JP2022013622A - 成膜用ドーピング原料溶液の製造方法、積層体の製造方法、成膜用ドーピング原料溶液及び半導体膜 - Google Patents
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Abstract
Description
ハロゲンを含む有機ドーパント化合物又はドーパントのハロゲン化物を含む溶質を、他の溶媒とは混合することなく、先ず第1の溶媒と混合して、ドーパント前駆体溶液を成膜原料とは別途作製するステップを含み、
前記第1の溶媒として酸性のものを用いることを特徴とする成膜用ドーピング原料溶液の製造方法を提供する。
ドーパント化合物を含む溶質を、他の溶媒とは混合することなく、先ず第1の溶媒と混合して、ドーパント前駆体溶液を成膜原料とは別途作製するステップを含み、
前記第1の溶媒として酸性のものを用いることを特徴とする成膜用ドーピング原料溶液の製造方法を提供する。
本発明の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法で成膜用ドーピング原料溶液を製造するステップと、
膜前駆体を含む成膜原料溶液を調製するステップと、
基板を加熱するステップと、
前記成膜用ドーピング原料溶液及び前記成膜原料溶液を霧化するステップと、
前記霧化された成膜用ドーピング原料溶液と前記霧化された成膜原料溶液とをキャリアガスで前記加熱された基板に供給して成膜するステップと、
を含むことを特徴とする積層体の製造方法を提供する。
IV族元素とハロゲン元素とを含み、且つ
pHが0.3以上4以下のものであることを特徴とする成膜用ドーピング原料溶液を提供する。
GaとIV族元素とを含み、コランダム型結晶構造を有し、
前記半導体膜における抵抗率分布が±25%以下のものであることを特徴とする半導体膜を提供する。
ハロゲンを含む有機ドーパント化合物又はドーパントのハロゲン化物を含む溶質を、他の溶媒とは混合することなく、先ず第1の溶媒と混合して、ドーパント前駆体溶液を成膜原料とは別途作製するステップを含み、
前記第1の溶媒として酸性のものを用いることを特徴とする成膜用ドーピング原料溶液の製造方法である。
ドーパント化合物を含む溶質を、他の溶媒とは混合することなく、先ず第1の溶媒と混合して、ドーパント前駆体溶液を成膜原料とは別途作製するステップを含み、
前記第1の溶媒として酸性のものを用いることを特徴とする成膜用ドーピング原料溶液の製造方法である。
本発明の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法で成膜用ドーピング原料溶液を製造するステップと、
膜前駆体を含む成膜原料溶液を調製するステップと、
基板を加熱するステップと、
前記成膜用ドーピング原料溶液及び前記成膜原料溶液を霧化するステップと、
前記霧化された成膜用ドーピング原料溶液と前記霧化された成膜原料溶液とをキャリアガスで前記加熱された基板に供給して成膜するステップと、
を含むことを特徴とする積層体の製造方法である。
IV族元素とハロゲン元素とを含み、且つ
pHが0.3以上4以下のものであることを特徴とする成膜用ドーピング原料溶液である。
GaとIV族元素とを含み、コランダム型結晶構造を有し、
前記半導体膜における抵抗率分布が±25%以下のものであることを特徴とする半導体膜である。
(第1の態様)
本発明の第1の態様の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法は、ハロゲンを含む有機ドーパント化合物又はドーパントのハロゲン化物を含む溶質を、他の溶媒とは混合することなく、先ず第1の溶媒と混合して、ドーパント前駆体溶液を成膜原料とは別途作製するステップを含み、
前記第1の溶媒として酸性のものを用いることを特徴とする。
本発明の第2の態様の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法は、ドーパント化合物を含む溶質を、他の溶媒とは混合することなく、先ず第1の溶媒と混合して、ドーパント前駆体溶液を成膜原料とは別途作製するステップを含み、
前記第1の溶媒として酸性のものを用いることを特徴とする。
本発明の積層体の製造方法は、
本発明の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法で成膜用ドーピング原料溶液を製造するステップと、
膜前駆体を含む成膜原料溶液を調製するステップと、
基板を加熱するステップと、
前記成膜用ドーピング原料溶液及び前記成膜原料溶液を霧化するステップと、
前記霧化された成膜用ドーピング原料溶液と前記霧化された成膜原料溶液とをキャリアガスで前記加熱された基板に供給して成膜するステップと、
を含むことを特徴とする。
このステップは、本発明の積層体の製造方法で用いる成膜用ドーピング原料溶液を、本発明の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法で製造するステップである。詳細は、先の、本発明の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法の説明を参照されたい。
成膜原料溶液は、膜前駆体を溶媒に混合することで調製することができる。
基板は、形成する膜を支持できるものであれば特に限定されない。基板の材料は、公知のものであってよく、有機化合物であってもよいし、無機化合物であってもよい。例えば、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、フッ素樹脂、鉄やアルミニウム、ステンレス鋼、金等の金属、シリコン、サファイア、石英、ガラス、炭酸カルシウム、酸化ガリウム、SiC、ZnO、GaN等が挙げられるが、これに限られるものではない。
このステップでは、成膜用ドーピング原料溶液及び成膜原料溶液を霧化(「ミスト化」とも言う)する。なお、本発明でいうミストとは、気体中に分散した液体の微粒子を指し、霧、液滴と呼ばれるものを含み、霧、液滴ということもある。
このステップでは、霧化された成膜用ドーピング原料溶液と霧化された成膜原料溶液とを、加熱された基板に、キャリアガスによって供給して、成膜する。
本発明の成膜用ドーピング原料溶液は、ミストCVDに用いる成膜用ドーピング原料溶液であって、
IV族元素とハロゲン元素とを含み、且つ
pHが0.3以上4以下のものであることを特徴とする。
また、本発明の半導体膜は、GaとIV族元素とを含み、コランダム型結晶構造を有し、
前記半導体膜における抵抗率分布が±25%以下のものであることを特徴とする。
これにより、より高品質かつ生産性の高い半導体膜となる。
これにより、半導体膜はより良質なものとなり、半導体装置により適した膜となり、さらに半導体装置の設計自由度を高めることができる。
実施例1では、図1に示したミストCVD装置を用いて、α-酸化ガリウムの成膜を行った。
まず、窒素ガス置換雰囲気において、ドーパント前駆体溶液の溶質としてのジメチルクロロシランをpH0.5に調整した塩酸水溶液に入れて混合し、スターラーで30分撹拌して溶解した。その後、大気中でさらに純水を加えて希釈して、シリコン濃度0.02mmol/Lのドーパント前駆体溶液である成膜用ドーピング原料溶液112bを調製した。調製した成膜用ドーピング原料溶液112bを1つの原料容器102bに充填した。
全試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
ジメチルクロロシランの溶解に用いる塩酸水溶液のpHを2.0とした他は実施例1と同様に成膜を行い、10個の試料を作製した。
全試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、全試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
ドーパント前駆体溶液の溶質として3-シアノプロピルジメチルクロロシランを用いた他は、実施例1と同様に成膜を行い、10個の試料を作製した。
全試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、全試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
ドーパント前駆体溶液として、塩化スズ(II)二水和物を用いたスズ濃度0.02mmol/Lの溶液を調製した他は、実施例1と同様に成膜を行い、10個の試料を作製した。実施例4では、塩化スズ(II)二水和物の溶解に用いる溶媒として、pHを0.5に調製した塩酸水溶液を用いた。
全試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、全試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
ジメチルクロロシランを純水に入れた後、さらに塩酸を加えてpHを0.5に調整してドーパント前駆体溶液を調製した他は、実施例1と同様に成膜を行い、10個の試料を作製した。
全試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、全試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
3-シアノプロピルジメチルクロロシランを純水に入れた後、さらに塩酸を加えてpHを0.5に調整してドーパント前駆体溶液を調製した他は、実施例3と同様に成膜を行い、10個の試料を作製した。
全試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、全試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
塩化スズ(II)二水和物を純水に入れた後、さらに塩酸を加えてpHを0.5に調整してドーパント前駆体溶液を調製した他は、実施例4と同様に成膜を行い、10個の試料を作製した。
全試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、全試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
実施例5では、図1に示したミストCVD装置を用いて、α-酸化ガリウムの成膜を行った。
まず、窒素ガス置換雰囲気において、ドーパント前駆体溶液の溶質としてのジメチルクロロシランをpH0.1に調整した塩酸水溶液に入れて混合し、スターラーで30分撹拌して溶解した。その後、大気中でさらに純水を加えて希釈して、pHを2.0に調整し、シリコン濃度0.02mmol/Lのドーパント前駆体溶液である成膜用ドーピング原料溶液112bを調製した。調製した成膜用ドーピング原料溶液112bを1つの原料容器102bに充填した。
成膜用ドーピング原料溶液112bのpHを0.3とした他は実施例5と同様に成膜を行った。
試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
成膜用ドーピング原料溶液112bのpHを4.0とした他は実施例5と同様に成膜を行った。
試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
ジメチルクロロシランを純水に入れた後、さらに塩酸を加えてpHを0.1に調整してドーパント前駆体溶液を調製し、その後純水で希釈してpHを2に調整した他は、実施例5と同様に成膜を行った。
試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
ドーパント前駆体溶液として、pHを0.1に調製した塩酸水溶液に3-シアノプロピルジメチルクロロシランを溶解し、シリコン濃度0.02mmol/Lの溶液を調製した他は、実施例5と同様に成膜を行った。
試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
ドーパント前駆体溶液として、pHを0.1に調製した塩酸水溶液に塩化スズ(II)二水和物を溶解し、スズ濃度0.02mmol/Lの溶液を調製した他は、実施例5と同様に成膜を行った。
試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
ドーパント前駆体溶液として、pHを0.1に調製した塩酸水溶液に酸化ゲルマニウムを溶解し、ゲルマニウム濃度0.02mmol/Lの溶液を調製した他は、実施例5と同様に成膜を行った。
試料の積層体における結晶層は、X線回折測定で2θ=40.3°にピークが現れたことから、α相のGa2O3であることが確認された。
この後、試料について、実施例1と同様に膜を評価した。
Claims (19)
- 成膜用ドーピング原料溶液の製造方法であって、
ハロゲンを含む有機ドーパント化合物又はドーパントのハロゲン化物を含む溶質を、他の溶媒とは混合することなく、先ず第1の溶媒と混合して、ドーパント前駆体溶液を成膜原料とは別途作製するステップを含み、
前記第1の溶媒として酸性のものを用いることを特徴とする成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。 - 前記第1の溶媒として、pHが3以下のものを用いることを特徴とする請求項1に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。
- 前記第1の溶媒として、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸、酢酸又はギ酸を含むものを用いることを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。
- 前記有機ドーパント化合物としてシラン化合物を用いることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。
- 前記ハロゲン化物としてスズを含むものを用いることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。
- 前記ドーパント前駆体溶液を第2の溶媒と混合して希釈するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。
- 積層体の製造方法であって、
請求項1から6のいずれか1項に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法で成膜用ドーピング原料溶液を製造するステップと、
膜前駆体を含む成膜原料溶液を調製するステップと、
基板を加熱するステップと、
前記成膜用ドーピング原料溶液及び前記成膜原料溶液を霧化するステップと、
前記霧化された成膜用ドーピング原料溶液と前記霧化された成膜原料溶液とをキャリアガスで前記加熱された基板に供給して成膜するステップと、
を含むことを特徴とする積層体の製造方法。 - 成膜用ドーピング原料溶液の製造方法であって、
ドーパント化合物を含む溶質を、他の溶媒とは混合することなく、先ず第1の溶媒と混合して、ドーパント前駆体溶液を成膜原料とは別途作製するステップを含み、
前記第1の溶媒として酸性のものを用いることを特徴とする成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。 - 前記第1の溶媒として、pHが1以下のものを用いることを特徴とする請求項8に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。
- 前記第1の溶媒として、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸、酢酸又はギ酸を含むものを用いることを特徴とする請求項8又は9に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。
- 前記ドーパント化合物として、シリコン、スズ、及びゲルマニウムのいずれかを含むものを用いることを特徴とする請求項8から10のいずれか1項に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。
- 前記ドーパント前駆体溶液を第2の溶媒と混合して希釈するステップをさらに含むことを特徴とする請求項8から11のいずれか1項に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法。
- 積層体の製造方法であって、
請求項8から12のいずれか1項に記載の成膜用ドーピング原料溶液の製造方法で成膜用ドーピング原料溶液を製造するステップと、
膜前駆体を含む成膜原料溶液を調製するステップと、
基板を加熱するステップと、
前記成膜用ドーピング原料溶液及び前記成膜原料溶液を霧化するステップと、
前記霧化された成膜用ドーピング原料溶液と前記霧化された成膜原料溶液とをキャリアガスで前記加熱された基板に供給して成膜するステップと、
を含むことを特徴とする積層体の製造方法。 - ミストCVDに用いる成膜用ドーピング原料溶液であって、
IV族元素とハロゲン元素とを含み、且つ
pHが0.3以上4以下のものであることを特徴とする成膜用ドーピング原料溶液。 - 前記原料溶液のpHが1以上3以下であることを特徴とする請求項14に記載の成膜用ドーピング原料溶液。
- 前記IV族元素が、シリコン、スズ、及びゲルマニウムのいずれかであることを特徴とする請求項14又は15に記載のドーピング原料溶液。
- 半導体膜であって、
GaとIV族元素とを含み、コランダム型結晶構造を有し、
前記半導体膜における抵抗率分布が±25%以下のものであることを特徴とする半導体膜。 - 前記半導体膜の面積が50cm2以上であることを特徴とする請求項17に記載の半導体膜。
- 前記半導体膜の膜厚が1μm以上であることを特徴とする請求項17又は18に記載の半導体膜。
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