JP2022090032A - 物品清掃装置 - Google Patents
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Abstract
Description
ところで、化粧料を充填した中皿は、その上面、側面、および底面に化粧料などの汚れが付着していることがあり、このような汚れは、コンパクトに組み込む前に清掃しておくことが好ましい。
本実施形態のコンパクトの装填装置は、化粧料を充填した中皿と、ブラシとを容器に装填することによって、最終製品としてのコンパクトを製造する装置である。まず、このコンパクトについて説明する。
コンパクト100は、図1および図2に示すように、容器20と、この容器20に装填された中皿DおよびブラシBとを備えている(図2(A)参照)。
容器本体201は、化粧料C1を充填した中皿Dを収容する収容部201Aと、ブラシBを収容する収容部201Bとを備えている。
蓋部材202は、矩形板状のミラーMと、このミラーMを収容する収容部202Aとを備えている。
コンパクトの装填装置1は、図3に示すように、複数の容器20を収容したパレット2を所定方向(X軸方向)に沿って搬送することによって、複数の容器20を搬送するコンベアVを備えている。
なお、コンベアVおよび装置3~11は、ガラス板を嵌め込まれたフレームにて密閉された領域の内部に収納されている(図示略)。作業者は、コンベアVおよび装置3~11の近傍にそれぞれ配設された扉を開くことによって、コンベアVおよび装置3~11のメンテナンス等を実施できる。
コンベアVは、パレット2を+X軸方向に搬送することによって、容器20を搬送する往路用コンベアV1と、往路用コンベアV1と平行に配設されるとともに、パレット2を-X軸方向に搬送することによって、パレット2を往路用コンベアV1の上流側に搬送する復路用コンベアV2とを備えている。
容器移載装置5は、搬送路41を介して+X軸方向に向かって搬送されている容器20をパレット2に移載する。具体的には、容器移載装置5は、6個の容器20をパレット2に移載する。
なお、容器20は、ラベル貼付装置4にてラベルを貼り付けられた後、容器移載装置5にてパレット2に移載される前、換言すれば搬送路41を介して+X軸方向に向かって搬送されているときに、閉蓋状態の容器本体201を鉛直下方側とし、蓋部材202を鉛直上方側とするように反転させている。
中皿清掃装置7は、中皿Dを鉛直上方側から把持する第1インデックス71と、中皿Dを鉛直下方側から把持する第2インデックス72とを備え、第1インデックス71および第2インデックス72に把持された中皿Dの底面、各側面、および上面(周縁部)の6面を清掃する。この中皿清掃装置7については後に詳細に説明する。
ブラシ装填装置9は、ブラシBを載置する載置台91と、載置台91に載置されたブラシBを容器20に装填する装填機構92を備えている。この装填機構92は、中皿装填装置8にて中皿Dを装填した容器20のそれぞれにブラシBを装填する。具体的には、ブラシ装填装置9は、容器20の収容部201BにブラシBを装填する。
容器排出装置11は、容器20を排出する排出路111と、容器20をパレット2から排出路111に移載する移載機構112とを備え、この移載機構112にて容器20をパレット2から排出路111に移載して排出する。
図4は、中皿清掃装置の外観を示す上面図である。
中皿清掃装置7は、図4に示すように、+Y軸方向側に向かって中皿Dを搬送する中皿コンベア70と、中皿コンベア70にて搬送された中皿Dを保持するとともに、この中皿Dを紙面反時計回りに搬送する第1インデックス71と、第1インデックス71にて搬送された中皿Dを保持するとともに、この中皿Dを紙面反時計回りに搬送する第2インデックス72と、第2インデックス72にて搬送された中皿Dを-X軸方向側に向かって送り出す中皿送出機構73とを備えている。
なお、中皿清掃装置7は、ガラス板を嵌め込まれたフレームFLにて密閉された領域の内部に収納されている。作業者は、中皿清掃装置7の近傍にそれぞれ配設された扉を開くことによって、中皿清掃装置7のメンテナンス等を実施できる。
なお、本実施形態では、側面を有する対象物として中皿Dを例示して説明するが、対象物は、側面を有していればよく、本発明は、どのような対象物に適用してもよい。
中皿コンベア70は、図5に示すように、中皿Dを載置するとともに、+Y軸方向側に移動することによって、+Y軸方向側に向かって中皿Dを搬送する搬送路701と、搬送路701に載置された中皿Dの上面を粗く清掃する上面粗清掃機構702と、搬送路701にて搬送された中皿Dを静止させるストッパ703とを備えている。
上面粗清掃機構702は、図6に示すように、中皿Dの上面に当接することによって、中皿Dの上面を粗く清掃するウレタン702Aと、ウレタン702Aを支持する直方体状のボックス702Bと、ボックス702BをX軸方向に沿ってスライドさせるボックススライダ702Cとを備えている。このボックススライダ702Cは、ボックス702Bをスライドさせることによって、中皿Dの上面に対するウレタン702Aの位置を調整する。
本体部702B1は、その底面に形成された複数の開孔702B3(図5参照)を有し、各開孔702B3は、ウレタン702Aの凹部702A2と対応する位置に形成されている。
集塵パイプ702B2は、集塵機(図示略)に接続されている。この集塵機は、集塵パイプ702B2を介して本体部702B1の内部の空気を吸引することによって、本体部702B1の内部の集塵を実施する。
また、上面粗清掃機構702は、集塵パイプ702B2に接続された集塵機にて集塵パイプ702B2を介して本体部702B1の内部の空気を吸引することによって、ウレタン702Aの凹部702A2と、ボックス702Bの本体部702B1の開孔702B3とを介して中皿Dの上面を吸引して粗く清掃することができる。
なお、本実施形態では、第1インデックス71は、モータおよびエアシリンダを備え、モータおよびエアシリンダにて円盤部711を回転・昇降させているが、これとは異なる機構を採用し、円盤部711を回転・昇降させてもよく、例えば、エアシリンダを用いることなく円盤部711を昇降させてもよい。
腕部712は、図7に示すように、中皿Dを保持するチャック712Aと、チャック712Aを腕部712の延在方向に沿って(中皿Dに向かって)進退させるスライダ712Bとを備えている。
チャック712Aは、中皿Dの傾斜した側面に当接する傾斜爪部712A1と、中皿Dの傾斜した側面と対向する側面に当接する対向爪部712A2とを有している。
また、本実施形態では、スライダ712Bは、チャック712Aに対して鉛直上方側に位置するように配置されているが、これとは異なる位置に配置されていてもよい。
底面清掃機構713は、図9に示すように、中皿Dの底面に当接することによって、中皿Dの底面を清掃する清掃具713Aと、清掃具713Aを収容する直方体状のボックス713Bと、ボックス713BをY軸方向に沿ってスライドさせるボックススライダ713Cとを備えている。このボックススライダ713Cは、ボックス713Bをスライドさせることによって、中皿Dの底面に対して清掃具713Aを移動させる。
集塵パイプ713B2は、集塵機(図示略)に接続されている。この集塵機は、集塵パイプ713B2を介して本体部713B1の内部の空気を吸引することによって、本体部713B1の内部の集塵を実施する。
底面清掃機構713は、図10に示すように、モータ713A3の出力軸を回転させることによって、ベルト713A4を介してローラブラシ713A1の回転軸を回転させた状態において、ボックススライダ713Cにてボックス713Bを+Y軸方向に向かってスライドさせることによって、中皿Dの底面に対して清掃具713Aを移動させる(図中矢印参照)。これによって、清掃具713Aは、中皿Dの底面にローラブラシ713A1を当接させて中皿Dの底面を清掃する。
平行側面清掃機構714は、図11に示すように、中皿Dの互いに平行となる両側面に当接することによって、中皿Dの両側面を清掃する一対の清掃具714Aと、各清掃具714Aの一部を収容する直方体状のボックス714Bと、各清掃具714AをY軸方向に沿ってスライドさせる一対の清掃具スライダ714Cとを備えている。各清掃具スライダ714Cは、各清掃具714Aをスライドさせることによって、中皿Dの両側面の位置に合わせて各清掃具714Aの位置を調整する。
集塵パイプ714B2は、集塵機(図示略)に接続されている。この集塵機は、集塵パイプ714B2を介して本体部714B1の内部の空気を吸引することによって、本体部714B1の内部の集塵を実施する。
平行側面清掃機構714は、図12に示すように、モータ714A3の出力軸を回転させることによって、ベルト714A4を介してローラブラシ714A1の回転軸を回転させた状態において、昇降機にて各清掃具714Aを+Z軸方向に向かって上昇させることによって、中皿Dの両側面に対して各清掃具714Aを移動させる(図中矢印参照)。これによって、各清掃具714Aは、中皿Dの両側面にローラブラシ714A1を当接させて中皿Dの両側面を清掃する。
第2インデックス72は、図13に示すように、中心軸O回りに回転自在に設けられた円盤部721と、円盤部721から径方向に沿って延出する4つの腕部722と、円盤部721の+X軸方向側に設けられるとともに、中皿Dの傾斜した側面および中皿Dの傾斜した側面と対向する側面を清掃する傾斜側面清掃機構723と、円盤部721の+Y軸方向側に設けられるとともに、中皿Dの上面を密に清掃する上面密清掃機構724とを備えている。また、第2インデックス72は、円盤部721および腕部722の下方位置に設けられるとともに、傾斜側面清掃機構723および上面密清掃機構724による中皿Dの清掃に起因して落下する化粧料などを集塵する集塵機構725を備えている。
なお、本実施形態では、第2インデックス72は、モータおよびエアシリンダを備え、モータおよびエアシリンダにて円盤部721を回転・昇降させているが、これとは異なる機構を採用し、円盤部721を回転・昇降させてもよく、例えば、エアシリンダを用いることなく円盤部721を昇降させてもよい。
第2インデックス72の腕部722は、図14に示すように、中皿Dの側面に当接する爪部を有し、中皿Dを保持するチャック722Aと、チャック722Aを腕部722の延在方向と直交する方向に沿って(中皿Dに向かって)進退させるスライダ722Bとを備えている。
また、本実施形態では、スライダ722Bは、チャック722Aに対して鉛直下方側に位置するように配置されているが、これとは異なる位置に配置されていてもよい。
換言すれば、第1インデックス71および第2インデックス72は、互いに同期して90度ごと間欠的に回転するとともに、互いに同期して昇降するようになっている。
傾斜側面清掃機構723は、図16に示すように、中皿Dの傾斜した側面に当接することによって、中皿Dの傾斜した側面を清掃する清掃具723Aと、中皿Dの傾斜した側面と対向する側面に当接することによって、中皿Dの傾斜した側面と対向する側面を清掃する清掃具723Bと、清掃具723Aを中皿Dの傾斜した側面と直交する方向に沿ってスライドさせる清掃具スライダ723Cと、清掃具723BをX軸方向に沿ってスライドさせる清掃具スライダ723Dとを備えている。各清掃具スライダ723C,723Dは、各清掃具723A,723Bをスライドさせることによって、中皿Dの両側面の位置に合わせて各清掃具723A,723Bの位置を調整する。
なお、本実施形態では、清掃具スライダ723CをZ軸回りに回動自在としているが、他の清掃具スライダ714C,723DをZ軸回りに回動自在としてもよい。
傾斜側面清掃機構723は、前述した平行側面清掃機構714と同様に、モータ723A3,723B3の出力軸を回転させることによって、ベルト723A4,723B4を介してローラブラシ723A1,723B1の回転軸を回転させた状態において、昇降機にて各清掃具723A,723Bを-Z軸方向に向かって下降させることによって、中皿Dの両側面に対して各清掃具723A,723Bを移動させる。これによって、各清掃具723A,723Bは、中皿Dの傾斜した側面および中皿Dの傾斜した側面と対向する側面にローラブラシ723A1,723B1を当接させて中皿Dの傾斜した側面および中皿Dの傾斜した側面と対向する側面を清掃する。
上面密清掃機構724は、図17および図18に示すように、第2インデックス72の+Z軸方向側に設けられたベース724Aと、ベース724AのX軸方向の両側に設けられるとともに、Y軸回りに回転自在に支持された一対の巻取ローラ724Bと、ベース724AのX軸方向の両側に設けられるとともに、各巻取ローラ724Bを回転させる一対のモータ724Cと、一対の巻取ローラ724Bに掛け回された帯状の不織布724Dと、中皿Dの上面に不織布724Dを介して当接し、中皿Dの上面および不織布724Dを擦り合わせる摩擦清掃機724Eとを備えている。
各巻取ローラ724Bは、ベース724Aの-Y軸方向側に設けられた歯車724B1を備えている。各歯車724B1は、各モータ724Cの出力軸724C1に接続されている。したがって、各モータ724Cは、出力軸724C1を回転させることによって、各歯車724B1を介して各巻取ローラ724Bを回転させる。
不織布724Dは、-X軸方向側に設けられた巻取ローラ724Bの近傍に設けられた変動ローラ724Fと、変動ローラ724Fの+X軸方向側に設けられた3個の固定ローラ724Gとを経由して-X軸方向側に設けられた巻取ローラ724Bから+X軸方向側に設けられた巻取ローラ724Bに巻き取られる。
各固定ローラ724Gは、ベース724Aの各プレート724A2に回転自在となるように固定されている。
摺動機構724Hは、図19に示すように、支持機構724E1にて支持された矩形板状の基部724H1と、Y軸方向に延在するように基部724H1に固定されたガイドレール724H2と、ガイドレール724H2に取り付けられるとともに、ガイドレール724H2に沿って移動する移動体724H3と、移動体724H3に固定されるとともに、中皿Dの上面に不織布724Dを介して当接する矩形板状の当接板724H4とを備えている。
モータ724H5に固定されたシャフト724H7の一端の中心軸は、モータ724H5の出力軸に対して偏心している。したがって、モータ724H5の出力軸を回転させると、シャフト724H7の一端は、図20に示すように、モータ724H5の出力軸の周囲を回転することになる(図中矢印参照)。そして、シャフト724H7は、モータ724H5の出力軸の回転に伴ってガイドレール724H2に沿って進退することになり、当接板724H4は、シャフト724H7および移動体724H3を介してY軸方向に沿って進退することになる。したがって、摺動機構724Hは、中皿Dの上面に不織布724Dを介して当接板724H4を当接させて中皿Dの上面および不織布724Dを擦り合わせることができる。
なお、本実施形態では、中皿清掃装置7は、上面粗清掃機構702および上面密清掃機構724の双方を備えているが、いずれか一方のみを備えていてもよく、中皿Dの上面を清掃しない場合には、双方を備えていなくてもよい。
また、上面密清掃機構724は、中皿Dの上面を清掃する布製の布清掃具(不織布724D)と、この布清掃具を中皿Dの上面に沿って摺動させる摺動機構724Hとを備えているが、中皿Dの表面を密に清掃することができれば、これとは異なる構成を採用してもよい。
中皿送出機構73は、図21および図22に示すように、矩形板状のベース731と、ベース731の3箇所に固定されたローラ732と、各ローラ732のうち、+Z軸方向側に固定されたローラ732を回転させるモータ733と、各ローラ732に掛け回されたベルト734と、-X軸方向側に向かって中皿Dを搬送するベルトコンベア735とを備えている。
具体的には、第2インデックス72の円盤部721を回転させることによって、中皿送出機構73の下方位置にチャック722Aにて中皿Dを保持した腕部722を静止させた後、モータ733は、ベルト734を回転させることによって、フック734Aを中皿Dの下方位置に移動させる。その後、第2インデックス72は、チャック722Aの爪部を中皿Dに対して後退させることによって、中皿Dを解放する。これによって、中皿Dは、ベルト734のフック734Aの上面に載置されることになる。そして、モータ733は、ベルト734を回転させることによって、中皿Dを載置したフック734Aをベルトコンベア735の上方位置に移動させる。
集塵機構725は、図22および図23に示すように、傾斜側面清掃機構723および上面密清掃機構724による中皿Dの清掃に起因して落下する化粧料などを集塵する有底円筒状の集塵ボックス725Aと、集塵ボックス725Aの底面に当接するとともに、集塵ボックス725Aの底面に落下した化粧料などを集める矩形板状のスクレイパ725Bと、スクレイパ725Bを第2インデックス72の腕部722に取り付けるとともに、スクレイパ725Bの長手方向と平行な軸を回動軸として回動自在にスクレイパ725Bを支持する回動支持部725Cとを備えている。
スクレイパ725Bは、回動支持部725Cを介して第2インデックス72の腕部722に取り付けられているので、図24に示すように、第2インデックス72の回転に伴って集塵ボックス725Aの底面に沿って回転することになる(図中矢印参照)。ここで、回動支持部725Cは、スクレイパ725Bの自重にてスクレイパ725Bを集塵ボックス725Aの底面に当接させるべく自由に回動できるようにスクレイパ725Bを支持している。
したがって、スクレイパ725Bは、傾斜側面清掃機構723および上面密清掃機構724による中皿Dの清掃に起因して落下する化粧料などを掃くようにして集めることができる。
集塵パイプ725Dは、集塵機(図示略)に接続されている。この集塵機は、集塵ボックス725Aの開孔725A1および集塵パイプ725Dを介して集塵ボックス725Aの内部の空気を吸引することによって、スクレイパ725Bにて集められた化粧料などの集塵を実施する。
中皿清掃装置7は、前述したように、第1インデックス71、第2インデックス72、および中皿送出機構73を備えている他、図25に示すように、中皿清掃装置7の全体を制御する制御手段74を備えている。
制御手段74は、CPU(Central Processing Unit)や、メモリなどによって構成され、このメモリに記憶された所定のプログラムに従って情報処理を実行する。この制御手段74は、中皿保持制御部741と、中皿清掃制御部742と、搬送制御部743とを備えている。
中皿清掃制御部742は、底面清掃機構713、平行側面清掃機構714、傾斜側面清掃機構723、および上面密清掃機構724を制御することによって、中皿Dの表面を清掃する。
搬送制御部743は、第1インデックス71の回転および昇降と、第2インデックス72の回転および昇降と、中皿送出機構73のベルト734の回転とを制御することによって、中皿Dを中皿コンベア70からベルトコンベア735まで搬送する。
中皿清掃装置7にて中皿Dの表面を清掃する場合には、制御手段74は、メモリに記憶された所定のプログラムに従って、図26に示すように、ステップST1~ST5を実行する。
まず、中皿保持制御部741は、中皿Dの保持および解放を実行する(ステップST1:中皿保持・解放ステップ)。具体的には、中皿保持制御部741は、前述したように、中皿コンベア70にて搬送された中皿Dを第1インデックス71に保持させる。また、中皿保持制御部741は、前述したように、第1インデックス71にて搬送された中皿Dを第2インデックス72に保持させた後、第1インデックス71に解放させる。さらに、中皿保持制御部741は、前述したように、中皿Dを第2インデックス72に解放させる。
なお、制御手段74は、ステップST1およびステップST2を略同時に実行する。
制御手段74は、ステップST3にて中皿Dの保持および解放を完了したと判定された場合には、中皿Dの清掃を完了したか否かを判定する(ステップST4:中皿清掃判定ステップ)。
制御手段74は、ステップST3にて中皿Dの保持および解放を完了していないと判定された場合、およびステップST4にて中皿Dの清掃を完了していないと判定された場合には、ステップST3の処理を再び実行する。
また、本実施形態では、中皿保持制御部741は、第1インデックス71にて保持されていた中皿Dを第2インデックス72に保持させる他側面保持制御部として機能し、中皿清掃制御部742は、第2インデックス72にて保持された中皿Dを傾斜側面清掃機構723に清掃させる保持面清掃制御部として機能する。
さらに、本実施形態では、中皿清掃制御部742は、摺動機構724Hにて不織布724Dを中皿Dの上面に沿って摺動させることによって、中皿Dの上面を密に清掃する密清掃制御部として機能する。
(1)中皿清掃装置7は、第1インデックス71に中皿Dの側面を保持させた後、第1インデックス71にて保持された中皿Dの保持面とは異なる面を底面清掃機構713および平行側面清掃機構714に清掃させるので、中皿Dの底面や、保持面とは異なる側面を容易に清掃することができる。
(2)第1インデックス71は、中皿Dの側面を挟持することによって、中皿Dを保持するので、中皿Dを確実に保持することができ、底面清掃機構713および平行側面清掃機構714にて効率よく清掃することができる。
(3)中皿清掃装置7は、第1インデックス71にて保持されていた中皿Dを第2インデックス72に保持させた後、第1インデックス71にて保持されていた中皿Dの保持面を
傾斜側面清掃機構723に清掃させるので、中皿Dの全ての表面を清掃することができる。
(6)上面粗清掃機構702は、中皿Dの上面を最初に清掃し、上面密清掃機構724は、底面清掃機構713、平行側面清掃機構714、および傾斜側面清掃機構723にて中皿Dの上面とは異なる他の面を清掃した後、中皿Dの上面を最後に清掃するので、中皿Dの側面や底面を清掃したときに中皿Dの上面に汚れが付着してしまうおそれや、清掃後の中皿Dの側面や底面に中皿Dの上面の汚れが付着してしまうおそれを取り除くことができるとともに、中皿Dの上面を最も丁寧に清掃することができる。
(7)中皿清掃装置7は、摺動機構724Hにて不織布724Dを中皿Dの上面に沿って摺動させることによって、中皿Dの上面を密に清掃するので、中皿Dの上面を磨くようにして清掃することができ、例えば、ブラシなどを用いて中皿Dの表面を清掃する場合と比較して丁寧に清掃することができる。
例えば、前記実施形態では、コンパクトの装填装置1に中皿清掃装置7を採用していたが、これ以外の装置に本発明の物品清掃装置を採用してもよい。
2 パレット
7 中皿清掃装置
70 中皿コンベア
71 第1インデックス(側面保持手段)
72 第2インデックス(他側面保持手段)
73 中皿送出機構
74 制御手段
702 上面粗清掃機構(粗清掃手段)
712A チャック
712B スライダ
713 底面清掃機構(清掃手段)
714 平行側面清掃機構(清掃手段)
722A チャック
722B スライダ
723 傾斜側面清掃機構(保持面清掃手段)
724 上面密清掃機構(密清掃手段)
724D 不織布(布清掃具)
724H 摺動機構
741 中皿保持制御部(側面保持制御部,他側面保持制御部)
742 中皿清掃制御部(清掃制御部,保持面清掃制御部,密清掃制御部)
743 搬送制御部
D 中皿
Claims (7)
- 側面を有する対象物の表面を清掃する物品清掃装置であって、
前記対象物の側面を保持することによって、前記対象物を保持する側面保持手段と、
前記側面保持手段にて保持された前記対象物の保持面とは異なる面を清掃する清掃手段と、
前記物品清掃装置を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、
前記側面保持手段に前記対象物を保持させる側面保持制御部と、
前記側面保持手段にて保持された前記対象物を前記清掃手段に清掃させる清掃制御部とを備えることを特徴とする物品清掃装置。 - 請求項1に記載された物品清掃装置において、
前記側面保持手段は、前記対象物の側面を挟持することによって、前記対象物を保持することを特徴とする物品清掃装置。 - 請求項1または請求項2に記載された物品清掃装置において、
前記側面保持手段にて保持された前記対象物の保持面とは異なる他の側面を保持することによって、前記対象物を保持する他側面保持手段と、
前記側面保持手段にて保持されていた前記対象物の保持面を清掃する保持面清掃手段とを備え、
前記制御手段は、
前記側面保持手段にて保持されていた前記対象物を前記他側面保持手段に保持させる他側面保持制御部と、
前記側面保持手段にて保持されていた対象物の保持面を前記保持面清掃手段に清掃させる保持面清掃制御部とを備えることを特徴とする物品清掃装置。 - 請求項3に記載された物品清掃装置において、
前記側面保持手段および前記他側面保持手段は、
前記対象物を保持するチャックと、
前記チャックを前記対象物に向かって進退させるスライダとを備え、
前記側面保持手段のスライダは、当該側面保持手段のチャックに対して鉛直上方側に位置し、前記他側面保持手段のスライダは、当該他側面保持手段のチャックに対して鉛直下方側に位置するように配置されることを特徴とする物品清掃装置。 - 請求項1から請求項4に記載された物品清掃装置において、
前記対象物の表面を密に清掃する密清掃手段と、
前記密清掃手段にて前記対象物の表面を清掃する前に粗く清掃する粗清掃手段を備えることを特徴とする物品清掃装置。 - 請求項5に記載された物品清掃装置において、
前記粗清掃手段は、前記対象物の上面を最初に清掃し、前記密清掃手段は、前記清掃手段または前記保持面清掃手段にて前記対象物の上面とは異なる他の面を清掃した後、前記対象物の上面を最後に清掃することを特徴とする物品清掃装置。 - 請求項6に記載された物品清掃装置において、
前記密清掃手段は、
前記対象物の上面を清掃する布製の布清掃具と、
前記布清掃具を前記対象物の上面に沿って摺動させる摺動機構とを備え、
前記制御手段は、
前記摺動機構にて前記布清掃具を前記対象物の上面に沿って摺動させることによって、前記対象物の上面を密に清掃する密清掃制御部を備えることを特徴とする物品清掃装置。
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