JP2023058299A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2023058299A5
JP2023058299A5 JP2021168233A JP2021168233A JP2023058299A5 JP 2023058299 A5 JP2023058299 A5 JP 2023058299A5 JP 2021168233 A JP2021168233 A JP 2021168233A JP 2021168233 A JP2021168233 A JP 2021168233A JP 2023058299 A5 JP2023058299 A5 JP 2023058299A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
substrate
metal film
support
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021168233A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7647483B2 (ja
JP2023058299A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2021168233A external-priority patent/JP7647483B2/ja
Priority to JP2021168233A priority Critical patent/JP7647483B2/ja
Priority to TW111130758A priority patent/TWI846013B/zh
Priority to US17/823,604 priority patent/US12261015B2/en
Priority to KR1020220116827A priority patent/KR102835208B1/ko
Priority to CN202211251800.1A priority patent/CN115963137A/zh
Publication of JP2023058299A publication Critical patent/JP2023058299A/ja
Publication of JP2023058299A5 publication Critical patent/JP2023058299A5/ja
Publication of JP7647483B2 publication Critical patent/JP7647483B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2021168233A 2021-10-13 2021-10-13 電子ビーム検査装置 Active JP7647483B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021168233A JP7647483B2 (ja) 2021-10-13 2021-10-13 電子ビーム検査装置
TW111130758A TWI846013B (zh) 2021-10-13 2022-08-16 電子束檢查裝置
US17/823,604 US12261015B2 (en) 2021-10-13 2022-08-31 Electron beam inspection apparatus
KR1020220116827A KR102835208B1 (ko) 2021-10-13 2022-09-16 전자 빔 검사 장치
CN202211251800.1A CN115963137A (zh) 2021-10-13 2022-10-13 电子束检查装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021168233A JP7647483B2 (ja) 2021-10-13 2021-10-13 電子ビーム検査装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2023058299A JP2023058299A (ja) 2023-04-25
JP2023058299A5 true JP2023058299A5 (enExample) 2024-07-19
JP7647483B2 JP7647483B2 (ja) 2025-03-18

Family

ID=85797866

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021168233A Active JP7647483B2 (ja) 2021-10-13 2021-10-13 電子ビーム検査装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US12261015B2 (enExample)
JP (1) JP7647483B2 (enExample)
KR (1) KR102835208B1 (enExample)
CN (1) CN115963137A (enExample)
TW (1) TWI846013B (enExample)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023046921A (ja) * 2021-09-24 2023-04-05 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ電子ビーム画像取得装置、マルチ電子ビーム検査装置、及びマルチ電子ビーム画像取得方法
JP7647483B2 (ja) * 2021-10-13 2025-03-18 株式会社ニューフレアテクノロジー 電子ビーム検査装置

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2753458A (en) * 1954-04-12 1956-07-03 Kazato Kenji Electron microscope
US6512227B2 (en) 1998-11-27 2003-01-28 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for inspecting patterns of a semiconductor device with an electron beam
JP2000223542A (ja) 1998-11-27 2000-08-11 Hitachi Ltd 電子ビ―ムを用いた検査方法及び検査装置
US7220365B2 (en) * 2001-08-13 2007-05-22 New Qu Energy Ltd. Devices using a medium having a high heat transfer rate
JP5417428B2 (ja) 2009-02-27 2014-02-12 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡および試料保持方法
JP2010272586A (ja) * 2009-05-19 2010-12-02 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置
US8368228B2 (en) * 2009-10-19 2013-02-05 Jeng-Jye Shau Area efficient through-hole connections
US8709945B2 (en) * 2011-01-26 2014-04-29 Jeng-Jye Shau Area efficient through-hole connections
JP2013239386A (ja) 2012-05-16 2013-11-28 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置
JP6139449B2 (ja) * 2014-03-26 2017-05-31 株式会社アドバンテスト ステージ装置および電子線装置
TWI594288B (zh) * 2016-03-14 2017-08-01 台灣電鏡儀器股份有限公司 電子顯微鏡
JP6966255B2 (ja) * 2017-08-10 2021-11-10 株式会社ニューフレアテクノロジー 画像取得装置の光学系調整方法
JP7074639B2 (ja) * 2017-11-03 2022-05-24 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチビームの個別ビーム検出器、マルチビーム照射装置、及びマルチビームの個別ビーム検出方法
JP6966319B2 (ja) * 2017-12-22 2021-11-17 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチビーム画像取得装置及びマルチビーム画像取得方法
JP2019145304A (ja) * 2018-02-20 2019-08-29 株式会社日立ハイテクサイエンス 荷電粒子ビーム装置、荷電粒子ビーム装置のステージ駆動範囲制限方法およびプログラム
WO2019211123A1 (en) * 2018-05-02 2019-11-07 Asml Netherlands B.V. E-beam apparatus
JP7198092B2 (ja) * 2018-05-18 2022-12-28 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム照射方法
JP7057220B2 (ja) * 2018-05-24 2022-04-19 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ電子ビーム画像取得装置及びマルチ電子ビーム光学系の位置決め方法
JP7093242B2 (ja) 2018-06-27 2022-06-29 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム画像取得装置
JP2020085838A (ja) * 2018-11-30 2020-06-04 株式会社ニューフレアテクノロジー 電子ビーム検査装置
JP7194572B2 (ja) * 2018-12-04 2022-12-22 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ電子ビーム検査装置
JP2021077492A (ja) * 2019-11-07 2021-05-20 株式会社ニューフレアテクノロジー 電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法
JP7342696B2 (ja) * 2019-12-26 2023-09-12 株式会社ニューフレアテクノロジー 電子ビーム検査装置
TWI774157B (zh) * 2019-12-27 2022-08-11 日商紐富來科技股份有限公司 帶電粒子束檢查裝置以及帶電粒子束檢查方法
CN113764246B (zh) * 2020-06-03 2025-04-18 宁波伯锐锶电子束科技有限公司 一种显微镜
JP7573396B2 (ja) * 2020-09-04 2024-10-25 株式会社ニューフレアテクノロジー θステージ機構及び電子ビーム検査装置
JP2023046921A (ja) * 2021-09-24 2023-04-05 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ電子ビーム画像取得装置、マルチ電子ビーム検査装置、及びマルチ電子ビーム画像取得方法
JP7647483B2 (ja) * 2021-10-13 2025-03-18 株式会社ニューフレアテクノロジー 電子ビーム検査装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8748842B2 (en) Electrostatic lens array
JP2023058299A5 (enExample)
CN108780729B (zh) 用于基于电子束的表征工具上的漂移补偿的系统及方法
KR101280162B1 (ko) 반도체 검사 장치
KR20140043678A (ko) 척 테이블
WO2017154505A1 (ja) 多元素同時型蛍光x線分析装置および多元素同時蛍光x線分析方法
US9401297B2 (en) Electrostatic chuck mechanism and charged particle beam apparatus
JP2009260265A (ja) 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法
JP2008311351A (ja) 荷電粒子線装置
US10796877B2 (en) Charged particle beam image acquisition apparatus
US20160172158A1 (en) Sample holder and focused-ion-beam machining device provided therewith
US11187979B2 (en) Imprint apparatus, imprint method, and article manufacturing method
US20090309043A1 (en) Charged particle beam apparatus and sample holding system
KR102007561B1 (ko) 멀티빔 검사용 애퍼처, 멀티빔용 빔 검사 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 장치
TWI846013B (zh) 電子束檢查裝置
US9688563B2 (en) Apparatus and method for forming holes in glass substrate
KR102308090B1 (ko) 절단 라인을 갖는 oled 메탈 마스크 및 이의 제조 장치 및, oled 메탈 마스크의 제조방법
JP4875905B2 (ja) 試料保持装置および荷電粒子線装置
TW202449829A (zh) 可將導電和非導電樣品固定在真空腔室中的可移動支撐件
JP7342696B2 (ja) 電子ビーム検査装置
TWI729302B (zh) 遮罩製造裝置
JP7305585B2 (ja) 検査装置
WO2024100897A1 (ja) 荷電粒子ビーム装置
JP2005012120A (ja) ステージベース、及び基板処理装置
JP2023121727A (ja) 微小試料サンプリングにおけるアライメント方法