JP2022033676A - 貴金属スパッタリングターゲット材 - Google Patents
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Abstract
Description
金ターゲット材:ビッカース硬度25Hv以上45Hv以下
白金ターゲット材:ビッカース硬度37Hv以上55Hv以下
パラジウムターゲット材:ビッカース硬度45Hv以上140Hv以下
銀ターゲット材:ビッカース硬度25Hv以上55Hv以下
ビッカース硬度が低いと、貴金属が軟らか過ぎて、加工時の水平性を保てず、加工特性が悪化する。一方、ビッカース硬度が高いと、貴金属スパッタリングターゲット中に割れ(クラック)の発生やボンデイング面からの剥がれが生じる。貴金属スパッタリングターゲット材の硬度は、スパッタリングターゲット材中の水素、燐、硫黄等の不純物含有量によっても変化する。
(ビッカース硬度の測定)
ビッカース硬度の測定に使用した装置を以下に示す。
測定装置:微小硬さ試験機(株式会社 ミツトヨ)
型式:HM-221
押付荷重:200kgf
測定装置:堀場製作所製水素分析装置(非分散赤外線吸収法)
(燐含有量の測定、硫黄含有量の測定)
測定装置:グロー放電質量分析(GD-MS)
純度4NのAu原料を高純度カーボン坩堝にて大気溶解した後、Au溶湯を鋳型に注湯し、その後、水中で急速冷却してAu鋳造インゴット(スパッタリングターゲット材)を作製した。大気溶解の際、微量の水蒸気又は水素ガスを適当量溶湯中に吹き込むことで、インゴット中の水素含有量を調整した。また、硫黄、燐についても、溶湯中に微量添加することで硫黄含有量、燐含有量を調整した。このようにして得られたスパッタリングターゲット材の不純物(水素、燐、硫黄)含有量及びビッカース硬度を表1に示す。
純度3N5のPt原料を高純度ジルコニア坩堝にて大気溶解した後、Pt溶湯を鋳型に注湯し、その後、水中で急速冷却してPt鋳造インゴット(スパッタリングターゲット材)を作製した。大気溶解の際、微量の水蒸気又は水素ガスを適当量溶湯中に吹き込むことで、インゴット中の水素含有量を調整した。また、硫黄、燐についても、溶湯中に微量添加することで硫黄含有量、燐含有量を調整した。このようにして得られたスパッタリングターゲット材の不純物(水素、燐、硫黄)含有量及びビッカース硬度を表2に示す。
純度3N5のPd原料を高純度ジルコニア坩堝にて真空溶解した後、Pd溶湯を鋳型に注湯し、その後、水中で急速冷却してPd鋳造インゴット(スパッタリングターゲット材)を作製した。真空溶解の際、微量の水蒸気又は水素ガスを混入させることで、インゴット中の水素含有量を調整した。また、硫黄、燐についても、溶湯中に微量添加することで硫黄含有量、燐含有量を調整した。このようにして得られたスパッタリングターゲット材の不純物(水素、燐、硫黄)含有量及びビッカース硬度を表3に示す。
純度4N5のAg原料を高純度ジルコニア坩堝にて大気溶解した後、Ag溶湯を鋳型に注湯し、その後、水中で急速冷却してAg鋳造インゴット(スパッタリングターゲット材)を作製した。大気溶解の際、微量の水蒸気又は水素ガスを適当量溶湯中に吹き込むことで、インゴット中の水素含有量を調整した。また、硫黄、燐についても、溶湯中に微量添加することで硫黄含有量、燐含有量を調整した。このようにして得られたスパッタリングターゲット材の不純物(水素、燐、硫黄)含有量及びビッカース硬度を表4に示す。
Claims (7)
- 鋳造インゴットからなるスパッタリングターゲット材であって、水素含有量が5wtppm未満であることを特徴とする貴金属スパッタリングターゲット材。
- 金の鋳造インゴットからなり、水素含有量が5wtppm未満であり、ビッカース硬度が25~45Hvであることを特徴とする請求項1に記載の貴金属スパッタリングターゲット材。
- 白金の鋳造インゴットからなり、水素含有量が5wtppm未満であり、ビッカース硬度が37~55Hvであることを特徴とする請求項1に記載の貴金属スパッタリングターゲット材。
- パラジウムの鋳造インゴットからなり、水素含有量が5wtppm未満であり、ビッカース硬度が45~140Hvであることを特徴とする請求項1に記載の貴金属スパッタリングターゲット材。
- 銀の鋳造インゴットからなり、水素含有量が5wtppm未満であり、ビッカース硬度が25~55Hvであることを特徴とする請求項1に記載の貴金属スパッタリングターゲット材。
- 水素含有量が1wtppm以下であることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の貴金属スパッタリングターゲット材。
- 燐含有量が1wtppm以下、硫黄含有量が1wtppm以下であることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の貴金属スパッタリングターゲット材。
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