JP2022547310A - 表示パネルの製造方法及び表示装置 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図4
Description
Claims (20)
- 表示領域と、開孔領域と、前記表示領域と前記開孔領域との間に位置しかつ前記開孔領域を少なくとも部分的に囲むアイソレーション領域と、を含む表示パネルの製造方法であって、
基板上に、前記開孔領域と前記アイソレーション領域に位置し、第1の支持副層と第2の支持副層を含み、前記第1の支持副層の前記基板における投影が前記開孔領域に位置し、前記第2の支持副層の前記基板における投影が前記アイソレーション領域に位置する、支持層を形成するステップと、
前記支持層上に、第1のバリア副層と第2のバリア副層を含み、前記第1のバリア副層が前記第1の支持副層上に位置し、前記第2のバリア副層が前記第2の支持副層の開溝部上に位置する、第1のバリア層を形成するステップと、
前記第2のバリア副層をエッチングして前記開溝部を露出させるステップと、
少なくとも前記開溝部をエッチングし、互い違いに分布する凹溝とアイソレーション柱とを取得するステップと、を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。 - 前記第1のバリア層は第3のバリア副層をさらに含み、前記第3のバリア副層は前記第2の支持副層上の前記開溝部以外の残り部分上に形成されることを特徴とする請求項1に記載の表示パネルの製造方法。
- 前記凹溝の底面の面積は前記凹溝の開口の面積よりも大きく、前記アイソレーション柱における前記基板と反対側の表面の面積は、前記アイソレーション柱における前記基板側の底面の面積よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の表示パネルの製造方法。
- 前記基板上に、前記表示領域に位置し、前記支持層と同一の工程において形成される、バッファ層を形成するステップ、又は、
前記基板上に、前記表示領域に位置するバッファ層を形成するステップと、
前記バッファ層上に、前記表示領域に位置し、前記支持層と同一の工程において形成される、アイソレーション層を形成するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記基板上に、前記表示領域に位置し、前記基板と反対側の表面が前記支持層における前記基板と反対側の表面と同一平面上にある、駆動回路層を形成するステップと、
前記駆動回路層上に、前記基板と反対側の表面が前記第1のバリア層における前記基板と反対側の表面と同一平面上にある、第2のバリア層を形成するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記第2のバリア層と前記第1のバリア層は同一の工程において形成されることを特徴とする請求項5に記載の表示パネルの製造方法。
- 前記駆動回路層は接続線層を含み、
前記支持層と前記接続線層は同一の工程で形成されることを特徴とする請求項5に記載の表示パネルの製造方法。 - 少なくとも前記開溝部をエッチングし、凹溝とアイソレーション柱を取得するステップの後に、
前記第1のバリア副層、前記第3のバリア副層及び前記第2のバリア層に対してウェットエッチングを行い、アレイ基板を取得するステップをさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記第1のバリア層の材料は酸化インジウムスズITO、酸化インジウムガリウムIGO又は酸化インジウムガリウム亜鉛IGZOであり、前記第2のバリア層の材料は酸化インジウムスズITO、酸化インジウムガリウムIGO又は酸化インジウムガリウム亜鉛IGZOであることを特徴とする請求項5に記載の表示パネルの製造方法。
- 前記第2のバリア副層をエッチングするステップの前に、
前記第1のバリア層上にポジ型フォトレジストを塗布するステップと、
前記ポジ型フォトレジスト上に、前記第2のバリア副層に対応する第1の光透過領域を含むマスクを配置するステップと、
前記ポジ型フォトレジストにおける前記第1の光透過領域に対応する部分に対して露光、現像処理を行い、前記第1の光透過領域に対応するポジ型フォトレジストを除去して、前記第2のバリア副層を露出させるステップと、を含み、
前記第2のバリア副層をエッチングするステップは、
前記第2のバリア副層に対してウェットエッチングを行って、前記開溝部を露出させるステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記第1のバリア副層をエッチングし、前記第1のバリア副層のエッチングと前記第2のバリア副層のエッチングは同一の工程において完成することをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の表示パネルの製造方法。
- 同一の工程において前記第1のバリア副層と前記第2のバリア副層をエッチングすることは、
前記第1のバリア層上にポジ型フォトレジストを塗布することと、
前記ポジ型フォトレジスト上に、前記第2のバリア副層に対応する第1の光透過領域と、前記第1のバリア副層に対応する第2の光透過領域とを含むマスクを配置することと、
前記第1の光透過領域と前記第2の光透過領域のポジ型フォトレジストに対して露光、現像処理を行い、前記第1の光透過領域と前記第2の光透過領域のポジ型フォトレジストを除去して、前記第2のバリア副層と前記第1のバリア副層を露出させることと、
前記第1のバリア副層及び前記第2のバリア副層に対してウェットエッチングを行うことと、を含むことを特徴とする請求項11に記載の表示パネルの製造方法。 - ウェットエッチングを行うために用いられる酸液の成分はリン酸、シュウ酸又は酢酸のうちの少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項12に記載の表示パネルの製造方法。
- 少なくとも前記開溝部をエッチングし、凹溝とアイソレーション柱を取得するステップは、
第1のガスと第2のガスを含む第1の混合ガスを用いて前記第2の支持副層の前記開溝部に対してドライエッチングを行い、前記第1の混合ガス中の前記第1のガスと前記第2のガスとの成分比は2:1~10:1であることと、
前記基板は有機層を含み、前記第1のガスと前記第2のガスを含む第2の混合ガスを用いて前記基板の有機層における前記開溝部に対応する部分に対してドライエッチングを行い、前記第2の混合ガス中の前記第1のガスと前記第2のガスとの成分比は1:4~1:10であることと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記第1のガスは、四フッ化炭素又は四フッ化硫黄のうちの少なくとも1つを含み、前記第2のガスは酸素を含み、及び/又は、
前記支持層の材料は窒化ケイ素又は酸化ケイ素であり、及び/又は、
ドライエッチングを行う電力は2000~10000ワットであることを特徴とする請求項14に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記アレイ基板上に有機発光材料層を形成するステップと、
前記有機発光材料層上に陰極層を形成するステップと、
前記陰極層上に封止層を形成するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記基板は有機層を有し、前記有機発光材料層は凹溝の側壁箇所又はアイソレーション柱の側壁箇所で隔離され、前記凹溝の底面は、前記支持層、又は前記基板の有機層内に位置することを特徴とする請求項16に記載の表示パネルの製造方法。
- 前記封止層上に有機充填層を形成し、前記有機充填層は前記封止層における前記基板と反対側の表面に形成された収容空間内に充填されることを特徴とする請求項17に記載の表示パネルの製造方法。
- 請求項1から18のいずれか1項に記載の表示パネルの製造方法により製造されることを特徴とする表示パネル。
- デバイス領域を有する装置本体と、
請求項19に記載の表示パネルと、を含み、
前記表示パネルは前記装置本体を被覆し、かつ前記表示パネルの開孔領域は前記デバイス領域に対応することを特徴とする表示装置。
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