JP2023118878A5 - 基板処理方法、及び基板処理装置 - Google Patents

Claims (11)

1. 処理ユニットに基板を搬入して前記基板を保持することと、
   前記処理ユニットにおいて前記基板に処理液を供給することと、
   撮像部が前記処理ユニットにおいて撮像を行って画像データを取得することと、
   前記処理ユニット内の複数の監視対象候補から監視対象を特定し、前記監視対象に基づいて画像条件を変更することと、
   前記監視対象に応じた前記画像条件を有する前記画像データに基づいて、前記監視対象に対する監視処理を行うことと、を含む、基板処理方法。
2. 前記画像条件は、前記画像データの解像度、フレーム数、および前記画像データの対象領域の大きさの少なくともいずれか一つを含む、請求項１に記載の基板処理方法。
3. 前記画像条件を変更することにおいて、
   前記処理ユニット内の移動中の物体を前記監視対象とする第１期間における前記画像条件として、前記フレーム数を第１フレーム数に設定し、
   前記処理ユニット内のノズルから吐出される処理液を前記監視対象とする第２期間における前記画像条件として、前記フレーム数を前記第１フレーム数よりも多い第２フレーム数に設定する、請求項２に記載の基板処理方法。
4. 前記画像条件を変更することにおいて、
   前記処理ユニット内の前記基板上の前記処理液を前記監視対象とする第１期間における前記画像条件として、前記フレーム数を第１フレーム数に設定し、
   前記処理ユニット内のノズルから吐出される処理液を前記監視対象とする第２期間における前記画像条件として、前記フレーム数を前記第１フレーム数よりも多い第２フレーム数に設定する、請求項２に記載の基板処理方法。
5. 前記画像条件を変更することにおいて、
   前記処理ユニット内の移動中の物体を前記監視対象とする第１期間における前記画像条件として、前記解像度を第１解像度に設定し、
   前記処理ユニット内のノズルから吐出される処理液を前記監視対象とする第２期間における前記画像条件として、前記解像度を前記第１解像度よりも高い第２解像度に設定する、請求項２～４のいずれか一項に記載の基板処理方法。
6. 前記画像条件を変更することにおいて、
   前記処理ユニット内の前記基板上の前記処理液を前記監視対象とする第１期間における前記画像条件として、前記解像度を第１解像度に設定し、
   前記処理ユニット内のノズルから吐出される処理液を前記監視対象とする第２期間における前記画像条件として、前記解像度を前記第１解像度よりも高い第２解像度に設定する、請求項２～４のいずれか一項に記載の基板処理方法。
7. 前記第２期間における前記監視対象は、前記ノズルの位置を含む、請求項３～６のいずれか一項に記載の基板処理方法。
8. 前記第２期間における前記監視対象は、前記処理液の前記基板上での液はね、及び、前記ノズルからの前記処理液のぼた落ちを含む、請求項３～７のいずれか一項に記載の基板処理方法。
9. 前記画像条件を変更することは、前記画像条件を撮像条件として設定することを含み、
   前記画像データを取得することにおいて、前記撮像部は、前記監視対象に応じた前記画像条件を撮像条件として前記画像データを取得する、請求項３～８のいずれか一項に記載の基板処理方法。
10. 前記画像データを取得することにおいて、前記撮像部は、所定の撮像条件で前記画像データを取得し、
    前記撮像部が取得した前記画像データに対して画像処理を行って、前記監視対象に応じた前記画像条件を有する前記画像データを取得する、請求項３～８のいずれか一項に記載の基板処理方法。
11. 処理ユニットにおいて基板を保持する保持部と、
    前記処理ユニットにおいて前記基板に処理液を供給するノズルと、
    前記処理ユニットにおいて撮像を行って画像データを取得する撮像部と、
    前記処理ユニット内の複数の監視対象候補から監視対象を特定し、前記監視対象に基づいて画像条件を変更し、前記監視対象に応じた前記画像条件を有する前記画像データに基づいて、前記監視対象に対する監視処理を行う監視装置と、
    を備える、基板処理装置。