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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025158494A1 (ja) * 2024-01-22 2025-07-31 株式会社ニコン ミスト成膜装置、及びミスト成膜方法
JP7731648B1 (ja) * 2024-03-06 2025-09-01 株式会社Tmeic 基材表面処理装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3714248B2 (ja) * 1993-12-22 2005-11-09 東京エレクトロン株式会社 処理装置及び処理方法
JPH07245265A (ja) * 1994-03-03 1995-09-19 Fujitsu Ltd 気相成長装置
JP3264096B2 (ja) * 1994-05-20 2002-03-11 ソニー株式会社 横型気相成長装置および横型熱処理装置
JP2001085335A (ja) * 1999-09-10 2001-03-30 Fuji Xerox Co Ltd 半導体気相成長装置
JP2002025909A (ja) * 2000-06-30 2002-01-25 Sony Corp 成膜装置用除害装置及びこれを用いた成膜装置における除害方法
JP2004158554A (ja) * 2002-11-05 2004-06-03 Rorze Corp 薄板状物スピン装置およびこれを用いた薄板状物処理システム
JP4686157B2 (ja) * 2004-09-29 2011-05-18 株式会社東芝 成膜装置のクリーニング方法
JP5810517B2 (ja) * 2010-12-02 2015-11-11 富士電機株式会社 吸着装置および吸着方法
JP2013004777A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法および成膜装置
JP5793732B2 (ja) 2011-07-27 2015-10-14 高知県公立大学法人 ドーパントを添加した結晶性の高い導電性α型酸化ガリウム薄膜およびその生成方法
JP6857641B2 (ja) * 2018-12-19 2021-04-14 信越化学工業株式会社 成膜方法及び成膜装置
JP7315137B2 (ja) 2018-12-26 2023-07-26 株式会社Flosfia 結晶性酸化物膜
JP7179294B2 (ja) * 2019-04-12 2022-11-29 信越化学工業株式会社 酸化ガリウム半導体膜の製造方法
JP2020188170A (ja) 2019-05-15 2020-11-19 トヨタ自動車株式会社 ミスト生成装置及び成膜装置
JP6994694B2 (ja) * 2020-02-27 2022-01-14 信越化学工業株式会社 成膜用霧化装置及びこれを用いた成膜装置
JP6925548B1 (ja) * 2020-07-08 2021-08-25 信越化学工業株式会社 酸化ガリウム半導体膜の製造方法及び成膜装置

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