JP2022017610A - 組成物、修飾基材、ウェットワイパー、スプレー - Google Patents
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Abstract
【課題】基材に対して優れた抗菌性を付与でき、基材に付与された抗菌剤の固着性に優れる組成物、修飾基材、ウェットワイパー、及び、スプレーの提供。【解決手段】抗菌剤と、シロキサン化合物とを含む、組成物。抗菌剤としては特に制限されず、公知の有機系抗菌剤及び／又は無機系抗菌剤が挙げられる。【選択図】なし
Description
本発明は、組成物、修飾基材、ウェットワイパー、及び、スプレーに関する。
銀等に代表される抗菌剤は、様々な用途に用いられている。
特許文献１には、親水性ポリマー、光開始剤、金属銀（Ａｇ）を含む粒子、及び、キャリヤ液を含む配合物を硬化させて得られるコーティングを開示している。
特許文献１には、親水性ポリマー、光開始剤、金属銀（Ａｇ）を含む粒子、及び、キャリヤ液を含む配合物を硬化させて得られるコーティングを開示している。
本発明者は、特許文献１に記載された抗菌剤を含むコーティングを基材上に作製して、その特性について検討したところ、抗菌剤が基材から剥がれやすく、抗菌剤の固着性に関して改善の余地があることを知見した。
本発明は、上記実情に鑑みて、基材に対して優れた抗菌性を付与でき、基材に付与された抗菌剤の固着性に優れる組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、修飾基材、ウェットワイパー、及び、スプレーを提供することも課題とする。
また、本発明は、修飾基材、ウェットワイパー、及び、スプレーを提供することも課題とする。
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の構成により課題を解決できることを見出した。
（１） 抗菌剤と、シロキサン化合物とを含む、組成物。
（２） 抗菌剤が粒子状であり、
抗菌剤の平均粒子径が１．０μｍ以下である、（１）に記載の組成物。
（３） 抗菌剤が、無機粒子と、無機粒子上に担持された有機系抗菌剤とを含む複合粒子である、（１）又は（２）に記載の組成物。
（４） 更に、溶媒を含み、
溶媒が、実質的に水からなる、（１）～（３）のいずれかに記載の組成物。
（５） シロキサン化合物が、後述する式（Ｘ）で表される化合物である、（１）～（４）のいずれかに記載の組成物。
（６） 更に、シランカップリング剤を含む、（１）～（５）のいずれかに記載の組成物。
（７） 基材と、基材上に配置された、（１）～（６）のいずれかに記載の組成物から形成される抗菌部とを有する、修飾基材。
（８） 基布と、基布に含浸させた（１）～（６）のいずれかに記載の組成物と、を有する、ウェットワイパー。
（９） スプレー容器と、スプレー容器に収納された（１）～（６）のいずれかに記載の組成物と、を有するスプレー。
（２） 抗菌剤が粒子状であり、
抗菌剤の平均粒子径が１．０μｍ以下である、（１）に記載の組成物。
（３） 抗菌剤が、無機粒子と、無機粒子上に担持された有機系抗菌剤とを含む複合粒子である、（１）又は（２）に記載の組成物。
（４） 更に、溶媒を含み、
溶媒が、実質的に水からなる、（１）～（３）のいずれかに記載の組成物。
（５） シロキサン化合物が、後述する式（Ｘ）で表される化合物である、（１）～（４）のいずれかに記載の組成物。
（６） 更に、シランカップリング剤を含む、（１）～（５）のいずれかに記載の組成物。
（７） 基材と、基材上に配置された、（１）～（６）のいずれかに記載の組成物から形成される抗菌部とを有する、修飾基材。
（８） 基布と、基布に含浸させた（１）～（６）のいずれかに記載の組成物と、を有する、ウェットワイパー。
（９） スプレー容器と、スプレー容器に収納された（１）～（６）のいずれかに記載の組成物と、を有するスプレー。
本発明によれば、基材に対して優れた抗菌性を付与でき、基材に付与された抗菌剤の固着性に優れる組成物を提供できる。
また、本発明によれば、修飾基材、ウェットワイパー、及び、スプレーを提供できる。
また、本発明によれば、修飾基材、ウェットワイパー、及び、スプレーを提供できる。
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書における基（原子群）の表記において、置換、及び、無置換を記していない表記は、本発明の効果を損ねない範囲で、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。このことは、各化合物についても同義である。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及び／又はメタクリレート（アクリレート及びメタクリレートのいずれか一方又は両方）を表し、「（メタ）アクリロイル」はアクリロイル及び／又はメタクリロイル（アクリロイル及びメタクリロイルのいずれか一方又は両方）を表す。
また、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値、及び、上限値として含む範囲を意味する。
なお、本明細書における基（原子群）の表記において、置換、及び、無置換を記していない表記は、本発明の効果を損ねない範囲で、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。このことは、各化合物についても同義である。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及び／又はメタクリレート（アクリレート及びメタクリレートのいずれか一方又は両方）を表し、「（メタ）アクリロイル」はアクリロイル及び／又はメタクリロイル（アクリロイル及びメタクリロイルのいずれか一方又は両方）を表す。
また、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値、及び、上限値として含む範囲を意味する。
以下、本発明の組成物中に含まれる各種成分について詳述する。
＜抗菌剤＞
抗菌剤としては、特に制限されず、公知の有機系抗菌剤及び／又は無機系抗菌剤が挙げられる。
有機系抗菌剤としては、特に制限されず、例えば、フェノールエーテル誘導体、イミダゾール誘導体、スルホン誘導体、Ｎ－ハロアルキルチオ化合物、アニリド誘導体、ピロール誘導体、第４級アンモニウム化合物、ピリジン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、及び、イソチアゾリン系化合物等が挙げられる。
なお、有機系抗菌剤としては、天然系抗菌剤も含まれる。天然系抗菌剤としては、カニ及び／又はエビの甲殻等に含まれるキチンを加水分解して得られる塩基性多糖類のキトサンが挙げられる。
抗菌剤としては、特に制限されず、公知の有機系抗菌剤及び／又は無機系抗菌剤が挙げられる。
有機系抗菌剤としては、特に制限されず、例えば、フェノールエーテル誘導体、イミダゾール誘導体、スルホン誘導体、Ｎ－ハロアルキルチオ化合物、アニリド誘導体、ピロール誘導体、第４級アンモニウム化合物、ピリジン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、及び、イソチアゾリン系化合物等が挙げられる。
なお、有機系抗菌剤としては、天然系抗菌剤も含まれる。天然系抗菌剤としては、カニ及び／又はエビの甲殻等に含まれるキチンを加水分解して得られる塩基性多糖類のキトサンが挙げられる。
無機系抗菌剤としては、特に制限されず、例えば、金属単体、金属イオン、金属を含む無機物、及び、無機担体と無機担体上に担持された金属又は有機系抗菌剤とを含む複合粒子が挙げられる。なお、複合粒子中に含まれる金属は、金属単体であっても、金属イオンであってもよい。
無機系抗菌剤に含まれる金属の種類としては、特に制限されないが、銀、銅、亜鉛、水銀、鉄、鉛、ビスマス、チタン、錫、ジルコニウム、アルミニウム、及びニッケル等が挙げられ、なかでも、銀、銅、亜鉛、アルミニウム、又は、ジルコニウムが好ましく、銀、銅、亜鉛、又は、アルミニウムがより好ましく、銀又は銅が更に好ましく、銀が特に好ましい。
金属を含む無機物としては、例えば、金属の酸化物、金属の窒化物、金属のハロゲン化物、金属のシアン化物、金属のセレン化物、金属の硫化物、金属のテルル化物、及び、金属の塩等が挙げられる。
金属の塩としては、例えば、ヒ酸塩、フッ化水素塩、臭素酸塩、塩素酸塩、クロム酸塩、シアン酸塩、ヘキサフルオロアンチモン酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、ヨウ素酸塩、イソチオシアン酸塩、モリブデン酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、過塩素酸塩、過マンガン酸塩、過レニウム酸塩、リン酸塩、セレン酸塩、亜セレン酸塩、硫酸塩、亜硫酸塩、テトラフルオロほう酸塩、テトラタングステン酸塩、チオシアン酸塩、及び、バナジン酸塩等が挙げられる。
無機系抗菌剤に含まれる金属の種類としては、特に制限されないが、銀、銅、亜鉛、水銀、鉄、鉛、ビスマス、チタン、錫、ジルコニウム、アルミニウム、及びニッケル等が挙げられ、なかでも、銀、銅、亜鉛、アルミニウム、又は、ジルコニウムが好ましく、銀、銅、亜鉛、又は、アルミニウムがより好ましく、銀又は銅が更に好ましく、銀が特に好ましい。
金属を含む無機物としては、例えば、金属の酸化物、金属の窒化物、金属のハロゲン化物、金属のシアン化物、金属のセレン化物、金属の硫化物、金属のテルル化物、及び、金属の塩等が挙げられる。
金属の塩としては、例えば、ヒ酸塩、フッ化水素塩、臭素酸塩、塩素酸塩、クロム酸塩、シアン酸塩、ヘキサフルオロアンチモン酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、ヨウ素酸塩、イソチオシアン酸塩、モリブデン酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、過塩素酸塩、過マンガン酸塩、過レニウム酸塩、リン酸塩、セレン酸塩、亜セレン酸塩、硫酸塩、亜硫酸塩、テトラフルオロほう酸塩、テトラタングステン酸塩、チオシアン酸塩、及び、バナジン酸塩等が挙げられる。
複合粒子中の無機担体の種類としては特に制限されないが、例えば、リン酸亜鉛カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、リン酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム、活性アルミナ、酸化ケイ素、ケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸塩ガラス、リン酸塩ガラス、ゼオライト（結晶性アルミノケイサン塩）、アパタイト、ヒドロキシアパタイト、リン酸チタン、チタン酸カリウム、含水酸化ビスマス、含水酸化ジルコニウム、ハイドロタルサイト、及び、活性炭等が挙げられる。
なお、酸化ケイ素（シリカ）としては、合成非晶質シリカが好ましい。合成非晶質シリカは、乾式法によって製造されるものと、湿式法によって製造されるものとに大別され、前者には乾式シリカがあり、後者には湿式シリカ、シリカゲル、及び、コロイダルシリカがあり、乾式シリカが好ましい。乾式シリカとしては、例えば、日本エアロジル株式会社より商品名アエロジルとして販売されているものが好ましく用いられる。
なお、酸化ケイ素（シリカ）としては、合成非晶質シリカが好ましい。合成非晶質シリカは、乾式法によって製造されるものと、湿式法によって製造されるものとに大別され、前者には乾式シリカがあり、後者には湿式シリカ、シリカゲル、及び、コロイダルシリカがあり、乾式シリカが好ましい。乾式シリカとしては、例えば、日本エアロジル株式会社より商品名アエロジルとして販売されているものが好ましく用いられる。
無機担体としては、結晶性であっても、非晶性（アモルファス）であってもよいが、非晶性であることが好ましく、ガラスがより好ましい。ガラスを構成し得る材料としては、例えば、ケイ酸塩、ホウケイ酸塩、及び、リン酸塩等が挙げられる。ケイ酸塩としては、ケイ酸アルミニウムが好ましい。
上記ケイ酸アルミニウムは、天然物又は合成物であってもよい。ケイ酸アルミニウムとしては、下記式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
Ａｌ２Ｏ３・ｎＳｉＯ２・ｍＨ２Ｏ （Ａ）
式（Ａ）におけるｎは６以上の正数（好ましくは、６～５０）であり、ｍは１～２０の正数である。なかでも、ｎが８～１５で、ｍが３～１５であることが好ましい。
Ａｌ２Ｏ３・ｎＳｉＯ２・ｍＨ２Ｏ （Ａ）
式（Ａ）におけるｎは６以上の正数（好ましくは、６～５０）であり、ｍは１～２０の正数である。なかでも、ｎが８～１５で、ｍが３～１５であることが好ましい。
複合粒子に含まれる金属の種類としては、上述した無機系抗菌剤に含まれる金属の種類が挙げられる。
複合粒子に含まれる有機系抗菌剤の種類としては、公知の有機系抗菌剤が挙げられ、例えば、上述した有機系抗菌剤の例示が挙げられる。なかでも、ヒドロキサム酸誘導体、第４級アンモニウム化合物、トリクロサン、又は、ジンク（Ｚｎ）ピリチオンが好ましい。
ヒドロキサム酸誘導体としては、環状ヒドロキサム酸誘導体が挙げられ、より具体的には、１－ヒドロキシ－４－メチル－６－（２，４，４－トリメチルペンチル）－２（１Ｈ）－ピリドン モノエタノールアミン塩（別名：ピロクトンエタノールアミン）、６－シクロヘキシル－１－ヒドロキシ－４－メチル－２（１Ｈ）－ピリドン、２－ヒドロキシエタンアミン、ピリドンカルボン酸系化合物（例えば、ピロミド酸、ピペミド酸 、シノキサシン）が挙げられる。
第４級アンモニウム化合物としては、炭素数１～１８の長鎖アルキル基を有する第４級アンモニウム化合物が挙げられ、より具体的には、セチルリン酸ベンザルコニウム、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化メチルベンゼトニウム、塩化セチルピリジニウム、セトリモニウム、塩化ドファニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、及び、臭化ドミフェンが挙げられる。
複合粒子に含まれる有機系抗菌剤の種類としては、公知の有機系抗菌剤が挙げられ、例えば、上述した有機系抗菌剤の例示が挙げられる。なかでも、ヒドロキサム酸誘導体、第４級アンモニウム化合物、トリクロサン、又は、ジンク（Ｚｎ）ピリチオンが好ましい。
ヒドロキサム酸誘導体としては、環状ヒドロキサム酸誘導体が挙げられ、より具体的には、１－ヒドロキシ－４－メチル－６－（２，４，４－トリメチルペンチル）－２（１Ｈ）－ピリドン モノエタノールアミン塩（別名：ピロクトンエタノールアミン）、６－シクロヘキシル－１－ヒドロキシ－４－メチル－２（１Ｈ）－ピリドン、２－ヒドロキシエタンアミン、ピリドンカルボン酸系化合物（例えば、ピロミド酸、ピペミド酸 、シノキサシン）が挙げられる。
第４級アンモニウム化合物としては、炭素数１～１８の長鎖アルキル基を有する第４級アンモニウム化合物が挙げられ、より具体的には、セチルリン酸ベンザルコニウム、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化メチルベンゼトニウム、塩化セチルピリジニウム、セトリモニウム、塩化ドファニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、及び、臭化ドミフェンが挙げられる。
複合粒子としては、金属担持ゼオライト、金属担持アパタイト、金属担持ガラス、金属担持リン酸ジルコニウム、又は、金属担持ケイ酸カルシウムが好ましく、金属担持ガラスがより好ましい。
抗菌剤が粒子状である場合、抗菌剤の平均粒子径は特に制限されないが、３．０μｍ以下の場合が多く、なかでも、１．０μｍ以下が好ましく、０．６μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、０．０１μｍ以上の場合が多く、０．２μｍ以上の場合がより多い。
抗菌剤が粒子状である場合、平均粒子径は、電子顕微鏡を用いて観察することにより測定できる。具体的には、上記平均粒子径は、抗菌剤粒子について、一次粒子及び二次粒子（なお、「二次粒子」とは、一次粒子同士が融合あるいは接触して構成される集合体と定義する。）の直径を電子顕微鏡の画像から計測し、全粒子数の中の最も直径が小さい側の粒子数５％と、最も直径が大きい側の粒子数５％を除いた、９０％の範囲の粒子の直径を平均した値である。つまり、平均粒子径は、一次粒子及び二次粒子から求められる値である。また、直径とは、粒子の外接円相当直径のことをいう。
なお、粒子の粒子形状に大きく違いがない場合、堀場製作所社製のレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置を用いて５０％体積累積径（Ｄ５０）を３回測定して、３回測定した値の平均値を平均粒子径として代用してもよい。
なお、粒子の粒子形状に大きく違いがない場合、堀場製作所社製のレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置を用いて５０％体積累積径（Ｄ５０）を３回測定して、３回測定した値の平均値を平均粒子径として代用してもよい。
粒子状の抗菌剤の平均粒子径は、従来公知の方法により調節でき、例えば、乾式粉砕又は湿式粉砕を採用できる。乾式粉砕においては、例えば、乳鉢、ジェットミル、ハンマーミル、ピンミル、回転ミル、振動ミル、遊星ミル、及び、ビーズミル等が適宜用いられる。また、湿式粉砕においては、各種ボールミル、高速回転粉砕機、ジェットミル、ビーズミル、超音波ホモジナイザー、及び、高圧ホモジナイザー等が適宜用いられる。
上記抗菌剤は公知の方法により製造でき、市販品を用いてもよい。
抗菌剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
組成物中における抗菌剤の含有量（抗菌剤が複数含まれる場合はその合計含有量）は特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、０．００１～５５質量％が好ましく、０．００１～５０質量％がより好ましく、０．０１～４０質量％が更に好ましい。
組成物中における抗菌剤の含有量（抗菌剤が複数含まれる場合はその合計含有量）は特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、０．００１～５５質量％が好ましく、０．００１～５０質量％がより好ましく、０．０１～４０質量％が更に好ましい。
＜シロキサン化合物＞
シロキサン化合物とは、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を有する化合物である。
シロキサン化合物としては、例えば、ケイ素原子に加水分解性基が結合した化合物の加水分解物、及び、その加水分解縮合物からなる群から選択される化合物が挙げられ、より具体的には、下記式（１）で表される化合物の加水分解物、及びその加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。
式（１） Ｓｉ－（ＯＲ）４
上記式（１）中、Ｒは、炭素数１～４のアルキル基を表し、同一でも異なってもよい。
シロキサン化合物とは、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を有する化合物である。
シロキサン化合物としては、例えば、ケイ素原子に加水分解性基が結合した化合物の加水分解物、及び、その加水分解縮合物からなる群から選択される化合物が挙げられ、より具体的には、下記式（１）で表される化合物の加水分解物、及びその加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。
式（１） Ｓｉ－（ＯＲ）４
上記式（１）中、Ｒは、炭素数１～４のアルキル基を表し、同一でも異なってもよい。
上記式（１）で表わされる化合物としては、テトラメチルシリケート、テトラエチルシリケート、テトラ－ｎ－プロピルシリケート、テトラ－ｉ－プロピルシリケート、テトラ－ｎ－ブチルシリケート、テトラ－ｉ－ブチルシリケート、テトラ－ｔ－ブチルシリケート、メチルエチルシリケート、メチルプロピルシリケート、メチルブチルシリケート、エチルプロピルシリケート、及び、プロピルブチルシリケート等が挙げられる。
式（１）で表される化合物の加水分解物とは、式（１）で表される化合物中のＯＲ基が加水分解して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解物は、ＯＲ基のすべてが加水分解されているもの（完全加水分解物）であっても、ＯＲ基の一部が加水分解されているもの（部分加水分解物）であってもよい。つまり、上記加水分解物は、完全加水分解物、若しくは、部分加水分解物、又はこれらの混合物であってもよい。
また、式（１）で表される化合物の加水分解縮合物とは、式（１）で表される化合物中のＯＲ基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべてのＯＲ基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部のＯＲ基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、若しくは、部分加水分解縮合物、又はこれらの混合物であってもよい。
また、式（１）で表される化合物の加水分解縮合物とは、式（１）で表される化合物中のＯＲ基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべてのＯＲ基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部のＯＲ基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、若しくは、部分加水分解縮合物、又はこれらの混合物であってもよい。
シロキサン化合物としては、式（Ｘ）で表される化合物が好ましい。
ここで、式（Ｘ）中、Ｒ１～Ｒ４はそれぞれ独立に炭素数１～４のアルキル基を表す。また、ｎは２以上の整数を表す。
ｎは、５以上の整数が好ましく、８以上の整数がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００以下の整数が好ましく、２０以下の整数がより好ましい。
ｎは、５以上の整数が好ましく、８以上の整数がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００以下の整数が好ましく、２０以下の整数がより好ましい。
上記式（Ｘ）で表される化合物の市販品としては、例えば、コルコート社製「エチルシリケート４８」、及び、三菱化学社製「ＭＫＣシリケート ＭＳ５１」「ＭＫＣシリケート ＭＳ５６」「ＭＫＣシリケート ＭＳ５７」等が挙げられる。
なお、シロキサン化合物は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
なお、シロキサン化合物は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
組成物中におけるシロキサン化合物の含有量としては特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、２０～９９．８質量％が好ましく、２０～９０質量％がより好ましく、４０～９９質量％が更に好ましい。
＜その他の成分＞
上記組成物は本発明の効果を奏する範囲内において、その他の成分を含んでいてもよい。
上記組成物は本発明の効果を奏する範囲内において、その他の成分を含んでいてもよい。
（溶媒）
本発明の組成物は溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては特に制限されず、水及び／又は有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、イソペンタノール、フェニルエチルアルコール、カプリルアルコール、ラウリルアルコール、及び、ミリスチルアルコール等のアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、及び、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、及び、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、及び、エチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、及び、ジ－ｎ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、及び、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ－アミル、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル、プロピオン酸エチル、及び、プロピオン酸ブチル等のエステル系溶媒；１０％安息香酸デナトニウムアルコール溶液、ゲラニオール、八アセチル化ショ糖、ブルシン、リナロール、リナリールアセテート、及び、酢酸等の親水性溶媒；が挙げられる。
本発明の組成物は溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては特に制限されず、水及び／又は有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、イソペンタノール、フェニルエチルアルコール、カプリルアルコール、ラウリルアルコール、及び、ミリスチルアルコール等のアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、及び、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、及び、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、及び、エチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、及び、ジ－ｎ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、及び、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ－アミル、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル、プロピオン酸エチル、及び、プロピオン酸ブチル等のエステル系溶媒；１０％安息香酸デナトニウムアルコール溶液、ゲラニオール、八アセチル化ショ糖、ブルシン、リナロール、リナリールアセテート、及び、酢酸等の親水性溶媒；が挙げられる。
上記組成物中、粒状物の沈降を抑制する点、及び、形成される膜の消臭性がより優れる点で、アルコール系溶媒の含有量は、組成物全質量に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上が好ましい。上限値は特に制限されないが、例えば、９９質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、４５質量％以下が特に好ましい。
また、溶媒がアルコール系溶媒を含む場合、溶媒中におけるアルコールの含有量としては特に制限されないが、溶媒の全質量に対して、０．００１～１００質量％が好ましく、０．０１～９０質量％がより好ましく、５～９０質量％が更に好ましく、５～８０質量％が特に好ましい。
また、溶媒が、実質的に水からなることも好ましい。上記実質的とは、溶媒の全質量に対して、水の含有量が、９９質量％以上であることを意味し、９９．５質量％以上であることが好ましく、１００質量％であることがより好ましい。
組成物中における溶媒の含有量としては特に制限されないが、組成物がより優れた塗布性を有する点で、組成物の固形分が、０．００１～８０質量％に調整されるのが好ましく、０．０１～１０質量％に調整されるのがより好ましく、０．１～５．０質量％に調整されるのが更に好ましい。
溶媒は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の溶媒を併用する場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
溶媒は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の溶媒を併用する場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
（シランカップリング剤）
本発明の組成物はシランカップリング剤を含んでいてもよい。
シランカップリング剤に含まれる官能基の種類は特に制限されないが、例えば、グリシジル基、アミノ基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、及び、イソシアネート基が挙げられる。
シランカップリング剤としては、式（Ｙ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｙ） Ｒ５－Ｌ－Ｓｉ（ＯＲ６）３
Ｒ５は、グリシジル基、アミノ基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、又は、イソシアネート基を表す。
Ｌは、２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、－ＮＨ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ2－、－Ｓ－、－ＳＯ3－、又は、これらを組み合わせた２価の基が挙げられる。
Ｒ６は、アルキル基を表す。アルキル基の炭素数は特に制限されず、１～４が好ましく、１～２がより好ましい。
本発明の組成物はシランカップリング剤を含んでいてもよい。
シランカップリング剤に含まれる官能基の種類は特に制限されないが、例えば、グリシジル基、アミノ基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、及び、イソシアネート基が挙げられる。
シランカップリング剤としては、式（Ｙ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｙ） Ｒ５－Ｌ－Ｓｉ（ＯＲ６）３
Ｒ５は、グリシジル基、アミノ基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、又は、イソシアネート基を表す。
Ｌは、２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、－ＮＨ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ2－、－Ｓ－、－ＳＯ3－、又は、これらを組み合わせた２価の基が挙げられる。
Ｒ６は、アルキル基を表す。アルキル基の炭素数は特に制限されず、１～４が好ましく、１～２がより好ましい。
（分散剤）
抗菌剤が粒子状である場合、上記組成物は、分散剤を含んでいてもよい。
分散剤としては特に制限されず、公知の分散剤が使用できる。
分散剤としては、ノニオン系又はアニオン系の分散剤が好ましく、カルボキシ基、リン酸基、及び水酸基等のアニオン性の極性基を有する分散剤（アニオン系分散剤）がより好ましい。
アニオン系分散剤としては、市販品を使用できる。その具体例としては、ＢＹＫ社の商品名ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）－１１０、－１１１、－１１６、－１４０、－１６１、－１６２、－１６３、１６４、－１７０、－１７１、－１７４、－１８０、－１８２、－１８５、及び、－２０２５等が好適に挙げられる。
抗菌剤が粒子状である場合、上記組成物は、分散剤を含んでいてもよい。
分散剤としては特に制限されず、公知の分散剤が使用できる。
分散剤としては、ノニオン系又はアニオン系の分散剤が好ましく、カルボキシ基、リン酸基、及び水酸基等のアニオン性の極性基を有する分散剤（アニオン系分散剤）がより好ましい。
アニオン系分散剤としては、市販品を使用できる。その具体例としては、ＢＹＫ社の商品名ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）－１１０、－１１１、－１１６、－１４０、－１６１、－１６２、－１６３、１６４、－１７０、－１７１、－１７４、－１８０、－１８２、－１８５、及び、－２０２５等が好適に挙げられる。
上記組成物中における分散剤の含有量としては特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、例えば、７０質量％以下であり、５０質量％以下が好ましい。下限値は特に制限されないが、例えば、０．０１質量％以上であり、形成される膜の消臭性がより優れる点で、１．０質量％以上が好ましく、１５質量％以上が更に好ましい。
分散剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の分散剤を併用する場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
分散剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の分散剤を併用する場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
（触媒）
組成物は、シロキサン化合物の縮合を促進する触媒（以下「反応触媒」ともいう。）を含んでいてもよい。
組成物は、シロキサン化合物の縮合を促進する触媒（以下「反応触媒」ともいう。）を含んでいてもよい。
触媒としては特に制限されないが、アルカリ触媒及び有機金属触媒等が挙げられる。
アルカリ触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられる。
有機金属触媒としては、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノ（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、及び、アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート等のアルミキレート化合物、ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、及び、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウムキレート化合物、チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、及び、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のチタンキレート化合物、並びに、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、及び、ジブチルスズジオクチエート等の有機スズ化合物等が挙げられる。
なかでも、より優れた本発明の効果を有する組成物が得られる点で、触媒としては、有機金属触媒が好ましく、なかでも、アルミキレート化合物、又はジルコニウムキレート化合物がより好ましく、アルミキレート化合物が更に好ましい。
アルカリ触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられる。
有機金属触媒としては、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノ（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、及び、アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート等のアルミキレート化合物、ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、及び、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウムキレート化合物、チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、及び、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のチタンキレート化合物、並びに、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、及び、ジブチルスズジオクチエート等の有機スズ化合物等が挙げられる。
なかでも、より優れた本発明の効果を有する組成物が得られる点で、触媒としては、有機金属触媒が好ましく、なかでも、アルミキレート化合物、又はジルコニウムキレート化合物がより好ましく、アルミキレート化合物が更に好ましい。
触媒の含有量は、組成物の全固形分１００質量部に対して、０．１～２０質量部が好ましく、０．２～１５質量部がより好ましく、０．３～１０質量部が更に好ましい。
なお、触媒は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の触媒を併用する場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
なお、触媒は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の触媒を併用する場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
（界面活性剤）
上記組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は組成物の塗布性を向上する作用を有する。
界面活性剤としては特に制限されず、例えば、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、及び、両性型界面活性剤等が挙げられる。
界面活性剤の含有量としては、特に制限されないが、組成物の全固形分１００質量部に対して、０．０１質量部以上が好ましい。なお、界面活性剤の含有量の上限値は特に制限されないが、組成物の全固形分１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましく、５質量部以下がより好ましく、４質量部以下が更に好ましい。
なお、界面活性剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は、それらの合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
上記組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は組成物の塗布性を向上する作用を有する。
界面活性剤としては特に制限されず、例えば、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、及び、両性型界面活性剤等が挙げられる。
界面活性剤の含有量としては、特に制限されないが、組成物の全固形分１００質量部に対して、０．０１質量部以上が好ましい。なお、界面活性剤の含有量の上限値は特に制限されないが、組成物の全固形分１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましく、５質量部以下がより好ましく、４質量部以下が更に好ましい。
なお、界面活性剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は、それらの合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
ノニオン性界面活性剤としては、ポリエチレングリコールモノラウリルエーテル、ポリエチレングリコールモノステアリルエーテル、ポリエチレングリコールモノセチルエーテル、ポリエチレングリコールモノラウリルエステル、及び、ポリエチレングリコールモノステアリルエステル等が挙げられる。
イオン性界面活性剤としては、アルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、及び、アルキルリン酸塩等のアニオン性界面活性剤；アルキルトリメチルアンモニウム塩、及び、ジアルキルジメチルアンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤；アルキルカルボキシベタイン等の両性型界面活性剤が挙げられる。
（香料）
上記組成物は、香料を含んでいてもよい。
香料として、長谷川香料社製のフレーバーＨ－１、Ｈ－２、Ｈ－３、Ｈ－４、Ｈ－６、Ｈ－９、Ｈ－１０、Ｈ－１１、Ｈ－１２、Ｈ－１３、Ｈ－１４、高砂香料工業社製のフレーバーＴ－１００、Ｔ－１０１、Ｔ－１０２、Ｔ－１０３、Ｔ－１０４、Ｔ－１０５、Ｔ－１０６、Ｔ－１０７、ＥＤＡ－１７１、曽田香料社製フレーバーＳ－２０１、及び、理研香料工業社製フレーバーＤＡ－４０等が挙げられる。
香料の含有量は、組成物の全質量に対して、０．０１～５質量％が好ましい。
上記組成物は、香料を含んでいてもよい。
香料として、長谷川香料社製のフレーバーＨ－１、Ｈ－２、Ｈ－３、Ｈ－４、Ｈ－６、Ｈ－９、Ｈ－１０、Ｈ－１１、Ｈ－１２、Ｈ－１３、Ｈ－１４、高砂香料工業社製のフレーバーＴ－１００、Ｔ－１０１、Ｔ－１０２、Ｔ－１０３、Ｔ－１０４、Ｔ－１０５、Ｔ－１０６、Ｔ－１０７、ＥＤＡ－１７１、曽田香料社製フレーバーＳ－２０１、及び、理研香料工業社製フレーバーＤＡ－４０等が挙げられる。
香料の含有量は、組成物の全質量に対して、０．０１～５質量％が好ましい。
その他の成分としては、上記以外にも、造膜剤、消臭剤、紫外線吸収剤、防腐剤、ｐＨ調整剤、消泡剤、重合開始剤、触媒、光触媒性材料、充填剤、老化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、接着性付与剤、レベリング剤、艶消し剤、光安定剤、染料、及び、顔料等の公知の添加剤が挙げられる。
＜組成物のｐＨ＞
上記組成物のｐＨは特に制限されないが、実使用環境で使用者の手荒れ等を考慮した場合、ｐＨを適切な範囲に調整することが好ましい。
上記組成物のｐＨは、一般的に、２．０～１２．０が好ましく、３．０～１１．０がより好ましく、６．０～８．０が更に好ましい。
なお、組成物のｐＨの調整方法としては、上記組成物に、酸若しくはアルカリを配合する方法が挙げられる。
なお、ｐＨは、市販のｐＨ測定メータ（例えば、東亜ディーケーケー社製のｐＨメータ ＨＭ－３０Ｒ等）を用いて２５℃環境下にて測定できる。
上記組成物のｐＨは特に制限されないが、実使用環境で使用者の手荒れ等を考慮した場合、ｐＨを適切な範囲に調整することが好ましい。
上記組成物のｐＨは、一般的に、２．０～１２．０が好ましく、３．０～１１．０がより好ましく、６．０～８．０が更に好ましい。
なお、組成物のｐＨの調整方法としては、上記組成物に、酸若しくはアルカリを配合する方法が挙げられる。
なお、ｐＨは、市販のｐＨ測定メータ（例えば、東亜ディーケーケー社製のｐＨメータ ＨＭ－３０Ｒ等）を用いて２５℃環境下にて測定できる。
＜組成物の粘度＞
上記組成物の粘度は特に制限されず、用途に応じて調整すればよい。
例えば、塗布性又はスプレー等に適用する場合、組成物の２５℃における粘度は、３００ｃＰ（センチポアズ：１ｃｐ＝１ｍＰａ・ｓ）以下が好ましく、２００ｃＰ以下がより好ましく、０．１～１５０ｃＰが更に好ましい。
また、抗菌性及び消臭性の効果を長時間持続させる場合は、組成物の２５℃における粘度は、２５０ｃＰ以上が好ましく、３００ｃＰ以上がより好ましく、４００ｃＰ以上が更に好ましい。なお、その上限は、例えば、５００ｃＰ以下である。
なお、粘度は、東機産業社製ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＵＢ－１０、又は、セコニック社製ＳＥＫＯＮＩＣ ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲを用いて測定できる。
上記組成物の粘度は特に制限されず、用途に応じて調整すればよい。
例えば、塗布性又はスプレー等に適用する場合、組成物の２５℃における粘度は、３００ｃＰ（センチポアズ：１ｃｐ＝１ｍＰａ・ｓ）以下が好ましく、２００ｃＰ以下がより好ましく、０．１～１５０ｃＰが更に好ましい。
また、抗菌性及び消臭性の効果を長時間持続させる場合は、組成物の２５℃における粘度は、２５０ｃＰ以上が好ましく、３００ｃＰ以上がより好ましく、４００ｃＰ以上が更に好ましい。なお、その上限は、例えば、５００ｃＰ以下である。
なお、粘度は、東機産業社製ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＵＢ－１０、又は、セコニック社製ＳＥＫＯＮＩＣ ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲを用いて測定できる。
＜組成物の製造方法＞
上記組成物は、上述した必須成分及び任意成分を、適宜混合することによって調製できる。なお、上記成分の混合の順番は特に制限されない。
上記組成物は、上述した必須成分及び任意成分を、適宜混合することによって調製できる。なお、上記成分の混合の順番は特に制限されない。
＜組成物の用途＞
上記組成物を基材に付与することにより、基材上に抗菌部を形成できる。つまり、基材と、基材上に配置された抗菌部とを有する修飾基材が得られる。
なお、抗菌部とは、上述した組成物を用いて形成される部分を意味し、少なくとも抗菌剤とシロキサン化合物由来のバインダーとを含む。
上記組成物を基材に付与する方法は特に制限されず、公知の塗布方法が挙げられ、例えば、スプレー、ロールコータ、グラビアコータ、スクリーン、スピンコータ、フローコータ、インクジェット、静電塗装、及び、ワイプ等が挙げられる。なかでも、スプレー、又は、ワイプが好ましい。
ワイプの方法としては、上記組成物を不織布等の基布に含浸させ、その後、上記基布で基材の表面を拭く方法が挙げられる。
上記組成物を基材に付与することにより、基材上に抗菌部を形成できる。つまり、基材と、基材上に配置された抗菌部とを有する修飾基材が得られる。
なお、抗菌部とは、上述した組成物を用いて形成される部分を意味し、少なくとも抗菌剤とシロキサン化合物由来のバインダーとを含む。
上記組成物を基材に付与する方法は特に制限されず、公知の塗布方法が挙げられ、例えば、スプレー、ロールコータ、グラビアコータ、スクリーン、スピンコータ、フローコータ、インクジェット、静電塗装、及び、ワイプ等が挙げられる。なかでも、スプレー、又は、ワイプが好ましい。
ワイプの方法としては、上記組成物を不織布等の基布に含浸させ、その後、上記基布で基材の表面を拭く方法が挙げられる。
なお、基材に組成物を付与した後、必要に応じて、基材上に付与された組成物に乾燥処理を施してもよい。乾燥処理としては、加熱処理が挙げられる。
基材としては、抗菌部を支持する役割を果たせば、その種類は特に制限されない。
基材の形状は特に制限されないが、板状、フィルム状、シート状、チューブ状、繊維状、繊維構造体状、及び、粒子状が挙げられる。なお、基材の形状が繊維構造体状とは、基材が不織布又は織物であるように、繊維から構成されるものであることを意味する。
基材を構成する材料は特に制限されず、例えば、金属、ガラス、セラミックス、及び、プラスチック（樹脂）が挙げられる。なかでも、取り扱い性の点から、プラスチックが好ましい。プラスチックとしては、例えば、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン）、セルロース、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、及び、ポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
基材の形状は特に制限されないが、板状、フィルム状、シート状、チューブ状、繊維状、繊維構造体状、及び、粒子状が挙げられる。なお、基材の形状が繊維構造体状とは、基材が不織布又は織物であるように、繊維から構成されるものであることを意味する。
基材を構成する材料は特に制限されず、例えば、金属、ガラス、セラミックス、及び、プラスチック（樹脂）が挙げられる。なかでも、取り扱い性の点から、プラスチックが好ましい。プラスチックとしては、例えば、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン）、セルロース、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、及び、ポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
基材上に形成される抗菌部の配置位置は特に制限されず、基材全面を覆うように配置された膜状であっても、基材上に島状に点在して配置されていてもよい。
抗菌部の膜厚は特に制限されないが、０．００１～５０μｍが好ましく、０．０１～１０μｍがより好ましい。
なお、上記膜厚とは、膜のサンプル片を樹脂に包埋して、ミクロトームで断面を削り出し、削り出した断面を走査電子顕微鏡で観察し測定する。膜の任意の１０点の位置における厚みを測定し、それらを算術平均した値を意図する。
抗菌部の膜厚は特に制限されないが、０．００１～５０μｍが好ましく、０．０１～１０μｍがより好ましい。
なお、上記膜厚とは、膜のサンプル片を樹脂に包埋して、ミクロトームで断面を削り出し、削り出した断面を走査電子顕微鏡で観察し測定する。膜の任意の１０点の位置における厚みを測定し、それらを算術平均した値を意図する。
＜ウェットワイパー＞
本発明の実施形態に係るウェットワイパーは、基布と、上記基布に含浸させた組成物と、を有する。上記組成物としては、既に説明したとおりである。
本発明の実施形態に係るウェットワイパーは、基布と、上記基布に含浸させた組成物と、を有する。上記組成物としては、既に説明したとおりである。
上記基布としては、特に制限されず、天然繊維で形成されたものであっても、化学繊維で形成されたものであってもよい。
天然繊維としては、例えば、パルプ、綿、麻、亜麻、羊毛、キヤメル、カシミヤ、モヘヤ、及び、絹等が挙げられる。
化学繊維の材料としては、レーヨン、ポリノジック、アセテート、トリアセテート、ナイロン、ポリエステル、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタン、ポリアルキレンパラオキシベンゾエート、及び、ポリクラール等が挙げられる。
なかでも、これらの基布のうち、組成物が含浸しやすい点で、親水性の基布が好ましい。親水性の基布とは、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、アミド基、及び、スルホニル基等の親水性基を有する繊維を含む基布である。親水性の基布としては、具体的には、植物性繊維、綿、パルプ、動物性繊維、レーヨン、ナイロン、ポリエステル、ポリアクリロニトリル、及び、ポリビニルアルコール等が挙げられる。
上記ウェットワイパーの基布としては、不織布、布、タオル、ガーゼ、及び、脱脂綿等を使用してもよく、不織布が好ましい。
また、基布の目付（単位面積当たりの質量）は、１００ｇ／ｍ２以下が好ましい。上記組成物を基布に含浸させる際の含浸量は、基布の質量に対して１倍以上の量が好ましい。
天然繊維としては、例えば、パルプ、綿、麻、亜麻、羊毛、キヤメル、カシミヤ、モヘヤ、及び、絹等が挙げられる。
化学繊維の材料としては、レーヨン、ポリノジック、アセテート、トリアセテート、ナイロン、ポリエステル、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタン、ポリアルキレンパラオキシベンゾエート、及び、ポリクラール等が挙げられる。
なかでも、これらの基布のうち、組成物が含浸しやすい点で、親水性の基布が好ましい。親水性の基布とは、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、アミド基、及び、スルホニル基等の親水性基を有する繊維を含む基布である。親水性の基布としては、具体的には、植物性繊維、綿、パルプ、動物性繊維、レーヨン、ナイロン、ポリエステル、ポリアクリロニトリル、及び、ポリビニルアルコール等が挙げられる。
上記ウェットワイパーの基布としては、不織布、布、タオル、ガーゼ、及び、脱脂綿等を使用してもよく、不織布が好ましい。
また、基布の目付（単位面積当たりの質量）は、１００ｇ／ｍ２以下が好ましい。上記組成物を基布に含浸させる際の含浸量は、基布の質量に対して１倍以上の量が好ましい。
＜スプレー＞
本発明の実施形態に係るスプレーは、スプレー容器と、上記スプレー容器に収納された組成物と、を有する。上記組成物としては、既に説明したとおりである。
本発明のスプレーとしては、上記組成物と噴射剤とを所定の容器に充填した形態が一例として挙げられる。用いられる噴射剤としては、特に制限されないが、例えば、液化石油ガス等が挙げられる。
本発明の実施形態に係るスプレーは、スプレー容器と、上記スプレー容器に収納された組成物と、を有する。上記組成物としては、既に説明したとおりである。
本発明のスプレーとしては、上記組成物と噴射剤とを所定の容器に充填した形態が一例として挙げられる。用いられる噴射剤としては、特に制限されないが、例えば、液化石油ガス等が挙げられる。
また、本発明の組成物は、柔軟剤、洗剤、シャンプー、リンス等、消臭及び／又は抗菌が関係する製品に用いることができる。
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により制限的に解釈されるべきものではない。
＜実施例１＞
容器中でエタノール５６０ｇを攪拌しながら、純水１０ｇ、シロキサン化合物（三菱化学社製「ＭＫＣ（登録商標）シリケート」ＭＳ－５１」、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝５）５０ｇ、アルミキレートＤ（アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノ（アセチルアセトネート）、エタノール希釈：固形分濃度１質量％）１５ｇ、ノニオン性界面活性剤（日本エマルジョン社製「エマレックス７１５」、純水希釈：固形分濃度０．５質量％）３０ｇ、アニオン性界面活性剤（ジ（２－エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム、純水希釈：固形分濃度０．２質量％）１０ｇ、シリカ粒子（日産化学工業社製「スノーテックスＯ－３３」、純水希釈：固形分濃度３３質量％）４０ｇ、分散剤（ＢＹＫ社製「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）－１８０」）３．６ｇを順次加えた後、平均粒子径を０．５μｍに制御した銀担持ガラス（富士ケミカル社製「バクテライトＭＰ－１０３ＤＶ」の平均粒子径を０．５μｍに制御したものに該当する。なお、富士ケミカル社製「バクテライトＭＰ－１０３ＤＶ」の無機担体はリン酸塩ガラスに該当する。）０．４８ｇを加えて、２０分間攪拌し、組成物１を得た。
容器中でエタノール５６０ｇを攪拌しながら、純水１０ｇ、シロキサン化合物（三菱化学社製「ＭＫＣ（登録商標）シリケート」ＭＳ－５１」、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝５）５０ｇ、アルミキレートＤ（アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノ（アセチルアセトネート）、エタノール希釈：固形分濃度１質量％）１５ｇ、ノニオン性界面活性剤（日本エマルジョン社製「エマレックス７１５」、純水希釈：固形分濃度０．５質量％）３０ｇ、アニオン性界面活性剤（ジ（２－エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム、純水希釈：固形分濃度０．２質量％）１０ｇ、シリカ粒子（日産化学工業社製「スノーテックスＯ－３３」、純水希釈：固形分濃度３３質量％）４０ｇ、分散剤（ＢＹＫ社製「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）－１８０」）３．６ｇを順次加えた後、平均粒子径を０．５μｍに制御した銀担持ガラス（富士ケミカル社製「バクテライトＭＰ－１０３ＤＶ」の平均粒子径を０．５μｍに制御したものに該当する。なお、富士ケミカル社製「バクテライトＭＰ－１０３ＤＶ」の無機担体はリン酸塩ガラスに該当する。）０．４８ｇを加えて、２０分間攪拌し、組成物１を得た。
（抗菌性評価）
抗菌性評価用不織布（セルロース製）３×５ｃｍに対し、組成物１（０．２ｇ）とエタノール６０質量％の水溶液（０．８ｇ）との混合液を０．２ｇ噴霧し、１２時間、室温で乾燥したサンプルについて、ＪＩＳ Ｚ ２８０１記載の評価方法に準拠し、大腸菌を使用し、菌液への接触時間を３時間に変更して試験を実施した。試験後の抗菌活性値を測定し、以下の評価基準に基づいて評価を行なった。結果を第１表に示す。
「ＡＡ」：抗菌活性値が３．５以上
「Ａ」：抗菌活性値が３．０以上３．５未満
「Ｂ」：抗菌活性値が２．０以上３．０未満
「Ｃ」：抗菌活性値が１．０以上２．０未満
「Ｄ」：抗菌活性値が１．０未満
抗菌性評価用不織布（セルロース製）３×５ｃｍに対し、組成物１（０．２ｇ）とエタノール６０質量％の水溶液（０．８ｇ）との混合液を０．２ｇ噴霧し、１２時間、室温で乾燥したサンプルについて、ＪＩＳ Ｚ ２８０１記載の評価方法に準拠し、大腸菌を使用し、菌液への接触時間を３時間に変更して試験を実施した。試験後の抗菌活性値を測定し、以下の評価基準に基づいて評価を行なった。結果を第１表に示す。
「ＡＡ」：抗菌活性値が３．５以上
「Ａ」：抗菌活性値が３．０以上３．５未満
「Ｂ」：抗菌活性値が２．０以上３．０未満
「Ｃ」：抗菌活性値が１．０以上２．０未満
「Ｄ」：抗菌活性値が１．０未満
（固着性評価）
抗菌性評価用不織布（セルロース製）３×５ｃｍに対し、組成物１（０．６ｇ）を噴霧して、１時間乾燥する処理を３回繰り返し（合計１．８ｇ噴霧）、その後、１２時間室温で乾燥して、サンプルを作製した。得られたサンプルを水１０ｇ中に浸漬して、１時間にわたって揺り動かす操作を実施した。その後、サンプルを取り出して、水に浸漬する前のサンプルに含まれる抗菌剤量を基準として、水から取り出したサンプルに含まれる抗菌剤の残存付着率を測定した。
「Ａ」：残存付着率が８５％以上
「Ｂ」：残存付着率が７０％以上８５％未満
「Ｃ」：残存付着率が５０％以上７０％未満
「Ｄ」：残存付着率が３０％以上５０％未満
「Ｅ」：残存付着率が３０％未満
抗菌性評価用不織布（セルロース製）３×５ｃｍに対し、組成物１（０．６ｇ）を噴霧して、１時間乾燥する処理を３回繰り返し（合計１．８ｇ噴霧）、その後、１２時間室温で乾燥して、サンプルを作製した。得られたサンプルを水１０ｇ中に浸漬して、１時間にわたって揺り動かす操作を実施した。その後、サンプルを取り出して、水に浸漬する前のサンプルに含まれる抗菌剤量を基準として、水から取り出したサンプルに含まれる抗菌剤の残存付着率を測定した。
「Ａ」：残存付着率が８５％以上
「Ｂ」：残存付着率が７０％以上８５％未満
「Ｃ」：残存付着率が５０％以上７０％未満
「Ｄ」：残存付着率が３０％以上５０％未満
「Ｅ」：残存付着率が３０％未満
＜実施例２～３３、比較例１～３＞
後述する表１～表４に示すように、使用する組成物中の成分の種類、含有量等、並びに、（抗菌性評価）及び（固着性評価）で使用される不織布の基材の樹脂の種類等を変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、組成物を製造し、各種評価を実施した。
なお、表１～表４に記載される記号は、以下を表す。
・銀抗菌剤（バクテライト）：富士ケミカル社製「バクテライトＭＰ－１０３ＤＶ」を表に記載の所定の粒子径に制御したもの
・銀抗菌剤（ノバロン）：銀担持リン酸ジルコニウム（東亞合成株式会社製「ノバロンＡＧ３００」）を表に記載の所定の粒子径に制御したもの
・銅抗菌剤（ＮＳ－２０Ｃ）：銅担持ケイ酸アルミニウムガラス（東亞合成株式会社製、「ケスモン（登録商標）ＮＳ－２０Ｃ」）
・シリカ＋塩化ベンゼルコニウム：特開２０１７－１０１０８４号公報の実施例１の手順にて製造したシリカ微粒子の表面にクラリアント社製の商品名オクトピロックス（登録商標、ピロクトンエタノールアミン）が付着している複合粒子
・シリカ＋Ｚｎピリチオン：特開２０１７－１０１０８４号公報の実施例１の手順を参照して製造した、シリカ微粒子の表面にＺｎピリチオンが付着している複合粒子
・ＭＳ－５６：シロキサン化合物（三菱ケミカル株式会社製「ＭＫＣ（登録商標）シリケート」ＭＳ－５６」、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝１０～１１）
・ＭＳ－５７：シロキサン化合物（三菱ケミカル株式会社製「ＭＫＣ（登録商標）シリケート」ＭＳ－５７」、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝１５～１８）
・メチルシリケート５１：シロキサン化合物（コルコート社製、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝４）
・メチルシリケート５３Ａ：シロキサン化合物（コルコート社製、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝７）
・ＫＢＭ４０３：３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業株式会社製、シランカップリング剤）
・ＫＢＭ９０３：３－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製、シランカップリング剤）
後述する表１～表４に示すように、使用する組成物中の成分の種類、含有量等、並びに、（抗菌性評価）及び（固着性評価）で使用される不織布の基材の樹脂の種類等を変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、組成物を製造し、各種評価を実施した。
なお、表１～表４に記載される記号は、以下を表す。
・銀抗菌剤（バクテライト）：富士ケミカル社製「バクテライトＭＰ－１０３ＤＶ」を表に記載の所定の粒子径に制御したもの
・銀抗菌剤（ノバロン）：銀担持リン酸ジルコニウム（東亞合成株式会社製「ノバロンＡＧ３００」）を表に記載の所定の粒子径に制御したもの
・銅抗菌剤（ＮＳ－２０Ｃ）：銅担持ケイ酸アルミニウムガラス（東亞合成株式会社製、「ケスモン（登録商標）ＮＳ－２０Ｃ」）
・シリカ＋塩化ベンゼルコニウム：特開２０１７－１０１０８４号公報の実施例１の手順にて製造したシリカ微粒子の表面にクラリアント社製の商品名オクトピロックス（登録商標、ピロクトンエタノールアミン）が付着している複合粒子
・シリカ＋Ｚｎピリチオン：特開２０１７－１０１０８４号公報の実施例１の手順を参照して製造した、シリカ微粒子の表面にＺｎピリチオンが付着している複合粒子
・ＭＳ－５６：シロキサン化合物（三菱ケミカル株式会社製「ＭＫＣ（登録商標）シリケート」ＭＳ－５６」、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝１０～１１）
・ＭＳ－５７：シロキサン化合物（三菱ケミカル株式会社製「ＭＫＣ（登録商標）シリケート」ＭＳ－５７」、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝１５～１８）
・メチルシリケート５１：シロキサン化合物（コルコート社製、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝４）
・メチルシリケート５３Ａ：シロキサン化合物（コルコート社製、式（Ｘ）で表される化合物に該当。ｎ＝７）
・ＫＢＭ４０３：３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業株式会社製、シランカップリング剤）
・ＫＢＭ９０３：３－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製、シランカップリング剤）
上記のように、本発明の組成物を用いた場合、所望の効果が得られることが確認された。
また、上述した実施例４で使用した組成物中のエタノールを全て水に置き換えた組成物を調製して、実施例４で使用した組成物と共に、以下の親水性評価を実施した。
実施例４で使用した組成物を用いた場合の評価は「Ｃ」であり、実施例４で使用した組成物中のエタノールを全て水に置き換えた組成物を用いた場合の評価は「Ａ」であった。
実施例４で使用した組成物を用いた場合の評価は「Ｃ」であり、実施例４で使用した組成物中のエタノールを全て水に置き換えた組成物を用いた場合の評価は「Ａ」であった。
（親水性評価）
抗菌性評価用不織布（セルロース製）３×５ｃｍに対し、組成物（０．２ｇ）を噴霧し、１２時間室温で乾燥してサンプルを作製した。得られたサンプルの組成物を噴霧した部分に、水２０μＬの液滴を９個滴下し、吸い込みの有無を評価した。以下の基準に従って評価した。
「Ａ」：９個吸い込む
「Ｂ」：６～８個吸い込む
「Ｃ」：３～５個吸い込む
「Ｄ」：０～２個吸い込む
抗菌性評価用不織布（セルロース製）３×５ｃｍに対し、組成物（０．２ｇ）を噴霧し、１２時間室温で乾燥してサンプルを作製した。得られたサンプルの組成物を噴霧した部分に、水２０μＬの液滴を９個滴下し、吸い込みの有無を評価した。以下の基準に従って評価した。
「Ａ」：９個吸い込む
「Ｂ」：６～８個吸い込む
「Ｃ」：３～５個吸い込む
「Ｄ」：０～２個吸い込む
Claims (9)
- 抗菌剤と、シロキサン化合物とを含む、組成物。
- 前記抗菌剤が粒子状であり、
前記抗菌剤の平均粒子径が１．０μｍ以下である、請求項１に記載の組成物。 - 前記抗菌剤が、無機粒子と、前記無機粒子上に担持された有機系抗菌剤とを含む複合粒子である、請求項１又は２に記載の組成物。
- 更に、溶媒を含み、
前記溶媒が、実質的に水からなる、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。 - 前記シロキサン化合物が、式（Ｘ）で表される化合物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
- 更に、シランカップリング剤を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
- 基材と、前記基材上に配置された、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物から形成される抗菌部とを有する、修飾基材。
- 基布と、前記基布に含浸させた請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物と、を有する、ウェットワイパー。
- スプレー容器と、前記スプレー容器に収納された請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物と、を有するスプレー。
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
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