JP2022092734A5 - - Google Patents

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JP5828626B2 (ja) * 2010-10-04 2015-12-09 キヤノン株式会社 インプリント方法
JP5868215B2 (ja) * 2012-02-27 2016-02-24 キヤノン株式会社 インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
JP6494185B2 (ja) 2013-06-26 2019-04-03 キヤノン株式会社 インプリント方法および装置
JP6294679B2 (ja) * 2014-01-21 2018-03-14 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6320183B2 (ja) * 2014-06-10 2018-05-09 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法
JP6525567B2 (ja) * 2014-12-02 2019-06-05 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6628491B2 (ja) * 2015-04-13 2020-01-08 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP2017157635A (ja) 2016-02-29 2017-09-07 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP2018029101A (ja) 2016-08-16 2018-02-22 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品製造方法
KR102369538B1 (ko) * 2017-09-28 2022-03-03 캐논 가부시끼가이샤 성형 장치 및 물품 제조 방법
JP7210155B2 (ja) 2018-04-16 2023-01-23 キヤノン株式会社 装置、方法、および物品製造方法

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