軸2と共に、第1位置PXから円筒本体11内(貯留空間C)を円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)に向けて移動される。
When the resistor 3, the piston 4, and the impeller 65 are positioned (arranged) at the first position PX, the handle 6 is pushed toward the guide lid 13 (one cylindrical end 11A of the cylindrical body 11), and the piston shaft 2 (large diameter The shaft portion 21) is moved into the cylindrical body 11 (storage space C) (moved in the N direction in FIGS. 33 and 42).
The resistor 3, the piston 4, and the impeller 65 move together with the piston shaft 2 from the first position PX within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11. be done.

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、高圧状態(高圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、図44及び図45に示すように、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車65の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体W(他方の筒端11B及び抵抗体3の間の貯留空間Cの液体W)を、抵抗体3及び羽根車65の間(噴射空間D)に噴射する。
各液体噴射穴32は、液体Wを抵抗体3(抵抗板表面3A)及び羽根車65(羽根円板42の円板裏面42B)の間(噴射空間D)に噴射することで、抵抗体3及び羽根車65の間の液体Wに羽根車5に向かう液体Wの流れを発生する。
他方の筒端11A及び抵抗体3の間の液体Wは、図44及び図45に示すように、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から抵抗体3及び羽根車65の間(噴射空間D)に噴射される。
抵抗体3及び羽根車65の間(噴射空間D)の液体Wは、各液体噴射穴32から噴射される液体Wによって、ピストン軸2の軸中心線aの方向において、抵抗体3から羽根車65に向けて流れる。
In the storage space C, a high pressure state (high pressure) is established between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the other cylindrical end 11B.
As a result, each liquid injection hole 32 (resistor 3) is moved toward the other cylindrical end 11B of the piston shaft 2, resistor 3, piston 4, and impeller 65, as shown in FIGS. 44 and 45. Accordingly, the liquid W between the other cylinder end 11B (cylinder lid 12) and the resistor 3 (the liquid W in the storage space C between the other cylinder end 11B and the resistor 3) is transferred to the resistor 3 and the impeller. 65 (injection space D).
Each liquid injection hole 32 injects the liquid W between the resistor 3 (resistance plate surface 3A) and the impeller 65 (disc back surface 42B of the vane disc 42) (injection space D). and generates a flow of liquid W toward the impeller 5 in the liquid W between the impellers 65 and 65 .
As shown in FIGS. 44 and 45, the liquid W between the other cylindrical end 11A and the resistor 3 flows into each liquid injection hole 32 as the resistor 3 moves toward the other cylindrical end 11B. The liquid is then injected from each liquid injection hole 32 between the resistor 3 and the impeller 65 (injection space D).
The liquid W between the resistor 3 and the impeller 65 (injection space D) is moved from the resistor 3 to the impeller in the direction of the axis center line a of the piston shaft 2 by the liquid W injected from each liquid injection hole 32. It flows towards 65.

抵抗体3及び羽根車65の間の貯留空間C(円筒本体11内)において、抵抗体3から羽根車65に向けて流れる液体Wは、羽根円板42の各流通穴43に流入し、各羽根板44の羽根板裏面44Bに衝突(作用)する。抵抗体3から羽根車65に向けて流れる液体Wは、羽根円板42の各液ガイド板67に衝突して、各液ガイド板67に沿って流れて、各流入穴66に流入する。
羽根車65は、液体Wの各羽根板44(羽根板裏面44B)への衝突(作用)によって、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aに流れる液体Wの運動エネルギーを、各羽根板44(傾斜角度θBで傾斜する各羽根板44)によって回転運動(回転運動のエネルギー)に変換する。
羽根車65(回転筒部41及び羽根円板42)は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸2(大径軸部21)を回転中心として時計方向(図45及び図46のQ方向)に回転される。
これにより、羽根車65は、羽根車5に向かう液体Wの流れによって、ピストン軸2(大径軸部21)の軸中心線aを回転中心として、Q方向(時計方向)に回転される。
回転筒部41、及び羽根円板42は、ピストン軸2の軸中心線aを回転中心aとして、Q方向(時計方向)に回転される。
In the storage space C (inside the cylindrical body 11) between the resistor 3 and the impeller 65, the liquid W flowing from the resistor 3 toward the impeller 65 flows into each circulation hole 43 of the vane disc 42, It collides with (acts on) the back surface 44B of the blade plate 44. The liquid W flowing from the resistor 3 toward the impeller 65 collides with each liquid guide plate 67 of the vane disc 42, flows along each liquid guide plate 67, and flows into each inflow hole 66.
The impeller 65 transfers the kinetic energy of the liquid W flowing in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2 to each blade plate 44 by the collision (action) of the liquid W with each blade plate 44 (the back surface 44B of the blade plate). (Each blade plate 44 tilted at an inclination angle θB) converts it into rotational motion (energy of rotational motion).
The impeller 65 (rotating cylinder part 41 and vane disc 42) rotates clockwise (Q direction in FIGS. 45 and 46) about the piston shaft 2 (large diameter shaft part 21) as the rotation center due to the energy of rotational motion. be done.
Thereby, the impeller 65 is rotated in the Q direction (clockwise) about the shaft center line a of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) by the flow of the liquid W toward the impeller 5.
The rotating cylinder portion 41 and the vane disk 42 are rotated in the Q direction (clockwise) with the axial center line a of the piston shaft 2 as the rotation center a.

羽根車65において、各流通穴43及び各流入穴66に流入した液体Wは、図44及び図45に示すように、羽根車65(円板表面42A)及びピストン4(ピストン裏面4B)の間(渦流空間E)に流出する。 In the impeller 65, the liquid W that has flowed into each circulation hole 43 and each inflow hole 66 flows between the impeller 65 (disk surface 42A) and the piston 4 (piston back surface 4B), as shown in FIGS. 44 and 45. (vortex space E).

羽根車65は、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4)と共に、他方の筒端11Bに向けて円筒本体11内(貯留空間C)を移動しつつ、各液体噴射穴32から連続して噴射空間Dに噴射される液体W(羽根車65に向かう液体Wの流れ)によって、Q方向に回転される。 The impeller 65 continuously injects liquid from each liquid injection hole 32 while moving within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylinder end 11B together with the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4). It is rotated in the Q direction by the liquid W injected into the space D (the flow of the liquid W toward the impeller 65).

羽根車65は、Q方向の回転によって、ピストン4(ピストン裏面4B)及び羽根車65(円板表面42A)の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生する。
ピストン4及び羽根車65の間の貯留空間C(渦流空間E)の液体Wは、羽根車65の回転によって、ピストン軸2の軸中心線aを中心として、Q方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Eにおいて、ピストン軸2(大径軸部21)周りに旋回される。
ピストン4及び羽根車65の間(渦流空間E)の液体W(液体Wの一部)は、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4及び羽根車65)の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S4)から一方の筒端11A側に流出される。
The impeller 65 generates a vortex in the liquid W between the piston 4 (piston back surface 4B) and the impeller 65 (disc surface 42A) (vortex space E) by rotation in the Q direction.
The liquid W in the storage space C (vortex space E) between the piston 4 and the impeller 65 becomes a vortex that swirls in the Q direction about the axial center line a of the piston shaft 2 due to the rotation of the impeller 65. The vortex is swirled around the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) in the vortex space E.
The liquid W (part of the liquid W) between the piston 4 and the impeller 65 (vortex space E) moves toward the other cylindrical end 11B of the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4, and impeller 65). Accordingly, it flows out from between the outer periphery 4a of the piston 4 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 (circumferential gap S4) to one cylindrical end 11A side.

ピストン4及び羽根車65の間の液体Wは、渦流空間Eにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン4及び羽根車65の間(渦流空間E)の液体Wには、渦流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
ピストン4及び羽根車65の間(渦流空間E)の液体W中の空気(気泡)は、渦流(乱流)及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン4及び羽根車5の間(渦流空間E)の液体Wに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器X3は、羽根車65を回転して、ピストン4及び羽根車65の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生することで、渦流空間Eの液体W中の空気(気体)を微細な気泡に粉砕(剪断)でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることができる。
The liquid W between the piston 4 and the impeller 65 becomes a turbulent flow due to the vortex in the vortex space E. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the piston 4 and the impeller 65 (vortex space E) due to the pressure difference of the vortex.
Air (bubbles) in the liquid W between the piston 4 and the impeller 65 (vortex space E) is crushed (sheared) into microbubbles and ultrafan bubbles by the vortex (turbulent flow) and cavitation. The microbubbles and ultrafine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the piston 4 and the impeller 5 (vortex space E).
In this way, the bubble liquid generator X3 rotates the impeller 65 to generate a vortex in the liquid W between the piston 4 and the impeller 65 (the vortex space E). of air (gas) can be pulverized (sheared) into fine bubbles, and a large amount of microbubbles and a large amount of ultrafine bubbles can be mixed and dissolved into the liquid W.

バブル液発生器X3では、ハンドル6をガイド蓋13から引上げ、及びガイド蓋13に向けて押すことで、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車65を、円筒本体11の各筒端11A,11Bの間(シリンダー蓋12及びガイド蓋13の間)で往復移動する。
バブル液発生器X3は、抵抗体3、ピストン4及び羽根車65を複数回、往復移動することで、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに複数回、乱流を発生でき、ピストン4及び羽根車65の間(渦流空間E)の液体Wに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量(多量)のマイクロバブル及び十分な量(多量)のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることが可能となる。
In the bubble liquid generator X3, by pulling up the handle 6 from the guide lid 13 and pushing it toward the guide lid 13, the piston shaft 2, the resistor 3, the piston 4, and the impeller 65 are moved to each end of the cylindrical body 11. It reciprocates between 11A and 11B (between cylinder lid 12 and guide lid 13).
The bubble liquid generator X3 can generate turbulence in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 multiple times by reciprocating the resistor 3, piston 4, and impeller 65 multiple times. , a vortex can be generated multiple times in the liquid W between the piston 4 and the impeller 65 (vortex space E), and a sufficient amount (a large amount) of microbubbles and a sufficient amount (a large amount) of ultrafine are generated by the multiple vortices. It becomes possible to mix and dissolve bubbles into the liquid W.

第4実施形態のバブル液発生器について、図47乃至図59を参照して説明する。
なお、図47乃至図59において、図1乃至図17と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。
The bubble liquid generator of the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. 47 to 59.
Note that in FIGS. 47 to 59, the same reference numerals as in FIGS. 1 to 17 indicate the same members and the same configurations, so detailed explanation thereof will be omitted.

図47乃至図59において、第4実施形態のバブル液発生器X4(以下、「バブル液発生器X4」という)は、シリンダー1、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4、羽根車75(インペラ)及びハンドル6を備える。 47 to 59, the bubble liquid generator X4 of the fourth embodiment (hereinafter referred to as “bubble liquid generator X4”) includes a cylinder 1, a piston shaft 2, a resistor 3, a piston 4, an impeller 75 ) and a handle 6.

羽根車75は、図51乃至図53に示すように、回転筒部41、及び複数の羽根板77(羽根翼)を有する。 The impeller 75 has a rotating cylinder portion 41 and a plurality of blade plates 77 (blade blades), as shown in FIGS. 51 to 53.

羽根板77は、図51乃至図53に示すように、2以上、4以下の枚数であって、例えば、回転筒部41に4枚の羽根板が形成される。
各羽根板77は、図52に示すように、回転筒部41の周方向において、各羽根板77の間に羽根板角度θP(第2羽根板角度)を隔てて配置される。羽根板角度θPは、例えば、90度(90°)である。各羽根板77は、図53に示すように、回転筒部41の筒中心線aと直交する水平方向U(以下、「水平方向U」という)に傾斜角度θD(鋭角度)をなして、回転筒部41の各回転筒端41A,41Bの間に配置される。各羽根板77は、回転筒部41の周方向において、同一方向に傾斜角度θDを有して傾斜される。傾斜角度θDは、30度(30°)以上、60度(60°)以下であって、例えば、30度(30°)である。
As shown in FIGS. 51 to 53, the number of blade plates 77 is greater than or equal to 2 and less than or equal to 4. For example, four blade plates are formed on the rotary tube portion 41.
As shown in FIG. 52, the blade plates 77 are arranged with a blade angle θP (second blade angle) between each blade plate 77 in the circumferential direction of the rotary tube portion 41. The blade angle θP is, for example, 90 degrees (90°). As shown in FIG. 53, each blade plate 77 has an inclination angle θD (acute angle) in the horizontal direction U (hereinafter referred to as "horizontal direction U") perpendicular to the cylinder center line a of the rotating cylinder part 41. It is arranged between each rotating cylinder end 41A, 41B of the rotating cylinder part 41. Each blade plate 77 is inclined in the same direction at an inclination angle θD in the circumferential direction of the rotary cylinder portion 41 . The inclination angle θD is greater than or equal to 30 degrees (30°) and less than or equal to 60 degrees (60°), and is, for example, 30 degrees (30°).

各羽根板77は、図51乃至図53に示すように、回転筒部41の外周41a(外周面)に固定(連結)される。各羽根板77は、回転筒部41の径方向において、回転筒部41の外周41aから羽根板長さLDを有して突出される。各羽根板77は、傾斜する方向S(以下、「傾斜方向S」という)に羽根板幅HDを有して、各回転筒部41の各回転筒端41A,41Bの間に配置される。 Each blade plate 77 is fixed (connected) to the outer periphery 41a (outer circumferential surface) of the rotating cylinder portion 41, as shown in FIGS. 51 to 53. Each vane plate 77 has a vane length LD and protrudes from the outer periphery 41 a of the rotary cylinder part 41 in the radial direction of the rotary cylinder part 41 . Each blade plate 77 has a blade width HD in an inclined direction S (hereinafter referred to as “inclined direction S”), and is arranged between each rotary tube end 41A, 41B of each rotary tube portion 41.

各羽根板77は、図51乃至図53に示すように、傾斜方向Sと直交する方向Tに板厚さT7を有する。各羽根板77は、板厚さ方向T(傾斜方向Sと直交する方向)に板表曲面77A及び板裏平面77Bを有する。板表曲面77Aは、水平方向Uに傾斜角度θDを有して、回転筒部41の他方の筒端41B側に形成される。板表曲面77Aは、回転筒部41の他方の回転筒端41A側に弧状に突出して形成される。板裏平面77Bは、水平方向Uに傾斜角度θDを有して、回転筒部41の一方の回転筒端41A側に形成される。
各羽根板77は、図51及び図53に示すように、回転筒部41の周方向において、各羽根板77の間(隣設する一方の羽根板77の板表曲面77A、及び隣設する他方の羽根板77の板裏平面77Bの間)に傾斜流路τを形成して、水平方向Uに傾斜角度θDをなして傾斜される。
傾斜流路τは、回転筒部41の周方向において、隣設する羽根板77の板表曲面77A及び板裏平面77Bの間に形成され、傾斜角度θDで傾斜しつつ回転筒部41の各回転筒端41A,41Bに開口される。
Each vane plate 77 has a thickness T7 in the direction T orthogonal to the inclination direction S, as shown in FIGS. 51 to 53. Each vane plate 77 has a plate front curved surface 77A and a plate back plane 77B in the plate thickness direction T (direction orthogonal to the inclination direction S). The plate surface curved surface 77A has an inclination angle θD in the horizontal direction U and is formed on the other cylindrical end 41B side of the rotary cylindrical portion 41. The plate surface curved surface 77A is formed to protrude in an arc shape toward the other rotary cylinder end 41A side of the rotary cylinder part 41. The plate back plane 77B has an inclination angle θD in the horizontal direction U and is formed on one rotary tube end 41A side of the rotary tube portion 41.
As shown in FIGS. 51 and 53, the blade plates 77 are arranged in the circumferential direction of the rotary cylinder portion 41 between each blade plate 77 (the curved plate surface 77A of one adjacent blade plate 77, An inclined flow path τ is formed between the back planes 77B of the other blade plate 77, and is inclined in the horizontal direction U at an inclination angle θD.
The inclined flow path τ is formed in the circumferential direction of the rotary cylinder part 41 between the plate surface curved surface 77A and the plate back plane 77B of the adjacent vane plates 77, and is inclined at an inclination angle θD while passing through each of the rotary cylinder part 41. It is opened at the rotating cylinder ends 41A and 41B.

羽根車75は、図47乃至図50に示すように、円筒本体11に同心として貯留空間C(円筒本体11内)に配置されて、貯留空間Cの液体Wに浸漬される。
羽根車75は、回転筒部41の他方の筒端41B及び各羽根板77の板表曲面77A(傾斜曲面)をピストン4に向け、回転筒部41の一方の回転筒端41A及び各羽根板77の板裏平面77B(傾斜平面)を抵抗体3に向けて、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。
羽根車75は、羽根板77の板裏平面77B(板表曲面)を抵抗体3の抵抗板表面3Aに傾斜角度θDをなして、貯留空間Cに配置される。羽根車75は、羽根板77の板裏平面77B(板表曲面)をピストン4のピストン裏面4Bに傾斜角度θDをなして、貯留空間Cに配置される。
As shown in FIGS. 47 to 50, the impeller 75 is disposed concentrically with the cylindrical body 11 in the storage space C (inside the cylindrical body 11), and is immersed in the liquid W in the storage space C.
The impeller 75 has the other cylindrical end 41B of the rotary cylindrical portion 41 and the curved plate surface 77A (inclined curved surface) of each vane plate 77 facing the piston 4, and the other cylindrical end 41B of the rotary cylindrical portion 41 and each vane plate. It is arranged between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (inside the cylindrical body 11) with the plate back plane 77B (inclined plane) of the plate 77 facing the resistor 3.
The impeller 75 is arranged in the storage space C with the back plane 77B (curved surface of the plate) of the blade plate 77 forming an inclination angle θD to the resistance plate surface 3A of the resistor 3. The impeller 75 is arranged in the storage space C with the back plane 77B (curved surface of the plate) of the blade plate 77 making an inclination angle θD to the piston back surface 4B of the piston 4.

羽根車75は、図50に示すように、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔てると共に、ピストン4に第3軸線間隔K3を隔てて貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。
バブル液発生器X4の第2軸線間隔K2は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3の抵抗板表面3A及び回転筒部41の一方の回転筒端41Aの間の間隔である。バブル液発生器X4の第3軸線間隔K3は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、ピストン4のピストン裏面4B及び回転筒部41の他方の筒端41Bの間の間隔である。
As shown in FIG. 50, the impeller 75 is spaced apart from the resistor 3 by a second axial spacing K2 and is spaced from the piston 4 by a third axial spacing K3 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is arranged between the resistor 3 and the piston 4 in the space C (inside the cylindrical body 11).
The second axial distance K2 of the bubble liquid generator X4 is the distance between the resistance plate surface 3A of the resistor 3 and one rotary cylinder end 41A of the rotary cylinder part 41 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is. The third axial distance K3 of the bubble liquid generator X4 is the distance between the piston back surface 4B of the piston 4 and the other cylindrical end 41B of the rotary cylindrical portion 41 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2.

羽根車75は、図49及び図50に示すように、円筒本体11の内周11aに周隙間S5(羽根車周隙間)を隔ててピストン軸2(大径軸部21)に回転自在に配置される。
羽根車75は、回転筒部41(円筒本体11)の径方向において、円筒本体11の内周11a、及び各羽根板77の先端77aの間に周隙間S5を隔てて、大径軸部21に回転自在に配置される。
As shown in FIGS. 49 and 50, the impeller 75 is rotatably disposed on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) with a circumferential gap S5 (impeller circumferential gap) on the inner circumference 11a of the cylindrical body 11. be done.
The impeller 75 has a circumferential gap S5 between the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 and the tip 77a of each vane plate 77 in the radial direction of the rotating cylindrical part 41 (cylindrical body 11). It is arranged so that it can rotate freely.

羽根車75は、図50に示すように、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間において、回転筒部41を大径軸部21(ピストン軸2)に回転自在に外嵌して、第1抜止め溝24及び第2抜止め溝25の間の大径軸部21に配置される。羽根車75は、回転筒部41内にピストン軸2(大径軸部21)を貫通(挿通)して、大径軸部21に回転自在に外嵌される。 As shown in FIG. 50, the impeller 75 rotates the rotary cylinder part 41 around the large diameter shaft part 21 (piston shaft 2) between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (inside the cylindrical body 11). It is disposed on the large diameter shaft portion 21 between the first retaining groove 24 and the second retaining groove 25 so as to fit outwardly. The impeller 75 penetrates (inserts) the piston shaft 2 (large-diameter shaft section 21) into the rotating cylinder section 41, and is rotatably fitted onto the large-diameter shaft section 21.

羽根車75は、図50に示すように、ワッシャー45(平座金)及び一対のスナップリング46,47によって大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされる。
羽根車75は、図7で説明したと同様に、回転筒部41の一方の回転筒端41Aをワッシャー45に回転自在に当接し、回転筒部41の他方の回転筒端41Bを第2抜止め溝25に挿入したスナップリング47に回転自在に当接して、各スナップリング46,47の間(第1及び第2抜止め溝24,25の間)の大径軸部21に配置(外嵌)される。
羽根車75は、回転筒部41を回転自在として各スナップリング46,47によって挟持することで、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔て、及びピストン4に第3軸線間隔K3を隔てる大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされて、ピストン軸2(大径軸部21)に回転自在として配置(外嵌)される。
これにより、羽根車75は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3及び羽根車75の間に第2軸線間隔K2を隔てる噴射空間Dと、ピストン4及び羽根車75の間に第3軸線間隔K3を隔てる渦流空間Eを区画する。
As shown in FIG. 50, the impeller 75 is positioned on the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) by a washer 45 (flat washer) and a pair of snap rings 46, 47.
The impeller 75 rotatably contacts the washer 45 with one rotary cylinder end 41A of the rotary cylinder part 41, as described in FIG. It rotatably abuts the snap ring 47 inserted into the retaining groove 25 and is disposed (outer) on the large diameter shaft portion 21 between the respective snap rings 46 and 47 (between the first and second retaining grooves 24 and 25). be fitted).
The impeller 75 has a large diameter which separates the resistor 3 by a second axial distance K2 and the piston 4 by a third axial distance K3 by making the rotary cylinder part 41 rotatable and sandwiching it between the snap rings 46 and 47. It is positioned on the shaft portion 21 (piston shaft 2) and rotatably disposed (fitted externally) on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21).
Thereby, the impeller 75 is connected to the injection space D which separates the second axis distance K2 between the resistor 3 and the impeller 75 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and A vortex space E is defined with a third axial spacing K3 therebetween.

各羽根板77(各傾斜流路τ)は、図50に示すように、羽根車75を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3の各液体噴射穴32に対向(対峙)して配置される。 As shown in FIG. 50, when the impeller 75 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each blade plate 77 (each inclined flow path τ) is formed in the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. In this case, the resistor 3 is arranged to face each liquid injection hole 32 of the resistor 3 .

各液体噴射穴32は、図49及び図50に示すように、羽根車75を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3を貫通して、他方の筒端11B及び抵抗体3の間に開口されると共に、抵抗体3及び羽根車75の間(抵抗体3及び羽根車75の間の貯留空間C)に開口される。
各液体噴射穴32は、羽根車75を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根車75の各羽根板77(各傾斜流路τ)に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIGS. 49 and 50, when the impeller 75 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 has a resistance in the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. It penetrates through the body 3 and is opened between the other cylindrical end 11B and the resistor 3, and is also opened between the resistor 3 and the impeller 75 (storage space C between the resistor 3 and the impeller 75). be done.
When the impeller 75 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 is formed in each vane plate 77 of the impeller 75 (each inclined are arranged to face (oppose) the flow path τ).

バブル液発生器X4は、図47、図48及び図55に示すように、円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)を重力方向(上下方向の下方)に向けて配置する。 As shown in FIGS. 47, 48, and 55, the bubble liquid generator X4 is arranged with the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11 facing the direction of gravity (downward in the vertical direction).

バブル液発生器X4は、図3及び図13で説明したと同様に、貯留空間C(円筒本体11内)に液体Wが貯留される(図48及び図55参照)。
バブル液発生器X4は、図12及び図13で説明したと同様に、抵抗体3、ピストン4及び羽根車75を一方の筒端11Aに向けて移動して、第1位置PXに配置する(図55及び図56参照)。
In the bubble liquid generator X4, the liquid W is stored in the storage space C (inside the cylindrical body 11) as described in FIGS. 3 and 13 (see FIGS. 48 and 55).
The bubble liquid generator X4 moves the resistor 3, piston 4, and impeller 75 toward one cylindrical end 11A and arranges them at the first position PX, as described in FIGS. 12 and 13 ( (See FIGS. 55 and 56).

抵抗体3、ピストン4及び羽根車75の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、ピストン4及び一方の筒端11A(ガイド蓋13)の間の液体Wは、図54に示すように、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aを通って、ピストン4及び羽根車75の間(渦流空間E)の液体Wに流出される。 As the resistor 3, piston 4, and impeller 75 move toward one cylindrical end 11A (guide lid 13), the liquid W between the piston 4 and one cylindrical end 11A (guide lid 13) moves as shown in FIG. As shown at 54, the liquid flows through the outer circumference 4a of the piston 4 and the inner circumference 11a of the cylindrical body 11, and flows out into the liquid W between the piston 4 and the impeller 75 (vortex space E).

ピストン4及び羽根車75の間(渦流空間E)の液体Wは、図54に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車75の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、羽根車75を回転すると共に、各傾斜流路τを通って、抵抗体3及び羽根車75の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。ピストン4及び羽根車75の間の液体Wは、羽根円板42の外周42a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S5)を通って、抵抗体3及び羽根車75の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。 The liquid W between the piston 4 and the impeller 75 (vortex space E) moves toward one cylindrical end 11A (guide lid 13) of the resistor 3, the piston 4, and the impeller 75, as shown in FIG. As a result, the impeller 75 is rotated, and the liquid W flows through each inclined flow path τ to the liquid W between the resistor 3 and the impeller 75 (injection space D). The liquid W between the piston 4 and the impeller 75 passes between the outer periphery 42a of the impeller disk 42 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 (peripheral gap S5), and passes between the resistor 3 and the impeller 75 (injection It flows out into the liquid W in the space D).

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の一方の筒端11Aに向けた移動に伴って、負圧状態(負圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、図54に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車75の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、抵抗体3及び羽根車75の間(噴射空間D)の液体Wを、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体Wに噴射する。
抵抗体3及び羽根車75の間(噴射空間D)の液体Wは、抵抗体3の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに噴射される。
他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wは、各液体噴射穴32から噴射される噴射空間Dの液体Wによって乱流となる。他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wには、乱流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
他方の筒端11B及び抵抗体3の液体W中の空気(気泡)は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに混入及び溶込む。
In the storage space C, a negative pressure state (negative pressure) is created between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the one cylindrical end 11A.
As a result, each liquid injection hole 32 (resistor 3) moves as the resistor 3, piston 4, and impeller 75 move toward one cylindrical end 11A (guide lid 13), as shown in FIG. , the liquid W between the resistor 3 and the impeller 75 (injection space D) is injected into the liquid W between the other cylinder end 11B (cylinder lid 12) and the resistor 3.
The liquid W between the resistor 3 and the impeller 75 (injection space D) flows into each liquid injection hole 32 as the resistor 3 moves toward one cylindrical end 11A (guide lid 13). , is injected from each liquid injection hole 32 into the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3.
The liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 becomes a turbulent flow due to the liquid W in the injection space D injected from each liquid injection hole 32. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 due to the turbulent pressure difference.
The air (bubbles) in the liquid W at the other tube end 11B and the resistor 3 are pulverized (sheared) into microbubbles and ultrafine bubbles by turbulence and cavitation. The microbubbles and ultrafine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the other tube end 11B and the resistor 3.

抵抗体3、ピストン4及び羽根車75を第1位置PXに位置(配置)すると、ハンドル6をガイド蓋13(円筒本体11の一方の筒端11A)に向けて押して、ピストン軸2(大径軸部21)を円筒本体11内(貯留空間C)に移動する(図48及び図55のN方向に移動する)。
抵抗体3、ピストン4及び羽根車75は、ピストン軸2と共に、第1位置PXから円筒本体11内(貯留空間C)を円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)に向けて移動される。
When the resistor 3, the piston 4, and the impeller 75 are positioned (arranged) at the first position PX, the handle 6 is pushed toward the guide lid 13 (one cylindrical end 11A of the cylindrical body 11), and the piston shaft 2 (large diameter The shaft portion 21) is moved into the cylindrical body 11 (storage space C) (moved in the N direction in FIGS. 48 and 55).
The resistor 3, the piston 4, and the impeller 75 move together with the piston shaft 2 from the first position PX within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11. be done.

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、高圧状態(高圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車75の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体W(他方の筒端11B及び抵抗体3の間の貯留空間Cの液体W)を、抵抗体3及び羽根車75の間(噴射空間D)に噴射する。
これにより、各液体噴射穴32は、液体Wを抵抗体3(抵抗板表面3A)及び羽根車75(羽根円板42の円板裏面42B)の間(噴射空間D)に噴射することで、抵抗体3及び羽根車75の間の液体Wに羽根車5に向かう液体Wの流れを発生する。
他方の筒端11A及び抵抗体3の間の液体Wは、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から抵抗体3及び羽根車75の間(噴射空間D)に噴射される。
抵抗体3及び羽根車75の間(噴射空間D)の液体Wは、図57及び図58に示すように、各液体噴射穴32から噴射される液体Wによって、ピストン軸2の軸中心線aの方向において、抵抗体3から羽根車75に向けて流れる。
In the storage space C, a high pressure state (high pressure) occurs between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the other cylindrical end 11B.
As a result, each liquid injection hole 32 (resistor 3) moves toward the other cylinder end 11B of the piston shaft 2, the resistor 3, the piston 4, and the impeller 75, and The liquid W between the lid 12) and the resistor 3 (the liquid W in the storage space C between the other cylinder end 11B and the resistor 3) is injected into between the resistor 3 and the impeller 75 (injection space D). do.
As a result, each liquid injection hole 32 injects the liquid W between the resistor 3 (resistance plate surface 3A) and the impeller 75 (disk back surface 42B of the vane disk 42) (injection space D). A flow of liquid W toward the impeller 5 is generated between the resistor 3 and the impeller 75 .
The liquid W between the other cylindrical end 11A and the resistor 3 flows into each liquid injection hole 32 as the resistor 3 moves toward the other cylindrical end 11B. It is injected between the body 3 and the impeller 75 (injection space D).
As shown in FIGS. 57 and 58, the liquid W between the resistor 3 and the impeller 75 (injection space D) is moved along the axial center line a of the piston shaft 2 by the liquid W injected from each liquid injection hole 32. Flows from the resistor 3 toward the impeller 75 in the direction of .

抵抗体3及び羽根車75の間の貯留空間C(円筒本体11内)において、抵抗体3から羽根車75に向けて流れる液体Wは、羽根車75の各傾斜流路τ(各羽根板77の間)に流入し、各羽根板77の板裏表面77Aに衝突(作用)する。
羽根車75は、液体Wの各羽根板77(板表曲面77A)への衝突(作用)によって、傾斜角度θDで流れる液体Wの運動エネルギーを、各羽根板77(傾斜角度θDで傾斜する各羽根板77)によって回転運動(回転運動のエネルギー)に変換する。
羽根車75(回転筒部41)は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸2(大径軸部21)を回転中心として反時計方向(図58及び図59のV方向)に回転される。
これにより、羽根車75は、羽根車75に向かう液体Wの流れによって、ピストン軸2(大径軸部21)の軸中心線aを回転中心として、V方向(反時計方向)に回転される。
In the storage space C (inside the cylindrical body 11) between the resistor 3 and the impeller 75, the liquid W flowing from the resistor 3 toward the impeller 75 flows through each inclined flow path τ of the impeller 75 (each vane plate 77). (between) and collides with (acts on) the back surface 77A of each vane plate 77.
The impeller 75 transfers the kinetic energy of the liquid W flowing at an inclination angle θD to each vane plate 77 (each inclined at an inclination angle θD) by the collision (action) of the liquid W on each vane plate 77 (curved plate surface 77A). It is converted into rotational motion (energy of rotational motion) by the vane plate 77).
The impeller 75 (rotating cylinder part 41) is rotated counterclockwise (direction V in FIGS. 58 and 59) about the piston shaft 2 (large diameter shaft part 21) as a rotation center by the energy of the rotational motion.
As a result, the impeller 75 is rotated in the V direction (counterclockwise) about the axis center line a of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) by the flow of the liquid W toward the impeller 75. .

羽根車75において、各傾斜流路τに流入した液体Wは、図57及び図58に示すように、羽根車75(他方の回転筒端41B)及びピストン4(ピストン裏面4B)の間(渦流空間E)に流出する。 In the impeller 75, the liquid W flowing into each inclined flow path τ flows between the impeller 75 (the other rotary tube end 41B) and the piston 4 (the back surface 4B of the piston) (vortex flow), as shown in FIGS. 57 and 58. It flows out into space E).

羽根車75は、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4)と共に、他方の筒端11Bに向けて円筒本体11内(貯留空間C)を移動しつつ、各液体噴射穴32から連続して噴射空間Dに噴射される液体W(羽根車75に向かう液体Wの流れ)によって、V方向に回転される。 The impeller 75 continuously injects liquid from each liquid injection hole 32 while moving within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylinder end 11B together with the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4). It is rotated in the V direction by the liquid W injected into the space D (the flow of the liquid W toward the impeller 75).

羽根車75は、V方向の回転によって、ピストン4(ピストン裏面4B)及び羽根車75(他方の回転筒端41B)の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生する。
ピストン4及び羽根車75の間の貯留空間C(渦流空間E)の液体Wは、羽根車75の回転によって、ピストン軸2の軸中心線aを中心として、V方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Eにおいて、ピストン軸2(大径軸部21)周りに旋回される。
ピストン4及び羽根車75の間(渦流空間E)の液体W(液体Wの一部)は、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4及び羽根車75)の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S4)から一方の筒端11A側に流出される。
By rotating in the V direction, the impeller 75 generates a vortex in the liquid W between the piston 4 (piston back surface 4B) and the impeller 75 (the other rotating tube end 41B) (in the vortex space E).
The liquid W in the storage space C (vortex space E) between the piston 4 and the impeller 75 becomes a vortex that swirls in the V direction about the axial center line a of the piston shaft 2 due to the rotation of the impeller 75. The vortex is swirled around the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) in the vortex space E.
The liquid W (part of the liquid W) between the piston 4 and the impeller 75 (vortex space E) moves toward the other cylindrical end 11B of the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4, and impeller 75). Accordingly, it flows out from between the outer periphery 4a of the piston 4 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 (circumferential gap S4) to one cylindrical end 11A side.

ピストン4及び羽根車75の間の液体Wは、渦流空間Eにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン4及び羽根車75の間(渦流空間E)の液体Wには、渦流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
ピストン4及び羽根車75の間(渦流空間E)の液体W中の空気(気泡)は、渦流(乱流)及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン4及び羽根車75の間(渦流空間E)の液体Wに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器X4は、羽根車75を回転して、ピストン4及び羽根車75の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生することで、渦流空間Eの液体W中の空気(気体)を微細な気泡に粉砕(剪断)でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることができる。
The liquid W between the piston 4 and the impeller 75 becomes turbulent in the vortex space E due to the vortex. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the piston 4 and the impeller 75 (vortex space E) due to the pressure difference of the vortex.
Air (bubbles) in the liquid W between the piston 4 and the impeller 75 (vortex space E) is crushed (sheared) into microbubbles and ultrafan bubbles by the vortex (turbulent flow) and cavitation. The microbubbles and ultra-fine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the piston 4 and the impeller 75 (vortex space E).
In this way, the bubble liquid generator X4 rotates the impeller 75 to generate a vortex in the liquid W between the piston 4 and the impeller 75 (the vortex space E). of air (gas) can be pulverized (sheared) into fine bubbles, and a large amount of microbubbles and a large amount of ultrafine bubbles can be mixed and dissolved into the liquid W.

バブル液発生器X4では、ハンドル6をガイド蓋13から引上げ、及びガイド蓋13に向けて押すことで、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車75を、円筒本体11の各筒端11A,11Bの間(シリンダー蓋12及びガイド蓋13の間)で往復移動する。
バブル液発生器X4は、抵抗体3、ピストン4及び羽根車75を複数回、往復移動することで、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに複数回、乱流を発生でき、ピストン4及び羽根車75の間(渦流空間E)の液体Wに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量(多量)のマイクロバブル及び十分な量(多量)のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることが可能となる。
In the bubble liquid generator It reciprocates between 11A and 11B (between cylinder lid 12 and guide lid 13).
The bubble liquid generator X4 can generate turbulence in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 multiple times by reciprocating the resistor 3, piston 4, and impeller 75 multiple times. , a vortex can be generated multiple times in the liquid W between the piston 4 and the impeller 75 (vortex space E), and a sufficient amount (a large amount) of microbubbles and a sufficient amount (a large amount) of ultrafine are generated by the multiple vortices. It becomes possible to mix and dissolve bubbles into the liquid W.

第5実施形態のバブル液発生器について、図60乃至図72を参照して説明する。
なお、図60乃至図72において、図1乃至図17と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。
The bubble liquid generator of the fifth embodiment will be described with reference to FIGS. 60 to 72.
Note that in FIGS. 60 to 72, the same reference numerals as in FIGS. 1 to 17 indicate the same members and the same configurations, so detailed explanation thereof will be omitted.

図60乃至図72において、第5実施形態のバブル液発生器X5(以下、「バブル液発生器X5」という)は、シリンダー1、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4、羽根車85(インペラ)及びハンドル6を備える。 60 to 72, the bubble generator X5 of the fifth embodiment (hereinafter referred to as "bubble generator X5") includes a cylinder 1, a piston shaft 2, a resistor 3, a piston 4, an impeller 85 (impeller ) and a handle 6.

羽根車85は、図64乃至図66に示すように、回転筒部41、及び複数の羽根板87(羽根翼)を有する。 As shown in FIGS. 64 to 66, the impeller 85 includes a rotating cylinder portion 41 and a plurality of blade plates 87 (blade blades).

羽根板87は、図64乃至図66に示すように、5以上の枚数であって、例えば、回転筒部41に12枚の羽根板が形成される。
各羽根板87は、回転筒部41の周方向において、各羽根板87の間に羽根板角度θQ(第3羽根板角度)を隔てて配置される。羽根板角度θQは、例えば、30度(30°)である。各羽根板87は、回転筒部41の筒中心線aと直交する水平方向U(水平方向)に傾斜角度θE(鋭角度)をなして、回転筒部41の各回転筒端41A,41Bの間に配置される。各羽根板87は、回転筒部41の周方向において、同一方向に傾斜角度θEを有して傾斜される。傾斜角度θEは、45度(45°)以上、60度(60°)以下であって、例えば、60度(60°)である。
As shown in FIGS. 64 to 66, the number of blade plates 87 is five or more, and for example, 12 blade plates are formed on the rotary tube portion 41.
Each vane plate 87 is arranged with a vane plate angle θQ (third vane plate angle) between each vane plate 87 in the circumferential direction of the rotary tube portion 41 . The vane angle θQ is, for example, 30 degrees (30°). Each vane plate 87 forms an inclination angle θE (acute angle) in the horizontal direction U (horizontal direction) perpendicular to the cylinder center line a of the rotary cylinder part 41, and is attached to each rotary cylinder end 41A, 41B of the rotary cylinder part 41. placed between. Each blade plate 87 is inclined in the same direction at an inclination angle θE in the circumferential direction of the rotary cylinder portion 41 . The inclination angle θE is greater than or equal to 45 degrees (45°) and less than or equal to 60 degrees (60°), and is, for example, 60 degrees (60°).

各羽根板87は、回転筒部41の外周41a(外周面)に固定(連結)される。各羽根板87は、図65に示すように、回転筒部41の径方向において、各回転筒部41の外周41aから羽根長さLDを有して突出される。各羽根板87は、傾斜する方向S(傾斜方向)に羽根板幅HEを有して、各回転筒部41の各回転筒端41A,41Bの間に配置される。 Each blade plate 87 is fixed (connected) to the outer periphery 41 a (outer circumferential surface) of the rotary tube portion 41 . As shown in FIG. 65, each blade plate 87 has a blade length LD and protrudes from the outer periphery 41a of each rotary cylinder part 41 in the radial direction of the rotary cylinder part 41. Each blade plate 87 has a blade width HE in the inclined direction S (inclination direction), and is arranged between each rotary cylinder end 41A, 41B of each rotary cylinder part 41.

各羽根板87は、図66に示すように、傾斜方向Sと直交する方向Tに板厚さT8を有する。各羽根板87は、図64乃至図66に示すように、板厚さ方向T(傾斜方向Sと直交する方向)に板表曲面87A及び板裏平面87Bを有する。板表曲面87Aは、水平方向Uに傾斜角度θEを有して、回転筒部41の他方の回転筒端41B側に形成される。板表曲面87Aは、回転筒部41の他方の回転筒端41B側に弧状に突出して形成される。板裏平面87Bは、水平方向Uに傾斜角度θEを有して、回転筒部41の一方の回転筒端41A側に形成される。
各羽根板87は、図64及び図66に示すように、回転筒部41の周方向において、各羽根板87の間(隣設する一方の羽根板87の板表曲面87A、及び隣設する他方の羽根板87の板裏平面87Bの間)に傾斜流路λを形成して、水平方向Uに傾斜角度θEをなして傾斜される。
傾斜流路λは、回転筒部41の周方向において、隣設する羽根板87の板表曲面87A及び板裏平面87Bの間に形成され、傾斜角度θEで傾斜しつつ回転筒部41の各回転筒端41A,41Bに開口される。
Each vane plate 87 has a thickness T8 in the direction T orthogonal to the inclination direction S, as shown in FIG. As shown in FIGS. 64 to 66, each blade plate 87 has a plate front curved surface 87A and a plate back plane 87B in the plate thickness direction T (direction orthogonal to the inclination direction S). The plate surface curved surface 87A has an inclination angle θE in the horizontal direction U and is formed on the other rotary cylinder end 41B side of the rotary cylinder portion 41. The plate surface curved surface 87A is formed to protrude in an arc toward the other rotary cylinder end 41B side of the rotary cylinder part 41. The plate back plane 87B has an inclination angle θE in the horizontal direction U and is formed on one rotary cylinder end 41A side of the rotary cylinder portion 41.
As shown in FIGS. 64 and 66, the blades 87 are arranged in the circumferential direction of the rotary tube portion 41 between the blades 87 (the curved surface 87A of one of the adjacent blades 87, and the curved surface 87A of the adjacent blade 87). An inclined flow path λ is formed between the back planes 87B of the other blade plate 87, and is inclined in the horizontal direction U at an inclination angle θE.
The inclined flow path λ is formed in the circumferential direction of the rotary cylinder part 41 between the plate surface curved surface 87A and the plate back surface 87B of the adjacent vane plate 87, and is inclined at an inclination angle θE to each of the rotary cylinder part 41. It is opened at the rotating cylinder ends 41A and 41B.

羽根車85は、図60乃至図63に示すように、円筒本体11に同心として貯留空間C(円筒本体11内)に配置されて、貯留空間Cの液体Wに浸漬される。
羽根車85は、回転筒部41の他方の回転筒端41B及び各羽根板87の板表曲面87A(傾斜曲面)をピストン4に向け、回転筒部41の一方の回転筒端41A及び各羽根板87の板裏平面87B(傾斜平面)を抵抗体3に向けて、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。
羽根車85は、羽根板87の板裏平面77B(板表曲面87A)を抵抗体3の抵抗板表面3Aに傾斜角度θEをなして、貯留空間Cに配置される。羽根車85は、羽根板87の板裏平面87B(板表曲面87Aをピストン4のピストン裏面4Bに傾斜角度θEをなして、貯留空間Cに配置される。
As shown in FIGS. 60 to 63, the impeller 85 is disposed concentrically with the cylindrical body 11 in the storage space C (inside the cylindrical body 11), and is immersed in the liquid W in the storage space C.
The impeller 85 has the other rotary tube end 41B of the rotary tube portion 41 and the plate surface curved surface 87A (inclined curved surface) of each blade plate 87 facing the piston 4, and the one rotary tube end 41A of the rotary tube portion 41 and each blade. The plate 87 is disposed between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (inside the cylindrical body 11) with the back plane 87B (slanted plane) of the plate 87 facing the resistor 3.
The impeller 85 is arranged in the storage space C with the back plane 77B (curved surface 87A) of the blade plate 87 forming an inclination angle θE to the resistance plate surface 3A of the resistor 3. The impeller 85 is arranged in the storage space C with the back plane 87B of the vane plate 87 (the curved plate surface 87A forming an inclination angle θE to the piston back surface 4B of the piston 4).

羽根車85は、図63に示すように、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔てると共に、ピストン4に第3軸線間隔K3を隔てて貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間に配置される。
バブル液発生器X5の第2軸線間隔K2は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3の抵抗板表面3A及び回転筒部41の一方の回転筒端41Aの間の間隔である。バブル液発生器X5の第3軸線間隔K3は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、ピストン4のピストン裏面4B及び回転筒部41の他方の回転筒端41Bの間の間隔である。
As shown in FIG. 63, the impeller 85 is spaced apart from the resistor 3 by a second axial spacing K2 and from the piston 4 by a third axial spacing K3 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is arranged between the resistor 3 and the piston 4 in the space C (inside the cylindrical body 11).
The second axial distance K2 of the bubble liquid generator X5 is the distance between the resistance plate surface 3A of the resistor 3 and one rotary cylinder end 41A of the rotary cylinder part 41 in the direction A of the axial center line a of the piston shaft 2. It is. The third axis interval K3 of the bubble liquid generator X5 is the interval between the piston back surface 4B of the piston 4 and the other rotating cylinder end 41B of the rotating cylinder part 41 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2. .

羽根車85は、図62及び図63に示すように、円筒本体11の内周11aに周隙間S5(羽根車周隙間)を隔ててピストン軸2(大径軸部21)に回転自在に配置される。
羽根車85は、回転筒部41(円筒本体11)の径方向において、円筒本体11の内周11a、及び各羽根板87の先端87aの間に周隙間S5を隔てて、大径軸部21に回転自在に配置される。
As shown in FIGS. 62 and 63, the impeller 85 is rotatably disposed on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) with a circumferential gap S5 (impeller circumferential gap) on the inner circumference 11a of the cylindrical body 11. be done.
The impeller 85 is connected to the large diameter shaft portion 21 with a circumferential gap S5 between the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 and the tip 87a of each vane plate 87 in the radial direction of the rotating tube portion 41 (cylindrical body 11). It is arranged so that it can rotate freely.

羽根車85は、図63に示すように、貯留空間C(円筒本体11内)の抵抗体3及びピストン4の間において、回転筒部41を大径軸部21(ピストン軸2)に回転自在に外嵌して、第1抜止め溝24及び第2抜止め溝25の間の大径軸部21に配置される。羽根車85は、回転筒部41内にピストン軸2(大径軸部21)を貫通(挿通)して、大径軸部21に回転自在に外嵌される。 As shown in FIG. 63, the impeller 85 rotates the rotary cylinder part 41 around the large diameter shaft part 21 (piston shaft 2) between the resistor 3 and the piston 4 in the storage space C (inside the cylindrical body 11). It is disposed on the large diameter shaft portion 21 between the first retaining groove 24 and the second retaining groove 25 so as to fit outwardly. The impeller 85 penetrates (inserts) the piston shaft 2 (large-diameter shaft portion 21) into the rotary cylinder portion 41, and is rotatably fitted onto the large-diameter shaft portion 21.

羽根車85は、図63に示すように、ワッシャー45(平座金)及び一対のスナップリング46,47によって大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされる。
羽根車85は、図7で説明したと同様に、回転筒部41の一方の回転筒端41Aをワッシャー45に回転自在に当接し、回転筒部41の他方の回転筒端41Bを第2抜止め溝25に挿入したスナップリング47に回転自在に当接して、各スナップリング46,47の間(第1及び第2抜止め溝24,25の間)の大径軸部21に配置(外嵌)される。
羽根車85は、回転筒部41を回転自在として各スナップリング46,47によって挟持することで、抵抗体3に第2軸線間隔K2を隔て、及びピストン4に第3軸線間隔K3を隔てる大径軸部21(ピストン軸2)に位置決めされて、ピストン軸2(大径軸部21)に回転自在として配置(外嵌)される。
これにより、羽根車85は、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3及び羽根車85の間に第2軸線間隔K2を隔てる噴射空間Dと、ピストン4及び羽根車85の間に第3軸線間隔K3を隔てる渦流空間Eを区画する。
As shown in FIG. 63, the impeller 85 is positioned on the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2) by a washer 45 (flat washer) and a pair of snap rings 46, 47.
The impeller 85 rotatably contacts the washer 45 with one rotary cylinder end 41A of the rotary cylinder part 41, as described in FIG. It rotatably abuts the snap ring 47 inserted into the retaining groove 25 and is disposed (outer) on the large diameter shaft portion 21 between the respective snap rings 46 and 47 (between the first and second retaining grooves 24 and 25). be fitted).
The impeller 85 has a large diameter which separates the resistor 3 by a second axial distance K2 and the piston 4 by a third axial distance K3 by making the rotary cylinder part 41 rotatable and sandwiching it between the snap rings 46 and 47. It is positioned on the shaft portion 21 (piston shaft 2) and rotatably disposed (fitted externally) on the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21).
Thereby, the impeller 85 is connected to the injection space D which separates the second axis distance K2 between the resistor 3 and the impeller 85 in the direction A of the axis center line a of the piston shaft 2, and A vortex space E is defined with a third axial spacing K3 therebetween.

各羽根板87(各傾斜流路λ)は、図63に示すように、羽根車85を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3の各液体噴射穴32に対向(対峙)して配置される。 As shown in FIG. 63, when the impeller 85 is fitted onto the large diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each vane plate 87 (each inclined flow path λ) In this case, the resistor 3 is arranged to face each liquid injection hole 32 of the resistor 3 .

各液体噴射穴32は、図63に示すように、羽根車85を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、抵抗体3を貫通して、他方の筒端11B及び抵抗体3の間に開口されると共に、抵抗体3及び羽根車85の間(抵抗体3及び羽根車85の間の貯留空間C)に開口される。
各液体噴射穴32は、羽根車85を大径軸部21(ピストン軸2)に外嵌すると、ピストン軸2の軸中心線aの方向Aにおいて、羽根車85の各羽根板87(各傾斜流路λ)に対向(対峙)して配置される。
As shown in FIG. 63, when the impeller 85 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 has a resistor 3 in the direction A of the shaft center line a of the piston shaft 2. It penetrates and opens between the other cylindrical end 11B and the resistor 3, and also opens between the resistor 3 and the impeller 85 (storage space C between the resistor 3 and the impeller 85).
When the impeller 85 is fitted onto the large-diameter shaft portion 21 (piston shaft 2), each liquid injection hole 32 is formed in each vane plate 87 of the impeller 85 (each inclined are arranged to face (oppose) the flow path λ).

バブル液発生器X5は、図60、図61及び図68に示すように、円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)を重力方向(上下方向の下方)に向けて配置する。 As shown in FIGS. 60, 61, and 68, the bubble liquid generator X5 is arranged with the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11 facing the direction of gravity (downward in the vertical direction).

バブル液発生器X5は、図3及び図13で説明したと同様に、貯留空間C(円筒本体11内)に液体Wが貯留される(図61及び図68参照)。
バブル液発生器X5は、図12及び図13で説明したと同様に、抵抗体3、ピストン4及び羽根車85を一方の筒端11Aに向けて移動して、第1位置PXに配置する(図68及び図69参照)。
In the bubble liquid generator X5, the liquid W is stored in the storage space C (inside the cylindrical body 11) as described in FIGS. 3 and 13 (see FIGS. 61 and 68).
The bubble liquid generator X5 moves the resistor 3, piston 4, and impeller 85 toward one cylinder end 11A and arranges them at the first position PX, in the same manner as described in FIGS. 12 and 13. (See Figures 68 and 69).

抵抗体3、ピストン4及び羽根車85の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、ピストン4及び一方の筒端11A(ガイド蓋13)の間の液体Wは、図67に示すように、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aを通って、ピストン4及び羽根車85の間(渦流空間E)の液体Wに流出される。 As the resistor 3, piston 4, and impeller 85 move toward one cylindrical end 11A (guide lid 13), the liquid W between the piston 4 and one cylindrical end 11A (guide lid 13) moves as shown in FIG. As shown in 67, the liquid passes through the outer circumference 4a of the piston 4 and the inner circumference 11a of the cylindrical body 11, and flows out into the liquid W between the piston 4 and the impeller 85 (vortex space E).

ピストン4及び羽根車85の間(渦流空間E)の液体Wは、図67に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車85の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、羽根車85を回転すると共に、各傾斜流路λを通って、抵抗体3及び羽根車85の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。ピストン4及び羽根車85の間の液体Wは、羽根円板42の外周42a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S5)を通って、抵抗体3及び羽根車85の間(噴射空間D)の液体Wに流出される。 As shown in FIG. 67, the liquid W between the piston 4 and the impeller 85 (vortex space E) moves toward one cylindrical end 11A (guide lid 13) of the resistor 3, the piston 4, and the impeller 85. Accordingly, the impeller 85 is rotated, and the liquid W flows through each inclined flow path λ to the liquid W between the resistor 3 and the impeller 85 (injection space D). The liquid W between the piston 4 and the impeller 85 passes between the outer periphery 42a of the impeller disk 42 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 (circumferential gap S5), and passes between the resistor 3 and the impeller 85 (injection It flows out into the liquid W in the space D).

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の一方の筒端11Aに向けた移動に伴って、負圧状態(負圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、図67に示すように、抵抗体3、ピストン4及び羽根車85の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、抵抗体3及び羽根車85の間(噴射空間D)の液体Wを、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体Wに噴射する。
抵抗体3及び羽根車85の間(噴射空間D)の液体Wは、抵抗体3の一方の筒端11A(ガイド蓋13)に向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに噴射される。
他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wは、各液体噴射穴32から噴射される噴射空間Dの液体Wによって乱流となる。他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wには、乱流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
他方の筒端11B及び抵抗体3の液体W中の空気(気泡)は、乱流及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに混入及び溶込む。
In the storage space C, a negative pressure state (negative pressure) is created between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the one cylindrical end 11A.
As a result, each liquid injection hole 32 (resistor 3) moves as the resistor 3, piston 4, and impeller 85 move toward one cylindrical end 11A (guide lid 13), as shown in FIG. , the liquid W between the resistor 3 and the impeller 85 (injection space D) is injected into the liquid W between the other cylinder end 11B (cylinder lid 12) and the resistor 3.
The liquid W between the resistor 3 and the impeller 85 (injection space D) flows into each liquid injection hole 32 as the resistor 3 moves toward one cylindrical end 11A (guide lid 13). , is injected from each liquid injection hole 32 into the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3.
The liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 becomes a turbulent flow due to the liquid W in the injection space D injected from each liquid injection hole 32. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 due to the turbulent pressure difference.
The air (bubbles) in the liquid W at the other tube end 11B and the resistor 3 are pulverized (sheared) into microbubbles and ultrafine bubbles by turbulence and cavitation. The microbubbles and ultrafine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the other tube end 11B and the resistor 3.

抵抗体3、ピストン4及び羽根車85を第1位置PXに位置(配置)すると、ハンドル6をガイド蓋13(円筒本体11の一方の筒端11A)に向けて押して、ピストン軸2(大径軸部21)を円筒本体11内(貯留空間C)に移動する(図61及び図68のN方向に移動する)。
抵抗体3、ピストン4及び羽根車85は、ピストン軸2と共に、第1位置PXから円筒本体11内(貯留空間C)を円筒本体11の他方の筒端11B(シリンダー蓋12)に向けて移動される。
When the resistor 3, the piston 4, and the impeller 85 are positioned (arranged) at the first position PX, the handle 6 is pushed toward the guide lid 13 (one cylindrical end 11A of the cylindrical body 11), and the piston shaft 2 (large diameter The shaft portion 21) is moved into the cylindrical body 11 (storage space C) (moved in the N direction in FIGS. 61 and 68).
The resistor 3, the piston 4, and the impeller 85 move together with the piston shaft 2 from the first position PX within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylindrical end 11B (cylinder lid 12) of the cylindrical body 11. be done.

貯留空間Cにおいて、他方の筒端11B及び抵抗体3の間は、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、高圧状態(高圧)となる。
これにより、各液体噴射穴32(抵抗体3)は、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車85の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、他方の筒端11B(シリンダー蓋12)及び抵抗体3の間の液体W(他方の筒端11B及び抵抗体3の間の貯留空間Cの液体W)を、抵抗体3及び羽根車85の間(噴射空間D)に噴射する。
各液体噴射穴32は、液体Wを抵抗体3(抵抗板表面3A)及び羽根車85(回転筒部41の一方の回転筒端41A)の間(噴射空間D)に噴射することで、抵抗体3及び羽根車85の間の液体Wに羽根車85に向かう液体Wの流れを発生する。
他方の筒端11A及び抵抗体3の間の液体W(他方の筒端11A及び抵抗体3の間の貯留空間Cの液体W)は、図70及び図71に示すように、抵抗体3の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、各液体噴射穴32に流入して、各液体噴射穴32から抵抗体3及び羽根車85の間(噴射空間D)に噴射される。
抵抗体3及び羽根車85の間(噴射空間D)の液体Wは、各液体噴射穴32から噴射される液体Wによって、ピストン軸2の軸中心線aの方向において、抵抗体3から羽根車85に向けて流れる。
In the storage space C, a high pressure state (high pressure) is established between the other cylindrical end 11B and the resistor 3 as the resistor 3 moves toward the other cylindrical end 11B.
As a result, each liquid injection hole 32 (resistor 3) moves toward the other cylinder end 11B of the piston shaft 2, the resistor 3, the piston 4, and the impeller 85, and the The liquid W between the lid 12) and the resistor 3 (liquid W in the storage space C between the other cylinder end 11B and the resistor 3) is injected between the resistor 3 and the impeller 85 (injection space D). do.
Each liquid injection hole 32 injects the liquid W between the resistor 3 (resistance plate surface 3A) and the impeller 85 (one rotating cylinder end 41A of the rotating cylinder part 41) (injection space D). A flow of liquid W toward the impeller 85 is generated between the body 3 and the impeller 85.
The liquid W between the other cylindrical end 11A and the resistor 3 (the liquid W in the storage space C between the other cylindrical end 11A and the resistor 3) is as shown in FIGS. As the liquid moves toward the other cylindrical end 11B, it flows into each liquid injection hole 32 and is injected from each liquid injection hole 32 between the resistor 3 and the impeller 85 (injection space D).
The liquid W between the resistor 3 and the impeller 85 (injection space D) is moved from the resistor 3 to the impeller in the direction of the axis center line a of the piston shaft 2 by the liquid W injected from each liquid injection hole 32. It flows towards 85.

抵抗体3及び羽根車85の間に貯留空間C(円筒本体11内)において、抵抗体3から羽根車85に向けて流れる液体Wは、羽根車85の各傾斜流路λ(各羽根板87の間)に流入し、各羽根板87の板表曲面87Aに衝突(作用)する。
羽根車85は、液体Wの各羽根板87(板表曲面87A)への衝突(作用)によって、傾斜角度θEで流れる液体Wの運動エネルギーを、各羽根板87(傾斜角度θEで傾斜する各羽根板87)によって回転運動(回転運動のエネルギー)に変換する。
羽根車85(回転筒部41)は、回転運動のエネルギーによって、ピストン軸2(大径軸部21)を回転中心として反時計方向(図71及び図72のV方向)に回転される。
これにより、羽根車85は、羽根車85の向かう液体Wの流れによって、ピストン軸2(大径軸部21)の軸中心線aを回転中心として、V方向(反時計方向)に回転される。
In the storage space C (inside the cylindrical body 11) between the resistor 3 and the impeller 85, the liquid W flowing from the resistor 3 toward the impeller 85 flows through each inclined flow path λ of the impeller 85 (each vane plate 87). (between) and collides with (acts on) the curved plate surface 87A of each vane plate 87.
The impeller 85 transfers the kinetic energy of the liquid W flowing at an inclination angle θE to each vane plate 87 (each inclined at an inclination angle θE) by the collision (action) of the liquid W with each vane plate 87 (curved plate surface 87A). It is converted into rotational motion (energy of rotational motion) by the vane plate 87).
The impeller 85 (rotating cylinder part 41) is rotated counterclockwise (direction V in FIGS. 71 and 72) about the piston shaft 2 (large diameter shaft part 21) as a rotation center by the energy of the rotational motion.
As a result, the impeller 85 is rotated in the V direction (counterclockwise) about the axis center line a of the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) by the flow of the liquid W toward which the impeller 85 is directed. .

羽根車85において、各傾斜流路τに流入した液体Wは、図70及び図71に示すように、羽根車85(他方の回転筒端41B)及びピストン4(ピストン裏面4B)の間(渦流空間E)に流出する。 In the impeller 85, the liquid W flowing into each inclined flow path τ flows between the impeller 85 (the other rotary cylinder end 41B) and the piston 4 (the back surface 4B of the piston) (vortex flow), as shown in FIGS. 70 and 71. It flows out into space E).

羽根車85は、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4)と共に、他方の筒端11Bに向けて円筒本体11内(貯留空間C)を移動しつつ、各液体噴射穴32から連続して噴射空間Dに噴射される液体W(羽根車85に向かう液体Wの流れ)によって、V方向に回転される。 The impeller 85 continuously injects liquid from each liquid injection hole 32 while moving within the cylindrical body 11 (storage space C) toward the other cylinder end 11B together with the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4). It is rotated in the V direction by the liquid W injected into the space D (the flow of the liquid W toward the impeller 85).

羽根車85は、V方向の回転によって、ピストン4(ピストン裏面4B)及び羽根車85(他方の回転筒端41B)の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生する。
ピストン4及び羽根車85の間の貯留空間C(渦流空間E)の液体Wは、羽根車85の回転によって、ピストン軸2の軸中心線aを中心として、V方向に旋回する渦流となる。渦流は、渦流空間Eにおいて、ピストン軸2(大径軸部21)周りに旋回される。
ピストン4及び羽根車85の間(渦流空間E)の液体W(液体Wの一部)は、ピストン軸2(抵抗体3、ピストン4及び羽根車85)の他方の筒端11Bに向けた移動に伴って、ピストン4の外周4a及び円筒本体11の内周11aの間(周隙間S4)から一方の筒端11A側に流出される。
By rotating in the V direction, the impeller 85 generates a vortex in the liquid W between the piston 4 (piston back surface 4B) and the impeller 85 (the other rotary tube end 41B) (in the vortex space E).
The liquid W in the storage space C (vortex space E) between the piston 4 and the impeller 85 becomes a vortex that swirls in the V direction about the axial center line a of the piston shaft 2 due to the rotation of the impeller 85. The vortex is swirled around the piston shaft 2 (large diameter shaft portion 21) in the vortex space E.
The liquid W (part of the liquid W) between the piston 4 and the impeller 85 (vortex space E) moves toward the other cylindrical end 11B of the piston shaft 2 (resistor 3, piston 4, and impeller 85). Accordingly, it flows out from between the outer periphery 4a of the piston 4 and the inner periphery 11a of the cylindrical body 11 (circumferential gap S4) to one cylindrical end 11A side.

ピストン4及び羽根車85の間の液体Wは、渦流空間Eにおいて、渦流によって乱流となる。ピストン4及び羽根車85の間(渦流空間E)の液体Wには、渦流の圧力差によるキャビテーション(洞窟現象)が発生する。
ピストン4及び羽根車85の間(渦流空間E)の液体W中の空気(気泡)は、渦流(乱流)及びキャビテーションによって、マイクロバブル及びウルトラファンバブルに粉砕(剪断)される。マイクロバブル及びウルトラファインバブルは、ピストン4及び羽根車85の間(渦流空間E)の液体Wに混入及び溶込む。
このように、バブル液発生器X5は、羽根車85を回転して、ピストン4及び羽根車85の間(渦流空間E)の液体Wに渦流を発生することで、渦流空間Eの液体W中の空気(気体)を微細な気泡に粉砕(剪断)でき、多量のマイクロバブル及び多量のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることができる。
The liquid W between the piston 4 and the impeller 85 becomes turbulent in the vortex space E due to the vortex. Cavitation (cave phenomenon) occurs in the liquid W between the piston 4 and the impeller 85 (vortex space E) due to the pressure difference of the vortex.
Air (bubbles) in the liquid W between the piston 4 and the impeller 85 (vortex space E) is crushed (sheared) into microbubbles and ultrafan bubbles by the vortex (turbulence) and cavitation. The microbubbles and ultra-fine bubbles mix and dissolve into the liquid W between the piston 4 and the impeller 85 (vortex space E).
In this way, the bubble liquid generator X5 rotates the impeller 85 to generate a vortex in the liquid W between the piston 4 and the impeller 85 (the vortex space E). of air (gas) can be pulverized (sheared) into fine bubbles, and a large amount of microbubbles and a large amount of ultrafine bubbles can be mixed and dissolved into the liquid W.

バブル液発生器X5では、ハンドル6をガイド蓋13から引上げ、及びガイド蓋13に向けて押すことで、ピストン軸2、抵抗体3、ピストン4及び羽根車85を、円筒本体11の各筒端11A,11Bの間(シリンダー蓋12及びガイド蓋13の間)で往復移動する。
バブル液発生器X5は、抵抗体3、ピストン4及び羽根車85を複数回、往復移動することで、他方の筒端11B及び抵抗体3の間の液体Wに複数回、乱流を発生でき、ピストン4及び羽根車85の間(渦流空間E)の液体Wに複数回、渦流を発生でき、複数回の渦流によって十分な量(多量)のマイクロバブル及び十分な量(多量)のウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませることが可能となる。
In the bubble liquid generator It reciprocates between 11A and 11B (between cylinder lid 12 and guide lid 13).
The bubble liquid generator X5 can generate turbulence in the liquid W between the other cylinder end 11B and the resistor 3 multiple times by reciprocating the resistor 3, piston 4, and impeller 85 multiple times. , a vortex can be generated multiple times in the liquid W between the piston 4 and the impeller 85 (vortex space E), and a sufficient amount (a large amount) of microbubbles and a sufficient amount (a large amount) of ultrafine can be generated by the multiple vortices. It becomes possible to mix and dissolve bubbles into the liquid W.

バブル液発生器X1~X5では、ガイド蓋13を円筒本体11から取外して、マイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入及び溶込んだ液体W(以下、「バブル液」という)を円筒本体11内(貯留空間C)から取出す。
バブル発生器X1~X5では、円筒本体11の他方の筒端11B(閉塞筒端/シリンダー蓋12)にスプレーガン(図示しない)の管を接続(連結)して、スプレーガンの操作(トリガー操作)によって円筒本体11内(貯留空間C)のバブル液をスプレーガンから噴霧(噴射)しても良い。
In the bubble liquid generators X1 to X5, the guide lid 13 is removed from the cylindrical body 11, and the liquid W mixed with and dissolved in microbubbles and ultra-fine bubbles (hereinafter referred to as "bubble liquid") is stored inside the cylindrical body 11. Take it out from space C).
In the bubble generators X1 to X5, a pipe of a spray gun (not shown) is connected (connected) to the other cylinder end 11B (closed cylinder end/cylinder lid 12) of the cylinder body 11, and the spray gun is operated (trigger operation). ), the bubble liquid in the cylindrical body 11 (storage space C) may be sprayed (injected) from a spray gun.

本発明は、マイクロバブル及びウルトラファインバブルを液体Wに混入及び溶込ませるのに最適である。 The present invention is most suitable for mixing and dissolving microbubbles and ultrafine bubbles into liquid W.

X1 バブル液発生器(バブル水発生器)
1 シリンダー
2 ピストン軸
3 抵抗体(抵抗円板)
4 ピストン(ピストン円板)
5 羽根車
11 円筒本体
13 ガイド蓋
C 貯留空間
W 液体(水)
X1 Bubble liquid generator (bubble water generator)
1 Cylinder 2 Piston shaft 3 Resistor (resistance disk)
4 Piston (piston disk)
5 Impeller 11 Cylindrical body 13 Guide lid C Storage space W Liquid (water)

Claims (1)

一方の筒端が開口され、他方の筒端が閉塞された円筒本体、一方の前記筒端を閉塞して前記円筒本体に取外し自在として取付られるガイド蓋を有し、他方の前記筒端及び前記ガイド蓋の間の前記円筒本体内に貯留空間を形成し、前記貯留空間に液体が貯留されるシリンダーと、
前記円筒本体に同心として前記貯留空間に配置され、前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記円筒本体の筒中心線の方向に延在され、及び前記筒中心線の方向に前記ガイド蓋を摺動自在に貫通して前記シリンダーから突出されるピストン軸と、
円形状に形成され、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に固定される抵抗体と、
円形状に形成され、前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記ピストン軸の軸中心線の方向において、前記抵抗体に第1軸線間隔を隔てて前記ガイド蓋及び前記抵抗体の間に配置され、及び前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に固定されるピストンと、
前記円筒本体に同心として前記貯留空間の前記液体に浸漬され、前記軸中心線の方向において、前記抵抗体に第2軸線間隔を隔てると共に、前記ピストンに第3軸線間隔を隔てて前記抵抗体及び前記ピストンの間に配置され、及び前記円筒本体の内周に周隙間を隔てて前記ピストン軸に回転自在に配置される羽根車と、を備え、
前記抵抗体は、
前記軸中心線の方向において、前記抵抗体を貫通して、他方の前記筒端及び前記抵抗体の間に開口されると共に、前記抵抗体及び前記羽根車の間に開口される複数の液体噴射穴を有し、
前記各液体噴射穴は、
前記抵抗体の他方の前記筒端に向けた移動に伴って、他方の前記筒端及び前記抵抗体の間の液体を、前記抵抗体及び前記羽根車の間の液体に噴射して、前記羽根車に向かう液体の流れを発生し、
前記羽根車は、
前記羽根車に向かう液体に流れによって回転されて、前記羽根車及び前記ピストンの間の液体に渦流を発生する
ことを特徴とするバブル液発生器。
It has a cylindrical body with one cylindrical end open and the other cylindrical end closed, a guide lid that closes one cylindrical end and is removably attached to the cylindrical body, and the other cylindrical end and the a cylinder forming a storage space in the cylindrical body between the guide lids, and storing liquid in the storage space;
The guide lid is disposed concentrically with the cylindrical body in the storage space, extends in the direction of the cylinder center line of the cylindrical body with a circumferential gap on the inner periphery of the cylindrical body, and extends in the direction of the cylinder center line. a piston shaft that slidably passes through the cylinder and protrudes from the cylinder;
a resistor formed in a circular shape, concentric with the cylindrical body, immersed in the liquid in the storage space, and fixed to the piston shaft with a circumferential gap on the inner periphery of the cylindrical body;
The guide lid and the resistor are formed in a circular shape, are immersed in the liquid in the storage space concentrically with the cylindrical body, and are spaced apart from the resistor by a first axial distance in the direction of the axial center line of the piston shaft. a piston disposed between the cylinder bodies and fixed to the piston shaft with a circumferential gap on the inner periphery of the cylindrical body;
The resistor and the piston are immersed in the liquid in the storage space concentrically with the cylindrical body, and spaced apart from the resistor by a second axial spacing in the direction of the axial center line, and spaced from the piston by a third axial spacing. an impeller disposed between the pistons and rotatably disposed on the piston shaft with a circumferential gap on the inner periphery of the cylindrical body;
The resistor is
a plurality of liquid jets that penetrate the resistor and are opened between the other cylinder end and the resistor in the direction of the axial center line, and are opened between the resistor and the impeller; has a hole,
Each of the liquid injection holes is
As the resistor moves toward the other cylindrical end, the liquid between the other cylindrical end and the resistor is injected into the liquid between the resistor and the impeller, and the impeller generates a flow of liquid towards the car,
The impeller is
A bubble liquid generator characterized in that the liquid flowing toward the impeller is rotated by a flow to generate a vortex in the liquid between the impeller and the piston.
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