JP2022017864A - 真空ポンプ、及び、真空ポンプの洗浄システム - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 19
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 description 39
- 230000008569 process Effects 0.000 description 27
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 11
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 8
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000035508 accumulation Effects 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
- F04D19/042—Turbomolecular vacuum pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D15/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or systems
- F04D15/0005—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or systems by using valves
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/70—Suction grids; Strainers; Dust separation; Cleaning
- F04D29/701—Suction grids; Strainers; Dust separation; Cleaning especially adapted for elastic fluid pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F05—INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
- F05D—INDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
- F05D2260/00—Function
- F05D2260/60—Fluid transfer
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
Description
また、真空ポンプ側から反跳したプロセスガスの粒子が半導体製造装置の処理室(チャンバ)に逆流し、ウエハを汚染する問題が発生していた。
また、ラジカルを真空ポンプ内に供給することにより、真空ポンプ内に副生成物を反応させるのに必要十分な量のラジカルを供給することができるので、真空ポンプの材料自体の劣化を最小限に抑えることが可能になるとともに、ラジカル生成に必要なガスの供給量も最小限に抑えることができる。
また、各ラジカル供給口を、ロータ軸の軸方向において吸気口に最も近い固定翼よりも排気口側に位置させて設けた場合では、ラジカルと反応して粒子化された後の粒子の一部が吸気口側(チャンバ側)に戻ろうとしたようなとき、吸気口側に向かう粒子の一部は、吸気口側に配置されている固定翼とぶつかるようにして吸気口側に向かうのを阻止し、粒子の一部が吸気口側に戻らないように抑制することもできるので、半導体製造装置等においての不良率を低減させることが可能になる。
また、ラジカルによって副生成物を粒子化して真空ポンプ内から排出することができるので、半導体製造装置等を停止させて、真空ポンプを清掃、修理、交換する必要がなくなり、半導体の生産効率の向上だけでなく、清掃、修理、交換コストの削減を図ることができる。
101 :吸気口
102 :回転翼
102a :固定翼
102c :回転翼
102d :回転翼
102j :回転翼
103 :回転体
103b :円筒部
104 :上側径方向電磁石
105 :下側径方向電磁石
106A :軸方向電磁石
106B :軸方向電磁石
107 :上側径方向センサ
108 :下側径方向センサ
109 :軸方向センサ
111 :金属ディスク
113 :ロータ軸
120 :保護ベアリング
121 :モータ
122 :ステータコラム
123 :固定翼
123a :固定翼
123b :固定翼
123c :固定翼
123d :固定翼
123e :固定翼
125 :固定翼スペーサ
127 :外筒(ハウジング)
129 :ベース部
131 :ネジ付スペーサ
131a :ネジ溝
133 :排気口
134 :パージガス用供給口
141 :電子回路部
143 :基板
145 :底蓋
149 :水冷管
150 :アンプ回路
151 :電磁石巻線
161 :トランジスタ
161a :カソード端子
161b :アノード端子
162 :トランジスタ
162a :カソード端子
162b :アノード端子
165 :ダイオード
165a :カソード端子
165b :アノード端子
166 :ダイオード
166a :カソード端子
166b :アノード端子
171 :電源
171a :正極
171b :負極
181 :電流検出回路
191 :アンプ制御回路
191a :ゲート駆動信号
191b :ゲート駆動信号
191c :電流検出信号
200 :コントローラ
201 :ラジカル供給手段
201A :ラジカル供給手段
201B :ラジカル供給手段
201C :ラジカル供給手段
201D :ラジカル供給手段
201a :ラジカル供給口
201b :バルブ
201c :ラジカル発生源
A :種類
B :種類
E :粒子
F :粒子
T :処理時間
Tp1 :パルス幅時間
Tp2 :パルス幅時間
Ts :制御サイクル
c :種類
d :種類
iL :電磁石電流
iLmax :電流値
iLmin :電流値
Claims (14)
- 吸気口と排気口とを有するハウジングと、
前記ハウジングの内側に、回転自在に支持されたロータ軸と、
前記ロータ軸に固定された回転翼を有し、前記ロータ軸と共に回転可能な回転体と、
を備えた真空ポンプであって、
複数の種類のラジカルを前記ハウジング内に供給可能な、少なくとも一つのラジカル供給口と前記ラジカル供給口に前記ラジカルを供給するラジカル供給手段を備えている、
ことを特徴とする真空ポンプ。 - 前記ラジカル供給手段は、前記複数の種類のラジカルの発生に合わせたラジカル発生源と前記ラジカル発生源を駆動させる電源とを有する、ことを特徴とする請求項1に記載の真空ポンプ。
- 前記複数の種類のラジカル発生源を駆動させる前記電源の少なくとも一部を、ポンプ制御用電源と共用する、ことを特徴とする請求項2に記載の真空ポンプ。
- 前記複数の種類のラジカル発生源を駆動させる前記電源の少なくとも一部を、チャンバのプラズマ発生用電源と共用する、ことを特徴とする請求項2に記載の真空ポンプ。
- 前記ラジカル発生源は、電極を交換可能になっており、前記ラジカル発生源の電源は、電圧出力可変機能を有し、各種のラジカルの発生は前記電極の交換と前記電源の電圧出力を調整することで実現可能となっている、ことを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の真空ポンプ。
- 前記ラジカル供給手段は、前記ラジカル供給口に各々対応して設けられ、前記各ラジカル供給口から供給される前記ラジカルの供給を制御可能なバルブを有する、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の真空ポンプ。
- 前記各ラジカル供給口は、前記ロータ軸の軸方向において前記吸気口から略等距離の位置にそれぞれ配置されている、ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の真空ポンプ。
- 前記真空ポンプは、前記バルブを開閉制御するコントローラをさらに備えている、
ことを特徴とする請求項6に記載の真空ポンプ。 - 前記コントローラは、前記真空ポンプの稼動状況を表す稼働データに基づいて前記バルブを開閉制御する、ことを特徴とする請求項8に記載の真空ポンプ。
- 前記コントローラは、前記稼働データである前記ロータ軸を回転駆動させるモータの電流値が所定の閾値を超えたときに、副生成物の堆積が進行していて、その副生成物のクリーニングのために前記ラジカルの供給が必要であると判定する、ことを特徴とする請求項9に記載の真空ポンプ。
- 前記コントローラは、前記稼働データである前記ロータ軸を回転駆動させるモータの電流値が予め記憶された無負荷運転時の前記モータの電流値と略等しいときに前記バルブの開閉制御を行う、ことを特徴とする請求項9に記載の真空ポンプ。
- 前記コントローラは、前記稼働データである前記真空ポンプの圧力値が所定の閾値を超えたときに、副生成物の堆積が進行していて、その副生成物のクリーニングのために前記ラジカルの供給が必要であると判定する、
ことを特徴とする請求項9に記載の真空ポンプ。 - 前記コントローラは、前記稼働データである前記真空ポンプの圧力値が予め記憶された無負荷運転時の前記真空ポンプの圧力値と略等しいときに、前記バルブの開閉制御を行う、ことを特徴とする請求項9に記載の真空ポンプ。
- 吸気口と排気口とを有するハウジングと、
前記ハウジングの内側に、回転自在に支持されたロータ軸と、
前記ロータ軸に固定された回転翼を有し、前記ロータ軸と共に回転可能な回転体と、を備えた真空ポンプの洗浄システムであって、
複数の種類のラジカルを前記ハウジング内に供給可能な、少なくとも一つのラジカル供給手段を備えている、
ことを特徴とする真空ポンプの洗浄システム。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020120673A JP7437254B2 (ja) | 2020-07-14 | 2020-07-14 | 真空ポンプ、及び、真空ポンプの洗浄システム |
CN202180039890.5A CN115667725A (zh) | 2020-07-14 | 2021-07-07 | 真空泵及真空泵的清洗系统 |
PCT/JP2021/025639 WO2022014442A1 (ja) | 2020-07-14 | 2021-07-07 | 真空ポンプ、及び、真空ポンプの洗浄システム |
US18/001,632 US20230220848A1 (en) | 2020-07-14 | 2021-07-07 | Vacuum pump and vacuum pump cleaning system |
KR1020227042466A KR20230034946A (ko) | 2020-07-14 | 2021-07-07 | 진공 펌프 및 진공 펌프의 세정 시스템 |
IL299043A IL299043A (en) | 2020-07-14 | 2021-07-07 | Vacuum pump and vacuum pump cleaning system |
EP21842120.4A EP4184013A1 (en) | 2020-07-14 | 2021-07-07 | Vacuum pump and cleaning system for vacuum pump |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020120673A JP7437254B2 (ja) | 2020-07-14 | 2020-07-14 | 真空ポンプ、及び、真空ポンプの洗浄システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022017864A true JP2022017864A (ja) | 2022-01-26 |
JP7437254B2 JP7437254B2 (ja) | 2024-02-22 |
Family
ID=79554834
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020120673A Active JP7437254B2 (ja) | 2020-07-14 | 2020-07-14 | 真空ポンプ、及び、真空ポンプの洗浄システム |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230220848A1 (ja) |
EP (1) | EP4184013A1 (ja) |
JP (1) | JP7437254B2 (ja) |
KR (1) | KR20230034946A (ja) |
CN (1) | CN115667725A (ja) |
IL (1) | IL299043A (ja) |
WO (1) | WO2022014442A1 (ja) |
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-
2020
- 2020-07-14 JP JP2020120673A patent/JP7437254B2/ja active Active
-
2021
- 2021-07-07 IL IL299043A patent/IL299043A/en unknown
- 2021-07-07 WO PCT/JP2021/025639 patent/WO2022014442A1/ja unknown
- 2021-07-07 EP EP21842120.4A patent/EP4184013A1/en active Pending
- 2021-07-07 CN CN202180039890.5A patent/CN115667725A/zh active Pending
- 2021-07-07 US US18/001,632 patent/US20230220848A1/en active Pending
- 2021-07-07 KR KR1020227042466A patent/KR20230034946A/ko unknown
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WO2023228863A1 (ja) * | 2022-05-26 | 2023-11-30 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ及び真空排気システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20230034946A (ko) | 2023-03-10 |
EP4184013A1 (en) | 2023-05-24 |
CN115667725A (zh) | 2023-01-31 |
US20230220848A1 (en) | 2023-07-13 |
IL299043A (en) | 2023-02-01 |
WO2022014442A1 (ja) | 2022-01-20 |
JP7437254B2 (ja) | 2024-02-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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