JP2022024701A - チップ抵抗器の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
縦横に延在する分割用スリットによりマトリックス状の複数の領域に区分されている大判の絶縁基板の表面側の各々の領域に、下記に示すように、「(1)表面電極の形成」、「(2)厚膜抵抗体の形成」、及び「(3)第1コート層の形成」をこの記載順に行って、評価用の厚膜抵抗器を作製し、それらの特性を「(4)抵抗器の評価」に従って面積抵抗値及びサージ特性の観点から評価した。
1005サイズのチップ抵抗器(電流が流れる方向の長さ1.0mm、幅0.5mm)用として図2に示すような縦横に延在する分割用スリット10a、10bが表裏面に形成されているアルミナ製の大判の絶縁基板10を用意した。この大判の絶縁基板10の表面側に、表面電極用のAg-PdペーストであるC-4605(住友金属鉱山株式会社製)を図5のパターンとなるようにスクリーン印刷し、温度120℃の大気雰囲気で10分間保持する乾燥処理を行うことで、Ag-Pdペーストに含まれる溶剤を除去した後、ピーク温度850℃の大気雰囲気で9分間保持する焼成処理を行った。これにより、表面電極2及びプローブ接触部3が一体化した抵抗体接続部を複数対形成した。
上記の1つおきの列Aの領域群を構成する各領域に形成する厚膜抵抗体用の抵抗体ペーストとして、公称面積抵抗値1000Ωの抵抗体ペーストであるR-13U(住友金属鉱山株式会社製)と、公称面積抵抗値10000Ωの抵抗体ペーストであるR-14U(住友金属鉱山株式会社製)とを面積抵抗値が約3300Ωとなるように配合して混合抵抗体ペーストXを調製した。
上記にて形成した厚膜抵抗体4の表面を全面に亘って被覆する第1コート層用のガラスペーストには、大気雰囲気下において焼成温度600℃で5分間かけて行う焼成処理に適したガラスペーストである住友金属鉱山株式会社製のI-9760を用いた。このガラスペーストの焼成後に得られる第1コート層の厚みが5μmとなる膜厚で各厚膜抵抗体4を覆うように印刷し、温度120℃の大気雰囲気で10分間保持する乾燥処理を行うことで、ガラスペーストに含まれる溶剤を除去した後、ピーク温度600℃の大気雰囲気で5分間保持する焼成処理を行うことで第1コート層5を形成した。
上記にて作製した96個の厚膜抵抗器のうち、任意に選択した25個に対してデジタルマルチメーター(KEITHLEY社製、2001番)で抵抗値を測定し、得られた測定値を相加平均することで面積抵抗値を求めた。この抵抗値の測定後、抵抗値を10000Ωに調整するため、波長1.06μmのYAGレーザーを照射してレーザートリミングを行うことで厚膜抵抗体4に第1コート層5と共に平面視略L字状の溝からなるトリミング溝Gを形成した。上記の抵抗器の測定及びレーザートリミングの際は、上記1対のプローブ接触部3にプローブを接触させて上記厚膜抵抗体4の抵抗値を測定した。そして、レーザートリミング後は、大判の絶縁基板をその縦横スリット10a、10bに沿って分割することで、各対の表面電極2からプローブ接触部3を除去した。
実施例と同様に縦横のスリットが形成されたアルミナ製の大判の絶縁基板10の表面側に、各対の表面電極が電極同士が互いに0.3mm離間する図12のパターンとなるように、実施例と同様のAg-Pdペーストを用いてスクリーン印刷した後、実施例と同様の乾燥処理及び焼成処理を行って上記縦横のスリットで画定されるマトリックス状に並んだ領域群の各々に1対の表面電極を形成した。各領域内の1対の表面電極は、それぞれ両側の縦スリットから0.35mm内側に至る範囲に幅0.4mmで形成した。
1a 端面
2、22 表面電極
3、13 プローブ接触部
4、24 抵抗体
5、25 第1コート層
6、26 第2コート層
7、27 裏面電極
8、28 端面電極
9、29 めっき層
10a 縦スリット
10b 横スリット
A 領域
G トリミング溝
Claims (4)
- 絶縁基板の表面側に1対の表面電極を形成する表面電極形成工程と、前記1対の表面電極に架け渡す抵抗体を形成する抵抗体形成工程と、前記抵抗体を被覆する第1コート層を形成する第1コート層形成工程と、前記抵抗体に対して前記第1コート層の上からレーザートリミングを行う抵抗値調整工程とを有するチップ抵抗器の製造方法であって、前記表面電極形成工程において、前記抵抗体の抵抗値測定用のプローブを接触させる1対のプローブ接触部を前記1対の表面電極の互いに対向する側とは反対側にそれぞれ接続するように形成し、該1対のプローブ接触部は前記抵抗値調整工程の後に切除することを特徴とするチップ抵抗器の製造方法。
- 前記プローブ接触部の切除前の工程として、前記レーザートリミングが行われた前記第1コート層及び前記抵抗体を被覆する第2コート層を形成する第2コート層形成工程を更に有することを特徴とする、請求項1に記載のチップ抵抗器の製造方法。
- 前記表面電極形成工程の前工程若しくは後工程又は前記表面電極形成工程と同時に、前記絶縁基板の裏面側において前記1対の表面電極に対応する位置に1対の裏面電極を形成する裏面電極形成工程を有し、前記1対の表面電極と前記1対の裏面電極とをそれぞれ電気的に接続する1対の端面電極を形成する端面電極形成工程を前記プローブ接触部の切除後に有することを特徴とする、請求項1又は2に記載のチップ抵抗器の製造方法。
- 前記抵抗体がスクリーン印刷により形成される厚膜抵抗体であることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載のチップ抵抗器の製造方法。
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