JP2022553451A - ガス拡散層、その製造方法、膜電極アセンブリ及び燃料電池 - Google Patents
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Abstract
Description
第1に、プロトン交換膜と触媒層の支持、第2に、流路内のアノードとカソードの反応ガスを分子拡散とクヌーセン拡散により触媒表面に移動させること、第3に、触媒層で生成した電子をポーラプレートへ移動させること、第4に、触媒層で生成した水を、流路に移動させ、ガス拡散層内での毛細管現象と濃度拡散等によって排出し、物質移動分極を回避すること、第5に、例えば、触媒層をガス拡散層表面に直接設けられるように、ガス拡散層が触媒層の機能を担うことである。
燃料電池に用いるガス拡散層であって、このガス拡散層の微多孔質層製造工程で用いる組成物のスラリー中に、カテコールまたはピロカテコール化合物、特に塩酸ドパミンを含む添加剤を加える。また、このガス拡散層の微多孔質層製造工程で用いるスラリーに、塩酸ドパミンを加える。
導電性材料、孔形成剤、疎水剤と分散剤を均一に混合、分散して含む微多孔質層スラリーを製造する工程、
ガス拡散層基材表面を疎水化処理した後、この表面に、微多孔質層スラリーを直接塗布あるいはスクリーン印刷で塗布する工程、及び
微多孔質層スラリーを塗布したガス拡散層を焙焼処理する工程を含む。
ステップS11:導電性材料、孔形成剤、疎水剤及び分散剤を均一に混合、分散させて微多孔質層スラリーを作る。
この導電性材料は、カーボンブラック、好ましくはバルカンXC-72(R)またはアセチレンブラックである。孔形成剤は、炭酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム、炭酸リチウムの一種又は二種で、好ましくはシュウ酸アンモニウムである。疎水剤は、カテコールまたはピロカテコール化合物、特に塩酸ドパミンを含む添加剤を加えたポリテトラフルオロエチレン水性分散液である。分散剤は、アルコール類であり、エタノール、イソプロパノール及びエチレングリコールのうちの1種又は2種であり、好ましくはイソプロパノールである。
ステップS13:微多孔質層スラリーを塗布したガス拡散層を、乾燥炉中で焙焼する。
1)バルカン(Vulcan)XC-72(R)3.2g、シュウ酸アンモニウム2.5gを含む水溶液60ml、20%ポリテトラフルオロエチレン希釈液8g、塩酸ドパミン0.08gを一定量のイソプロパノールに注ぎ、よく撹拌して粘度が300cpのスラリーとする、
2)カーボン紙(東レH060カーボン紙)を疎水化処理した後、カーボン紙上に上記スラリーを塗布する、
3)スラリーで塗布したガス拡散層をマッフル炉に入れ、昇温速度5℃/分で最終的に340℃とし60分間焙焼する。炉を室温に戻し、ガス拡散層を取り出し、微多孔質層の製造完了とする。
1)バルカンXC-72(R)3.2g、シュウ酸アンモニウム2.5gを含む水溶液60ml、20%ポリテトラフルオロエチレン希釈液8gを一定量のイソプロパノールに注ぎ、よく撹拌して粘度が300cpのスラリーとする、
2)カーボン紙(東レH060カーボン紙)を疎水性処理した後、カーボン紙上に上記のスラリーを塗布する、
3)このスラリーで塗布したガス拡散層をマッフル炉に入れ、昇温速度5℃/分で最終的に340℃とし60分間焙焼する。炉を室温に戻し、ガス拡散層を取り出し、微多孔質層の製造完了とする。
サンプルの空隙率は,後述の微多孔質層の空隙率試験法に従って,48.2%,厚さ219μmと測定された。
まず、面積a、厚さb1の疎水化処理されたガス拡散層基材の重量をε1とし、重量が一定になるまでデカンに浸漬する(デカンは、湿潤液として用い、表面エネルギーが低いことから拡散層の基層の全ての孔に入り込む)。浸漬後のガス拡散層基材の重量ε2を求める。
次いで、同じ面積a、厚さb2で製造したガス拡散層(ガス拡散基材と微多孔質層を含む)の重量をε3として秤量し、デカン中に重量が一定になるまで浸漬する。浸漬後のガス拡散層(ガス拡散基材層と微多孔質層を含む)の重量をε4とし、以下の式を用いて微多孔質層の空隙率φを計算する。
例1:燃料電池に用いられるガス拡散層であって、このガス拡散層が、ガス拡散層基材と、ガス拡散層基材上に塗布された微多孔質層スラリーとからなり、そのスラリーにカテコールまたはピロカテコール化合物を含む添加剤を加えることを特徴とするガス拡散層。
例3:ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用されるスラリーが、導電性材料、孔形成剤、疎水剤及び分散剤を含有することを特徴とする例1のガス拡散層構造。
例4:ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用するスラリーが、カーボンブラックである導電材料を含有することを特徴とする例1のガス拡散層構造。
例5:ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用するスラリーが、炭酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム、炭酸リチウムの1種または2種からなる孔形成剤を含有することを特徴とする例1のガス拡散層構造。
例7:ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用するスラリーが、アルコール類である分散剤を含有することを特徴とする例1のガス拡散層構造。
例8:ガス拡散層の厚さが、10μm~500μmであることを特徴とする例1のガス拡散層構造。
例9:例1~8のいずれか1例に記載のガス拡散層を製造するガス拡散層製造方法であって、
導電性材料、孔形成剤、疎水剤及び分散剤を均一に混合、分散して含有する微多孔質層スラリーを製造する工程、
ガス拡散層基材表面を疎水化処理した後に、微多孔質層スラリーを、直接塗布またはスクリーン印刷で塗布する工程、及び
前記微多孔質層スラリーを塗布したガス拡散層を焙焼処理する工程を行うことを特徴とするガス拡散層製造方法。
例11:ガス拡散層に使用する微多孔質層スラリーに、塩酸ドパミンを加えることを特徴とする例9のガス拡散層の製造方法。
例12:前記ガス拡散層に使用する前記微多孔質層スラリーが、導電性材料、孔形成剤、疎水剤及び分散剤を含有することを特徴とする例9のガス拡散層の製造方法。
例13:ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用するスラリー中の導電性材料が、カーボンブラックであることを特徴とする例9のガス拡散層の製造方法。
例14:孔形成剤が、炭酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム、炭酸リチウムのうちの1種または2種を含むことを特徴とする例9のガス拡散層の製造方法。
例16:分散剤が、アルコール類であることを特徴とする例9のガス拡散層の製造方法。
例17:ピロカテコール化合物を含有する添加剤が、塩酸ドパミンであることを特徴とする例15のガス拡散層の製造方法。
例18:ガス拡散層の厚さが、10μm~500μmであることを特徴とする例9のガス拡散層の製造方法。
前記カソード側ガス拡散層が、例1から18のいずれか1例のガス拡散層の微多孔質層であり、アノード側ガス拡散層が、例1から18のいずれか1例のガス拡散層を、含んでいることを特徴とする膜電極アセンブリ。
21 アノード側触媒層
22 アノード側触媒層
31 アノード側ガス拡散層微多孔質層
32 アノード側ガス拡散層微多孔質層
41 アノード側ガス拡散層基材部分
42 アノード側ガス拡散層基材部分
Claims (20)
- 燃料電池に用いられるガス拡散層であって、前記ガス拡散層が、ガス拡散層基材と、前記ガス拡散層基材上に塗布された微多孔質層スラリーとからなり、前記微多孔質層スラリーが、カテコールまたはピロカテコール化合物を含有する添加剤を添加することを特徴とするガス拡散層。
- 前記ガス拡散層の微多孔質層製造工程に使用されるスラリーに、塩酸ドパミンを添加することを特徴とする請求項1に記載のガス拡散層。
- 前記ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用されるスラリーが、導電性材料、孔形成剤、疎水剤及び分散剤を含有することを特徴とする請求項1に記載のガス拡散層構造。
- 前記ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用するスラリーが、カーボンブラックである導電材料を含有することを特徴とする請求項1に記載のガス拡散層構造体。
- 前記ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用するスラリーが、炭酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム、炭酸リチウムの1種または2種からなる孔形成剤を含有することを特徴とする請求項1に記載のガス拡散層構造。
- 前記ガス拡散層の微多孔質層の製造工程で使用するスラリーが、疎水剤を含有し、前記疎水剤が、カテコールまたはピロカテコール化合物を含む添加剤を添加したポリテトラフルオロエチレン水分散液であることを特徴とする請求項1に記載のガス拡散層構造。
- 前記ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用するスラリーが、アルコール類である分散剤を含有することを特徴とする請求項1に記載のガス拡散層構造。
- 前記ガス拡散層の厚さが、10μm~500μmであることを特徴とする請求項1に記載のガス拡散層構造。
- 請求項1に記載のガス拡散層構造において、
請求項1~8のいずれか1項に記載のガス拡散層を製造するガス拡散層製造方法であって、
導電性材料、孔形成剤、疎水剤及び分散剤を均一に混合、分散して含有する微多孔質層スラリーを製造する工程、
ガス拡散層基材表面を疎水化処理した後に、前記微多孔質層スラリーを直接塗布またはスクリーン印刷で塗布する工程、及び
前記微多孔質層スラリーを塗布したガス拡散層を焙焼処理する工程
を行うことを特徴とするガス拡散層製造方法。 - 前記基材が、カーボン紙またはカーボン布であることを特徴とする請求項9に記載のガス拡散層製造方法。
- 前記ガス拡散層に使用する前記微多孔質層スラリーに、塩酸ドパミンを加えることを特徴とする請求項9に記載のガス拡散層の製造方法。
- 前記ガス拡散層に使用する前記微多孔質層スラリーが、導電性材料、孔形成剤、疎水剤及び分散剤を含有することを特徴とする請求項9に記載のガス拡散層の製造方法。
- 前記ガス拡散層の微多孔質層製造工程で使用するスラリー中の前記導電性材料が、カーボンブラックであることを特徴とする請求項9に記載のガス拡散層の製造方法。
- 前記孔形成剤が、炭酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム、炭酸リチウムからの1種または2種を含むことを特徴とする請求項9に記載のガス拡散層の製造方法。
- 前記疎水剤が、カテコールまたはピロカテコール化合物を含有する添加剤を添加したポリテトラフルオロエチレン水性分散液であることを特徴とする請求項9に記載のガス拡散層の製造方法。
- 前記分散剤が、アルコール類であることを特徴とする請求項9に記載のガス拡散層の製造方法。
- 前記ピロカテコール化合物を含有する前記添加剤が、塩酸ドパミンであることを特徴とする請求項15に記載のガス拡散層の製造方法。
- 前記ガス拡散層の厚さが、10μm~500μmであることを特徴とする請求項9に記載のガス拡散層の製造方法。
- カソード側ガス拡散層、カソード側触媒層、プロトン交換膜、アノード側触媒層及びアノード側ガス拡散層が順次積層されてなる膜電極アセンブリであって、
前記カソード側ガス拡散層が、請求項1から18のいずれか1項に記載のガス拡散層の微多孔質層であり、
前記アノード側ガス拡散層が、請求項1~18のいずれか1項に記載のガス拡散層を含んでいることを特徴とする膜電極アセンブリ。 - 請求項19に記載の膜電極アセンブリを含む燃料電池スタック、ポーラプレート、コレクタープレート、絶縁プレート、シーリング構造及びエンドプレートからなることを特徴とする燃料電池。
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