JP2022170695A - 光ファイバとフォトニックデバイスとの高精度なカップリング方法および実装マイクロ構造 - Google Patents
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Abstract
【課題】光ファイバの端部とデバイスのアクティブ面との間のサブミクロンアライメント精度は、特定のシステム、特に量子情報システムにおいて必要とされ得る。【解決手段】本方法は、A)ファイバの端部に、フォトニックデバイス(PIL)とは異なる支持体(SE)を形成する周囲構造上に支持を提供し、フォトニックデバイスの感応表面(FA)とのいずれかの接触を防止するように配置された追加のマイクロ構造(MS)を装備するステップと、B)ファイバ端部を感応表面と位置および角度において最適に位置合わせするステップと、C)ファイバ端部と感応表面との間の最適な間隔距離(D)およびアライメントを維持するよう、周囲の支持体構造に対するベアリング圧力(P)をマイクロ構造および/または光ファイバに加えるステップと、を備える。【選択図】図4
Description
本発明は、一般的に、量子光学を含む光学の分野に関する。より具体的には、本発明は、光ファイバをアクティブまたはパッシブフォトニックデバイスと高精度にカップリングするための方法に関する。本発明は、前述の方法を実装するためのマイクロ構造にも関する。
一般に、光ファイバは、ある点から別の点へ光子を輸送するための光学系に遍在する。例えば、光ファイバによって接続された光子送信機および受信機デバイスを備える光学システムでは、光ファイバの端部と送信機および受信機デバイスとの間の正確なカップリングは、損失を最小限に抑え、システムの良好な動作を達成するために不可欠である。
光ファイバの端部とデバイスのアクティブ面との間のサブミクロンアライメント精度は、特定のシステム、特に量子情報システムにおいて必要とされ得る。Hauptらは、「Fiber-connectorized micropillar cavities」、2010年9月のApplied Physics Letters 97(13)と題する彼の論文において、室温で実施されるアクティブアライメント手順を提案し、低温で維持されるサブミクロンアライメント精度を達成することを可能にする。このアクティブアライメント手順は、光ファイバの端部によって放出され、デバイスのアクティブ面を照射するレーザビームを使用する。したがって、デバイスが、量子ドットを統合する半導体マイクロピラーなどの放出源である場合、典型的にはカメラを用いて検出された信号が最小の振幅を有するときに最適なアライメントが得られる。デバイスが検出器である場合、検出器によって送達される信号が最大の振幅を有するときに最適なアライメントが得られる。
光ファイバとデバイスとの間の最適なアライメントの位置における機械的固定について、Hauptら等は、接着剤の使用を提唱している。したがって、Snijdersらは、「A fiber coupled cavity QED source of identical single photons」、Physical Review Applied 9、031002、2018年3月28日、と題する彼の論文において、Fabry-Perotマイクロキャビティの形態での単一光子源の前部および後部アクティブ面上の2つの単一モード光ファイバの結合のためのNorland(登録商標)ブランドのUV硬化性光学接着剤の使用を記載している。Schlehahnら、Bremerら、およびOrtizらの作者はそれぞれ、「A stand-alone fiber-coupled single-photon source」 Scientific Reports、8:1340、2018年1月22日、「Quantum dot single-photon emission coupled into single-mode fibers with 3D printed micro-objectives」APL Photonics 5、106101、2020年10月01日、および「Fiber-integrated microcavities for efficient generation of coherent acoustic phonons」Applied Physics Letters、117、2020年8月18日の論文において、接着剤との機械的結合についても記載している。
文書US2017/176697A1は、光学または光電子構成要素間の垂直光学カップリング構造を製造する方法を開示する。光学カップリング構造は、基板によって支持される光学または光電子構成要素と反対側に位置し、接触するように作製される。光学カップリング構造を生成するために、主層が基板上に堆積され、物理化学的エッチングおよび/またはリソグラフィ技術によって成形される。テーパーがつけられたカップリング部分は、空気の屈折率よりも大きい屈折率を有する材料を用いて、主層内に作製される。これらのカップリング部分は、それぞれ第1および第2の横方向端表面で作られ、基板上の光学または光電子構成要素の放出面または受光面、および別の光学または光電子構成要素の放出面または受光面とそれぞれ接触するように提供される。この方法では、カップリング構造は、基板上に重畳され、光学または光電子構成要素と接触しており、このため、このような構造の表面生産を許可しない多くの用途では使用できない。
文書WO2016/195483A1は、光源を光ファイバと位置合わせさせる方法を開示する。この方法では、光源は、まず、円形の円筒形基板の中心に埋め込まれる。次に、基板ホルダーが光ファイバの端部に取り付けられ、ホルダーおよびファイバがアライメントスリーブに挿入される。この方法は、サブミクロンアライメント精度が達成されることを確実にする上記のHauptらのアクティブアライメント手順の実装を可能にしない。
図1に示すPMC半導体マイクロピラーなどの単一光子源との光ファイバのカップリングに関する発明のエンティティによる作業は、光ファイバの端部とマイクロキャビティのアクティブ面との間で500nmのオーダーの平面におけるアライメント精度が必要であることを実証している。300Kの周囲温度で実行されるアライメントは、単一光子源の低温動作温度、典型的には5K前後で同じ精度で維持されなければならない。Hauptらのアクティブアライメント手順は、所望の精度でのアライメントを可能にする。
しかしながら、本発明のエンティティによって行われた測定は、特に、その放出アクティブ面上にその端部によって結合されたPMC単一光子源および単一モード光ファイバ(FO)の図1に示されるセットについて、機械的固定技術として結合の限界を強調している。実際、接着剤の硬化後、PMC源のアクティブ材料に機械的応力が現れ、パフォーマンスの変化を引き起こし得る。温度の周期的な変化により、PMC源への修復不可能な損傷、または後者の完全な破壊のリスクも危惧される。
上記の記述は、図2によって示され、図2は、同じ特徴を有する図1のような2つの別々のセットAおよびBにおいて、結合前および結合後のPMC源についての波長に応じた正規化強度(NI)の読み取り値を示す。CASC曲線およびCBSC曲線は、それぞれ、セットAおよびBについて接着剤なしで得られた測定値である。CAAC曲線およびCBAC曲線は、それぞれ、セットAおよびBについて結合後に得られた測定値である。これらの測定値は、光ファイバ(FO)の結合によってPMC源内に導入される共振およびエネルギーレベルのシフトを示し、シフトは、それでも同じ特徴を有するセットAとBとの間で実質的に異なる。これらのシフトの予測不可能性は、パフォーマンスの再現性を保証するソリューションとしての結合ソリューションを無効にする。
本発明は、高いアライメント精度を可能にし、従来技術の前述の欠点を有さない、光ファイバとアクティブまたはパッシブフォトニックデバイスとの間のカップリングソリューションを提供することを目的とする。前述のアクティブまたはパッシブフォトニックデバイスは、格子、導波管または他の形態の光学カップリングシステムを含む、当業者に既知の異なるタイプのデバイスを網羅する。
第1の態様によれば、本発明は、光ファイバをフォトニックデバイスとカップリングするための方法に関し、光ファイバは、1つのファイバ端部がフォトニックデバイスの感応表面に対向している。本発明によれば、本方法は、A)ファイバの端部に、フォトニックデバイスとは異なる支持体を形成する周囲構造上に支持を提供し、フォトニックデバイスの感応表面とのいずれかの接触を防止するように配置された追加のマイクロ構造を装備するステップと、B)アクティブアライメント手順を実施することによって、ファイバ端部を感応表面と位置および角度において最適に位置合わせするステップと、C)ファイバ端部と感応表面との間の最適な間隔距離およびアライメントを維持するように、周囲の支持体構造に対してマイクロ構造および/または光ファイバにベアリング圧力を加えるステップと、の連続的なステップを備える。
別の特定の特徴によれば、ステップB)はまた、最適な間隔距離の決定を含む。
さらに別の特定の特徴によれば、最適な間隔距離は3μm未満である。
別の態様によれば、本発明はまた、簡潔に上述した方法を実装することによって、光ファイバをフォトニックデバイスとカップリングするためのマイクロ構造に関し、マイクロ構造は、光ファイバアセンブリスリーブを形成する部分と、支持ベースを形成する部分とを含む単一部品の形態にある。
特定の特徴によれば、マイクロ構造はポリマー材料よりなる。
別の特定の特徴によれば、マイクロ構造は、可撓性材料または硬質材料よりなる。
さらに別の特定の特徴によれば、支持ベースを形成する部分は、リングの一般的な形状である。
さらに別の特定の特徴によれば、支持ベースを形成する部分は、三脚台の一般的な形状である。
本発明はまた、光ファイバ、フォトニックデバイス、およびフォトニックデバイスに面する光ファイバの1つの端部に配置された、簡潔に上述したマイクロ構造を含むセットに関する。
本発明の他の利点および特徴は、添付の図面を参照して以下のいくつかの特定の実施形態の説明を読むことによってより明確に現れるであろう。
本発明の方法およびマイクロ構造は、図3~9を参照して、少なくとも1つの量子箱を統合する半導体マイクロピラーデバイスタイプの、PILと呼ばれる単一光子またはもつれ光子の源との、FOMと呼ばれる単一モード光ファイバのカップリングへのそれらの適用の文脈において以下に説明される。PIL源は、本明細書の残りの部分では「半導体マイクロピラー」とも呼ばれる。
図3を参照すると、半導体ピラーPILは、半導体ナノ構造の形態のQD量子箱と、共振マイクロキャビティCAVとを本質的に備える。半導体マイクロピラーPILは、量子用途のために、オンデマンドでもつれるか否かにかかわらず、単一の光子を生成することができる量子構造である。光子は、アクティブ面FAによって放出され、アクティブ面FAの反対側では、光ファイバFOMが室温から低温までの温度範囲にわたって高精度に位置合わせされ、定位置で保持されなければならない。図3に図示されるように、本発明の適用のこの例では、半導体マイクロピラーPILは、ここでは複数の同様のマイクロピラーPILを含む量子チップPQに統合されている。量子チップPQは、典型的には、QD量子ドットの電子制御のためのレーザダイオードDD、および導波管、スプリッタ、またはその他などのパッシブデバイスなど、マイクロピラーPILの近くの環境に位置する他の構造および構成要素を含む。一般に、マイクロピラーPILの近くの環境に位置する構造および構成要素は、テキストの残りの部分において「構造SE」と称される。
本発明によれば、図4および6に示されるように、光ファイバFOMは、その端部に、追加のピースであるマイクロ構造MSが設けられている。マイクロ構造MSは、光ファイバFOMを半導体マイクロピラーPILとカップリングするための取り付け支持体として機能する。マイクロ構造MSは、光ファイバFOMの端部と、半導体マイクロピラーPILの感応表面であるアクティブ面FAを有するマイクロ構造MSとの間のいかなる接触もなしに、半導体マイクロピラーPILのこのアクティブ面FAと反対側への光ファイバFOMの端部の最適な位置決めを可能にするように配置される。より一般的には、本発明によれば、マイクロ構造MSは、本明細書に記載される例示的な実施形態における半導体マイクロピラーPILであるフォトニックデバイスの感応表面とのいかなる接触も防止するように配置される。
図5に最もよく見られるように、マイクロ構造MSは、光ファイバFOMとアセンブリスリーブを形成する部品MAと、支持ベースを形成する部品SPとを本質的に備える単一部品である。
アセンブリスリーブMAを形成する部品は、典型的には、繊維の円形断面と互換性のある略円形の円筒形状を実質的に有する。中央ボアは、アセンブリスリーブMAを形成する部品に作られ、その中にぴったりと取り付けられる光ファイバFOMの端部を受容する。アセンブリスリーブMAの部品の底壁は、中央円形開口部ECを有する。中央円形開口部ECは、光ファイバFOMの端部において、そのコアと半導体マイクロピラーPILのアクティブ面FAとの間の材料の総解放を得るように、典型的には、光ファイバFOMのコアよりも大きい直径を有する。
本発明によれば、支持ベースSPを形成する部品は、半導体マイクロピラーPILのすぐ近傍にある1つ以上の構造SE上に静置するが、後者との、特にそのアクティブ面FAまたは接触もしくは圧力に感応な任意の他の部分とのいかなる接触も回避するように設計されている。支持ベースSPを形成する部品は、用途に応じて、特に、周囲構造SEの構成に応じて、異なる形状および寸法を有してもよい。
マイクロ構造の実施形態の2つの非限定的な例、MS1およびMS2は、例示として図6に示される。マイクロ構造MS1において、支持ベースSP1を形成する部品は、リング、またはフランジの形状にある。マイクロ構造MS2において、支持ベースSP2を形成する部品は、三脚台として構成される。
マイクロ構造MSは、用途に応じて、異なるタイプの可撓性または剛性な材料で製造されてもよい。したがって、例えば、直径125μmの単一モード光ファイバに、前述のリングタイプの高さ3μmのポリマーマイクロ構造MSを設けることにより、良好な結果が得られた。
図7を参照すると、本発明のエンティティによって、約930nmの光学波長に対して、異なる直径Dp=2μm、Dp=2.3μm、Dp=2.8μm、およびDp=3.4μmの半導体微小ピラーを用いて実施された試験は、光ファイバFOMと半導体マイクロピラーPILとの間の最適なカップリングCPLが、光ファイバFOMの端部とアクティブ面FAとの間の間隔距離隔D(図4参照)が約3μmの距離Dmax未満であるときに得られることを示している。実際に、光ファイバFOM内の信号を最大化するために、後者は、本発明によると、アクティブ面に触れることなく、アクティブ面FAに可能な限り近くなくてはならない。一般に、用途に応じて、1~2μmのオーダーの隙間距離Dの精度が要求される。
本発明によると、光ファイバFOMに対し、長手軸AXに沿って、アクティブ面FAに向かう圧力P(図4参照)を加えることは、所望の最適カップリング関係を取得し、維持するために推奨される。
ここで図8を参照すると、本発明による方法は、本質的に、図8に示される4つの主要なステップS1~S4を含む。
ステップS1は、光ファイバFOMの端部におけるマイクロ構造MSのぴったりとした取り付けに関する。機械的固定は、典型的には、弾性クランプまたは当業者に既知の任意の他の手段を用いて取り付けることによって得られる。
ステップS2は、アクティブ面FAまたはマイクロピラーのいずれかの感応な部分とのいかなる接触なしに、半導体マイクロピラーPILの近くの構造SE上に、マイクロ構造MSを配置することによる、半導体マイクロピラーPIL上への光ファイバFOMの第1の配置に関する。
ステップS3は、上述のHauptらによるようなアクティブアライメント手順を用いた、光ファイバFOMの端部とアクティブ面FAとの間の位置および角度における最適アライメントの探索に関する。第一に、サブステップS30において、間隔距離DはおよそDmax=3μmに調整され、マイクロ構造MSの最適な位置は、アクティブ面FAの表面上の実質的なコプレーナ平面における後者のマイクロ変位によって求められる。第二に、サブステップS31において、間隔距離Dは、光ファイバFOMに圧力Pを加えることによって求められ、それによりマイクロ構造MSが支持構造SEに押し付けられ、相関的に、光ファイバFOMの端部がアクティブ面FAに近づけられる。
ステップS4は、ステップS3で得られた最適なカップリングを維持するために、アクティブ面FAに対する光ファイバFOMの位置の最終的な機械的ロックに関する。
典型的には、ステップS2~S4は、そのマイクロ構造MSを備えた光ファイバFOMが機械的デバイスに取り囲まれている間に実施され、機械的デバイスは、後者の変位の正確な調整、圧力の印加、および最適なカップリング位置の最終的なロックを可能にする。例えば、そのような機械的デバイスは、図9に例示によって示されるデバイスDCFなどのファイバ接続デバイスに統合され得る。図9に見られるように、デバイスDCFは、光ファイバFOAの端部を囲み、光ファイバFOAがカップリングされるアクティブまたはパッシブなデバイスを有する量子チップ(図示せず)を支持するプレートPL上に固定される。
本発明は、温度に感応ではない高品質のカップリングを提供する。圧力Pの印加は、少なくとも100倍の改善を伴って、変位に対するより大きな公差を提供する。
本発明は、エミッタ、検出器、導波管、および他のタイプの幅広い出委のアクティブまたはパッシブフォトニックデバイスとの光ファイバのカップリングに適用可能である。
本発明は、例示として本明細書で説明された実施形態に限定されないことが理解されるであろう。当業者は、本発明の用途に応じて、本発明の保護の範囲内にある様々な修正および変形を行うことができる。
Claims (9)
- 光ファイバ(FOM)をフォトニックデバイス(PIL)とカップリングする方法であって、前記光ファイバ(FOM)の1つのファイバ端部が、前記フォトニックデバイス(PIL)の感応表面(FA)に面する、方法であって、A)前記ファイバ端部に、前記フォトニックデバイス(PIL)とは異なる支持体(SE)を形成する周囲構造上に支持を提供し、前記フォトニックデバイス(PIL)の前記感応表面(FA)とのいずれかの接触を防止するように配置された追加のマイクロ構造(MS)を提供するステップと、B)アクティブアライメントを実施することによって、前記ファイバ端部を前記感応表面(FA)と位置および角度において最適に位置合わせするステップと、C)前記ファイバ端部と前記感応方面(FA)との間の間隔距離(D)および最適なアライメントを維持するように、支持体(SE)を形成する前記周囲構造に対するベアリング圧力(P)を前記マイクロ構造(MS)および/または前記光ファイバ(FOM)に加えるステップと、の連続的なステップを備えることを特徴とする、方法。
- 前記ステップB)が、前記最適な間隔距離(D)を決定することを含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記最適な間隔距離(D)が3μm(Dmax)未満であることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 請求項1~3のいずれか一項に記載の方法を実装することによって、光ファイバ(FOM)をフォトニックデバイス(PIL)とカップリングするためのマイクロ構造(MS)であって、光ファイバアセンブリスリーブ(MA)を形成する部分と、支持ベース(SP)を形成する部分とを含む単一部品の形態にあることを特徴とするマイクロ構造(MS)。
- ポリマー材料よりなることを特徴とする、請求項4に記載のマイクロ構造。
- 可撓性材料または硬質材料よりなることを特徴とする、請求項4または5に記載のマイクロ構造。
- 支持ベース(SP1)を形成する前記部分がリングの一般的な形状であることを特徴とする、請求項4~6のいずれか一項に記載のマイクロ構造。
- 支持ベース(SP2)を形成する前記部分が三脚台の一般的な形状であることを特徴とする、請求項4~6のいずれか一項に記載のマイクロ構造。
- 光ファイバ(FOM)、フォトニックデバイス(PIL)、および前記フォトニックデバイス(PIL)に面する前記光ファイバ(FOM)の1つの端部に配置されたマイクロ構造(MS)を備えるセットであって、前記マイクロ構造(MS)が請求項4~8のいずれか一項に記載のマイクロ構造であることを特徴とする、セット。
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