JP2023040674A - 圧力センサ - Google Patents
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Abstract
【課題】温度検出または温度補正を精度良く行うことが可能な圧力センサを提供すること。【解決手段】圧力センサ10は、圧力に応じた変形を生じるメンブレン22と、メンブレン22に形成され、検出回路30を構成する複数のセンサ抵抗体R1~R4と、メンブレン22に形成され、温度を検出するための補正用抵抗体Rcと、メンブレン22とは異なる外部基板18に形成され、補正用抵抗体Rcの一端に電気的に接続可能な外部抵抗体Reと、を有する。【選択図】図3
Description
本発明は、メンブレンの変形による歪を抵抗体の抵抗変化により検出する圧力センサに関する。
近年、圧抵抗効果(ピエゾ抵抗効果)を利用した圧力センサに関し、各種技術が提案されている。例えば特許文献1には、メンブレン(ダイヤフラム)と、メンブレン上に形成された複数の抵抗体と、メンブレン上に形成された測温素子と、を有する圧力センサが記載されている。
メンブレン上に形成された複数の抵抗体は、ブリッジ回路からなる検出回路(歪ゲージ)を構成し、メンブレンが圧力流体から圧力を受けて歪を発生させると、その歪量に応じた分だけ抵抗値を変化させる。このときの検出回路の出力信号を検出することにより、複数の抵抗体の抵抗値の変化、すなわちメンブレンに加わる圧力を測定することが可能となっている。
メンブレン上に形成された測温素子は、例えばサーミスタ等の抵抗素子からなり、圧力流体の温度変化に応じて抵抗値を変化させる。したがって、測温素子の出力信号を検出することにより、圧力流体の温度を測定することが可能となり、この温度情報に基づいて、検出回路の出力信号に含まれる誤差(抵抗体の抵抗変化の温度依存性に起因する誤差)を補正することができる。
ところで、圧力センサの小型化あるいは温度測定の高精度化を図るためには、複数の抵抗体が配置される領域、すなわちメンブレンの歪発生領域に測温素子を形成することが望ましい。しかしながら、この場合、メンブレンが圧力流体から圧力を受けて歪を発生させると、その歪の影響による測温素子の抵抗変化を無視することができなくなり、測温素子の出力信号に上記抵抗変化に応じた誤差が許容量を超えて重畳するおそれがある。そのため、測温素子の出力信号から得られる温度情報の正確性を担保することができず、検出回路の出力信号に対して正確な温度補正を行うことは困難である。
本発明は、このような課題に鑑みてなされ、その目的は、温度検出または温度補正を精度良く行うことが可能な圧力センサを提供することである。
上記目的を達成するために、本発明に係る圧力センサは、
圧力に応じた変形を生じるメンブレンと、
前記メンブレンに形成され、検出回路を構成する複数のセンサ抵抗体と、
前記メンブレンに形成され、温度を検出するための補正用抵抗体と、
前記メンブレンとは異なる外部基板に形成され、前記補正用抵抗体の一端に電気的に接続可能な外部抵抗体と、を有する。
圧力に応じた変形を生じるメンブレンと、
前記メンブレンに形成され、検出回路を構成する複数のセンサ抵抗体と、
前記メンブレンに形成され、温度を検出するための補正用抵抗体と、
前記メンブレンとは異なる外部基板に形成され、前記補正用抵抗体の一端に電気的に接続可能な外部抵抗体と、を有する。
例えば、補正用抵抗体と外部抵抗体とが電気的に接続されていない状態において、補正用抵抗体の出力信号(以下、仮出力信号)を検出することにより、圧力流体の温度(以下、仮温度)を測定することができる。ただし、仮出力信号には、圧力流体の温度変化に起因する補正用抵抗体の抵抗変化分だけでなく、メンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化分も含まれている可能性がある。
そこで、補正用抵抗体と外部抵抗体とが電気的に接続された状態において、補正用抵抗体の出力信号を検出することにより、このメンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化分を特定することが可能となる。すなわち、補正用抵抗体が配置される位置と外部抵抗体が配置される位置との間で温度条件が同様である場合、圧力流体の温度変化に応じた抵抗変化が補正用抵抗体に生じると、これと同様の変化率で外部抵抗体にも抵抗変化が生じる。そのため、上記温度変化に応じた各抵抗体の抵抗変化分が相殺されることにより、補正用抵抗体の出力信号(例えば、電力供給ラインとグランドとの間に介在された補正用抵抗体と外部抵抗体との間の分圧値)は、理論上、メンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化分に等しくなる。したがって、上述した仮出力信号の検出値から、このメンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化分を除くことにより、圧力流体の真の温度を求めることができる。
このように、本発明に係る圧力センサでは、圧力流体の温度検出を精度良く行うことができるとともに、その温度情報に基づいて、検出回路の出力信号に含まれる誤差(各センサ抵抗体の抵抗変化の温度依存性に起因する誤差)を精度良く補正することができる。また、上述したように、仮出力信号の検出値からメンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化分を除くことができるため、補正用抵抗体をメンブレンの歪発生領域に形成しても問題がなく、圧力センサの小型化あるいは温度測定の高精度化を良好に図ることができる。
前記外部基板は、複数の前記外部基板からなり、前記外部抵抗体は、複数の前記外部抵抗体からなり、複数の前記外部基板の各々には、複数の前記外部抵抗体の各々が形成されており、前記補正用抵抗体と複数の前記外部抵抗体とは、ブリッジ回路を形成していてもよい。このような構成とすることにより、補正用抵抗体の出力信号をブリッジ回路の差動出力として得ることが可能となり、バイアス電圧やノイズ等の影響を回避しつつ、メンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化を細かく読み取ることができる。また、各外部基板に各外部抵抗体を形成することにより、各外部基板の設置位置を適宜調整することにより、各外部抵抗体の配置を自在に調整することが可能となり、各外部抵抗体の配置の自由度を高めることができる。
前記外部抵抗体は、複数の前記外部抵抗体からなり、前記外部基板には、複数の前記外部抵抗体が形成され、前記補正用抵抗体と複数の前記外部抵抗体とは、ブリッジ回路を形成していてもよい。このような構成とした場合にも、上述したように、補正用抵抗体の出力信号をブリッジ回路の差動出力として得ることが可能となり、バイアス電圧やノイズ等の影響を回避しつつ、メンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化を細かく読み取ることができる。また、各外部抵抗体が同一基板上に形成されているため、各外部抵抗体が配置される各位置の温度条件が同様となる。したがって、各外部抵抗体は同様の温度変化をすることになり、補正用抵抗体の出力信号に、各外部抵抗体の温度変化の相違に起因する誤差が含まれることを防止することができる。
好ましくは、前記外部基板と前記メンブレンとは、同様の熱特性を有する材料で形成されている。このような構成とすることにより、補正用抵抗体が配置される位置と外部抵抗体が配置される位置との間で温度条件を同様とすることが可能となる。それゆえ、補正用抵抗体と外部抵抗体とが同様の温度変化をすることになり、補正用抵抗体の出力信号に、各抵抗体の温度変化の相違に起因する誤差が含まれることを防止し、メンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化を高精度で検出することができる。
好ましくは、前記補正用抵抗体と前記外部抵抗体との間の電気的接続を解除する解除部を有する。圧力流体の温度変化に起因する補正用抵抗体の抵抗変化を測定するときに(仮温度を測定するときに)、補正用抵抗体と外部抵抗体との間の電気的接続を解除した上で、補正用抵抗体の出力信号(仮出力信号)を検出することにより、外部抵抗体を含む回路との干渉を回避し、仮出力信号に外部抵抗体の影響による誤差が含まれることを防止することができる。すなわち、上述したように、仮出力信号には、圧力流体の温度変化に起因する補正用抵抗体の抵抗変化分だけでなく、メンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化分も含まれている可能性があるが、ここに外部抵抗体の影響による誤差がさらに含まれることを防止することができる。
好ましくは、前記補正用抵抗体の一端に電気的に接続可能な第1導電経路と第2導電経路とをさらに有し、前記第2導電経路には、前記外部抵抗体が電気的に接続されており、前記解除部は、前記補正用抵抗体の電気的な接続先を前記第1導電経路および前記第2導電経路のいずれかに切り替えるスイッチからなる。スイッチにより、補正用抵抗体の電気的な接続先を第1導電経路に切り替えることにより、補正用抵抗体と外部抵抗体とが電気的に接続されていない状態が形成され、補正用抵抗体の出力信号(仮出力信号)に基づいて、圧力流体の温度(仮温度)を測定する処理を実行することができる。また、スイッチにより、補正用抵抗体の電気的な接続先を第2導電経路に切り替えることにより、補正用抵抗体と外部抵抗体とが電気的に接続された状態が形成され、補正用抵抗体の出力信号に基づいて、メンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化を検出する処理を実行することができる。
好ましくは、前記外部基板が固定される基板部をさらに有し、前記外部基板は、前記メンブレンの周囲に隣接して配置され、前記外部基板に形成された前記外部抵抗体は、前記メンブレンに形成された前記補正用抵抗体の近傍に配置されている。このような構成とすることにより、補正用抵抗体が配置される位置と外部抵抗体が配置される位置との間の温度条件を同様とすることが可能となり、メンブレンの歪に起因する補正用抵抗体の抵抗変化を高精度で検出することができる。
以下、本発明を図面に示す実施形態に基づき説明する。
第1実施形態
本発明の第1実施形態に係る圧力センサ10は、圧抵抗効果(ピエゾ抵抗効果)を利用した圧力センサであり、メンブレンの変形による歪を抵抗体の抵抗変化により検出するものである。図1に示すように、圧力センサ10は、接続部材12と、抑え部材14と、基板部16と、外部基板18と、ステム20とを有する。
本発明の第1実施形態に係る圧力センサ10は、圧抵抗効果(ピエゾ抵抗効果)を利用した圧力センサであり、メンブレンの変形による歪を抵抗体の抵抗変化により検出するものである。図1に示すように、圧力センサ10は、接続部材12と、抑え部材14と、基板部16と、外部基板18と、ステム20とを有する。
接続部材12は、圧力センサ10を測定対象に対して固定するためのものである。接続部材12の外周面には、ねじ溝12aが形成されている。ねじ溝12aは、測定対象に形成されたねじ溝に対して螺合可能な形状を有する。接続部材12の内部には、圧力流体の流路として利用される流路12bが形成されている。ねじ溝12aを介して圧力センサ10を測定対象に固定することにより、測定対象である圧力室に対して流路12bを気密に連通することが可能となっている。
抑え部材14は、接続部材12に対してステム20を固定するためのものである。抑え部材14は、接続部材12の上面に配置されており、リング状の外形状を有している。抑え部材14の中央には貫通孔が形成されており、その内部にはステム20を挿通(配置)させることが可能となっている。抑え部材14と接続部材12との間には、ステム20の一部(後述するフランジ部21)を固定することが可能となっている。
ステム20は、有底(上底)筒状の外形状を有しており、接続部材12における流路12bの一方の端部に設けられる。ステム20は、例えばステンレス等の金属や合金を機械加工することにより作製される。ステム20の材質は、適切な弾性変形を生じるものであれば特に限定されない。
ステム20は、フランジ部21とメンブレン22と側壁部23とを有する。側壁部23は、筒状の外形状を有している。側壁部23の一方の端部はメンブレン22で閉塞されている一方で、側壁部23の他方の端部は開口している。フランジ部21は、ステム20の開口部側に設けられており、側壁部23の他方の端部に形成された開口縁部から径方向外側に向かって突出している。フランジ部21を抑え部材14と接続部材12とで挟み込むように固定することにより、ステム20の開口部を接続部材12の流路12bの一端に気密に連結した状態で、ステム20を接続部材12に固定することが可能となっている。
メンブレン22は、測定対象の圧力が伝達される部分であり、ステム20の上底部を構成している。メンブレン22は、ステム20における他の部分(側壁部23等)に比べて肉薄に形成されており、流路12bから伝えられる圧力(圧力流体から受ける圧力)に応じた変形(歪)を発生させる。メンブレン22は、圧力流体に接触する内面22aと、内面22aとは反対側の外面22bとを有している。メンブレン22の外面22bには、後述する検出回路30、温度測定用回路41および電極部51~56等が設けられている(図3参照)。
基板部16は、抑え部材14の上面に固定されており、リング状の外形状を有している。基板部16の中央には貫通孔が形成されており、その内部にはステム20を挿通(配置)させることが可能となっている。基板部16には電極部57~64(図2)が形成されており、基板部16の電極部57~62とメンブレン22上の電極部51~56とは、ワイヤボンディング等により形成される接続配線80を介して電気的に接続される。基板部16に形成される電極部57~64は、例えば信号ライン、電力供給ラインあるいはグランド等に電気的に接続されている。
外部基板18は、基板部16とは別体で構成され、ねじ82等の留め具あるいは接着剤等により、基板部16の上面に固定されている。外部基板18の上面には、後述する歪測定用回路42および電極部65~66(図2)が設けられている。外部基板18を構成する材料としては、ステンレス、銅合金、アルミ合金、鋼鉄等が例示される。なお、外部基板18はステム20と同様の材料で構成されてもよい。
外部基板18の熱特性は、メンブレン22の熱特性と同様(実質的に同一)となっていることが好ましい。すなわち、外部基板18は、メンブレン22と同様の熱特性を有する材料で構成されていることが好ましい。熱特性としては、例えば、熱伝導率、比熱、熱膨張率、潜熱および溶融温度等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
外部基板18は、メンブレン22の外側(周囲)において、メンブレン22に隣接して配置されていることが好ましい。後述するように、本実施形態では、外部基板18には外部抵抗体Reが設けられ、メンブレン22には補正用抵抗体Rcが設けられるが、この補正用抵抗体Rcが配置される位置と外部抵抗体Reが配置される位置との間で温度条件(温度環境)が同様となるように、外部基板18はメンブレン22(特に、メンブレン22の補正用抵抗体Rcが設けられた位置)に近接して配置される。例えば、外部基板18は、メンブレン22の外周に沿うように配置されてもよい。
また、補正用抵抗体Rcが配置される位置と外部抵抗体が配置される位置との間で温度条件を同様とする観点では、外部基板18の表面のZ軸方向の位置(高さ)は、メンブレン22の表面のZ軸方向の位置(高さ)と略等しくなっていることが好ましい。外部基板18の表面の位置(高さ)を、メンブレン22の表面の位置(高さ)と略等しくする観点では、外部基板18の表面のZ軸方向の位置は、メンブレン22の内面22aのZ軸方向の位置と、メンブレン22の外面22bのZ軸方向の位置との間であることが好ましい。
上述したように、メンブレン22には、検出回路30、温度測定用回路42、電極部51~56等が設けられている。以下、図2および図3を参照しつつ、これらの構成について説明する。図2に示すように、検出回路30は、センサ抵抗体R1~R4を有し、メンブレン22の歪発生領域に形成されている。
図3において、その上部に示す図はステム20の模式断面図であり、その下部に示す図はステム20の概略平面図である。メンブレン22の歪発生領域は、所定方向の歪特性を生じる第1歪領域24と、第1歪領域24とは逆方向の歪特性を生じる第2歪領域26とからなる。メンブレン22の第1歪領域24は、内面22aからの圧力(正圧)を受けて、負方向の歪-ε(圧縮歪)を生じるのに対して、メンブレン22の第2歪領域26は、内面22aからの圧力(正圧)を受けて、正方向の歪+ε(引張歪)を生じる。このように、第1歪領域24上における歪特性と、第2歪領域26上における歪特性は、互いに異なる方向(符号が異なり打ち消しあう関係)であることが好ましい。
第1歪領域24および第2歪領域26は、それぞれメンブレン22の中心Oの周囲に同心円上に形成されている。第2歪領域26は、メンブレン22の中心Oから径方向に所定距離だけ離れた位置に位置し、メンブレン22の中心部に形成されている。第1歪領域24は、第2歪領域26の外側(外周側)に形成され、第2歪領域26からメンブレン22の径方向に所定距離だけ離れた位置に位置する。メンブレン22の外縁部27は、ステム20の側壁部23に接続されている。
検出回路30を構成するセンサ抵抗体R1~R4は、圧力検出素子であり、メンブレン22の変形に応じた歪を生じ、その歪み量に応じてピエゾ抵抗効果により抵抗値が変化するように構成されている。
センサ抵抗体R1~R4は、例えば、所定の材料からなる導電性の薄膜(半導体薄膜あるいは金属薄膜等)を例えばミアンダ形状にパターニングすることにより作製される。導電性薄膜のパターニングは、レーザー加工やスクリーン印刷のような半導体加工技術による微細加工等により行われる。導電性薄膜は、スパッタリングや蒸着等の薄膜法により、メンブレン22の上に絶縁膜を挟んで形成される。ただし、メンブレン22がアルミナ等の絶縁材料からなり、メンブレン22の外面22bが絶縁性を有する場合には、絶縁膜を形成することなく、メンブレン22の外面22bに直接に導電性薄膜を形成してもよい。導電性薄膜としては、例えばCrとAlとを含む歪抵抗膜が例示される。
センサ抵抗体R1とセンサ抵抗体R3とは、第1歪領域24に形成されており、メンブレン22の中心Oを挟んで対向して配置されている。センサ抵抗体R2とセンサ抵抗体R4とは、第2歪領域26に形成されており、メンブレン22の中心Oを挟んで対向して配置されている。センサ抵抗体R1とセンサ抵抗体R3とが向かい合う方向と、センサ抵抗体R2とセンサ抵抗体R4とが向かい合う方向とは略直交している。なお、センサ抵抗体R1~R4の配置は、図示の配置に限定されるものではなく、適宜変更してもよい。
検出回路30は、メンブレン22の上面に、第1歪領域24と第2歪領域26とに跨るように形成されており、円環状(楕円環状)からなる外形状を有する。検出回路30は、ブリッジ回路であり、本実施形態ではホイートストンブリッジを構成している。ただし、検出回路30の構成は図示の構成に限定されるものではなく、検出回路30は他のブリッジ回路を構成してもよい。
検出回路30において、センサ抵抗体R1とセンサ抵抗体R2とは接続点71を介して接続され、センサ抵抗体R1とセンサ抵抗体R4とは接続点72を介して接続され、センサ抵抗体R3とセンサ抵抗体R4とは接続点73を介して接続され、センサ抵抗体R2とセンサ抵抗体R3とは接続点74を介して接続されている。すなわち、センサ抵抗体R1~R4は、接続点71~74を介して、互いに電気的および物理的に接続されている。
接続点71は電極部51に電気的に接続されており、接続点72は電極部52に電気的に接続されており、接続点73は電極部53に電気的に接続されており、接続点74は電極部54に電気的に接続されている。
電極部51~54は、例えば、センサ抵抗体R1~R4と同様の方法により、所定の材料からなる導電性の薄膜(半導体薄膜あるいは金属薄膜等)を所定の形状にパターニングすることにより作製される。後述する電極部55および56についても同様である。電極部51~54の各々は、メンブレン22の外縁部27に形成されているが、電極部51~54の位置は図示の位置に限定されず、例えば第1歪領域24と外縁部27との間の任意の位置に形成されていてもよい。
接続点71~74の各々と電極部51~54の各々との間は、上述した所定の形状にパターニングされた導電性の薄膜で連続して接続されている。ただし、接続点71~74の各々と電極部51~54の各々とは、例えばワイヤボンディング等により接続されていてもよい。
図2に示すように、電極部51は基板部16に形成された電極部57にワイヤボンディング等により電気的に接続されており、電極部52は基板部16に形成された電極部58にワイヤボンディング等により電気的に接続されており、電極部53は基板部16に形成された電極部59にワイヤボンディング等により電気的に接続されており、電極部54は基板部16に形成された電極部60にワイヤボンディング等により電気的に接続されている。電極部57~60は、例えば、電極部51等と同様の方法により、基板部16上に作製される。後述する電極部61~64についても同様である。
電極部58は、例えば電力供給ラインに電気的に接続されており、検出回路30には、電極部58および電極部52を介して、電力供給ラインから電力(バイアス電圧)が供給される。電極部60は、例えばグランドに電気的に接続されている。
電極部57は、例えば圧力センサ10の制御部(図示略)に接続されており、電極部57および電極部51を介して、接続点71における電圧(V+)が検出信号として制御部に出力される。電極部59は、例えば圧力センサ10の制御部(図示略)に接続されており、電極部59および電極部53を介して、接続点73における電圧(V-)が検出信号として制御部に出力される。なお、制御部は、例えば、MCU、FPGA、ASIC等のICにより構成される。
電極部57(電極部51)から出力される検出信号の電圧値V+と電極部59(電極部53)から出力される検出信号の電圧値V-とを、例えば利得Aを有する差動増幅器を利用して増幅することにより、検出回路30から出力電圧Vを取得し、出力電圧Vに基づいて、メンブレン22に作用する流体圧を検出することが可能となっている。
ところで、メンブレン22に形成されたセンサ抵抗体R1~R4の抵抗変化には温度依存性があるため、検出回路30の出力信号(上述した出力電圧V)には、センサ抵抗体R1~R4の抵抗変化の温度依存性に起因する誤差が含まれる可能性がある。すなわち、検出回路30の出力信号には、メンブレン22の歪に起因するセンサ抵抗体R1~R4の抵抗変化分だけではなく、圧力流体の温度変化に起因するセンサ抵抗体R1~R4の抵抗変化分が誤差として含まれている可能性がある。
そこで、このようなセンサ抵抗体R1~R4の抵抗変化の温度依存性に起因する誤差(圧力流体の温度変化に起因するセンサ抵抗体R1~R4の抵抗変化)を測定し、その値に基づいて、検出回路30の出力信号に対して温度補正を行うために、図3に示すように、圧力センサ10には、温度測定用回路41が設けられている。以下、温度測定用回路41の構成について説明する。
温度測定用回路41は、メンブレン22上に形成されており、補正用抵抗体Rcを有する。補正用抵抗体Rcは、温度を検出するための抵抗体であり、例えば圧力流体の温度変化に応じて抵抗値を変化させる。補正用抵抗体Rcは、検出回路30とは独立して(電気的に接続されることなく)形成されており、相対的にメンブレン22の歪の影響を受けにくいメンブレン22の外縁部27に形成されることが好ましい。補正用抵抗体Rcが、メンブレンの歪に応じて、抵抗値を変化させることを防止するためである。
ただし、補正用抵抗体Rcの少なくとも一部が、相対的にメンブレン22の歪の影響を受けやすいメンブレン22の歪発生領域に形成されてもよい。後述するように、本実施形態では、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を測定することを可能とする回路(歪測定用回路42)が具備されているため、このような位置に補正用抵抗体Rcを配置した場合であっても、圧力流体の温度変化に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を正確に特定することができるからである。
例えば、補正用抵抗体Rcの少なくとも一部が、第1歪領域24と外縁部27との間の任意の位置に形成されてもよい。あるいは、補正用抵抗体Rcの一部が、第1歪領域24と第2歪領域26の間の任意の位置に形成されていてもよい。
補正用抵抗体Rcは、例えば、センサ抵抗体R1~R4と同様の方法により、所定の材料からなる導電性の薄膜(半導体薄膜あるいは金属薄膜等)を所定の形状にパターニングすることにより作製される。
補正用抵抗体Rcの延在方向は、全体として見たときに、例えばメンブレン22の周方向と略一致するようになっている(補正用抵抗体Rcがメンブレン22の周方向に沿ってミアンダ状に延びている)。ただし、補正用抵抗体Rcの延在方向は、これに限定されるものではなく、補正用抵抗体Rcは、例えばメンブレン22の径方向に沿って放射状に延びていてもよい。
図2に示すように、補正用抵抗体Rcの一端は、メンブレン22上に形成された電極部55に電気的および物理的に接続されており、補正用抵抗体Rcの他端は、メンブレン22上に形成された電極部56に電気的および物理的に接続されている。電極部56は、基板部16上に形成された電極部62にワイヤボンディング等により電気的に接続されており、例えばグランドに電気的に接続されている。
電極部55は、基板部16上に形成された電極部61にワイヤボンディング等により電気的に接続されている。電極部61は、例えば圧力センサ10の制御部(図示略)に電気的に接続されており、電極部61を介して、接続点75における電圧(Vo)を補正用抵抗体Rcの出力信号(補正用抵抗体Rcの抵抗変化を示す信号)として制御部に出力することが可能となっている。
接続点75は、第1導電経路75aを介して、電力供給ライン(図示略)に電気的に接続可能となっている。電力供給ラインと接続点75との間には分圧用抵抗Rt(図6A参照)が介挿されており、温度測定用回路41(補正用抵抗体Rc)にはバイアス電圧Vdd1(図3)が供給される。分圧用抵抗Rtは、例えばASIC等からなる制御部に設けられていてもよい。
接続点75は、第2導電経路75bを介して、外部抵抗体Reに電気的に接続可能となっている。外部抵抗体Reと接続点75との間には、電極部63および電極部65が設けられている。
接続点75の位置には、補正用抵抗体Rcの一端と外部抵抗体Reとの間の電気的接続を解除する解除部が設けてあることが好ましい。例えば、図6Aおよび図6Bに示すように、接続点75の位置には、解除部としてスイッチ83が設けてあってもよい。この場合、スイッチ83により、補正用抵抗体Rcの一端の電気的な接続先を第1導電経路75aあるいは第2導電経路75bに切り替えることが可能となる。なお、スイッチ83の切替制御は、例えば圧力センサ10の制御部(図示略)等によって行われる。
上述したように、検出回路30の出力信号に対して温度補正を行う際には、電極部61(図2)を介して、補正用抵抗体Rcの出力信号が制御部に出力される。このとき、補正用抵抗体Rcの一端と外部抵抗体Reとの間の電気的接続を解除しておき、図6Aに示すように、補正用抵抗体Rcの一端を分圧用抵抗Rtに電気的に接続した状態で、補正用抵抗体Rcの出力信号を制御部で検出することにより、外部抵抗体Re(歪測定用回路42)との干渉を回避し、補正用抵抗体Rcの出力信号に外部抵抗体Reの影響による誤差が含まれることを防止することができる。
なお、接続点75に上述した解除部を設置せず、第1導電経路75aと第2導電経路75bとが接続点75で物理的および電気的に接続されていてもよい。ただし、この場合、第1導電経路75a側の回路と、第2導電経路75b側の回路との間の干渉を防止するための手段を設けておくことが好ましい。
第1導電経路75aおよび第2導電経路75bのうち、第1導電経路75aに補正用抵抗体Rcの一端が電気的に接続された状態では、補正用抵抗体Rcと分圧用抵抗Rtとが電気的に接続され、図4Aあるいは図6Aに示す回路が形成される。この回路において、接続点76(図2に示す電極部61に対応)の出力電圧Voは、図3に示す接続点75の電圧に等しく、例えば図2に示す電極部61を介して取得される。出力電圧Voは、第1導電経路75aを介して供給されるバイアス電圧Vdd1を分圧用抵抗Rtと補正用抵抗体Rcとで分圧した値からなる。
補正用抵抗体Rcの一端が第1導電経路75aに電気的に接続された状態において、電極部61(図2)を介して、補正用抵抗体Rcの出力信号(電極部61の出力電圧Vo)を検出することにより、その検出値に基づいて、圧力流体の温度変化に起因するセンサ抵抗体R1~R4の抵抗変化(圧力流体の温度)を測定することが可能となる。したがって、この測定値に基づいて、検出回路30の出力信号に対して温度補正を行うことができる。このように、補正用抵抗体Rcの出力信号の検出値に基づいて、圧力流体の温度変化に起因するセンサ抵抗体R1~R4の抵抗変化(圧力流体の温度)を測定することを「温度測定モード」と呼ぶ。
ところで、図2に示すように、補正用抵抗体Rcは、メンブレン22上に形成されているため、補正用抵抗体Rcの抵抗変化は、少なからずメンブレン22の歪の影響を受ける。すなわち、メンブレン22が圧力流体から圧力を受けて歪を発生させると、その歪の影響により補正用抵抗体Rcが抵抗値を変化させる。そのため、温度測定モードにおいて検出した補正用抵抗体Rcの出力信号(図4Aまたは図6Aに示す出力電圧Vo)には、圧力流体の温度変化に起因する抵抗変化分だけではなく、メンブレン22の歪に起因する抵抗変化分が誤差として含まれる可能性がある。それゆえ、温度測定モードにおいて検出した補正用抵抗体Rcの出力信号は、圧力流体の温度変化に起因するセンサ抵抗体R1~R4の抵抗変化(圧力流体の温度)を正確に反映していない可能性があり、この出力信号に基づいて、検出回路30の出力信号に対して温度補正を行っても、温度補正の正確性を担保することができない可能性がある。
圧力流体の温度変化に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化(圧力流体の温度)を正確に求めるためには、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を測定し、温度測定モードにおいて検出した補正用抵抗体Rcの出力信号から、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化分を除く処理を行う必要がある。そこで、本実施形態では、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を測定するために、圧力センサ10に歪測定用回路42が設けられている。以下、歪測定用回路42の構成について説明する。
歪測定用回路42は、外部基板18上に形成されており、外部抵抗体Reを有する。外部抵抗体Reは、例えば、補正用抵抗体Rcと同様の方法により、所定の材料からなる導電性の薄膜(半導体薄膜あるいは金属薄膜等)を所定の形状にパターニングすることにより作製される。外部抵抗体Reは、補正用抵抗体Rcとは異なり、メンブレン22上に形成されてはいないため、歪みの影響を受けることがない。したがって、外部抵抗体Reは、実質的に、歪みに起因して抵抗変化を生ずることはなく、温度に起因して抵抗変化を生ずるのみである。
外部抵抗体Reの一端は、外部基板18上に形成された電極部65に電気的および物理的に接続されている。電極部65は、基板部16上に形成された電極部63にワイヤボンディング等により電気的に接続されている。電極部63は、第2導電経路75bに電気的に接続されている。例えば、図6Bに示すように、スイッチ83が補正用抵抗体Rcの一端の電気的な接続先を第2導電経路75bに切り替えることにより、外部抵抗体Reは、補正用抵抗体Rcの一端に電気的に接続される。
図2に示すように、外部抵抗体Reの他端は、外部基板18上に形成された電極部66に電気的および物理的に接続されている。電極部66は、基板部16上に形成された電極部64にワイヤボンディング等により電気的に接続されている。電極部66は、例えば電力供給ラインに電気的に接続されており、歪測定用回路42には、電極部64および電極部66を介して、電力供給ラインからバイアス電圧Vdd2(図3)が供給される。
第1導電経路75aおよび第2導電経路75bのうち、第2導電経路75bに補正用抵抗体Rcの一端が電気的に接続された状態では、補正用抵抗体Rcと外部抵抗体Reとが電気的に接続され、図4Bあるいは図6Bに示す回路が形成される。図6Bに示す回路では、スイッチ83により、補正用抵抗体Rcの一端の電気的な接続先を第1導電経路75aから第2導電経路75bに切り替えることが可能となっている。
この回路において、接続点76(図2に示す電極部61に対応)の出力電圧Voは、図3に示す接続点75の電圧に等しく、例えば図2に示す電極部61を介して取得される。出力電圧Voは、第2導電経路75bを介して供給されるバイアス電圧Vdd2を外部抵抗体Reと補正用抵抗体Rcとで分圧した値からなり、下記の数式(1)により表される。
ここで、圧力流体の温度変化に起因して、補正用抵抗体Rcに温度変化ΔTが発生するとともに、外部抵抗体Reに温度変化ΔTが発生した場合、温度変化後の補正用抵抗体Rcの出力電圧Vo’は、下記の数式(2)により表される。なお、数式(2)において、補正用抵抗体Rcおよび外部抵抗体Reの温度抵抗係数をTCRとする。
数式(2)に示すように、補正用抵抗体Rcの温度がΔTだけ変化すると、補正用抵抗体RcにΔRc(ΔRc=Rc・TCR・ΔT)だけ抵抗変化が生じる。また、外部抵抗体Reの温度がΔTだけ変化すると、外部抵抗体ReにΔRe(ΔRe=Re・TCR・ΔT)だけ抵抗変化が生じる。しかしながら、補正用抵抗体Rcおよび外部抵抗体Reの両者に抵抗変化ΔRcおよびΔReが発生した場合、数式(2)に示すように、補正用抵抗体Rcの抵抗変化率(1+TCR・ΔT)と、補正用抵抗体Rcおよび外部抵抗体Reからなる合成抵抗体の抵抗変化率(1+TCR・ΔT)とが等しくなるため、これらが相殺される結果、温度変化後の出力電圧Vo’は、温度変化前の出力電圧Voと同一の式で表される。つまり、図5Aに示すように、出力電圧Voは、温度変化に応じて変化することがなく、常に一定の値となる。
一方、メンブレン22の歪に起因して、補正用抵抗体Rcに歪εが発生した場合、歪発生後の補正用抵抗体Rcの出力電圧Vo’は、下記の数式(3)により表される。なお、数式(3)において、補正用抵抗体Rcの感度をkとする。
数式(3)に示すように、補正用抵抗体Rcに加わる歪がεだけ変化すると、補正用抵抗体RcにΔRc(ΔRc=k・ε・Rc)だけ抵抗変化が生じる。数式(3)から明らかなように、出力電圧Vo’は、歪みの大きさεを変数とする関数である。したがって、図5Bに示すように、出力電圧Vo’は、εの大きさに応じた分だけ変化する。
つまり、補正用抵抗体Rcと外部抵抗体Reとが電気的に接続された状態(図4Bに示す回路が形成された状態)では、圧力流体の温度変化に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化が出力電圧Voの変化として表れることはなく(図5A参照)、補正用抵抗体Rcの出力電圧Voの変化は、常にメンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を表すものとなる。したがって、出力電圧Voを検出することにより、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を測定することができる。このように、補正用抵抗体Rcの出力信号の検出値に基づいて、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を測定することを「歪測定モード」と呼ぶ。
上述したように、温度測定モードにおいて検出した補正用抵抗体Rcの出力信号は、圧力流体の温度変化に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化分に加えて、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化分を含む場合がある。これに対して、歪測定モードにおいて検出した補正用抵抗体Rcの出力信号は、理論上、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化分のみを含む。したがって、温度測定モードにおいて検出した補正用抵抗体Rcの出力信号の検出値と、歪測定モードにおいて検出した補正用抵抗体Rcの出力信号の検出値との差分をとることにより、前者の出力信号の検出値から、メンブレン22の歪に起因する抵抗変化分(誤差)を除去することができる。
これにより、温度測定モードにおいて検出した補正用抵抗体Rcの出力信号から、圧力流体の温度変化に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化分のみを正確に特定し(すなわち、圧力流体の真の温度を特定し)、検出回路30の出力信号に対して正確な温度補正を行うことができる。
ここで、数式(2)が成立するためには、補正用抵抗体Rcの抵抗変化率(1+TCR・ΔT)と、補正用抵抗体Rcおよび外部抵抗体Reからなる合成抵抗体の抵抗変化率(1+TCR・ΔT)とが実質的に等しくなること、すなわち補正用抵抗体RcのTCRと外部抵抗体ReのTCRとが実質的に等しく、補正用抵抗体Rcの温度変化ΔTと外部抵抗体Reの温度変化ΔTとが実質的に等しいことが前提となる。
そこで、上記の前提が成立するために、外部抵抗体Reを構成する材料は、補正用抵抗体Rcを構成する材料と同一の材料、あるいは温度特性(抵抗温度係数等)が近似する材料であることが好ましい。例えば、外部抵抗体ReのTCRと補正用抵抗体RcのTCRの差は、±100ppm以下であることが好ましい。
また、図2に示すように、外部基板18に形成された外部抵抗体Reは、メンブレン22に形成された補正用抵抗体Rcの近傍に配置されていることが好ましい。この場合、外部抵抗体Reが配置される位置と補正用抵抗体Rcが配置される位置との間の温度条件を同様とすることが可能となる。したがって、補正用抵抗体Rcの温度変化ΔTと外部抵抗体Reの温度変化ΔTとが略等しくなり、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を高精度で検出することができる。
また、外部基板18とメンブレン22とを、同様の熱特性を有する材料で形成することにより、外部抵抗体Reが配置される位置と補正用抵抗体Rcが配置される位置との間で温度条件を同様とすることが可能となる。したがって、外部抵抗体Reと補正用抵抗体Rcとが同様の温度変化をするようになり、補正用抵抗体Rcの出力信号に、各抵抗体の温度変化の相違に起因する誤差が含まれることを防止し、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を高精度で検出することができる。
以上で説明したように、本実施形態に係る圧力センサ10では、圧力流体の温度検出を精度良く行うことができるとともに、その温度情報に基づいて、検出回路30の出力信号に含まれる誤差(各センサ抵抗体R1~R4の抵抗変化の温度依存性に起因する誤差)を精度良く補正することができる。また、温度測定モードにおいて検出した出力信号の検出値からメンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化分を除くことができるため、補正用抵抗体Rcをメンブレン22の歪発生領域に形成しても問題がなく、圧力センサ10の小型化あるいは温度測定の高精度化を良好に図ることができる。
第2実施形態
次に、本発明の第2実施形態に係る圧力センサ10Aの構成について説明する。図面において、第1実施形態の圧力センサ10と共通する構成については、共通の符号を付し、その説明については省略する。
次に、本発明の第2実施形態に係る圧力センサ10Aの構成について説明する。図面において、第1実施形態の圧力センサ10と共通する構成については、共通の符号を付し、その説明については省略する。
図7に示すように、圧力センサ10Aは、3つの外部基板18_1~18_3と、3つの外部抵抗体Re1~Re3とを有する。外部基板18_1には外部抵抗体Re1が形成されており、外部基板18_2には外部抵抗体Re2が形成されており、外部基板18_3には外部抵抗体Re3が形成されている。
3つの外部基板18_1~18_3は、それぞれ別体で構成されており、互いに所定の間隔をあけて配置されている。外部基板18_1~18_3は、各々に形成される外部抵抗体Re1~Re3の温度条件(温度環境)を同様とする観点から、互いに近接して配置されていることが好ましい。
3つの外部基板18_1~18_3は、補正用抵抗体Rcが配置される位置と外部抵抗体Re1~Re3が配置される位置との間で温度条件が同様となるように、メンブレン22(特に、メンブレン22の補正用抵抗体Rcが設けられた位置)に近接して配置されることが好ましい。例えば、外部基板18_1~18_3は、メンブレン22の外周に沿うように配列されてもよい。
外部基板18_1~18_3は、これらの熱特性を同様とする観点から、それぞれ同様の熱特性を有する材料からなる基板で構成されていることが好ましい。また、外部基板18_1~18_3は、これらの熱特性を同様とする観点から、それぞれ同一の形状、大きさあるいは高さからなる基板で構成されていることが好ましい。また、外部基板18_1~18_3の表面の位置(高さ)は、互いに略等しくなっていることが好ましく、メンブレン22の表面の位置(高さ)と略等しくなっていることが好ましい。すなわち、外部基板18_1~18_3の表面のZ軸方向の位置は、メンブレン22の内面22a(図1)のZ軸方向の位置と、メンブレン22の外面22bのZ軸方向の位置との間であることが好ましい。
外部抵抗体Re1~Re3は、第1実施形態における外部抵抗体Reと同様の抵抗体であってもよい。あるいは、外部抵抗体Re1~Re3は、第1実施形態における外部抵抗体Reとは異なる形状、大きさあるいは抵抗値を有する抵抗体であってもよい。また、外部抵抗体Re1~Re3は、それぞれ同一の形状、大きさあるいは抵抗値を有する抵抗体であってもよい。あるいは、外部抵抗体Re1~Re3のうち、少なくとも1つの抵抗体が、他の抵抗体とは異なる形状、大きさあるいは抵抗値を有する抵抗体であってもよい。
外部抵抗体Re1~Re3を構成する材料は、各々の温度特性を同様とする観点から、それぞれ同一の材料、あるいは温度特性が近似する材料であることが好ましい。この場合、例えば圧力流体の温度の温度変化に応じて、外部抵抗体Re1~Re3の温度環境が変化したときに、外部抵抗体Re1~Re3に、それぞれ同様の温度変化ΔTを生じさせることが可能となる。
外部抵抗体Re1~Re3は、外部基板18_1~18_3および基板部16(図2)に形成された電極部を介して、ワイヤボンディングあるいは基板部16上の配線等により電気的に接続されている。
より詳細には、外部抵抗体Re1の一端に電気的に接続された電極部65は、接続点75に電気的に接続されており、外部抵抗体Re1の他端に電気的に接続された電極部66は、外部抵抗体Re2の他端に電気的に接続された電極部68に電気的に接続されている。外部抵抗体Re2の一端に電気的に接続された電極部67は、外部抵抗体Re3の他端に電気的に接続された電極部70に電気的に接続されている。外部抵抗体Re3の一端に電気的に接続された電極部69は、接続点79に電気的に接続されている。接続点79は、補正用抵抗体Rcの他端に形成された電極部56に電気的に接続されている。
電極部66と電極部68とに電気的に接続された接続点77は、電力供給ラインに電気的に接続されており、電極部56と電極部69とに電気的に接続された接続点79は、グランドに電気的に接続されている。電極部65と電極部55とに電気的に接続された接続点76は、圧力センサ10の制御部(図示略)に接続されており、接続点76における電圧V+(直列に接続された外部抵抗体Re1と補正用抵抗体Rcの間の中間電位)が検出信号として制御部に出力される。電極部67と電極部70とに電気的に接続された接続点78は、圧力センサ10の制御部(図示略)に接続されており、接続点78における電圧V-(直列に接続された外部抵抗体Re2と外部抵抗体Re3の間の中間電位)が検出信号として制御部に出力される。
図8に示すように、補正用抵抗体Rcと複数の外部抵抗体Re1~Re3とはブリッジ回路を形成しており、歪測定モードでは、接続点76における電圧V+と接続点78における電圧V-との差動出力が、補正用抵抗体Rcの出力信号の出力電圧Vo2(Vo2=V+-V-)となる。
図9Aおよび図9Bに示すように、接続点75の位置には、スイッチ83(解除部)が設けてあってもよい。図9Aに示すように、スイッチ83が第1導電経路75aに電気的に接続された場合には、温度測定モードとなり、分圧用抵抗Rtと補正用抵抗体Rcとからなる直列回路が形成され、接続点76における出力電圧Vo1が補正用抵抗体Rcの出力信号として圧力センサ10の制御部(図示略)に出力される。出力電圧Vo1の検出値は、主として、圧力流体の温度変化に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を示すものである(出力電圧Vo1には、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化分も含まれる)。
図9Bに示すように、スイッチ83が第2導電経路75bに電気的に接続された場合には、歪測定モードとなり、補正用抵抗体Rcと外部抵抗Re1~Re3とからなるブリッジ回路が形成され、接続点76における出力電圧V+と接続点78における出力電圧V-が補正用抵抗体Rc(ブリッジ回路)の出力信号として圧力センサ10の制御部(図示略)に出力される。制御部では、この出力電圧V+と出力電圧V-の差分が出力電圧(差動出力)Vo2として算出される。出力電圧Vo2の検出値は、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を示すものであり、図10Bに示すように、歪みの大きさεを変数とする関数である。なお、図10Aに示すように、出力電圧Vo2は、温度変化(ΔT)に対しては、変化することがなく、常に一定の値となる。
したがって、温度測定モードにおいて検出した出力信号の検出値(出力電圧Vo1)から、歪測定モードにおいて検出した出力信号の検出値(出力電圧Vo2)を除くことにより、温度測定モードにおいて検出した出力信号の検出値からメンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化分を除くことが可能となる。これにより、圧力流体の温度検出を精度良く行うことができるとともに、その温度情報に基づいて、検出回路30の出力信号に含まれる誤差(各センサ抵抗体R1~R4の抵抗変化の温度依存性に起因する誤差)を精度良く補正することができる。
このように、本実施形態においても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。また、補正用抵抗体Rcの出力信号をブリッジ回路の差動出力として得ることが可能であるため、図10Bに示すように、当該出力信号(出力電圧)からバイアス電圧を除くことが可能となり、メンブレン22の歪に起因する補正用抵抗体Rcの抵抗変化を細かく読み取ることができる。また、補正用抵抗体Rcの出力信号に重畳するノイズの影響を緩和することができる。
また、本実施形態では、外部基板18_1~18_3にそれぞれ外部抵抗体Re1~Re3を形成することにより、外部基板18_1~18_3の各設置位置を適宜調整することにより、外部抵抗体Re1~Re3の配置を自在に調整することが可能となり、外部抵抗体Re1~Re3の配置の自由度を高めることができる。
第3実施形態
次に、本発明の第3実施形態に係る圧力センサ10Bの構成について説明する。図面において、第2実施形態の圧力センサ10Aと共通する構成については、共通の符号を付し、その説明については省略する。
次に、本発明の第3実施形態に係る圧力センサ10Bの構成について説明する。図面において、第2実施形態の圧力センサ10Aと共通する構成については、共通の符号を付し、その説明については省略する。
図11に示すように、本実施形態における圧力センサ10Bは、外部抵抗体Re1~Re3の全部が1枚の外部基板18に形成されているという点において、第2実施形態における圧力センサ10Aとは異なる。外部抵抗体Re1~Re3は、図示のような配置で外部基板18に形成されていてもよく。あるいは一列に配列されるように外部基板18に形成されていてもよい。詳細な図示は省略するが、接続点75の位置には、スイッチ83(図9Aおよび9B)等からなる解除部が設けてあってもよい。
本実施形態においても、第2実施形態と同様の効果を得ることができる。加えて、本実施形態では、外部抵抗体Re1~Re3が同一基板上に形成されているため、外部抵抗体Re1~Re3の各々が配置される各位置の温度条件が同様となる。したがって、外部抵抗体Re1~Re3はそれぞれ同様の温度変化をすることになり、補正用抵抗体Rcの出力信号に、外部抵抗体Re1~Re3の各々の温度変化の相違に起因する誤差が含まれることを防止することができる。
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
上記各実施形態において、図4Aに示す分圧用抵抗Rtは必須ではなく、省略してもよい。この場合、温度測定モードにおいて、補正用抵抗体Rcの一端を電流源に接続し、電流源を介して補正用抵抗体Rcに電流を供給することにより、補正用抵抗体Rcの出力信号を取得してもよい。
上記第1実施形態において、外部基板18の位置は図1に示す位置に限定されるものではなく、適宜変更してもよい。例えば、外部基板18は、メンブレン22と隣り合う位置に配置されていてもよい。
上記第2実施形態において、外部基板の数は2つでも良い。この場合、一方の外部基板に外部抵抗体Re1~Re3のいずれか1つを形成し、他方の外部基板に残りの2つの外部抵抗体を形成してもよい。
10,10A,10B…圧力センサ
12…接続部材
12a…ねじ溝
12b…流路
14…抑え部材
16…基板部
18,18_1~18_3…外部基板
20…ステム
21…フランジ部
22…メンブレン
22a…内面
22b…外面
23…側壁部
24…第1歪領域
26…第2歪領域
30…検出回路
41…温度測定用回路
42…歪測定用回路
51~70…電極部
71~79…接続点
80…接続配線
82…ねじ
R1~R4…センサ抵抗体
Rc…補正用抵抗体
Re,Re1~Re3…外部抵抗体
12…接続部材
12a…ねじ溝
12b…流路
14…抑え部材
16…基板部
18,18_1~18_3…外部基板
20…ステム
21…フランジ部
22…メンブレン
22a…内面
22b…外面
23…側壁部
24…第1歪領域
26…第2歪領域
30…検出回路
41…温度測定用回路
42…歪測定用回路
51~70…電極部
71~79…接続点
80…接続配線
82…ねじ
R1~R4…センサ抵抗体
Rc…補正用抵抗体
Re,Re1~Re3…外部抵抗体
Claims (7)
- 圧力に応じた変形を生じるメンブレンと、
前記メンブレンに形成され、検出回路を構成する複数のセンサ抵抗体と、
前記メンブレンに形成され、温度を検出するための補正用抵抗体と、
前記メンブレンとは異なる外部基板に形成され、前記補正用抵抗体の一端に電気的に接続可能な外部抵抗体と、を有する圧力センサ。 - 前記外部基板は、複数の前記外部基板からなり、
前記外部抵抗体は、複数の前記外部抵抗体からなり、
複数の前記外部基板の各々には、複数の前記外部抵抗体の各々が形成されており、
前記補正用抵抗体と複数の前記外部抵抗体とは、ブリッジ回路を形成している請求項1に記載の圧力センサ。 - 前記外部抵抗体は、複数の前記外部抵抗体からなり、
前記外部基板には、複数の前記外部抵抗体が形成され、
前記補正用抵抗体と複数の前記外部抵抗体とは、ブリッジ回路を形成している請求項1に記載の圧力センサ。 - 前記外部基板と前記メンブレンとは、同様の熱特性を有する材料で形成されている請求項1~3のいずれかに記載の圧力センサ。
- 前記補正用抵抗体と前記外部抵抗体との間の電気的接続を解除する解除部を有する請求項1~4のいずれかに記載の圧力センサ。
- 前記補正用抵抗体の一端に電気的に接続可能な第1導電経路と第2導電経路とをさらに有し、
前記第2導電経路には、前記外部抵抗体が電気的に接続されており、
前記解除部は、前記補正用抵抗体の電気的な接続先を前記第1導電経路および前記第2導電経路のいずれかに切り替えるスイッチからなる請求項5に記載の圧力センサ。 - 前記外部基板が固定される基板部をさらに有し、
前記外部基板は、前記メンブレンの周囲に隣接して配置され、
前記外部基板に形成された前記外部抵抗体は、前記メンブレンに形成された前記補正用抵抗体の近傍に配置されている請求項1~6のいずれかに記載の圧力センサ。
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