JP2022523695A - 基板洗浄デバイス及び基板洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
基板洗浄デバイスが、基板を保持するように構成されたチャンバ本体と、ブラシアセンブリとを含み得る。ブラシアセンブリは、第１のローラー、第２のローラー、及び第１のローラーと第２ローラーとの間で延在するベルトを含み得る。第１のローラーと第２のローラーとのうちの少なくとも一方は、ベルトがチャンバ本体内に配置された基板の第１の表面と接触する第１の位置と、ベルトが第１の表面から間隔を空けられる第２の位置との間で移動可能であり得る。他の基板洗浄デバイス及び基板を洗浄する方法が開示される。【選択図】図１Ａ
Description
[001] 本開示は、基板洗浄デバイス及び基板洗浄デバイスを動作させるための方法に関する。
[002] 半導体デバイスの製造中に、その上に半導体デバイスが製造される基板は、多くの工程を経る。そのような工程の１つは洗浄であり、その場合、基板をブラシボックス内に置くことができる。洗浄ローラーを、ブラシボックス内に位置付けることができ、基板に対して回転させて、基板を洗浄することができる。
[003] 幾つかの実施形態では、基板洗浄デバイスが提供される。基板洗浄デバイスは、基板を保持するように構成されたチャンバ本体、第１のローラー、第２のローラー、及び第１のローラーと第２のローラーとの間で延在する第１のベルトを含む、第１のブラシアセンブリであって、第１のローラーと第２のローラーとのうちの少なくとも一方が、第１のベルトがチャンバ本体内に配置された基板の第１の表面に接触する第１の位置と、第１のベルトが第１の表面から間隔を空けられる第２の位置との間で移動可能である、第１のブラシアセンブリ、並びに、第１のローラー、第２のローラー、及び第１のローラーと第２のローラーとの間で延在する第２のベルトを含む、第２のブラシアセンブリであって、第１のローラーと第２のローラーとのうちの少なくとも一方が、第２のベルトが基板の第２の表面に接触する第１の位置と、第２のベルトが第２の表面から間隔を空けられる第２の位置との間で移動可能である、第２のブラシアセンブリを含む。
[004] 幾つかの実施形態では、基板を洗浄する方法が提供される。該方法は、第１のローラー、第２のローラー、及び第１のローラーと第２のローラーとの間で延在する第１のベルトを含む、第１のブラシアセンブリを提供すること、第１のローラー、第２のローラー、及び第１のローラーと第２のローラーとの間で延在する第２のベルトを含む、第２のブラシアセンブリを提供すること、第１のベルトを回転させること、第２のベルトを回転させること、第１のブラシアセンブリの第１のローラーと第２のローラーとのうちの少なくとも一方を、第１のベルトが基板の第１の表面に接触する第１の位置へ移動させること、並びに、第２のブラシアセンブリの第１のローラーと第２のローラーとのうちの少なくとも一方を、第２のベルトが基板の第２の表面に接触する第１の位置へ移動させることを含み得る。
[005] 幾つかの実施形態では、基板洗浄デバイスが提供される。基板洗浄デバイスは、基板を保持するように構成されたチャンバ本体、第１のローラー、第２のローラー、及び第１のローラーと第２のローラーとの間で延在するベルトを含む、第１のブラシアセンブリであって、第１のローラーと第２のローラーとのうちの少なくとも一方が、ベルトがチャンバ本体内に配置された基板の第１の表面に接触する第１の位置と、ベルトが第１の表面から間隔を空けられる第２の位置との間で移動可能である、第１のブラシアセンブリ、並びに、チャンバ本体の外部に位置付けられ、第１のローラーと第２のローラーとのうちの一方に磁気結合された磁気カプラであって、第１のローラーと第２のローラーとのうちの一方を第１の位置と第２の位置との間で移動させるように構成された磁気カプラを含み得る。
[006] 本開示のこれら及び他の実施形態による、多数の他の態様及び特徴が提供される。本開示の実施形態の他の特徴及び態様は、以下の明細書の詳細な説明、特許請求の範囲、及び添付の図面により完全に明らかになる。
[007] 以下に記載される図面は、単に例示の目的のためであり、必ずしも一定の縮尺で描かれていない。これらの図面は、本開示の範囲を限定することを意図するものでは全くない。可能な限り、同一又は類似の部分について言及するために、同一の参照番号が図面全体を通じて使用されることになる。
[0016] 図１Ａは、洗浄状態にある基板洗浄デバイス１００の側面図を示し、図１Ｂは、解放状態にある基板洗浄デバイス１００を示す。本明細書で説明される基板洗浄デバイス１００の特徴は、他の基板処理デバイスに適用され得る。基板洗浄デバイス１００は、プロセス空間１０４を画定するチャンバ本体１０２（例えば、ブラシボックス）を含み得る。チャンバ本体１０２は、内部に位置付けられた基板１１０を洗浄するために使用される洗浄液などの処理液を保持するように構成されたタンクであってよい。基板１１０は、複数のローラーによってチャンバ本体１０２内に支持され得る。第１のローラー１１４Ａ及び第２のローラー１１４Ｂが、図１Ａ及び図１Ｂで示されている。基板１１０は、より多くのローラー（図示せず）によって支持されてよい。
[0017] 基板１１０は、基板洗浄デバイス１００によって洗浄され得る、第１の表面１１０Ａと、第１の表面１１０Ａとは反対側の第２の表面１１０Ｂとを含む。幾つかの実施形態では、第１の表面１１０Ａと第２の表面１１０Ｂとが、両方とも、基板洗浄デバイス１００によって同時に洗浄及び／又は処理され得る。他の実施形態では、第１の表面１１０Ａ及び第２の表面１１０Ｂが、基板洗浄デバイス１００によって連続的に洗浄及び／若しくは処理されてよく、並びに／又は、単一の表面（例えば、第１の表面１１０Ａ若しくは第２の表面１１０Ｂ）が、基板洗浄デバイス１００によって洗浄及び／若しくは処理されてよい。駆動機構１１６が、第２のローラー１１４Ｂ又は別の支持ローラーに結合されてよく、洗浄工程中に基板１１０を方向１１８Ａ及び／又は方向１１８Ｂに回転させる。
[0018] 基板洗浄デバイス１００は、第１のブラシアセンブリ１２０Ａ及び第２のブラシアセンブリ１２０Ｂを含んでよい。第１のブラシアセンブリ１２０Ａは、第１のモーター１２２Ａと、第１のモーター１２２Ａに結合された第１のローラー１２４Ａとを含んでよい。第２のブラシアセンブリ１２０Ｂは、第２のモーター１２２Ｂと、第２のモーター１２２Ｂに結合された第１のローラー１２４Ｂとを含んでよい。幾つかの実施形態では、単一のモーター（図示せず）が、第１のモーター１２２Ａ及び第２のモーター１２２Ｂと置き換わってもよく、第１のローラー１２４Ａ及び第１のローラー１２４Ｂの両方を回転させてよい。
[0019] 第１のベルト１２６Ａが、第１のローラー１２４Ａと第２のローラー１３２Ａとの間で延在し得る。第２のベルト１２６Ｂが、第１のローラー１２４Ｂと第２のローラー１３２Ｂとの間で延在し得る。第１のベルト１２６Ａは、外面１２８Ａ及び内面１２８Ｂを含み得る。第２のベルト１２６Ｂも、外面１３０Ａ及び内面１３０Ｂを含み得る。第１のベルト１２６Ａの内面１２８Ｂは、第１のローラー１２４Ａ及び第２のローラー１３２Ａに接触し得る。第２のベルト１２６Ｂの内面１３０Ｂは、第１のローラー１２４Ｂ及び第２のローラー１３２Ｂに接触し得る。例えば、内面１２８Ｂは、第１のローラー１２４Ａ及び／又は第２のローラー１３２Ａに接触し得る歯及び／又は摩擦面（図示せず）などの表面特徴を含み得る。同様に、内面１３０Ｂは、第１のローラー１２４Ｂ及び／又は第２のローラー１３２Ｂに接触する歯又は摩擦面（図示せず）などの表面特徴を含み得る。
[0020] 第１のモーター１２２Ａの回転は、第１のローラー１２４Ａによって第１のベルト１２６Ａを移動させる。第１のベルト１２６Ａは、第１のローラー１２４Ａ及び第２のローラー１３２Ａの周りで回転する。同様に、第２のモーター１２２Ｂの回転は、第１のローラー１２４Ｂによって第２のベルト１２６Ｂを移動させる。第２のベルト１２６Ｂは、第１のローラー１２４Ｂ及び第２のローラー１３２Ｂの周りで回転する。幾つかの実施形態では、基板洗浄デバイス１００が、第１のベルト１２６Ａ及び第２のベルト１２６Ｂに接触し得る他のローラーを含んでよい。幾つかの実施形態では、（第１のローラー１２４Ａ及び／又は第１のローラー１２４Ｂに加えて又は代えて）第２のローラー１３２Ａ及び／又は第２のローラー１３２Ｂが、１以上のモーターによって駆動され得る。
[0021] 図１Ａ及び図１Ｂで描かれている実施形態では、第１のモーター１２２Ａが、第１のローラー１２４Ａを方向Ｄ１１に回転させてよく、第２のモーター１２２Ｂが、第１のローラー１２４Ｂを方向Ｄ１２に回転させてよい。したがって、第１のベルト１２６Ａは、第２のローラー１３２Ａの周りで方向Ｄ１１に移動し、第２のベルト１２６Ｂは、第２のローラー１３２Ｂの周りで方向Ｄ１２に移動する。したがって、第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂとの両方は、基板１１０に対して方向Ｄ１３に移動する。幾つかの実施形態では、第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂが、基板１１０に対して方向Ｄ１３とは反対の方向に移動してもよい。
[0022] 第１のベルト１２６Ａの外面１２８Ａは、基板１１０の第１の表面１１０Ａと接触するように構成され得る。第２のベルト１２６Ｂの外面１３０Ａは、基板１１０の第２の表面１１０Ｂと接触するように構成され得る。外面１２８Ａ及び外面１３０Ａは、基板の表面を洗浄又は他の方法で処理することができる従来のパッドと同じ表面特徴を含み得る。幾つかの実施例では、第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂが、研磨パッドで一般的に使用される材料から作製され得る。幾つかの実施形態では、第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂが、ポリウレタン及び／又はポリビニールアルコール（PVA）から作製されてよく、又はそれらを含んでよい。第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂは、他の材料から作製されてよい。第１のベルト１２６Ａ及び第２のベルト１２６Ｂは、３次元印刷及び／又は他の製造工程によって作製されてよい。幾つかの実施形態では、第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂの外面１２８Ａと１３０Ａが、それらの幅及び／又はそれらの長さにわたり異なる材料を含み得る。そのような構成によって、第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂとの異なる部分が、基板１１０上で異なる手順を実行することが可能になる。
[0023] 第１のポート１３８Ａが、基板１１０の第１の表面１１０Ａの近傍に位置付けられてよく、第２のポート１３８Ｂが、第２の基板１１０Ｂの近傍に位置付けられてよい。第１のポート１３８Ａ及び第２のポート１３８Ｂは、基板１１０の第１の表面１１０Ａ及び第２の表面１１０Ｂに洗浄化学物質又は他の流体などの化学物質を分注し、及び／又はそこから、洗浄化学物質又は他の流体などの化学物質を除去し得る。例えば、第１のポート１３８Ａ及び第２のポート１３８Ｂは、基板処理で使用されるガスなどの流体を基板１１０上に分散させることができる。幾つかの実施形態では、流体が、フッ化水素酸（HF）、オゾン、塩酸（HCl）、及び／又は水酸化アンモニウム（NH4OH）を含み得る。他の流体を使用してもよい。
[0024] 第１のブラシアセンブリ１２０Ａは、第１のベルト１２６Ａの外面１２８Ａの近傍に位置付けられた第１のポート１４０Ａ及び第２のポート１４０Ｂを含んでよい。第２のブラシアセンブリ１２０Ｂは、第２のベルト１２６Ｂの外面１３０Ａの近傍に位置付けられた第１のポート１４２Ａ及び第２のポート１４２Ｂを含んでよい。第１のポート１４０Ａ、第１のポート１４２Ａ、第２のポート１４０Ｂ、及び第２のポート１４２Ｂは、第１のベルト１２６Ａ及び第２のベルト１２６Ｂの外面１２８Ａ及び外面１３０Ａに洗浄化学物質などの化学物質を分注し、及び／又はそこから、洗浄化学物質などの化学物質を除去し得る。幾つかの実施形態では、洗浄化学物質が、近似的に０．０５％から１．０％の濃度のNH4OHなどの塩基溶液を含んでよい。より高い又はより低い濃度のNH4OH又は他の塩基溶液を使用してもよい。幾つかの実施形態では、第１のブラシアセンブリ１２０Ａ及び／又は第２のブラシアセンブリ１２０Ｂが、第１のベルト１２６Ａ及び第２のベルト１２６Ｂの外面１２８Ａ及び外面１３０Ａをコンディショニングする（condition：適当な状態にする）コンディショナ（図示せず）を含み得る。例えば、コンディショナは、脱イオン水又は別の溶液を、第１のベルト１２６Ａ及び第２のベルト１２６Ｂの外面１２８Ａ及び外面１３０Ａに付加し得る。
[0025] 第１のブラシアセンブリ１２０Ａは、第1の旋回点１４６Ａを含んでよく、第２のブラシアセンブリ１２０Ｂは、第２の旋回点１４６Ｂを含んでよい。図１Ａ及び図１Ｂで描かれている実施形態では、第１の旋回点１４６Ａが、第１のローラー１２４Ａの中心の近傍に位置付けられてよく、第２の旋回点１４６Ｂが、第１のローラー１２４Ｂの中心の近傍に位置付けられてよい。第１のブラシアセンブリ１２０Ａは、第１の旋回点１４６Ａの周りで方向Ｄ１４に旋回してよく、第２のブラシアセンブリ１２０Ｂは、第２の旋回点１４６Ｂの周りで方向Ｄ１５に旋回してよい。例えば、モーター及び／又はサーボ（図示せず）は、第１のブラシアセンブリ１２０Ａを第１の旋回点１４６Ａの周りで旋回させてよく、第２のブラシアセンブリ１２０Ｂを第２の旋回点１４６Ｂの周りで旋回させてよい。
[0026] 図１Ａで描かれている基板洗浄デバイス１００は、洗浄状態にある。洗浄状態では、第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂとが、それぞれ、基板１１０の第１の表面１１０Ａと第２の表面１１０Ｂとに接触している。例えば、第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂとは、基板１１０の第１の表面１１０Ａと第２の表面１１０Ｂとに処理を実行し得る。第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂが、基板１１０に処理を実行する前又は後に、基板洗浄デバイス１００は、解放状態に置かれてよく、基板１１０がチャンバ本体１０２の中に置かれ及び／又はそこから取り出されることを可能にする。
[0027] 図１Ｂは、解放状態にある基板洗浄デバイス１００を示している。第１のブラシアセンブリ１２０Ａは、図１Ａで示されている第１のブラシアセンブリ１２０Ａの位置に対して反時計回りに回転した。第２のブラシアセンブリ１２０Ｂは、図１Ｂで示されている第２のブラシアセンブリ１２０Ｂに対して時計回りに回転した。したがって、基板洗浄デバイス１００が解放状態にあるときに、第１のブラシアセンブリ１２０Ａ及び第２のブラシアセンブリ１２０Ｂは基板１１０から間隔を空けられ、それにより、基板１１０はチャンバ本体１０２から取り出されることが可能になる。基板洗浄デバイス１００の解放状態は、基板がチャンバ本体１０２内に置かれることを更に可能にする。幾つかの実施形態では、第１のベルト１２６Ａの外面１２８Ａと第２のベルト１２６Ｂの外面１３０Ａとは、基板１１０の第１の表面１１０Ａと第２の表面１１０Ｂとから約１０mmから１５mmだけ間隔を空けられ得るが、他の間隔が使用されてもよい。
[0028] 動作に先だって、基板洗浄デバイス１００は、図１Ｂで示されているように、解放状態にあってよい。基板１１０は、図１Ｂで示されているように、チャンバ本体１０２の中に置かれ得る。次いで、基板洗浄デバイス１００は、図１Ａで示されているように、解放状態から洗浄状態に移行し得る。具体的には、第１のブラシアセンブリ１２０Ａが、第１の旋回点１４６Ａの周りで時計回りに旋回してよく、第１のベルト１２６Ａの外面１２８Ａが基板１１０の第１の表面１１０Ａに接触する位置まで至る。第２のブラシアセンブリ１２０Ｂは、第２の旋回点１４６Ｂの周りで反時計回りに旋回してよく、第２のベルト１２６Ｂの外面１３０Ａが基板１１０の第２の表面１１０Ｂに接触する位置まで至る。幾つかの実施形態では、第１のブラシアセンブリ１２０Ａと第２のブラシアセンブリ１２０Ｂとは、同時に旋回し得る。例えば、第１のブラシアセンブリ１２０Ａと第２のブラシアセンブリ１２０Ｂとは、第１のブラシアセンブリ１２０Ａと第２のブラシアセンブリ１２０Ｂとを同時に旋回させる、単一のモーター又は他の移動デバイスに結合されてよい。
[0029] 基板洗浄デバイス１００が洗浄状態にあるときに、駆動機構１１６は基板１１０を回転させ得る。更に、第１のモーター１２２Ａは、第１のベルト１２６Ａを回転させてよく、第２のモーター１２２Ｂは、第２のベルト１２６Ｂを回転させてよく、基板１１０の第１の表面１１０Ａ及び第２の表面１１０Ｂを処理する。幾つかの実施形態では、第１のモーター１２２Ａ及び／又は第２のモーター１２２Ｂが、第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂに加えられる負荷及び／又はトルクをモニタしてよく、基板１１０に加えられる力及び／又は基板１１０の処理が完了したときを特定する。幾つかの実施形態では、第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂが、洗浄及び／又は処理中に、基板１１０に対して約０．３平方インチ当たりのポンド（psi）と８．０psiとの間で押し付けられてよい。
[0030] 第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂとの使用により、基板を処理するために使用される従来のローラー及びパッドを超える多くの利点がもたらされる。例えば、ベルトの表面積は、従来のパッド又はローラーの表面積よりも大きくすることができる。ベルトのより大きな表面積は、ベルトが従来のパッド及びローラーよりも長く持続することを可能にし、その結果、従来の基板洗浄デバイスにおけるパッド又はローラーの交換よりもベルトの交換が少なくなり得る。図１Ａ及び図１Ｂで示されているように、第１のベルト１２６Ａは、第１のローラー１２４Ａと第２のローラー１３２Ａとの間で延在し、第２のベルト１２６Ｂは、第１のローラー１２４Ｂと第２のローラー１３２Ｂとの間で延在する。第１のベルト１２６Ａ及び第２のベルト１２６Ｂの延長された長さは、第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂとに対する、コンディショニング手順の適用及び／又は化学物質の付加を可能にする。幾つかの実施形態では、コンディショニングが、軽い圧力（例えば、０．１psiから３psi）で第１のベルト１２６Ａ及び第２のベルト１２６Ｂに付加される、ダイヤモンドコーティングされたディスクなどの粗い材料への、脱イオン水の付加を含み得る。他のコンディショニング工程及び／又は圧力が使用されてもよい。したがって、第１のポート１４０Ａ、第２のポート１４０Ｂ、第１のポート１４２Ａ、及び第２のポート１４２Ｂの位置について、より多くの選択肢があり、これらは、第１のベルト１２６Ａ及び第２のベルト１２６Ｂに、コンディショニングを行い及び／又は化学物質を付加することができる。更に、コンディショニング及び／又は化学物質の付加は、第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂとの直線的な及び／又は湾曲したセクションに行われてよい。
[0031] 次に図２Ａ及び図２Ｂを参照する。それらは、異なるベルト構成を有する基板洗浄デバイス１００の実施形態を示している。図２Ａ及び図２Ｂの実施形態では、第１のブラシアセンブリ１２０Ａが、第３のローラー２５０Ａを含み、第２のブラシアセンブリ１２０Ｂが、第３のローラー２５０Ｂを含む。第３のローラー２５０Ａは、基板１１０の第１の表面１１０Ａに接触することができる第１のベルト１２６Ａの直線的なセクション２５２Ａ（図２Ｂ）を提供する。直線的なセクション２５２Ａは、従来のローラーと比較して、第１のベルト１２６Ａと第１の表面１１０Ａとの間のより大きな接触面積を提供する。第３のローラー２５０Ｂは、第２のベルト１２６Ｂの同様に直線的なセクション２５２Ｂ（図２Ｂ）を提供する。幾つかの実施形態では、直線的なセクション２５２Ａ及び／又は直線的なセクション２５２Ｂが、基板１１０の直径の８分の１と８分の７との間にあってよい。他の実施形態では、直線的なセクション２５２Ａ及び／又は直線的なセクション２５２Ｂが、基板１１０の直径の８分の１と２分の１との間にあってよい。更に別の実施形態では、直線的なセクション２５２Ａ及び／又は直線的なセクション２５２Ｂが、基板１１０の直径の８分の１と４分の１との間にあってよい。他の直線的なセクションの長さが使用されてもよい。
[0032] 図２Ｂで示されているように、基板洗浄デバイス１００の実施形態は、第１のブラシアセンブリ１２０Ａを第１の旋回点１４６Ａの周りで回転させ、第２のブラシアセンブリ１２０Ｂを第２の旋回点１４６Ｂの周りで回転させてよく、基板洗浄デバイス１００を洗浄状態と解放状態との間で移行させる。
[0033] 次に図３を参照する。それは、基板洗浄デバイス１００の一実施形態の上面図を示している。図３の実施形態では、第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂとが、複数のゾーンに区分けされている。例えば、第１のベルト１２６Ａは、個別にゾーン３６０Ａ～３６０Ｇと称される複数のゾーン３６０を含み得る。第１のベルト１２６Ａの外面１２８Ａは、ゾーン３６０Ａ～３６０Ｇのそれぞれ内に異なる材料又は異なる構成の材料を有し得る。同様に、第２のベルト１２６Ｂの外面１３０Ａは、個別にゾーン３６２Ａ～３６２Ｇと称される複数のゾーン３６２に区分けされ得る。外面１２８Ａ及び外面１３０Ａは、図３で示されているよりも少ない数又は多い数のゾーン３６０及びゾーン３６２（例えば、２つ、３つ、４つ、５つ、６つ、８つ、９つなどのゾーン３６０及びゾーン３６２）を有し得る。
[0034] 外面１２８Ａのゾーン３６０Ａ～３６０Ｇ及び外面１３０Ａのゾーン３６２Ａ～３６２Ｇは、異なる材料又は異なる構成の材料を有し得る。したがって、ゾーン３６０Ａ～３６０Ｇ及びゾーン３６２Ａ～３６２Ｇは、第１のベルト１２６Ａと第２のベルト１２６Ｂとの異なる部分が、基板１１０上で異なる処理を実行することを可能にする。ゾーン３６０Ａ～３６０Ｇのそれぞれの材料は、PVA又は同様な材料であってよく、又はそれらを含んでよい。ゾーン３６０Ａ～３６０Ｇの少なくとも２つの材料は、異なるデュロメータ（durometer）を有してよい。更に、ゾーン３６０Ａ～３６０Ｇの少なくとも２つは、異なる表面仕上げを有してよい。他の実施形態では、ゾーン３６０Ａ～３６０Ｇの少なくとも１つの下に、個々の加圧膜が位置付けられてよく、個々の加圧膜は、独立して加圧され得る。
[0035] 次に図４を参照する。それは、第１のモーター１２２Ａ及び第２のモーター１２２Ｂが第２のローラー１３２Ａ及び第２のローラー１３２Ｂの上方に位置付けられる、基板洗浄デバイス１００の一実施形態を示している。基板洗浄デバイス１００のこの構成は、基板１１０の異なる洗浄及び／又は処理を提供することができる。例えば、基板１１０に付加される化学物質は、基板１１０上に異なるように蓄積させ及び／又は分配することができ、それは性能を向上させ得る。
[0036] 次に図５を参照する。それは、モーターとローラーとの間に磁気結合を含む基板洗浄デバイス１００を示している。第１の駆動アセンブリ５５０Ａ及び第２の駆動アセンブリ５５０Ｂは、チャンバ本体１０２の外部に位置付けられ得る。第１の駆動アセンブリ５５０Ａは、第２の駆動アセンブリ５５０Ｂと実質的に同様又は同一であってよい。第１の駆動アセンブリ５５０Ａの構成要素の以下の説明は、第２の駆動アセンブリ５５０Ｂに適用可能であり得る。第１の駆動アセンブリ５５０Ａは、第１の磁気カプラ５５４に結合され得るモーター５５２であって、第１の磁気カプラ５５４を回転させることができるモーター５５２を含んでよい。第１の磁気カプラ５５４は、ローラー５３２Ａに結合され得る第２の磁気カプラ５５６に磁気結合され得る。第１のベルト１２６Ａは、ローラー５３２Ａとローラー５２４との周りで回転可能であり得る。モーター５５２は、第１の磁気カプラ５５４を回転させてよく、それは、第２の磁気カプラ５５６が回転することをもたらし得る。第２の磁気カプラ５５６は、ローラー５３２Ａに結合され得る。ローラー５３２Ａは、第２の磁気カプラ５５６が回転するときに回転し得る。したがって、第１のベルト１２６Ａは、ローラー５３２Ａとローラー５２４との周りで回転し得る。
[0037] 第１の駆動アセンブリ５５０Ａは、移動機構５６０に移動可能に結合され得る。移動機構５６０は、軸５６２に沿って第１の駆動アセンブリ５５０Ａを移動させ得る。例えば、軸５６２に沿った第１の駆動アセンブリ５５０Ａの移動は、第１のブラシアセンブリ１２０Ａを洗浄状態と解放状態との間で移行させ得る。幾つかの実施形態では、移動機構５６０が、直線的なスライド５６４を含み得る。その場合、第１の駆動アセンブリ５５０Ａは、直線的なスライド５６４に結合されてよく、直線的なスライド５６４に対して摺動してよい。エアシリンダなどのアクチュエータ５６６が、第１の駆動アセンブリ５５０Ａを直線的なスライド５６４に対して移動させ得る。幾つかの実施形態では、他のデバイスが、軸５６２に沿って第１の駆動アセンブリ５５０Ａを移動させてよい。
[0038] 第１のローラー５３２Ａに可撓性マウント５７０を取り付けることができ、可撓性マウント５７０は、軸５６２に沿うなどして、第１のローラー５３２Ａの移動を可能にする。第１のローラー５３２Ａの移動は、第１のベルト１２６Ａが基板１１０の第１の表面１１０Ａに適合することを可能にし得る。
[0039] 磁気リテーナが、第１の駆動アセンブリ５５０Ａ及び第２の駆動アセンブリ５５０Ｂに対向して位置付けられてもよい。例えば、第１の磁気リテーナ５７６Ａは、第１の駆動アセンブリ５５０Ａに対向して位置付けられてよく、第２の磁気リテーナ５７６Ｂは、第２の駆動アセンブリ５５０Ｂに対向して位置付けられてよい。幾つかの実施形態では、第１の磁気リテーナ５７６Ａ及び／又は第２の磁気リテーナ５７６Ｂが、チャンバ本体１０２の外部に位置付けられてよい。他の実施形態では、第１の磁気リテーナ５７６Ａ及び／又は第２の磁気リテーナ５７６Ｂが、チャンバ１０２本体内に位置付けられてよい。幾つかの実施形態では、第１の磁気リテーナ５７６Ａと第２の磁気リテーナ５７６Ｂとが、第１の駆動アセンブリ５５０Ａと同様又は同一であってよい。但し、第１の磁気リテーナ５７６Ａと第２の磁気リテーナ５７６Ｂとは、モーターを含まない。第１の磁気リテーナ５７６Ａは、ローラー５３２Ａ上の磁気カプラ５７８Ａと磁気結合されてよく、第２の磁気リテーナ５７６Ｂは、ローラー５３２Ｂ上の磁気カプラ５７８Ｂと磁気結合されてよい。第１の磁気リテーナ５７６Ａ及び／又は第２の磁気リテーナ５７６Ｂは、第１の駆動アセンブリ５５０Ａと同一又は同様なやり方で、ローラー５３２Ａ及び／又はローラー５３２Ｂを移動させ得る。幾つかの実施形態では、第１の駆動アセンブリ５５０Ａと第１の磁気リテーナ５７６Ａとが、共に結合されてよく、共に移動してよい。同様に、第２の駆動アセンブリ５５０Ｂと第２の磁気リテーナ５７６Ｂとは、共に結合されてよく、共に移動してよい。そのような結合は、第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂを、基板１１０に対して固定された配向に維持し得る。
[0040] 第１の駆動アセンブリ５５０Ａ、第２の駆動アセンブリ５５０Ｂ、第１の磁気リテーナ５７６Ａ、及び／又は第２の磁気リテーナ５７６Ｂを介した磁気結合は、チャンバ本体１０２の外部に位置付けられた機構によって、第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂの移動を可能にし得る。例えば、第１のベルト１２６Ａ及び／又は第２のベルト１２６Ｂは、第１の駆動アセンブリ５５０Ａ及び／又は第２の駆動アセンブリ５５０Ｂによって回転し得る。それらは、チャンバ本体１０２の外部に位置付けられ得る。更に、第１のブラシアセンブリ１２０Ａ及び／又は第２のブラシアセンブリ１２０Ｂは、第１の駆動アセンブリ５５０Ａ、第２の駆動アセンブリ５５０Ｂ、第１の磁気リテーナ５７６Ａ、及び／又は第２の磁気リテーナ５７６Ｂの軸５６２に沿った移動によって、洗浄状態と解放状態との間で移行し得る。
[0041] 別の一態様では、基板（例えば、基板１１０）を洗浄する方法が、図６のフローチャート６００で示されている。該方法は、６０２で、第１のローラー（例えば、第１のローラー１２４Ａ）、第２のローラー（例えば、第２のローラー１３２Ａ）、及び第１のローラーと第２のローラーとの間で延在する第１のベルト（例えば、第１のベルト１２６Ａ）を含む、第１のブラシアセンブリ（例えば、第１のブラシアセンブリ１２０Ａ）を提供することを含む。該方法は、６０４で、第１のローラー（例えば、第１のローラー１２４Ｂ）、第２のローラー（例えば、第２のローラー１３２Ｂ）、及び第１のローラーと第２のローラーとの間で延在する第２のベルト（例えば、第２のベルト１２６Ｂ）を含む、第２のブラシアセンブリ（例えば、第２のブラシアセンブリ１２０Ｂ）を提供することを含む。該方法は、６０６で、第１のベルトを回転させることを含む。該方法は、６０８で、第２のベルトを回転させることを含む。該方法は、６１０で、第１のブラシアセンブリの第１のローラーと第２のローラーとのうちの少なくとも一方を、第１のベルトが基板（例えば、基板１１０）の第１の表面（例えば、第１の表面１１０Ａ）に接触する第１の位置へ移動させることを含む。該方法は、６１２で、第２のブラシアセンブリの第１のローラーと第２のローラーとのうちの少なくとも一方を、第２のベルトが基板の第２の表面（例えば、第２の表面１１０Ｂ）に接触する第１の位置へ移動させることを含む。
[0042] 前述の説明は、例示的な実施形態を開示しているにすぎない。本開示の範囲内にある上記に開示された装置および方法の修正は、当業者には容易に明らかであろう。
Claims (15)
- 基板を保持するように構成されたチャンバ本体、
第１のローラー、第２のローラー、及び前記第１のローラーと前記第２のローラーとの間で延在する第１のベルトを含む、第１のブラシアセンブリであって、前記第１のローラーと前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方が、前記第１のベルトが前記チャンバ本体内に配置された前記基板の第１の表面に接触する第１の位置と、前記第１のベルトが前記第１の表面から間隔を空けられる第２の位置との間で移動可能である、第１のブラシアセンブリ、並びに
第１のローラー、第２のローラー、及び前記第１のローラーと前記第２のローラーとの間で延在する第２のベルトを含む、第２のブラシアセンブリであって、前記第１のローラーと前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方が、前記第２のベルトが前記基板の第２の表面に接触する第１の位置と、前記第２のベルトが前記第２の表面から間隔を空けられる第２の位置との間で移動可能である、第２のブラシアセンブリを備える、基板洗浄デバイス。 - 前記第１のベルトと前記第２のベルトとのうちの少なくとも一方の上に流体を分注するように構成された少なくとも１つのポートを更に備える、請求項１に記載の基板洗浄デバイス。
- 前記第１のローラーと前記第２のローラーとの間の前記第１のベルトの直線的なセクション、及び
前記第１のベルトの前記直線的なセクションの上に流体を分注するように構成された少なくとも１つのポートを更に備える、請求項１に記載の基板洗浄デバイス。 - 前記基板の前記第１の表面と前記基板の前記第２の表面とのうちの少なくとも一方の上に流体を分注するように構成された少なくとも１つのポートを更に備える、請求項１に記載の基板洗浄デバイス。
- 前記チャンバ本体の外部に位置付けられ、前記第１のブラシアセンブリの前記第２のローラーと前記第２のブラシアセンブリの前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方に磁気結合された１以上の磁気カプラを更に備える、請求項１に記載の基板洗浄デバイス。
- 前記１以上の磁気カプラは、磁気結合によって、前記第１のブラシアセンブリの前記第２のローラーと前記第２のブラシアセンブリの前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方を回転させるように構成される、請求項５に記載の基板洗浄デバイス。
- 前記１以上の磁気カプラは、磁気結合によって、前記第１のブラシアセンブリの前記第２のローラーと前記第２のブラシアセンブリの前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方を、前記第１の位置と前記第２の位置との間で移動させるように構成される、請求項５に記載の基板洗浄デバイス。
- 前記第１のベルトと前記第２のベルトとは、それぞれ外面を含み、前記第１のベルトと前記第２のベルトとのうちの少なくとも一方の前記外面は、異なる材料を含む複数のゾーンを含む、請求項１に記載の基板洗浄デバイス。
- 前記異なる材料は、異なるデュロメータを有する、請求項８に記載の基板洗浄デバイス。
- 前記第１のベルトは、複数のゾーンを含み、前記複数のゾーンのうちの少なくとも１つは、前記第１のベルトの下に加圧膜を含む、請求項１に記載の基板洗浄デバイス。
- 前記第１のブラシアセンブリは、第３のローラーを更に備え、前記第１のベルトは、前記第１のローラー、前記第２のローラー、及び前記第３のローラーの間で延在する、請求項１に記載の基板洗浄デバイス。
- 前記第１のベルトは、前記第２のローラーと前記第３のローラーとの間に直線的なセクションを含み、前記第２のローラー及び前記第３のローラーは、前記直線的なセクションが前記チャンバ本体内に配置された基板の表面に接触する第１の位置と、前記直線的なセクションが前記基板から間隔を空けられる第２の位置との間で移動可能である、請求項１１に記載の基板洗浄デバイス。
- 基板を洗浄する方法であって、
第１のローラー、第２のローラー、及び前記第１のローラーと前記第２のローラーとの間で延在する第１のベルトを含む、第１のブラシアセンブリを提供すること、
第１のローラー、第２のローラー、及び前記第１のローラーと前記第２のローラーとの間で延在する第２のベルトを含む、第２のブラシアセンブリを提供すること、
前記第１のベルトを回転させること、
前記第２のベルトを回転させること、
前記第１のブラシアセンブリの前記第１のローラーと前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方を、前記第１のベルトが基板の第１の表面に接触する第１の位置へ移動させること、並びに
前記第２のブラシアセンブリの前記第１のローラーと前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方を、前記第２のベルトが前記基板の第２の表面に接触する第１の位置へ移動させることを含む、方法。 - 前記第１のブラシアセンブリの前記第１のローラーと前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方を、前記第１のベルトが前記基板の前記第１の表面から間隔を空けられる第２の位置へ移動させること、及び
前記第２のブラシアセンブリの前記第１のローラーと前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方を、前記第２のベルトが前記基板の前記第２の表面から間隔を空けられる第２の位置へ移動させることを更に含む、請求項１３に記載の方法。 - 基板を保持するように構成されたチャンバ本体、
第１のローラー、第２のローラー、及び前記第１のローラーと前記第２のローラーとの間で延在するベルトを含む、第１のブラシアセンブリであって、前記第１のローラーと前記第２のローラーとのうちの少なくとも一方が、前記ベルトが前記チャンバ本体内に配置された基板の第１の表面に接触する第１の位置と、前記ベルトが前記第１の表面から間隔を空けられる第２の位置との間で移動可能である、第１のブラシアセンブリ、並びに
前記チャンバ本体の外部に位置付けられ、前記第１のローラーと前記第２のローラーとのうちの一方に磁気結合された磁気カプラであって、前記第１のローラーと前記第２のローラーとのうちの一方を、前記第１の位置と前記第２の位置との間で移動させるように構成された磁気カプラを備える、基板洗浄デバイス。
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240326 |