JP2023106225A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023106225A JP2023106225A JP2022007430A JP2022007430A JP2023106225A JP 2023106225 A JP2023106225 A JP 2023106225A JP 2022007430 A JP2022007430 A JP 2022007430A JP 2022007430 A JP2022007430 A JP 2022007430A JP 2023106225 A JP2023106225 A JP 2023106225A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- water
- water tank
- downstream
- drying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005406 washing Methods 0.000 title claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 158
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims abstract description 28
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 83
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 47
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 4
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 claims description 4
- 238000011045 prefiltration Methods 0.000 claims description 4
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 23
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 8
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 2
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 Glycol ethers Chemical class 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
1.洗浄剤の種類と機能
一般に、工業用精密洗浄における洗浄剤は、水系洗浄剤と非水系洗浄剤に分類される。このうち水系洗浄剤は、水に界面活性剤などを混合したもので、水は極性物質であり、水そのものも大変重要な働きをする。水系洗浄システムは、界面活性剤などによる乳化・ケン化・剥離・分散などの化学的作用及び超音波キャビテーションなどによる物理力、によって洗浄が行われる。油性・非油性を問わず全物質に対して有効な洗浄力を持ち、洗浄系の中では最もレベルの高い洗浄が可能であり、精密洗浄や半導体系洗浄で多く用いられている。
炭化水素系溶剤、塩素系溶剤、フッ素系溶剤などに代表される非水系洗浄剤は、主に溶解力によって加工油などの油分などの非水溶性汚れ成分を溶解洗浄することで洗浄する。そのため、非溶解性物質であるパーティクル除去等の精密洗浄には不向な部分がある。
水系洗浄剤を用いる洗浄方法は、洗浄精度は高いが洗浄工程が多く、管理指標が多岐に亘るなどの欠点がある。IPA置換法を乾燥に用いた多槽式水系洗浄工程の例を図1に示す。仕上がり清浄度はかなり高い部類である。槽数は要求清浄度によってより多くなり、本図は最小の部類で、半導体洗浄のレベルになると、12~15工程にもなる。
(各工程の詳細)
・洗剤洗浄パート:界面活性剤などを用いて汚れ成分を乳化・分散させ、ワーク表面から離脱させる。
・すすぎパート:水道水又は井水を用いてワーク表面に微量残留した異物を除去するとともに、洗浄剤成分を除去する。溜め水では洗浄剤濃度が上昇するため、一定量の給水を行う。そのため排水が生じる。
・純水すすぎパート:水道水には微量の不純物が含まれており、また、ワークには微量の洗浄剤成分が残留しているため、そのまま乾燥させると乾きじみとなるため、純水で更にすすぎを行う。ここまでくるとワーク表面には H2O しか存在しなくなる。
・乾燥パート:図にはIPA/純水置換乾燥が記されているが、この他、スロー引き上げ乾燥、ヘパフィルター付き温風乾燥、フッ素系溶剤水置換乾燥、などの乾燥方法があり、用途によって使い分けされる。
いずれにしても、洗浄すすぎ工程としては、1~5槽である。6槽以降は乾燥パ―トとなる。
非水系洗浄剤は引火性物と非引火性物に分類される。非水系引火性洗浄剤としては、代表格として炭化水素系洗浄剤がある。非水系非引火性洗浄剤としては、フッ素系溶剤、トリクロールエチレンなどの塩素系洗浄剤、臭素系洗浄剤、などがある。何れも溶解洗浄が主たる洗浄機能である。何れも非極性物質であり、水系洗浄とは大きく異なる。
工程としては、洗浄⇒すすぎ⇒ベーパー洗浄(蒸留機能兼)・乾燥の3工程が標準であり、全工程を同一液種で処理する1液処理が基本である。ここは特徴となる。いずれの洗浄剤も概ね蒸留再生が可能であり、いわゆるベーパー洗浄も可能である(例えば、特許文献1参照)。
非水系洗浄は、溶解洗浄を基本とするため、溶解されない固形物やパーティクルなどの除去には適さない部分(洗浄力の限界)があり、ここに水系洗浄との根本的な違いがある。しかし、単純明快であり、3槽で効率よく洗浄が可能である。非水系非引火性洗浄剤による代表的洗浄工程を図2に示す。引火性洗浄剤の場合は安全対策として、各工程が密閉・減圧構造となる。
しかしながら、「2.水系洗浄剤を用いる洗浄工程」で説明したように、水系洗浄剤を用いる洗浄方法は、洗浄精度は高いものの、洗浄工程が多い、給・排水が必要となる、管理指標が多岐に亘る、すすぎ水・すすぎ純水中の酸素とワークの化学反応による錆等の化学反応物質の生成、ワークがイオン化して溶出する、などの欠点がある。
まず、図3を用いて本実施例の洗浄装置1の全体構成を説明する。この洗浄装置1は、4槽式の洗浄装置1であり、洗浄機能・リンス機能・乾燥機能を兼ね備えている。具体的に言うと、洗浄装置1は、図3に示すように、越流式の4つの水槽21~24と、最上流の水槽21と最下流の水槽24に接続される純水装置30と、から構成されている。そして、装置内を循環する洗浄剤には、水と、純水装置に捕捉されない洗浄剤成分と、が含まれている。加えて、洗浄装置1は、ポンプやフィルタ(ろ過装置)などを備えることができる(図示しない)。
水槽21~24は、最上流の水槽21から、順に越流して最下流の水槽24まで、洗浄剤が流下するようになっている。すなわち、上流側から1番目の水槽21の上縁には、2番目の水槽22の上縁よりも上にある越流路が形成され、2番目の水槽22の上縁には、3番目の水槽23の上縁よりも上にある越流路が形成され、3番目の水槽23の上縁には、4番目の水槽24の上縁よりも上にある越流路が形成される。したがって、最上流の水槽21に流れ込んだ洗浄剤は、重力によって自然に最下流の水槽24まで流れ込むことが、逆流することはない。
純水装置30は、最下流の水槽24の下流側と、最上流の水槽21の上流側の間に配置されて、洗浄剤が通過するようにされている。具体的には、純水装置30は、図4に示すように、粒径の大きな固形物を除去するプレフィルタ31と、微粒子、分子レベルの異物を吸着する活性炭吸着装置32と、イオン化した物質を除去する陽イオン交換樹脂33a及び陰イオン交換樹脂33bと、微細微粒子及び活性炭・イオン交換樹脂から生じる微細異物を除去するファイナルフィルタ34と、から構成されている。
そして、本実施例の洗浄装置1は、最上流の水槽21のさらに後工程として乾燥工程を備えることが好ましい。乾燥工程は、具体的に言うと、
・温液低速引き上げ
・フッ素系溶剤による置換乾燥
・温風乾燥
・真空引き乾燥
等であることが好ましい。
洗浄剤は、純水に、純水装置30に捕捉されない洗浄剤成分が添加されて構成される。添加物としては、例えば、グリコールエーテルを使用することができる。より詳細に言うと、PM(プロピレングリコールモノメチルエーテル)を使用することが好ましい。添加物は、純水装置30に捕捉されない物質であればよいが、以下の条件を満たすことが好ましい。
次に、実施例の洗浄装置1の奏する効果を列挙して説明する。
21~24 水槽
51~54 超音波発生装置
30 純水装置
31 プレフィルタ
32 活性炭吸着装置
33a 陽イオン交換樹脂
33b 陰イオン交換樹脂
34 ファイナルフィルタ
35 U.V殺菌装置
36、37 電気伝導度計
38 脱気装置
Claims (6)
- 1つ、又は、直列に連結された複数の水槽であって、最上流の水槽から順に越流して最下流の水槽まで洗浄剤が流下するようになっている、1つ、又は、複数の水槽と、
最下流の前記水槽の下流側と最上流の前記水槽の上流側の間に配置されて、前記洗浄剤が通過する純水装置と、を備え、
前記洗浄剤には、純水に前記純水装置に捕捉されない洗浄剤成分が添加される、洗浄装置。 - 前記純水装置に捕捉されない前記洗浄剤成分として、グリコールエーテルが使用される、請求項1に記載された、洗浄装置。
- 前記純水装置は、プレフィルタと、活性炭吸着装置と、イオン交換樹脂と、ファイナルフィルタと、から構成される、請求項1又は請求項2に記載された、洗浄装置。
- 最下流の前記水槽のさらに下流側に、フィルタろ過による別系統の循環系、又は、蒸留による別系統の循環系を備えている、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載された、洗浄装置。
- 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載された洗浄装置を用いた洗浄方法であって、
最下流の前記水槽から最上流の前記水槽まで、順に被洗浄物を通過させていくようになっている、洗浄方法。 - 最上流の前記水槽まで前記被洗浄物を通過させた後に、温液低速引き上げ、フッ素系溶剤による置換乾燥、温風乾燥、又は、真空引き乾燥、による乾燥工程をさらに備える、請求項5に記載された、洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022007430A JP7144892B1 (ja) | 2022-01-20 | 2022-01-20 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022007430A JP7144892B1 (ja) | 2022-01-20 | 2022-01-20 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP7144892B1 JP7144892B1 (ja) | 2022-09-30 |
JP2023106225A true JP2023106225A (ja) | 2023-08-01 |
Family
ID=83452891
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022007430A Active JP7144892B1 (ja) | 2022-01-20 | 2022-01-20 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7144892B1 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09148293A (ja) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Futaba Corp | 洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2003024888A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-28 | Nec Kansai Ltd | テープ状部材の洗浄装置 |
WO2013094528A1 (ja) * | 2011-12-20 | 2013-06-27 | オルガノ株式会社 | 液体管理システム、および洗浄液の回収再生装置 |
JP2014008447A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Olympus Corp | 物品の洗浄方法 |
JP2015085222A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | オリンパス株式会社 | 物品の洗浄方法および洗浄システム |
WO2019163465A1 (ja) * | 2018-02-26 | 2019-08-29 | 化研テック株式会社 | リンス剤及びリンス剤の使用方法 |
-
2022
- 2022-01-20 JP JP2022007430A patent/JP7144892B1/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09148293A (ja) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Futaba Corp | 洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2003024888A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-28 | Nec Kansai Ltd | テープ状部材の洗浄装置 |
WO2013094528A1 (ja) * | 2011-12-20 | 2013-06-27 | オルガノ株式会社 | 液体管理システム、および洗浄液の回収再生装置 |
JP2014008447A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Olympus Corp | 物品の洗浄方法 |
JP2015085222A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | オリンパス株式会社 | 物品の洗浄方法および洗浄システム |
WO2019163465A1 (ja) * | 2018-02-26 | 2019-08-29 | 化研テック株式会社 | リンス剤及びリンス剤の使用方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7144892B1 (ja) | 2022-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20180137018A (ko) | 처리액, 기판 세정 방법 및 레지스트의 제거 방법 | |
JP4550838B2 (ja) | 化学機械平坦化の後洗浄用の改良されたアルカリ化学製品 | |
KR101207384B1 (ko) | 마이크로 나노버블을 이용한 반도체 세정방법 및 그 장치 | |
JP6480017B2 (ja) | 処理液、基板の洗浄方法、及び、半導体デバイスの製造方法 | |
CN101233221A (zh) | 铜钝化的化学机械抛光后清洗组合物及使用方法 | |
WO2017099211A1 (ja) | 洗浄液、基板洗浄方法、及び、半導体デバイスの製造方法 | |
WO2013157366A1 (ja) | 液処理装置、液処理方法及びフィルタ装置 | |
KR102027793B1 (ko) | 처리액, 기판의 세정 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법 | |
TW201210708A (en) | Cleaning method and system | |
JP6298603B2 (ja) | 洗浄システム及び洗浄液の浄化装置 | |
KR20170126783A (ko) | 반도체 처리용 조성물 및 처리 방법 | |
WO2013077383A1 (ja) | 洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法 | |
JP7144892B1 (ja) | 洗浄装置 | |
TW201807185A (zh) | 半導體處理用組成物及處理方法 | |
KR102230865B1 (ko) | 구리 함유 기판용 세정액 | |
JP6646140B2 (ja) | 組成物、組成物収容体、組成物の製造方法 | |
JPWO2014013902A1 (ja) | 半導体用洗浄液及びそれを用いた洗浄方法 | |
KR100990229B1 (ko) | 수계 세정제 조성물 | |
KR102042510B1 (ko) | 초음파 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법 | |
JP2007214412A (ja) | 半導体基板洗浄方法 | |
WO2013028641A1 (en) | Reduced consumption stand alone rinse tool having self-contained closed-loop fluid circuit, and method of rinsing substrates using the same | |
JP2901090B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
KR20190113781A (ko) | 반도체 기판의 세정 장치 및 반도체 기판의 세정 방법 | |
JP7408382B2 (ja) | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 | |
KR101507766B1 (ko) | 생분해성이 우수한 세정제 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220121 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20220121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220309 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220406 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220628 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220803 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220907 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220909 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7144892 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |