JP2022169079A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

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【課題】ウエハ離脱時のウエハの跳ねを抑制するだけでなく、ウエハ径方向での位置ずれも抑制することのできる、ウエハ搬送装置を提供する。【解決手段】ウエハ搬送装置Hは、搬送アーム1と、搬送アーム1に取り付けられてウエハ搬送時にウエハ下端を支持するウエハ支持部材2と、静電チャックからのウエハWの離脱時にウエハの上面に当接されるウエハ押えピン3と、静電チャックからのウエハWの離脱時にウエハの側方に位置するガイド部材4とを備える。【選択図】 図2

Description

静電チャックとの間でウエハの受け渡しを行うウエハ搬送装置に関する。
静電チャックからウエハを離脱する際、ウエハ処理時に生じたウエハにかかる応力が一挙に解放されることでウエハに跳ねが生じてしまう。また、ウエハ裏面にレジスト膜がついている場合には、ウエハと静電チャックとの間にウエハ処理中にレジスト膜から放出されたガスが溜まることから、ウエハ離脱時のウエハの跳ねは一層大きなものになる。
ウエハ跳ねへの対策として、特許文献1ではウエハの上面に弾性支持されたピンを押し当てた状態で、静電チャックの吸着電圧をオフにしてウエハを静電チャックから離脱させることが行われている。
特開2015-15330
ピンの押し当てによってウエハの跳ねは防げるものの、離脱時の衝撃によってウエハがその径方向に位置ずれすることが懸念される。
ウエハの径方向への位置ずれが大きい場合、ウエハの受け渡し後の搬送時にウエハが脱落する等の支障を来してしまう。
そこで、ウエハ離脱時のウエハの跳ねを抑制するだけでなく、ウエハ径方向での位置ずれも抑制することのできる、ウエハ搬送装置を提供する。
ウエハ搬送装置は、
搬送アームと、
前記搬送アームに取り付けられてウエハ搬送時にウエハ下端を支持するウエハ支持部材と、
静電チャックからのウエハの離脱時にウエハの上面に当接されるウエハ押えピンと、
静電チャックからのウエハの離脱時にウエハの側方に位置するガイド部材とを備えている。
上記構成のウエハ搬送装置であれば、ウエハ押えピンでウエハ上面を押さえつつ、ガイド部材でウエハ径方向でのウエハの位置ずれを抑制することができるので、静電チャックからウエハを離脱する際のウエハの跳ねとウエハ径方向での位置ずれの両方を抑制することが可能となる。
前記ウエハ押えピンと前記ガイド部材は、前記搬送アームに取り付けられている、ことが望ましい。
ウエハ押えピンとガイド部材が搬送アームに取り付けられていれば、これらの部材がウエハ処理の障害になることがない。また、ウエハ処理時のイオンビームやプラズマ等に曝されることもないので、部材の長寿命化を図ることができる。
前記ガイド部材は、静電チャックからのウエハの離脱時にウエハの側面と対向する傾斜面を有している、ことが望ましい。
上記構成であれば、ウエハ離脱時のウエハ径方向での位置ずれをより確実に抑制することができる。
前記ガイド部材は、ウエハの外形よりも大きな外形を有する天板と前記天板から下方に向けて突出した位置規制部を有している。
上記構成であれば、ウエハ周方向の複数位置でウエハ径方向での位置ずれを容易に抑制することができる。また、ガイド部材の着脱にかかるメンテナンスが簡便となる。
前記天板は切欠きを有し、
前記ウエハ押えピンは前記切欠きを通して、前記搬送アームの下方に向けて突出している、ことが望ましい。
上記構成であれば、ウエハ押えピンとガイド部材の取り付け、取り外しを独立して行うことができる。また、ウエハの位置規制に利用する部材の高さ方向での寸法の小型化を図ることができる。
前記ウエハは周端にリブを備えたリブ付きウエハであって、
前記ウエハ押えピンは前記ウエハのリブに対応した位置に配置されていることが望ましい。
リブ付き部分はウエハの剛性を担保するために設けられていて、リブ付きウエハのリブ部分は最終的には取り除かれる。よって、リブ部分が傷ついても途中の製造工程にはほとんど影響しない。
ウエハ押えピンでウエハ上面を押さえつつ、ガイド部材でウエハ径方向でのウエハの位置ずれを抑制することができるので、静電チャックからウエハを離脱する際のウエハの跳ねとウエハ径方向での位置ずれの両方を抑制することが可能となる。
ウエハ搬送装置を具備するイオン注入装置の構成例を示す平面図 ウエハ搬送装置の構成例を示す平面図 図2記載のA-A線での断面図 図3記載の破線C部分の要部拡大図 位置規制部の変形例 リブ付きウエハを取り扱う際の説明図 ウエハ搬送装置の別の構成例を示す平面図 図7記載のB-B線での断面図 ウエハ搬送装置の他の構成例を示す要部拡大図
図1はウエハ搬送装置Hを備えたイオン注入装置IMの構成例を示す平面図である。イオン注入装置IMは、イオン源11からスポット状のイオンビームIBを引き出して、分析電磁石12と分析スリット13を通過させることで、イオンビーム中に含まれている不要なイオンを分析する。
質量分析後、磁場あるいは電場のスキャナー14でイオンビームIBを一方向に走査して、コリメータマグネット15を通過させることでイオンビームIBの進行方向を一方向に揃え、平行なイオンビームIBとして処理室16に導入する。
処理室16では、図示されない駆動機構によって図の奥手前方向へイオンビームIBを横切るようにプラテンPに支持されたウエハWが機械的に走査されることでウエハWへのイオン注入処理が実施される。
処理室16内でのウエハWの搬送については、ウエハ搬送装置Hを用いて行われる。具体的には、ウエハ搬送装置Hは独立旋回可能な2つの搬送アーム1を有している。独立旋回可能な2つの搬送アーム1は、その下端にウエハWの外周端を支持するウエハ支持部材2を備えている。
不図示の駆動機構を用いてウエハ搬送装置Hが搬送アーム1をZX平面で図示される矢印の方向へ旋回させることで、真空予備室17とプラテンPとの間でウエハWの受け渡しが行われる。
プラテンPへのウエハWの受け渡し時、不図示の回転機構によってプラテンPは図のX方向を回転軸として回転されて、ウエハWを把持したプラテンPのウエハ把持面が上向きとなる。
なお、プラテンPは、ウエハWを吸着支持するための図示されない静電チャックを備えている。
処理済みウエハWをプラテンPから搬送する際、プラテンPのウエハ把持面が上向きとなり、その上方にいずれか一方の搬送アーム1が旋回し、配置される。
その後、搬送アーム1に対してプラテンPがY方向へ移動して、プラテンPに保持されているウエハWが図示されない搬送アーム1上のウエハ押えピンとガイド部材に当接した状態で、静電チャックでのウエハWの吸着が停止される。
本発明で後述する静電チャックからのウエハの離脱とは、ウエハWの吸着電圧を停止したり、吸着電圧を減少させたりして、吸着電圧を変化させて処理済みウエハを静電チャックから離脱させるときの操作のことである。
図2乃至図4を用いて、ウエハ搬送装置Hの具体的な構成について説明する。図3は、図2に記載のA-A線での断面図である。破線で描かれるウエハ支持部材2は、図示される搬送アーム1とはX方向と反対側の異なる位置に配置されている。
図2は、ウエハ搬送装置Hの一方の搬送アーム1を図1のプラテンPの位置まで移動させ、搬送アーム1を上方から見たときの平面図である。ウエハ搬送装置Hは、搬送アーム1と、搬送アーム1に取り付けられてウエハ搬送時にウエハ下端を支持するウエハ支持部材2とを備えている。
後述する図4と同様に、ウエハWとの位置関係がわかるように、静電チャックからのウエハの離脱時におけるウエハが一点鎖線で描かれている。
ウエハ支持部材2は、特許文献1に開示されている搬送アーム下方に設けられた基板受け部と同様の部材で、図3に示すように搬送アーム1より下方(Y方向と反対側)に取り付けられる部材で、その端部にはウエハ下端を支持するための段差が設けられている。
ウエハ搬送装置Hは、さらにウエハ押えピン3とガイド部材4を備えている。ウエハ押えピン3は、例えば、図2のように4箇所でウエハ上面に押し当てられる部材である。搬送アーム1に対して間接的に取り付けられている。ウエハ押えピン3にはシリコンやカーボン等の材料が使用されている。特許文献1のように、図示されないコイルバネや板バネ等により下方(Y方向と反対側)に向けて付勢されている。
ガイド部材4は、図3に図示されているように搬送アーム1の下方で搬送アーム1に固定されている。また、ガイド部材4は、図2に図示されるように、ウエハWの外形よりも大きな外形を有する天板41を有している。なお、ここで言う天板41の外形とは、後述する切欠きを除く場所での外形のことである。ウエハWの外形よりも大きな外形を有する天板41とは、簡単に言えば、後述する切欠き箇所を除き、天板41がウエハWの上面を覆っていることを意味している。
また、図3に描かれているように、天板41は、天板41の周縁から下方に向けて延出された位置規制部42を有している。この位置規制部42は、天板41の周囲に沿って設けられている。また、位置規制部42は傾斜面43を有している。この傾斜面43は、後述する図4に図示されるように、静電チャックからのウエハの離脱時にウエハWの側面と対向している。
天板41には、図2に示す切欠き44が形成されている。この切欠き44を通じてウエハ押えピン3が、搬送アーム1の下方(Y方向と逆側の方向)に向けて突出している。この構成により、ウエハ押えピン3とガイド部材4との独立した着脱が可能となり、メンテナンス性が向上する。
また、ウエハの位置規制に利用する部材(ウエハ押えピン3とガイド部材4)の高さ方向(Y方向)での寸法の小型化を図ることができる。
図4は、図3に記載の破線Cで囲まれる部位を拡大した要部拡大図である。
静電チャックからのウエハWの離脱時、ウエハWの上面にはウエハ押えピン3が当接している。また、円形のウエハWの径方向(Z方向)では、天板41から延設された位置規制部42の傾斜面43がウエハWに当接している。なお、傾斜面43は、天板41の周方向において湾曲している。
ウエハ押えピン3と位置規制部42に対してウエハWが、図4に示す状態にあるとき、静電チャックからウエハWを離脱することで、ウエハWの跳ねとウエハ径方向での位置ずれの両方を抑制することが可能となる。
本発明の主旨を逸脱しない範囲で、上記実施形態に様々な変更を加えることができる。
位置規制部42について、例えば、図5に示す構成を採用してもよい。図5は、図4と同様の要部拡大図である。図5では、位置規制部42は天板41から垂直に延出されていて、図4に示す傾斜面43を有していない。図5に示す傾斜面43を有していない位置規制部42を採用しても、ウエハWの径方向での位置ずれを抑制することができる。
ただし、ウエハWの径方向での位置ずれをより少なくするという意味では、図4に示す傾斜面43を有する構成を採用する方が望ましい。
ウエハWの静電チャックからの離脱操作前に、プラテンPを上方(Y方向)へ移動させる。プラテンPの移動の際、プラテンPと位置規制部42との物理的な干渉を避けるためには、ウエハWの側面と位置規制部42との間のギャップGをゼロにすることは困難である。このことから、ウエハWと位置規制部42との間にはいくらかのギャップGを設けなければならず、このギャップGの分だけウエハWの径方向への位置ずれが発生する恐れがある。
図6には、静電チャックからリブ付きウエハを離脱させるときの様子が描かれている。リブ付きウエハは、厚みが非常に薄いウエハに剛性を持たせるためにウエハ外周部にリブが形成されたウエハとして知られている。
半導体の製造工程において、リブ付きウエハのリブ部分は最終的には取り除かれるため、リブ部分が傷ついても途中の製造工程にはほとんど影響しない。このことから、図6ではウエハ押えピン3がリブ部分に当接するように、ウエハ押えピン3が配置されている。
その他、ウエハ押えピン3の本数は4本に限らず、1本以上設けられていればよい。望ましくは、受け渡しされるウエハの中心部に対してピン配置を対称形にし、ウエハWの上面を均等に押圧できる構成にしておく。
位置規制部42は、天板41の切欠き44を除く全周に設けられている必要はなく、部分的に設けられていてもよい。
また、ガイド部材4は、天板41と位置規制部42で構成する必要はなく、搬送アーム1から下方に向けて延長された棒状や板状の部材だけで構成してもよい。その他、図7と図8に示す構成であってもよい。
図7は、ウエハ搬送装置Hについての別の構成例を示す平面図である。図8は、図7に記載のB-B線での断面図である。ここでは図2乃至図4で説明した構成との相違点についてのみ説明する。
図7、図8では、搬送アーム1にウエハ支持部材2を取り付ける部材に、位置規制部42を設けている。この構成でも、ウエハ径方向での位置ずれを抑制することができる。また、天板41がないので、その分の部材費用が安くなる点でメリットがある。
たたし、ガイド部材4として複数独立したものを搬送アーム1に取り付けるよりも、これまでの実施形態で説明した天板41と位置規制部42とで構成されるガイド部材4を用いた方が取り付けや位置調整にかかる作業性は各段に向上する。また、天板41を用いた構成を採用することで、搬送アーム1からX方向に離間した場所でウエハ径方向での位置ずれを抑制することができる。
天板41には、ウエハ押えピン3を挿通するための切欠き44が形成れていたが、これ以外の目的で天板41に切欠きや孔が形成されていてもよい。
例えば、搬送アーム1の上方からセンサでウエハの位置を検出するために、ウエハ位置検出用の孔を天板41に形成しておいてもよい。また、図1に示した2本の独立旋回可能な搬送アーム1同士の物理的な干渉をさけるために、天板41に切欠きが形成されていてもよい。
なお、天板41の外形は、ウエハの外形と同様に円形であることが望ましいが、矩形や楕円形であっても構わない。
上記実施形態では、搬送アーム1にウエハ押えピン3とガイド部材4を取り付ける構成であったが、プラテンPにガイド部材4を取り付ける構成にしてもよい。
ただし、プラテンPにガイド部材4を取り付けた場合、プラテンPに支持されるウエハWの処理に悪影響を及ぼすことが懸念される。例えば、図1のイオン注入装置IMでは、ウエハ押えピン3がウエハWの厚み寸法よりも長ければ、プラテンPをチルトさせたときにウエハ面上にピンの影ができ、部分的にイオン注入が実施できないといった不具合が生じる。また、プラテンPにウエハ押えピン3があれば、ウエハ押えピン3がウエハ処理中のイオンビームやプラズマなどに曝されることになり、ウエハ押えピン3の寿命が短くなるといった不具合も生じる。
搬送アーム1にウエハ押えピン3とガイド部材4を間接的に取り付ける構成であったが、取付用の部材を用意せず、これらの部材を搬送アーム1に対して直接取り付ける構成であってもよい。
また、図9の要部拡大図に描かれているように、位置規制部42と同様に、ウエハ支持部材2が取り付けられる搬送アーム1の下方の部材にウエハ押えピン3を取り付けてもよい。
位置規制部42の傾斜面43については、上方下方のいずれに向いていてもいいが、プラテンPが下方から上方に移動することを考慮すれば、傾斜面43は、図の下方(Y方向と逆方向の重力方向)に向けて傾斜していることが望ましい。
上記実施形態では、ウエハ搬送装置Hの構成として、独立可能な2本の搬送アーム1を例に挙げて説明したが、搬送アーム1の本数は1本でもいい。また、搬送アーム1をZX平面内で回転させる構成に代えて、装置構成に応じて直線方向へ移動する構成に変更されてもよい。
上記実施形態では、天板41の周縁から下方に向けて位置規制部42を突出させていたが、天板41の周縁以外の場所、具体的には周縁から中央側の場所から下方に向けて位置規制部42を突出させる構成にしてもよい。
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であることは言うまでもない。
H ウエハ搬送装置
1 搬送アーム
2 ウエハ支持部材
3 ウエハ押えピン
4 ガイド部材
41 天板
42 位置規制部
43 傾斜面
P プラテン

Claims (6)

  1. 搬送アームと、
    前記搬送アームに取り付けられてウエハ搬送時にウエハ下端を支持するウエハ支持部材と、
    静電チャックからのウエハの離脱時にウエハの上面に当接されるウエハ押えピンと、
    静電チャックからのウエハの離脱時にウエハの側方に位置するガイド部材とを備えるウエハ搬送装置。
  2. 前記ウエハ押えピンと前記ガイド部材は、前記搬送アームに取り付けられている請求項1記載のウエハ搬送装置。
  3. 前記ガイド部材は、静電チャックからのウエハの離脱時にウエハの側面と対向する傾斜面を有している請求項1または2記載のウエハ搬送装置。
  4. 前記ガイド部材は、ウエハの外形よりも大きな外形を有する天板と前記天板から下方に向けて突出した位置規制部を有している請求項1乃至3のいずれか1項に記載のウエハ搬送装置。
  5. 前記天板は切欠きを有し、
    前記ウエハ押えピンは前記切欠きを通して、前記搬送アームの下方に向けて突出している請求項4記載のウエハ搬送装置。
  6. 前記ウエハは周端にリブを備えたリブ付きウエハであって、
    前記ウエハ押えピンは前記ウエハのリブに対応した位置に配置されている請求項1乃至5のいずれか1項に記載のウエハ搬送装置。
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08172075A (ja) * 1994-12-20 1996-07-02 Nec Corp ドライエッチング装置
JP2001044265A (ja) * 1999-07-26 2001-02-16 Nec Corp 半導体ウエハ処理装置および半導体ウエハ処理方法
JP2002334922A (ja) * 2001-05-10 2002-11-22 Mitsubishi Electric Corp 半導体デバイスの製造装置及び半導体デバイスの製造方法
JP2007073589A (ja) * 2005-09-05 2007-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体製造装置および半導体ウエハ処理方法
JP2008187106A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 Nissin Ion Equipment Co Ltd 基板保持装置および基板押し上げ状態判定方法
JP2015015330A (ja) * 2013-07-04 2015-01-22 日新イオン機器株式会社 半導体製造装置
JP2018113344A (ja) * 2017-01-12 2018-07-19 株式会社アルバック 基板搬送方法及び基板搬送装置
JP2019125756A (ja) * 2018-01-19 2019-07-25 株式会社東京精密 ワークの搬送装置、及び、ワークの搬送方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08172075A (ja) * 1994-12-20 1996-07-02 Nec Corp ドライエッチング装置
JP2001044265A (ja) * 1999-07-26 2001-02-16 Nec Corp 半導体ウエハ処理装置および半導体ウエハ処理方法
JP2002334922A (ja) * 2001-05-10 2002-11-22 Mitsubishi Electric Corp 半導体デバイスの製造装置及び半導体デバイスの製造方法
JP2007073589A (ja) * 2005-09-05 2007-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体製造装置および半導体ウエハ処理方法
JP2008187106A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 Nissin Ion Equipment Co Ltd 基板保持装置および基板押し上げ状態判定方法
JP2015015330A (ja) * 2013-07-04 2015-01-22 日新イオン機器株式会社 半導体製造装置
JP2018113344A (ja) * 2017-01-12 2018-07-19 株式会社アルバック 基板搬送方法及び基板搬送装置
JP2019125756A (ja) * 2018-01-19 2019-07-25 株式会社東京精密 ワークの搬送装置、及び、ワークの搬送方法

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