JP2022009683A - テノホビルアラフェナミドの結晶形態 - Google Patents
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Abstract
Description
関連出願への相互参照
本出願は、2017年1月31日に出願された米国仮出願第62/452,428号の利益を主張し、当該出願の開示は、その全体が参考として援用される。
本出願は、2017年1月31日に出願された米国仮出願第62/452,428号の利益を主張し、当該出願の開示は、その全体が参考として援用される。
本発明は、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の新規結晶形態、ならびにその医薬製剤および治療的使用に関する。
PCT公開第WO2002/008241号で論じられるように、テノホビルアラフェナミドは、抗ウイルス活性を実証する。
一部の実施形態では、本発明は、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の新規結晶形態を対象とする。
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIを対象とする。
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドセバケートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iを対象とする。
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドナプシレートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iを対象とする。
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドオロテートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIを対象とする。
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドバニレートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートを対象とする。
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを対象とする。
一部の実施形態では、本発明は、治療有効量の、本明細書において提供されるテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶を投与することによって、HIV感染を処置する方法を対象とする。
一部の実施形態では、本発明は、HIV感染を処置する方法における使用のための、本明細書において提供されるテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶を対象とする。
一部の実施形態では、本発明は、HIV感染を処置するための医薬の製造における、本明細書において提供されるテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の使用を対象とする。
以下の記載において、ある特定の詳述は、本発明の種々の実施形態の全体的理解を提供するために示される。しかし、当業者は、これらの詳述なしに本発明を実践することができることを理解するであろう。いくつかの実施形態についての以下の記載は、本開示が特許請求される主題の例示とみなされるべきであり、添付の特許請求の範囲を例証された具体的な実施形態に限定することを意図するものではないことを理解して、なされる。この開示全体を通して使用される見出しは、便宜上、提供されるに過ぎず、特許請求の範囲をいかなるようにも限定するものと解釈されるべきではない。任意の見出しの下に例証される実施形態は、任意の他の見出しの下に例証される実施形態と組み合わせることができる。
定義
定義
文脈で別段に要求されていなければ、本明細書および特許請求の範囲の全体を通して、「含む(comprise)」という語およびその変形、例えば、「含む(comprises)」および「含む(comprising)」は、オープンな、包括的意味、すなわち、「含むが、これらに限定されない」として解釈されるべきである。
この明細書全体を通して、「一実施形態」または「ある実施形態」への言及は、実施形
態と関連して記載される特定の特色、構造または特徴が、本発明の少なくとも1つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、この明細書全体を通して、様々な箇所における「一実施形態では」または「ある実施形態では」という句の出現は、必ずしもすべてが同じ実施形態を指すわけではない。さらに、特定の特色、構造、または特徴は、1つまたは複数の実施形態において任意の適切な方式で組み合わせることができる。
態と関連して記載される特定の特色、構造または特徴が、本発明の少なくとも1つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、この明細書全体を通して、様々な箇所における「一実施形態では」または「ある実施形態では」という句の出現は、必ずしもすべてが同じ実施形態を指すわけではない。さらに、特定の特色、構造、または特徴は、1つまたは複数の実施形態において任意の適切な方式で組み合わせることができる。
この明細書全体を通して、「化合物」への言及が、本明細書に開示されているテノホビルアラフェナミドの固体、結晶、塩、および共結晶形態を含むという実施形態。
「化合物」または「本明細書に記載の化合物」の出現または句は、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶を指す。したがって、「テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶」は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態I、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態II、テノホビルアラフェナミドセバケートの形態I、テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態I、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態I、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II、およびテノホビルアラフェナミドの形態IIIを含む。
さらに、「テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶」は、テノホビルアラフェナミドバニレートおよびテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む。
本明細書に開示されている本発明はまた、異なる原子質量または質量数を有する原子によって置き換えられた1つまたは複数の原子を有することによって同位体標識されたテノホビルアラフェナミドのすべての薬学的に許容される塩および/または共結晶を包含することを意味する。本開示の化合物に取り込むことができる同位体の例として、水素、炭素、窒素、酸素、リン、フッ素、塩素、およびヨウ素の同位体、例えば、それぞれ、2H、3H、11C、13C、14C、13N、15N、15O、17O、18O、31P、32P、35S、18F、36Cl、123I、および125Iが挙げられる。これらの放射標識化合物は、例えば、作用部位もしくは作用モード、または作用の薬理学的に重要な部位に対する結合親和性を特徴付けることによって、上記化合物の有効性を決定または測定するのを助けるのに有用であり得る。ある特定のテノホビルアラフェナミドの同位体標識された塩および/または共結晶、例えば、放射性同位体を取り込んでいるものは、薬物および/または基質組織分布研究に有用である。放射性同位体であるトリチウム、すなわち、3H、および炭素-14、すなわち、14Cは、これらの取り込みの容易さおよびすぐに検出できる手段であるという点から、この目的に特に有用である。
より重い同位体、例えば、重水素、すなわち、2Hによる置換によって、より高い代謝安定性からもたらされるある特定の治療利益が与えられ得る。例えば、in vivo半減期が増加する場合があり、または投薬必要量が低減する場合がある。したがって、より重い同位体は、一部の状況で好ましい場合がある。
11C、18F、15Oおよび13Nなどのポジトロン放出同位体による置換は、基質受容体占有を調査するためのポジトロン放出断層撮影(PET)研究において有用であり得る。テノホビルアラフェナミドの同位体標識された塩および/または共結晶は、一般的に、当業者に公知の従来技術によって、または以前に用いられた非標識試薬の代わりに適当な同位体標識試薬を使用して、以下に示す実施例に記載のプロセスと類似のプロセスによって調製することができる。
「安定な化合物」および「安定な構造」は、反応混合物からの有用な純度への単離、および効き目のある治療剤への製剤化に耐え抜くほどに十分丈夫な化合物を示すことを意味する。
「必要に応じた」または「必要に応じて」は、次に記載された事象または状況が起こっても起こらなくてもよいこと、およびその記載が、前記事象または状況が起こる例および起こらない例を含むことを意味する。例えば、「必要に応じて置換されたアリール」は、アリールラジカルが置換されていても置換されていなくてもよいこと、およびその記載は、置換されたアリールラジカルと置換を有さないアリールラジカルの両方を含むことを意味する。
「薬学的に許容される賦形剤」として、限定されないが、米国食品医薬品局(United States Food and Drug Administration)によってヒトまたは飼育動物における使用に許容されるとして承認された、任意のアジュバント、担体、賦形剤、滑剤、甘味剤、希釈剤、保存剤、染料/着色剤、香味増強剤、界面活性剤、湿潤剤、分散剤、懸濁化剤、安定剤、等張剤、溶媒、および/もしくは乳化剤、または上記のうちの1つまたは複数の組合せが挙げられる。
「医薬組成物」は、本発明の化合物(例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶)および、哺乳動物、例えば、ヒトに対する生物学的に活性な化合物の送達のために、当技術分野で一般的に許容される媒体の製剤を指す。このような媒体として、それらにとって薬学的に許容される賦形剤のすべてが挙げられる。
「有効量」または「治療有効量」は、それを必要とする患者に投与された場合に、本発明による化合物が有用性を有する疾患状態、状態、または障害に対する処置を行うのに十分な、該化合物の量を指す。このような量は、研究者または臨床医によって求められる組織系、または患者の生物学的または医学的応答を誘発するのに十分であろう。治療有効量を構成する本発明による化合物の量は、該化合物およびその生物学的活性、投与に使用される組成物、投与時間、投与経路、該化合物の排出速度、処置の期間、処置される疾患状態または障害のタイプおよびその重症度、本発明の化合物と組み合わせてまたは同時に使用される薬物、ならびに患者の年齢、体重、全身の健康、性別および食事などの因子に応じて変わる。このような治療有効量は、自身の知識、最新の技術水準、およびこの開示を考慮して当業者が日常的に決定することができる。
「処置すること(treating)」という用語は、本明細書で使用する場合、別段指定されていなければ、このような用語が適用される障害もしくは状態、またはこのような障害もしくは状態の1つもしくは複数の症状を回復させること、緩和すること、その進行を阻害すること、または防止することを意味する。「処置(treatment)」という用語は、本明細書で使用する場合、「処置すること」がすぐ上で定義されるように、処置するという行為を指す。ある特定の実施形態では、「処置」という用語は、HIV感染の症状を緩和するかもしくは排除するおよび/または患者のウイルス負荷を低減するための本発明による化合物または組成物の投与を意味することを意図する。ある特定の実施形態では、「処置」という用語は、本明細書で使用する場合、HIV感染の症状を緩和するかもしくは排除するおよび/または患者のウイルス負荷を低減するための本発明による化合物または組成物の投与を意味することを意図する。ある特定の実施形態では、「処置」という用語は、本明細書で使用する場合、患者のウイルス負荷の低減を維持するための本発明による化合物または組成物の投与を意味することをさらにまたは代わりに意図する。ある特定の実施形態では、「処置」という用語は、本明細書で使用する場合、ファーストライン治療に対する次のまたは追加の治療(例えば、低ウイルス負荷の維持のため)として、個体のウイルスへの曝露後の本発明による化合物または組成物の投与を意味することをさらにまたは代わりに意図する。
「防止」または「防止すること」は、疾患または状態の臨床症状が発症しないようにす
る疾患または状態の任意の処置を意味する。「防止」という用語はまた、疾患の症状の出現を防止するために、および/またはウイルスが血中で検出可能レベルに達するのを防止するために、個体のウイルスへの曝露前の(例えば、曝露前予防)、治療有効量の本発明による化合物または組成物の投与も包含する。
る疾患または状態の任意の処置を意味する。「防止」という用語はまた、疾患の症状の出現を防止するために、および/またはウイルスが血中で検出可能レベルに達するのを防止するために、個体のウイルスへの曝露前の(例えば、曝露前予防)、治療有効量の本発明による化合物または組成物の投与も包含する。
「対象」または「患者」という用語は、処置、観察または実験の目標物となったかまたは目標物となるであろう哺乳動物(ヒトを含む)などの動物を指す。本明細書に記載の方法は、ヒトの治療および/または獣医学的適用に有用であり得る。一部の実施形態では、対象は、哺乳動物(または患者)である。一部の実施形態では、対象(または患者)は、ヒト、飼育動物(例えば、イヌおよびネコ)、家畜動物(例えば、ウシ、ウマ、ヒツジ、ヤギおよびブタ)、および/または実験動物(例えば、マウス、ラット、ハムスター、モルモット、ブタ、ウサギ、イヌおよびサル)である。一部の実施形態では、対象(または患者)は、ヒトである。「それを必要とするヒト(または患者)」は、ある特定の処置、例えば、本出願により本明細書に開示されている化合物で処置されることから利益を受け得る疾患または状態を有し得る、または有することが疑われるヒトを指す。
「抗ウイルス剤」という用語は、本明細書で使用する場合、これらに限定されないが、人類におけるウイルスの形成および/または複製に必要な宿主またはウイルスの機序のいずれかを妨げる薬剤を含む、人類におけるウイルスの形成および/または複製を阻害するのに有効な薬剤(化合物または生物学的製剤)を意味することを意図する。
「HIV複製の阻害剤」という用語は、本明細書で使用する場合、in vitro、ex vivoまたはin vivoで、宿主細胞において複製するHIVの能力を低減するかまたは排除することができる薬剤を意味することを意図する。
本明細書において「約」値またはパラメータへの言及は、その値またはパラメータ自体を対象とする実施形態を含む(および記載する)。例えば、「約X」に関する記載は、「X」の記載を含む。また、単数形「1つの(a)」および「その(the)」は、文脈が別段明示していなければ、複数の参照物を含む。したがって、例えば、「化合物」への言及は、複数のこのような化合物を含み、「アッセイ」への言及は、1つまたは複数のアッセイおよび当業者に公知のその均等物への言及を含む。
「薬学的に許容される」または「生理学的に許容される」は、獣医学またはヒトの薬学的使用に適する医薬組成物を調製するのに有用な化合物、塩、組成物、剤形および他の材料を指す。
「単位剤形」は、対象(例えば、ヒト対象および他の哺乳動物)に対する単位投薬量として適切な物理的に別個の単位であり、各単位は、適切な医薬賦形剤と共に、所望の治療効果をもたらすように計算された所定量の活性材料を含有する。
「実質的に示される」という用語は、例えば、XRPDパターン、またはDSCサーモグラムに言及する場合、本明細書で示したものと必ずしも同一ではないが、当業者に考慮された場合に、実験誤差または偏差の限度内にあるサーモグラムまたはグラフを指す。
一部の実施形態では、化合物の特定の結晶形態に関する「実質的に純粋な」または「実質的に含まない」という用語は、結晶形態を含む組成物が、他の結晶形態および/または不純物を含む、他の物質の重量の99%未満、95%未満、90%未満、85%未満、80%未満、75%未満、70%未満、65%未満、60%未満、55%未満、50%未満、40%未満、30%未満、20%未満、15%未満、10%未満、5%未満、または1%未満を含有することを意味する。ある特定の実施形態では、「実質的に純粋な」または
「~を実質的に含まない」は、他の結晶形態および/または不純物を含む、他の物質を含まない物質を指す。不純物は、例えば、化学反応に由来する副産物または残った試薬、夾雑物、分解産物、他の結晶形態、水、および溶媒を含んでもよい。
テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態
「~を実質的に含まない」は、他の結晶形態および/または不純物を含む、他の物質を含まない物質を指す。不純物は、例えば、化学反応に由来する副産物または残った試薬、夾雑物、分解産物、他の結晶形態、水、および溶媒を含んでもよい。
テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態
テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の合成に有用であり得るテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態を開発することが望ましい。テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態は、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の合成に対する中間体であり得る。結晶形態は、医学的または薬学的使用に適し得る、ある特定の条件でバイオアベイラビリティー、安定性、純度、および/または製造性などの特性を有し得る。
実質的に純粋な形態を含む、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態は、医薬組成物における有効成分として使用するのに適するバイオアベイラビリティーおよび安定性という利点をもたらすことができる。薬学的薬物物質または有効成分の結晶構造の変化は、薬学的薬物製品または有効成分の溶解速度(バイオアベイラビリティーなどに影響を及ぼし得る)、製造性(例えば、取り扱いやすさ、公知の強度の用量を一貫して調製できること)、および安定性(例えば、熱安定性、貯蔵寿命など)に影響を及ぼし得る。このような変化は、液剤または錠剤およびカプセル剤を含む固体の経口剤形などの異なる剤形または送達形態の医薬組成物の調製または製剤化に影響を及ぼし得る。非結晶形態または非晶質形態などの他の形態と比較して、結晶形態は、所望のまたは適切な吸湿性、粒径制御、溶解速度、溶解度、純度、物理的および化学的安定性、製造性、収率、ならびに/またはプロセス制御を提供し得る。したがって、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態は、化合物の製造プロセス、化合物の薬物製品形態の安定性もしくは保存性、化合物の薬物物質の安定性もしくは保存性ならびに/または活性剤としての化合物のバイオアベイラビリティーおよび/もしくは安定性を改善するなどの利点をもたらし得る。
ある特定の溶媒および/またはプロセスの使用によって、上記の1つまたは複数の好ましい特徴を呈することができる本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の様々な結晶形態を生じることが分かっている。本明細書に記載の結晶形態の調製のためのプロセスおよびこれらの結晶形態の特徴について、以下に詳細に記載する。
当業者は、化合物の構造が、一般的に認識された命名法のシステムおよび記号を使用して命名されるかまたは特定され得ることを理解する。例として、化合物は、一般名、系統名または非系統名で命名されるかまたは特定され得る。化学の技術分野で一般的に認識されている命名法のシステムおよび記号として、これらに限定されないが、Chemical Abstract Service(CAS)および国際純正・応用化学連合(International Union of Pure and Applied Chemistry)(IUPAC)が挙げられる。したがって、上で提供されるテノホビルアラフェナミドについての化合物構造はまた、IUPACおよびCAS登録番号379270-37-8下で(S)-イソプロピル2-(((S)-((((R)-1-(6-アミノ-9H-プリン-9-イル)プロパン-2-イル)オキシ)メチル)(フェノキシ)ホスホリル)アミノ)プロパノエートとしても命名されるかまたは特定され得る。
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの固体の塩および/または共結晶が開示される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態が開示される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの結晶形態が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iが提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIが提供される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態I
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態I
一部の実施形態では、結晶構造が、図1に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、図2に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを呈し得る。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、(a)~(b)の少なくとも1つ、または両方に当てはまる:(a)結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iが図1に実質的に示されるXRPDパターンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iが図2に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、以下の特性:
図1に実質的に示されるXRPDパターン
図2に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
図1に実質的に示されるXRPDパターン
図2に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、図1に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、および22.3°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、および22.3°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、および22.3°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、および22.3°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、および22.3°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは
、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、および22.3°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、および22.3°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、11.2°、13.1°、13.8°、14.8°、15.8°、17.4°、19.0°、20.1°、21.0°、22.3°、23.8°、25.7°、および28.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに21.0°、15.8°、11.2°、28.8°、13.1°、30.6°、32.9°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに21.0°、15.8°、11.2°、28.8°、13.1°、30.6°、32.9°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに21.0°、15.8°、11.2°、28.8°、13.1°、30.6°、32.9°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに21.0°、15.8°、11.2°、28.8°、13.1°、30.6°、32.9°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに21.0°、15.8°、11.2°、28.8°、13.1°、30.6°、32.9°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに21.0°、15.8°、11.2°、28.8°、13.1°、30.6°、32.9°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの5つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに21.0°、15.8°、11.2°、28.8°、13.1°、30.6°、32.9°、および13.
8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの6つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに21.0°、15.8°、11.2°、28.8°、13.1°、30.6°、32.9°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、11.2°、13.1°、13.8°、14.8°、15.8°、17.4°、19.0°、20.1°、21.0°、22.3°、23.8°、25.7°、28.8°、30.6°、および32.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、11.2°、13.1°、13.8°、14.8°、15.8°、17.4°、19.0°、20.1°、21.0°、22.3°、23.8°、25.7°、28.8°、30.6°、および32.9°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、11.2°、13.1°、13.8°、14.8°、15.8°、17.4°、19.0°、20.1°、21.0°、22.3°、23.8°、25.7°、28.8°、30.6°、および32.9°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、11.2°、13.1°、13.8°、14.8°、15.8°、17.4°、19.0°、20.1°、21.0°、22.3°、23.8°、25.7°、28.8°、30.6°、および32.9°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態II
8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの6つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、22.3°、19.0°、25.7°、20.1°、23.8°および17.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに21.0°、15.8°、11.2°、28.8°、13.1°、30.6°、32.9°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、11.2°、13.1°、13.8°、14.8°、15.8°、17.4°、19.0°、20.1°、21.0°、22.3°、23.8°、25.7°、28.8°、30.6°、および32.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、11.2°、13.1°、13.8°、14.8°、15.8°、17.4°、19.0°、20.1°、21.0°、22.3°、23.8°、25.7°、28.8°、30.6°、および32.9°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、11.2°、13.1°、13.8°、14.8°、15.8°、17.4°、19.0°、20.1°、21.0°、22.3°、23.8°、25.7°、28.8°、30.6°、および32.9°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、7.4°、8.4°、10.6°、11.2°、13.1°、13.8°、14.8°、15.8°、17.4°、19.0°、20.1°、21.0°、22.3°、23.8°、25.7°、28.8°、30.6°、および32.9°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態II
一部の実施形態では、結晶構造が、図3に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、図4に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを呈し得る。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、(a)~(b)の少なくとも1つ、または両方に当てはまる:(a)結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIが図3に実質的に示されるXRPDパターンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIが図4に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、以下の特性:
図3に実質的に示されるXRPDパターン
図4に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
図3に実質的に示されるXRPDパターン
図4に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、図3に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、および23.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、および23.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに24.1°、27.6°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、および23.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに24.1°、27.6°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、および23.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに24.1°、27.6°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、23.2°、および24.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、23.2°、24.1°、27.6°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、23.2°、24.1°、27.6°、および29.0°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、23.2°、24.1°、27.6°、および29.0°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。テノホビルアラフェナミドセバケート
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドセバケートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートの結晶形態が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iが提供される。
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態I
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態I
一部の実施形態では、結晶構造が、図5に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、図6に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを呈し得る。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、以下の(a)~(b)の少なくとも1つ、少なくとも2つ、またはすべてに当てはまる:(a)結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iが図5に実質的に示されるXRPDパターンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iが図6に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、以下の特性:
図5に実質的に示されるXRPDパターン
図6に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
図5に実質的に示されるXRPDパターン
図6に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、図5に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、15.7°、18.7°、19.3°および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、15.7°、18.7°、19.3°および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、15.7°、18.7°、19.3°および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、15.7°、18.7°、19.3°および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、15.7°、18.7°、19.3°および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/
-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの5つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの6つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、11.7°、12.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、20.9°、22.1°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、10.5°、11.7°、12.6°、14.0°、14.8°、15.7°、16.9°、18.7°、19.3°、19.8°、20.9°、21.6°、22.1°、22.9°、23.4°、23.8°、25.3°、26.2°、26.5°、27.4°、28.2°、28.7°、29.0°、33.3°、および37.9°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、10.5°、11.7°、12.6°、14.0°、14.8°、15.7°、16.9°、18.7°、19.3°、19.8°、20.9°、21.6°、22.1°、22.9°、23.4°、23.8°、25.3°、26.2°、26.5°、27.4°、28.2°、28.7°、29.0°、33.3°、および37.9°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、10.5°、11.7°、12.6°、14.0°、14.8°、15.7°、16.9°、18.7°、19.3°、19.8°、20.9°、21.6°、22.1°、22.9°、23.4°、23.8°、25.3°、26.2°、26.5°、27.4°、28.2°、28.7°、29.0°、33.3°、および37.9°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反
射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドナプシレート
-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの5つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの6つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、および22.1°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、11.7°、12.6°、14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、19.8°、20.9°、22.1°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、10.5°、11.7°、12.6°、14.0°、14.8°、15.7°、16.9°、18.7°、19.3°、19.8°、20.9°、21.6°、22.1°、22.9°、23.4°、23.8°、25.3°、26.2°、26.5°、27.4°、28.2°、28.7°、29.0°、33.3°、および37.9°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、10.5°、11.7°、12.6°、14.0°、14.8°、15.7°、16.9°、18.7°、19.3°、19.8°、20.9°、21.6°、22.1°、22.9°、23.4°、23.8°、25.3°、26.2°、26.5°、27.4°、28.2°、28.7°、29.0°、33.3°、および37.9°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、10.5°、11.7°、12.6°、14.0°、14.8°、15.7°、16.9°、18.7°、19.3°、19.8°、20.9°、21.6°、22.1°、22.9°、23.4°、23.8°、25.3°、26.2°、26.5°、27.4°、28.2°、28.7°、29.0°、33.3°、および37.9°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反
射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドナプシレート
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドナプシレートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドナプシレートの結晶形態が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iが提供される。
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態I
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態I
一部の実施形態では、結晶構造が、図7に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、図8に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを呈し得る。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、以下の(a)~(b)の少なくとも1つ、またはすべてに当てはまる:(a)結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iが図7に実質的に示されるXRPDパターンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iが図8に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、以下の特性:
図7に実質的に示されるXRPDパターン
図8に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
図7に実質的に示されるXRPDパターン
図8に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、図7に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、および19.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、および19.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、および19.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、および19.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、および19.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部
の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、および19.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、および19.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの5つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの6つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.8°および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0°の度2
θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、9.8°、13.2°、13.6°、15.3°、15.5°、16.5°、17.8°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.0°、23.8°、24.1°、26.0°、および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、9.8°、10.3°、11.6°、13.2°、13.6°、15.3°、15.5°、16.5°、17.8°、18.2°、19.2°、19.4°、19.8°、20.1°、20.6°、23.0°、23.3°、23.8°、24.1°、24.5°、26.0°、27.2°、28.3°、29.5°、32.2°、34.3°、35.2°、36.9°、38.2°、および39.2°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、9.8°、10.3°、11.6°、13.2°、13.6°、15.3°、15.5°、16.5°、17.8°、18.2°、19.2°、19.4°、19.8°、20.1°、20.6°、23.0°、23.3°、23.8°、24.1°、24.5°、26.0°、27.2°、28.3°、29.5°、32.2°、34.3°、35.2°、36.9°、38.2°、および39.2°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、9.8°、10.3°、11.6°、13.2°、13.6°、15.3°、15.5°、16.5°、17.8°、18.2°、19.2°、19.4°、19.8°、20.1°、20.6°、23.0°、23.3°、23.8°、24.1°、24.5°、26.0°、27.2°、28.3°、29.5°、32.2°、34.3°、35.2°、36.9°、38.2°、および39.2°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドオロテート
θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、9.8°、13.2°、13.6°、15.3°、15.5°、16.5°、17.8°、19.2°、19.4°、19.8°、20.6°、23.0°、23.8°、24.1°、26.0°、および27.2°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、9.8°、10.3°、11.6°、13.2°、13.6°、15.3°、15.5°、16.5°、17.8°、18.2°、19.2°、19.4°、19.8°、20.1°、20.6°、23.0°、23.3°、23.8°、24.1°、24.5°、26.0°、27.2°、28.3°、29.5°、32.2°、34.3°、35.2°、36.9°、38.2°、および39.2°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、9.8°、10.3°、11.6°、13.2°、13.6°、15.3°、15.5°、16.5°、17.8°、18.2°、19.2°、19.4°、19.8°、20.1°、20.6°、23.0°、23.3°、23.8°、24.1°、24.5°、26.0°、27.2°、28.3°、29.5°、32.2°、34.3°、35.2°、36.9°、38.2°、および39.2°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、3.9°、7.8°、9.8°、10.3°、11.6°、13.2°、13.6°、15.3°、15.5°、16.5°、17.8°、18.2°、19.2°、19.4°、19.8°、20.1°、20.6°、23.0°、23.3°、23.8°、24.1°、24.5°、26.0°、27.2°、28.3°、29.5°、32.2°、34.3°、35.2°、36.9°、38.2°、および39.2°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドオロテート
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドオロテートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの結晶形態が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iが提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIが提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態I
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態I
一部の実施形態では、結晶構造が、図9に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、図10に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを呈し得る。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、以下の(a)~(b)の少なくとも1つ、またはすべてに当てはまる:(a)結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iが図9に実質的に示されるXRPDパターンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iが図10に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、以下の特性:
図9に実質的に示されるXRPDパターン
図10に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
図9に実質的に示されるXRPDパターン
図10に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、図9に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、5.9°、8.9°、および11.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、5.9°、8.9°、および11.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、16.0°、17.7°、18.7°および21.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、5.9°、8.9°、および11.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、16.0°、17.7°、18.7°および21.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、5.9°、8.9°、および11.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、16.0°、17.7°、18.7°および21.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、5.9°、8.9°、および11.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、16.0°、17.7°、18.7°および21.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、5.9°、8.9°、および11.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.8°、16.0°、17.7°、18.7°および21.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°および21.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°および21.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに27.2°、28.7°、および31.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°および21.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに27.2°、28.7°、および31.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°および21.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに27.2°、28.7°、および31.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、1
4.8°、16.0°、17.7°、18.7°、21.5°、27.2°、28.7°、および31.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°、21.5°、27.2°、28.7°、および31.5°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°、21.5°、27.2°、28.7°、および31.5°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°、21.5°、27.2°、28.7°、および31.5°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II
4.8°、16.0°、17.7°、18.7°、21.5°、27.2°、28.7°、および31.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°、21.5°、27.2°、28.7°、および31.5°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°、21.5°、27.2°、28.7°、および31.5°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、3.0°、3.5°、5.9°、8.9°、11.8°、14.8°、16.0°、17.7°、18.7°、21.5°、27.2°、28.7°、および31.5°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II
一部の実施形態では、結晶構造が、図11に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、図12に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを呈し得る。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、以下の(a)~(b)の少なくとも1つ、またはすべてに当てはまる:(a)結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが図11に実質的に示されるXRPDパターンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが図12に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、以下の特性:
図11に実質的に示されるXRPDパターン
図12に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
図11に実質的に示されるXRPDパターン
図12に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、図11に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、3.8°、6.9°、10.3°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルア
ラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、13.8°、15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
ラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、および13.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、13.8°、15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、13.8°、15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに18.4°および21.6°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、13.8°、15.4°、17.3°、19.0°、22.8°および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに18.4°および21.6°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、6.9°、10.3°、13.8°、15.4°、17.3°、18.4°、19.0°、21.6° 22.8°、および29.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、3.8°、6.9°、10.3°、13.8°、15.4°、17.3°、18.4°、19.0°、21.6° 22.8°、および29.0°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、3.8°、6.9°、10.3°、13.8°、15.4°、17.3°、18.4°、19.0°、21.6° 22.8°、および29.0°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、3.4°、3.8°、6.9°、10.3°、13.8°、15.4°、17.3°、18.4°、19.0°、21.6° 22.8°、および29.0°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態III
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態III
一部の実施形態では、結晶構造が、図13に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、図14に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを呈し得る。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、以下の(a)~(b)の少なくとも1つ、またはすべてに当てはまる:(a)結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIが図13に実質的に示されるXRPDパター
ンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIが図14に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
ンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIが図14に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、以下の特性:
図13に実質的に示されるXRPDパターン
図14に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
図13に実質的に示されるXRPDパターン
図14に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、図13に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、9.4°、12.4°、15.7°、および19.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、9.4°、12.4°、15.7°、および19.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに8.3°、16.4°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、9.4°、12.4°、15.7°、および19.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに8.3°、16.4°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、9.4°、12.4°、15.7°、および19.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに8.3°、16.4°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、9.4°、12.4°、15.7°、および19.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに8.3°、16.4°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、9.4°、12.4°、15.7°、および19.0°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに8.3°、16.4°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに6.9°、22.8°、および27.6°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに6.9°、22.8°、および27
.6°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに6.9°、22.8°、および27.6°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、6.9°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、22.8°、24.5°、26.6°、27.6°、および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、6.9°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、22.8°、24.5°、26.6°、27.6°、および28.9°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、6.9°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、22.8°、24.5°、26.6°、27.6°、および28.9°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、6.9°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、22.8°、24.5°、26.6°、27.6°、および28.9°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドバニレート
.6°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、24.5°、26.6°および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに6.9°、22.8°、および27.6°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、6.9°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、22.8°、24.5°、26.6°、27.6°、および28.9°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、6.9°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、22.8°、24.5°、26.6°、27.6°、および28.9°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、6.9°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、22.8°、24.5°、26.6°、27.6°、および28.9°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、3.8°、6.9°、8.3°、9.4°、12.4°、15.7°、16.4°、19.0°、22.8°、24.5°、26.6°、27.6°、および28.9°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドバニレート
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドバニレートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートの結晶形態が提供される。
テノホビルアラフェナミドバニレート
テノホビルアラフェナミドバニレート
一部の実施形態では、結晶構造が、図15に実質的に示されるXRPDパターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、図16に実質的に示されるDSCサーモグラムを呈し得る。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、以下の(a)~(b)の少なくとも1つ、少なくとも2つ、またはすべてに当てはまる:(a)結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートが図15に実質的に示されるXRPDパターンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートが図16に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、以下の特性:
図15に実質的に示されるXRPDパターン
図16に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
図15に実質的に示されるXRPDパターン
図16に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、図15に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパ
ターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、19.8°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
ターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに14.2°、15.2°、19.0°、および19.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、19.8°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの5つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0
°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの6つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、10.8°、12.3°、14.2°、15.2°、18.4°、19.0°、19.8°、22.1°、22.8°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、10.8°、12.3°、14.2°、15.2°、15.9°、18.4°、19.0°、19.8°、21.6°、22.1°、22.8°、25.0°、27.7°、および32.4°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、10.8°、12.3°、14.2°、15.2°、15.9°、18.4°、19.0°、19.8°、21.6°、22.1°、22.8°、25.0°、27.7°、および32.4°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、10.8°、12.3°、14.2°、15.2°、15.9°、18.4°、19.0°、19.8°、21.6°、22.1°、22.8°、25.0°、27.7°、および32.4°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの6つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、10.8°、12.3°、14.2°、15.2°、18.4°、19.0°、19.8°、22.1°、22.8°、25.0°、および32.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、10.8°、12.3°、14.2°、15.2°、15.9°、18.4°、19.0°、19.8°、21.6°、22.1°、22.8°、25.0°、27.7°、および32.4°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、10.8°、12.3°、14.2°、15.2°、15.9°、18.4°、19.0°、19.8°、21.6°、22.1°、22.8°、25.0°、27.7°、および32.4°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、6.6°、9.3°、10.8°、12.3°、14.2°、15.2°、15.9°、18.4°、19.0°、19.8°、21.6°、22.1°、22.8°、25.0°、27.7°、および32.4°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートの結晶形態が提供される。
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
一部の実施形態では、結晶構造が、図17に実質的に示されるXRPDパターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、図18に実質的に示されるDSCサーモグラムを呈し得る。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、以下の(a)~(b)の少なくとも1つ、少なくとも2つ、またはすべてに当てはまる:(a)結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートが図17に実質的に示されるXRPDパターンを有する;(b)結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートが図18に実質的に示されるDSCサーモグラムを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、以下の特性:
図17に実質的に示されるXRPDパターン
図18に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
図17に実質的に示されるXRPDパターン
図18に実質的に示されるDSCサーモグラム
を有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、図1
7に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
7に実質的に示されるXRPDパターンとして、最大強度を有する度2θでの反射のうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、少なくとも4つ、少なくとも5つ、少なくとも6つ、少なくとも7つ、または少なくとも8つを示すXRPDパターンを有する。
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、14.4°、および15.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、14.4°、および15.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、11.2°、18.8°、21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、14.4°、および15.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、11.2°、18.8°、21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、14.4°、および15.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、11.2°、18.8°、21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、14.4°、および15.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、11.2°、18.8°、21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、14.4°、および15.4°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、11.2°、18.8°、21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つまたは複数を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、18.8°、21.7°、21.9°、25.5°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの1つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、44.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの2つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-
0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの5つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの6つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、7.7°、8.9°、11.2°、13.4°、14.4°、14.7°、15.4°、15.7°、17.0°、18.3°、18.8°、21.7°、21.9°、25.5°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、7.7°、8.9°、11.2°、13.4°、14.4°、14.7°、15.4°、15.7°、17.0°、18.3°、18.8°、21.7°、21.9°、25.5°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、7.7°、8.9°、11.2°、13.4°、14.4°、14.7°、15.4°、15.7°、17.0°、18.3°、18.8°、21.7°、21.9°、25.5°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、7.7°、8.9°、11.2°、13.4°、14.4°、14.7°、15.4°、15.7°、17.0°、18.3°、18.8°、21.7°、21.9°、25.5°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
医薬組成物
0.2度2θ)のうちの3つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの4つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの5つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの6つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、 21.7°、および25.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)ならびに7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)のうちの7つを含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、7.7°、8.9°、11.2°、13.4°、14.4°、14.7°、15.4°、15.7°、17.0°、18.3°、18.8°、21.7°、21.9°、25.5°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、7.7°、8.9°、11.2°、13.4°、14.4°、14.7°、15.4°、15.7°、17.0°、18.3°、18.8°、21.7°、21.9°、25.5°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°からなる群から選択される任意の5つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、7.7°、8.9°、11.2°、13.4°、14.4°、14.7°、15.4°、15.7°、17.0°、18.3°、18.8°、21.7°、21.9°、25.5°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°からなる群から選択される任意の7つの度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、4.5°、7.7°、8.9°、11.2°、13.4°、14.4°、14.7°、15.4°、15.7°、17.0°、18.3°、18.8°、21.7°、21.9°、25.5°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5°からなる群から選択される任意の10個の度2θでの反射(+/-0.2度2θ)を含むXRPDパターンを有する。
医薬組成物
投与を目的として、ある特定の実施形態では、本明細書に記載の化合物は未加工の化学物質(raw chemical)として投与されるかまたは医薬組成物として製剤化される。本発明の医薬組成物は、本明細書において提供されるテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の治療有効量、ならびに薬学的に許容される賦形剤を含む。テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、目的の特定の疾患または状態を処置するのに有効な量で組成物中に存在する。テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の活性は、例えば、本明細書に記載されるように、当業者によって決定され得る。適当な治療有効濃度および投薬量は、当業者によって容易に決定され得る。ある特定の実
施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約5mgから約1,000mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約5mgから約100mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約20mgから約75mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約25mgから約50mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約25mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約50mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約75mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約100mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約25mg、28mg、30mg、33mg、35mg、38mg、40mg、43mg、45mg、48mg、または約50mgの量で医薬組成物中に存在する。
施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約5mgから約1,000mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約5mgから約100mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約20mgから約75mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約25mgから約50mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約25mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約50mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約75mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約100mgの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶は、約25mg、28mg、30mg、33mg、35mg、38mg、40mg、43mg、45mg、48mg、または約50mgの量で医薬組成物中に存在する。
一部の実施形態では、投与される本発明の医薬組成物は、長時間作用型製剤であり得る。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも10日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも15日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも30日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも60日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも90日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、最大6カ月間活性である。
純粋形態のまたは適当な医薬組成物中の本発明の化合物の投与は、同様の有用性を果たすために許容される薬剤の投与様式のいずれかによって実行され得る。本発明の医薬組成物は、本発明の化合物を適当な薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製することができ、固体、半固体、液体または気体形態の調製物、例えば、錠剤、カプセル剤、粉剤・散剤(powder)、顆粒剤、軟膏剤、液剤、坐剤、注射剤、吸入剤、ゲル剤、ミクロスフェア、およびエアロゾルへと製剤化されてもよい。本発明の医薬組成物は、本発明の化合物を適当な薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製することができ、固体、半固体、液体または気体形態の調製物、例えば、固体分散剤および固体液剤(solid solution)へと製剤化されてもよい。このような医薬組成物の典型的な投
与経路として、限定されないが、経口、局所、経皮、吸入、非経口(皮下、筋肉内、静脈内、皮内、髄腔内および硬膜外を含む)、舌下、頬側、直腸、膣、鼻内、および肺が挙げられる。具体的な実施形態では、医薬組成物は、皮下注射剤である。具体的な実施形態では、医薬組成物は、皮下注射剤である単位用量形態中にある。具体的な実施形態では、医薬組成物は、錠剤である。本発明の医薬組成物は、その中に含有される有効成分が、該組成物を患者に投与すると生物学的に利用可能となるよう製剤化される。対象または患者に投与される組成物は、1つまたは複数の投薬単位の形態をとり、ここで、例えば、錠剤は単回投薬単位であってもよく、エアロゾル形態の本発明の化合物の容器は複数回の投薬単位を保持してもよい。このような剤形を調製する実際の方法は、当業者にとって公知であるか、または明らかである;例えば、Remington:The Science and Practice of Pharmacy、第20版(Philadelphia College of Pharmacy and Science、2000年
)を参照のこと。投与される組成物は、いずれにしても、この発明の教示に従って、目的の疾患または状態の処置のために、治療有効量の本発明の化合物を含有する。
与経路として、限定されないが、経口、局所、経皮、吸入、非経口(皮下、筋肉内、静脈内、皮内、髄腔内および硬膜外を含む)、舌下、頬側、直腸、膣、鼻内、および肺が挙げられる。具体的な実施形態では、医薬組成物は、皮下注射剤である。具体的な実施形態では、医薬組成物は、皮下注射剤である単位用量形態中にある。具体的な実施形態では、医薬組成物は、錠剤である。本発明の医薬組成物は、その中に含有される有効成分が、該組成物を患者に投与すると生物学的に利用可能となるよう製剤化される。対象または患者に投与される組成物は、1つまたは複数の投薬単位の形態をとり、ここで、例えば、錠剤は単回投薬単位であってもよく、エアロゾル形態の本発明の化合物の容器は複数回の投薬単位を保持してもよい。このような剤形を調製する実際の方法は、当業者にとって公知であるか、または明らかである;例えば、Remington:The Science and Practice of Pharmacy、第20版(Philadelphia College of Pharmacy and Science、2000年
)を参照のこと。投与される組成物は、いずれにしても、この発明の教示に従って、目的の疾患または状態の処置のために、治療有効量の本発明の化合物を含有する。
一部の実施形態では、本発明の医薬組成物は、筋肉内注射によって投与することができ
る。特に、「活性な(active)」への言及は、HIVに対する効果的なレベルを超える最小濃度(Cmin)を維持することを含む。
る。特に、「活性な(active)」への言及は、HIVに対する効果的なレベルを超える最小濃度(Cmin)を維持することを含む。
本発明の医薬組成物は、薬学の技術分野で周知の方法論によって調製することができる。例えば、注射によって投与することが意図される医薬組成物は、本発明の化合物を滅菌蒸留水と組み合わせて、液剤を形成することによって調製することができる。界面活性剤または他の可溶化賦形剤を添加して、均質溶液または懸濁液の形成を促進することもできる。界面活性剤は、本発明の化合物と非共有結合により相互作用して、水性送達系における化合物の溶解または均質な懸濁を促進する化合物である。
他の実施形態では、経口投与を意図した固体の医薬組成物は、治療有効量の本発明の化合物を少なくとも1つの適切な薬学的に許容される賦形剤と混合して、固体予備処方組成物を形成することによって調製することができ、次いで、錠剤、丸剤およびカプセル剤などの等しく有効な単位剤形に容易に小分けすることができる。したがって、一部の実施形態では、治療有効量の、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の化合物と薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物が提供される。
本発明の化合物は、治療有効量で投与され、治療有効量は、用いられる具体的な化合物の活性;化合物の代謝安定性および作用の長さ;患者の年齢、体重、全身の健康、性別、および食事;投与の様式および時間;排泄速度;薬物の組合せ;特定の障害または状態の重症度、ならびに治療を受けている対象を含む様々な因子に応じて変化する。一部の実施形態では、本発明の化合物は、患者が感染しているか、潜在的に感染しているかぎり、または感染を防止するために(例えば、複数年、複数カ月、複数週、または複数日の間)、1日に1回、または1日に2回、または1日に3回、または1日に4回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて、投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、7日毎に1回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、14日毎に1回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、21日毎に1回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、28日毎に1回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、1カ月毎に1回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。
テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶を含む組成物も、本明細書に記載されているように提供される。特定の実施形態では、本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶のうちの1つを含む組成物が提供される。特定の実施形態では、本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶のうちの2つを含む組成物が提供される。特定の実施形態では、本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶のうちの3つを含む組成物が提供される。特定の実施形態では、本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶のうちの4つを含む組成物が提供される。他の実施形態では、本明細書に記載の組成物は、実質的に純粋な結晶形態を含み得、または他の結晶形態および/もしくは不純物を実質的に含み得ない。
一部の実施形態では、組成物は、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態を含む。ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態を含む組成物であって、該組成物内のテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶が実質的に純粋である(すなわち、本明細書に記載の、実質的に純粋なテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態I、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態II、テノホビルアラフェナミドセバケートの形態I、テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態I、
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態I、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II、およびテノホビルアラフェナミドの形態III)、組成物が提供される。テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態を含む組成物の特定の実施形態では、組成物中に存在するテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約85%、少なくとも約90%、少なくとも約95%、少なくとも約96%、少なくとも約97%、少なくとも約98%、または少なくとも約99%は、本明細書に開示されている結晶形態のうちの1つである。ある特定の実施形態では、組成物は、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態のうちの1つの少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約85%、少なくとも約90%、少なくとも約95%、少なくとも約96%、少なくとも約97%、少なくとも約98%、または少なくとも約99%を含む。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態I、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II、およびテノホビルアラフェナミドの形態III)、組成物が提供される。テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態を含む組成物の特定の実施形態では、組成物中に存在するテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約85%、少なくとも約90%、少なくとも約95%、少なくとも約96%、少なくとも約97%、少なくとも約98%、または少なくとも約99%は、本明細書に開示されている結晶形態のうちの1つである。ある特定の実施形態では、組成物は、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態のうちの1つの少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約85%、少なくとも約90%、少なくとも約95%、少なくとも約96%、少なくとも約97%、少なくとも約98%、または少なくとも約99%を含む。
ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態を含む組成物であって、組成物内のテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶が、本明細書に記載の実質的に純粋なテノホビルアラフェナミドバニレートおよび/またはテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートである、組成物が提供される。テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の結晶形態を含む組成物の特定の実施形態では、組成物中に存在するテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約85%、少なくとも約90%、少なくとも約95%、少なくとも約96%、少なくとも約97%、少なくとも約98%、または少なくとも約99%は、本明細書に開示されているテノホビルアラフェナミドバニレートまたはテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート(Tenofovir Alafenamide Bis-Xinofoate)である。ある特定の実施形態では、組成物は、少なくとも約50
%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約85%、少なくとも約90%、少なくとも約95%、少なくとも約96%、少なくとも約97%、少なくとも約98%、または少なくとも約99%の、本明細書に開示されているテノホビルアラフェナミドバニレートまたはテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む。
%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約85%、少なくとも約90%、少なくとも約95%、少なくとも約96%、少なくとも約97%、少なくとも約98%、または少なくとも約99%の、本明細書に開示されているテノホビルアラフェナミドバニレートまたはテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む。
本明細書に開示されている結晶形態を含む組成物の他の実施形態では、組成物中に存在するテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の約50%未満、約40%未満、約30%未満、約20%未満、約10%未満、約5%未満、約4%未満、約3%未満、約2%未満または約1%未満は、テノホビルアラフェナミドの塩および/もしくは共結晶の他の非晶質もしくは結晶形態ならびに/または不純物である。
本明細書に開示されている結晶形態を含む組成物のさらに他の実施形態では、不純物が、存在する結晶形態の質量に対して、総質量の約5%未満、約4%未満、約3%未満、約2%未満または約1%未満を構成する。不純物として、例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の合成に由来する副産物、夾雑物、分解産物、他の結晶形態、非晶質形態、水、ならびに溶媒が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶を合成するプロセスに由来する副産物が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶を合成するプロセスに由来する夾雑物が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の分解産物が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の他の結晶形態が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および/もしくは共結晶の他の結晶形態ならびに/またはテノホビルアラフェナミドの塩および/もしくは共結晶の非晶質形態が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、水または溶媒が挙げられる。本明細
書に開示されている結晶形態を含む組成物のある特定の実施形態では、不純物は、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の合成に由来する副産物、夾雑物、分解産物、他の結晶形態、非晶質形態、水、溶媒ならびにこれらの組合せからなる群から選択される。
併用療法
書に開示されている結晶形態を含む組成物のある特定の実施形態では、不純物は、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の合成に由来する副産物、夾雑物、分解産物、他の結晶形態、非晶質形態、水、溶媒ならびにこれらの組合せからなる群から選択される。
併用療法
ある特定の実施形態では、HIV感染を有するかまたはHIV感染を有するリスクのあるヒトのHIV感染を処置または防止するための方法であって、治療有効量の1つまたは複数(例えば、1、2、3、1もしくは2、または1から3つ)の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、ヒトに投与することを含む、方法が提供される。一実施形態では、HIV感染を有するかまたはHIV感染を有するリスクのあるヒトのHIV感染を処置するための方法であって、治療有効量の1つまたは複数(例えば、1、2、3、1もしくは2、または1から3つ)の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、ヒトに投与することを含む、方法が提供される。
一実施形態では、1つもしくは複数(例えば、1、2、3、1もしくは2、または1から3つ)の追加の治療剤、および薬学的に許容される担体、希釈剤、または賦形剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む医薬組成物が提供される。
ある特定の実施形態では、本開示は、HIV感染を処置するための方法であって、治療有効量の、HIV感染を処置するのに適切な1つまたは複数の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、それを必要とする患者に投与することを含む、方法を提供する。
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、1、2、3、4つ、またはそれより多い追加の治療剤と組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、2つの追加の治療剤と組み合わされる。他の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、3つの追加の治療剤と組み合わされる。さらなる実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、4つの追加の治療剤と組み合わされる。1、2、3、4つ、またはそれより多い追加の治療剤は、同じクラスの治療剤から選択される異なる治療剤であってもよく、および/または異なるクラスの治療剤から選択されてもよい。
HIV併用療法の投与
HIV併用療法の投与
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物は、1つまたは複数の追加の治療剤と共に投与される。本明細書に開示されている化合物の1つまたは複数の追加の治療剤との共投与は、一般的に、治療有効量の本明細書に開示されている化合物と1つまたは複数の追加の治療剤両方が患者の体内に存在するような、本明細書に開示されている化合物と1つまたは複数の追加の治療剤との同時または逐次的投与を指す。逐次的に投与される場合、組合せは、2回またはそれより多い投与で投与されてもよい。
共投与は、単位投薬量の1つまたは複数の追加の治療剤の投与前後の単位投薬量の本明細書に開示されている化合物の投与を含む。例えば、本明細書に開示されている化合物は、1つまたは複数の追加の治療剤の投与から数秒、数分、または数時間以内に投与されてもよい。一部の実施形態では、本明細書に開示されている化合物の単位用量が最初に投与された後、数秒または数分以内に、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が投与される。あるいは、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が最初に投与された後、数秒ま
たは数分以内に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。他の実施形態では、本明細書に開示されている化合物の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間(例えば、1~12時間)後に、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が投与される。さらに他の実施形態では、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間(例えば、1~12時間)後に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。
たは数分以内に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。他の実施形態では、本明細書に開示されている化合物の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間(例えば、1~12時間)後に、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が投与される。さらに他の実施形態では、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間(例えば、1~12時間)後に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物は、患者への同時投与のための単位剤形で、例えば、経口投与用の固体剤形として、1つまたは複数の追加の治療剤と組み合わされる。
ある特定の実施形態では、式(I)の化合物は、HIVを処置するために有用な1つまたは複数の他の化合物を必要に応じて含有してもよい錠剤として製剤化される。ある特定の実施形態では、錠剤は、HIVプロテアーゼ阻害剤、HIVの逆転写酵素の非ヌクレオシドまたは非ヌクレオチド阻害剤、HIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、HIVインテグラーゼ阻害剤、HIV非触媒部位(またはアロステリック)インテグラーゼ阻害剤、薬物動態増強剤、およびこれらの組合せなどのHIVを処置するための別の有効成分を含有することができる。
ある特定の実施形態では、このような錠剤は、毎日1回投薬するために適切である。
HIV併用療法
HIV併用療法
上記実施形態では、追加の治療剤は、抗HIV剤であってもよい。HIVプロテアーゼ阻害剤、HIVの逆転写酵素の非ヌクレオシドまたは非ヌクレオチド阻害剤、HIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、HIVインテグラーゼ阻害剤、HIV非触媒部位(またはアロステリック)インテグラーゼ阻害剤、HIV侵入阻害剤、HIV成熟阻害剤、免疫モジュレーター、免疫治療剤、抗体-薬物コンジュゲート、遺伝子改変剤、遺伝子編集剤(例えば、CRISPR/Cas9、ジンクフィンガーヌクレアーゼ、ホーミングヌクレアーゼ、合成ヌクレアーゼ、TALEN)、細胞療法(例えば、キメラ抗原受容体T細胞、CAR-T、および操作されたT細胞受容体、TCR-T)、潜伏反転剤(latency reversing agent)、HIVカプシドを標的とする化合物、免疫に基づいた療法、ホスファチジルイノシトール3-キナーゼ(PI3K)阻害剤、HIV抗体、二重特異性抗体および「抗体様の」治療タンパク質、HIV p17マトリックスタンパク質阻害剤、IL-13アンタゴニスト、ペプチジル-プロリルシス-トランス異性化酵素Aモジュレーター、タンパク質ジスルフィド異性化酵素阻害剤、補体C5a受容体アンタゴニスト、DNAメチルトランスフェラーゼ阻害剤、HIV vif遺伝子モジュレーター、Vif二量体化アンタゴニスト、HIV-1ウイルス感染性因子阻害剤、TATタンパク質阻害剤、HIV-1 Nefモジュレーター、Hckチロシンキナーゼモジュレーター、混合系統キナーゼ-3(MLK-3)阻害剤、HIV-1スプライシング阻害剤、Revタンパク質阻害剤、インテグリンアンタゴニスト、核タンパク質阻害剤、スプライシング因子モジュレーター、COMMドメイン含有タンパク質1モジュレーター、HIVリボヌクレアーゼH阻害剤、レトロサイクリンモジュレーター、CDK-9阻害剤、樹状ICAM-3結合ノンインテグリン1阻害剤(dendritic ICAM-3 grabbing nonintegrin 1 inhibitor)、HIV GAGタンパク質阻害剤、HIV POLタンパク質阻害剤、補体因子Hモジュレーター、ユビキチンリガーゼ阻害剤、デオキシシチジンキナーゼ阻害剤、サイクリン依存性キナーゼ阻害剤、プロタンパク質転換酵素PC9刺激剤、ATP依存性RNAヘリカーゼDDX3X阻害剤、逆転写酵素プライミング複合体阻害剤、G6PDおよびNADH-オキシダーゼ阻害剤、薬物動態増強剤、HIV遺伝子療法、HIVワクチン、ならびにこれらの組合せ。
一部の実施形態では、追加の治療剤は、HIVに対する併用薬、HIVを処置するための他の薬物、HIVプロテアーゼ阻害剤、HIV逆転写酵素阻害剤、HIVインテグラーゼ阻害剤、HIV非触媒部位(またはアロステリック)インテグラーゼ阻害剤、HIV侵入(融合)阻害剤、HIV成熟阻害剤、潜伏反転剤、カプシド阻害剤、免疫に基づいた療法、PI3K阻害剤、HIV抗体、および二重特異性抗体、および「抗体様の」治療タンパク質、ならびにこれらの組合せからなる群から選択される。
HIV併用薬
HIV併用薬
併用薬の例として、ATRIPLA(登録商標)(エファビレンツ、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン);COMPLERA(登録商標)(EVIPLERA(登録商標);リルピビリン、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン);STRIBILD(登録商標)(エルビテグラビル、コビシスタット、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン);TRUVADA(登録商標)(テノホビルジソプロキシルフマル酸塩およびエムトリシタビン;TDF+FTC);DESCOVY(登録商標)(テノホビルアラフェナミドおよびエムトリシタビン);ODEFSEY(登録商標)(テノホビルアラフェナミド、エムトリシタビン、およびリルピビリン);GENVOYA(登録商標)(テノホビルアラフェナミド、エムトリシタビン、コビシスタット、およびエルビテグラビル);ダルナビル、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エムトリシタビン、およびコビシスタット;エファビレンツ、ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩;ラミブジンおよびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩;テノホビルおよびラミブジン;テノホビルアラフェナミドおよびエムトリシタビン;テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩およびエムトリシタビン;テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エムトリシタビン、およびリルピビリン;テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エムトリシタビン、コビシスタット、およびエルビテグラビル;COMBIVIR(登録商標)(ジドブジンおよびラミブジン;AZT+3TC);EPZICOM(登録商標)(LIVEXA(登録商標);アバカビル硫酸塩およびラミブジン;ABC+3TC);KALETRA(登録商標)(ALUVIA(登録商標);ロピナビルおよびリトナビル);TRIUMEQ(登録商標)(ドルテグラビル、アバカビル、およびラミブジン);TRIZIVIR(登録商標)(アバカビル硫酸塩、ジドブジン、およびラミブジン;ABC+AZT+3TC);アタザナビルおよびコビシスタット;アタザナビル硫酸塩およびコビシスタット;アタザナビル硫酸塩およびリトナビル;ダルナビルおよびコビシスタット;ドルテグラビルおよびリルピビリン;ドルテグラビルおよびリルピビリン塩酸塩;ドルテグラビル、アバカビル硫酸塩、およびラミブジン;ラミブジン、ネビラピン、およびジドブジン;ラルテグラビルおよびラミブジン;ドラビリン、ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩;ドラビリン、ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシル;ドルテグラビル+ラミブジン、ラミブジン+アバカルビル+ジドブジン、ラミブジン+アバカルビル、ラミブジン+テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、ラミブジン+ジドブジン+ネビラピン、ロピナビル+リトナビル、ロピナビル+リトナビル+アバカビル+ラミブジン、ロピナビル+リトナビル+ジドブジン+ラミブジン、テノホビル+ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩+エムトリシタビン+リルピビリン塩酸塩、ロピナビル、リトナビル、ジドブジンおよびラミブジン;Vacc-4xおよびロミデプシン;ならびにAPH-0812が挙げられる。
他のHIV薬物
他のHIV薬物
HIVを処置するための他の薬物の例として、アセマンナン、アリスポリビル、BanLec、デフェリプロン、Gamimune、メテンケファリン、ナルトレキソン、Prolastin、REP 9、RPI-MN、VSSP、H1viral、SB-728-T、1,5-ジカフェオイルキナ酸、rHIV7-shl-TAR-CCR5RZ、AAV-eCD4-Ig遺伝子療法、MazF遺伝子療法、BlockAide、ABX-
464、AG-1105、APH-0812、BIT-225、CYT-107、HGTV-43、HPH-116、HS-10234、IMO-3100、IND-02、MK-1376、MK-8507、MK-8591、NOV-205、PA-1050040(PA-040)、PGN-007、SCY-635、SB-9200、SCB-719、TR-452、TEV-90110、TEV-90112、TEV-90111、TEV-90113、RN-18、Immuglo、およびVIR-576が挙げられる。
HIVプロテアーゼ阻害剤
464、AG-1105、APH-0812、BIT-225、CYT-107、HGTV-43、HPH-116、HS-10234、IMO-3100、IND-02、MK-1376、MK-8507、MK-8591、NOV-205、PA-1050040(PA-040)、PGN-007、SCY-635、SB-9200、SCB-719、TR-452、TEV-90110、TEV-90112、TEV-90111、TEV-90113、RN-18、Immuglo、およびVIR-576が挙げられる。
HIVプロテアーゼ阻害剤
HIVプロテアーゼ阻害剤の例として、アンプレナビル、アタザナビル、ブレカナビル、ダルナビル、ホスアンプレナビル、ホスアンプレナビルカルシウム、インジナビル、インジナビル硫酸塩、ロピナビル、ネルフィナビル、ネルフィナビルメシル酸塩、リトナビル、サキナビル、サキナビルメシル酸塩、チプラナビル、DG-17、TMB-657(PPL-100)、T-169、BL-008、およびTMC-310911が挙げられる。
HIVの逆転写酵素阻害剤
HIVの逆転写酵素阻害剤
HIVの逆転写酵素の非ヌクレオシドまたは非ヌクレオチド阻害剤の例として、ダピビリン、デラビルジン、デラビルジンメシル酸塩、ドラビリン、エファビレンツ、エトラビリン、レンチナン、ネビラピン、リルピビリン、AIC-292、KM-023、およびVM-1500が挙げられる。
HIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤の例として、アデホビル、アデホビルジピボキシル、アズブジン(azvudine)、エムトリシタビン、テノホビル、テノホビルアラフェナミド、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、VIDEX(登録商標)およびVIDEX EC(登録商標)(ジダノシン、ddl)、アバカビル、アバカビル硫酸塩、アロブジン、アプリシタビン、センサブジン、ジダノシン、エルブシタビン、フェスチナビル、フォサルブジンチドキシル、CMX-157、ダピビリン、ドラビリン、エトラビリン、OCR-5753、テノホビルジソプロキシルオロテート、フォジブジンチドキシル、ラミブジン、ホスファジド、スタブジン、ザルシタビン、ジドブジン、GS-9131、GS-9148、ならびにKP-1461が挙げられる。
HIVインテグラーゼ阻害剤
HIVインテグラーゼ阻害剤
HIVインテグラーゼ阻害剤の例として、エルビテグラビル、クルクミン、クルクミンの誘導体、チコリ酸、チコリ酸の誘導体、3,5-ジカフェオイルキナ酸、3,5-ジカフェオイルキナ酸の誘導体、アウリントリカルボン酸、アウリントリカルボン酸の誘導体、コーヒー酸フェネチルエステル、コーヒー酸フェネチルエステルの誘導体、チルホスチン、チルホスチンの誘導体、ケルセチン、ケルセチンの誘導体、ラルテグラビル、ドルテグラビル、JTK-351、ビクテグラビル、AVX-15567、カボテグラビル(長時間作用型の注射剤)、ジケトキノリン-4-1誘導体、インテグラーゼ-LEDGF阻害剤、ledgins、M-522、M-532、NSC-310217、NSC-371056、NSC-48240、NSC-642710、NSC-699171、NSC-699172、NSC-699173、NSC-699174、スチルベンジスルホン酸、T-169およびカボテグラビルが挙げられる。
HIV非触媒部位、またはアロステリック、インテグラーゼ阻害剤(NCINI)の例として、CX-05045、CX-05168、およびCX-14442が挙げられる。HIV侵入阻害剤
HIV侵入(融合)阻害剤の例として、セニクリビロック、CCR5阻害剤、gp41阻害剤、CD4付着阻害剤、gp120阻害剤、およびCXCR4阻害剤が挙げられる。
CCR5阻害剤の例として、アプラビロック、ビクリビロック、マラビロク、セニクリビロック、PRO-140、アダプタビル(RAP-101)、ニフェビロック(nifeviroc)(TD-0232)、抗GP120/CD4またはCCR5二重特異性抗体、B-07、MB-66、ポリペプチドC25P、TD-0680、およびvMIP(Haimipu)が挙げられる。
gp41阻害剤の例として、アルブビルチド、エンフビルチド、BMS-986197、エンフビルチドバイオベター、エンフビルチドバイオシミラー、HIV-1融合阻害剤(P26-Bapc)、ITV-1、ITV-2、ITV-3、ITV-4、PIE-12三量体およびシフビルチドが挙げられる。
CD4付着阻害剤の例として、イバリズマブおよびCADA類似体が挙げられる。
gp120阻害剤の例として、Radha-108(receptol)3B3-PE38、BanLec、ベントナイト系ナノメディシン、ホステムサビルトロメタミン(fostemsavir tromethamine)、IQP-0831、およびBMS-663068が挙げられる。
CXCR4阻害剤の例として、プレリキサフォル、ALT-1188、N15ペプチド、およびvMIP(Haimipu)が挙げられる。
HIV成熟阻害剤
HIV成熟阻害剤
HIV成熟阻害剤の例として、BMS-955176およびGSK-2838232が挙げられる。
潜伏反転剤
潜伏反転剤
潜伏反転剤の例として、ヒストン脱アセチル化酵素(HDAC)阻害剤、プロテアソーム阻害剤、例えばベルケイド、タンパク質キナーゼC(PKC)活性化剤、BET-ブロモドメイン4(BRD4)阻害剤、イオノマイシン、PMA、SAHA(スベラニロヒドロキサム酸、またはスベロイル、アニリド、およびヒドロキサム酸)、IL-15、JQ1、ジスルフラム、アンホテリシンB、およびユビキチン阻害剤、例えば、ラルガゾール類似体、およびGSK-343が挙げられる。
HDAC阻害剤の例として、ロミデプシン、ボリノスタット、およびパノビノスタットが挙げられる。
PKC活性化剤の例として、インドラクタム、プロストラチン、インゲノールB、およびDAG-ラクトンが挙げられる。
カプシド阻害剤
カプシド阻害剤
カプシド阻害剤の例として、カプシド重合阻害剤またはカプシド破壊化合物、HIVヌクレオカプシドp7(NCp7)阻害剤、例えば、アゾジカルボンアミド、HIV p24カプシドタンパク質阻害剤、AVI-621、AVI-101、AVI-201、AVI-301、およびAVI-CAN1-15シリーズが挙げられる。
免疫に基づく療法
免疫に基づく療法
免疫に基づく療法の例として、toll様受容体モジュレーター、例えばtlr1、t
lr2、tlr3、tlr4、tlr5、tlr6、tlr7、tlr8、tlr9、tlr10、tlr11、tlr12、およびtlr13;プログラム細胞死タンパク質1(Pd-1)モジュレーター;プログラム死リガンド1(Pd-L1)モジュレーター;IL-15アゴニスト;DermaVir;インターロイキン-7;プラケニル(ヒドロキシクロロキン);プロロイキン(アルデスロイキン、IL-2);インターフェロンアルファ;インターフェロンアルファ-2b;インターフェロンアルファ-n3;ペグ化インターフェロンアルファ;インターフェロンガンマ;ヒドロキシウレア;ミコフェノール酸モフェチル(MPA)およびそのエステル誘導体ミコフェノール酸モフェチル(MMF);リバビリン;リンタトリモド;ポリマーポリエチレンイミン(PEI);gepon;リンタトリモド;IL-12;WF-10;VGV-1;MOR-22;BMS-936559;CYT-107、インターロイキン-15/Fc融合タンパク質、ノルムフェロン(normferon)、ペグインターフェロンアルファ-2a、ペグインターフェロンアルファ-2b、組換えインターロイキン-15、RPI-MN、GS-9620、ならびにIR-103が挙げられる。
ホスファチジルイノシトール3-キナーゼ(PI3K)阻害剤
lr2、tlr3、tlr4、tlr5、tlr6、tlr7、tlr8、tlr9、tlr10、tlr11、tlr12、およびtlr13;プログラム細胞死タンパク質1(Pd-1)モジュレーター;プログラム死リガンド1(Pd-L1)モジュレーター;IL-15アゴニスト;DermaVir;インターロイキン-7;プラケニル(ヒドロキシクロロキン);プロロイキン(アルデスロイキン、IL-2);インターフェロンアルファ;インターフェロンアルファ-2b;インターフェロンアルファ-n3;ペグ化インターフェロンアルファ;インターフェロンガンマ;ヒドロキシウレア;ミコフェノール酸モフェチル(MPA)およびそのエステル誘導体ミコフェノール酸モフェチル(MMF);リバビリン;リンタトリモド;ポリマーポリエチレンイミン(PEI);gepon;リンタトリモド;IL-12;WF-10;VGV-1;MOR-22;BMS-936559;CYT-107、インターロイキン-15/Fc融合タンパク質、ノルムフェロン(normferon)、ペグインターフェロンアルファ-2a、ペグインターフェロンアルファ-2b、組換えインターロイキン-15、RPI-MN、GS-9620、ならびにIR-103が挙げられる。
ホスファチジルイノシトール3-キナーゼ(PI3K)阻害剤
PI3K阻害剤の例として、イデラリシブ、アルペリシブ、ブパルリシブ、CAIオロテート、コパンリシブ、ドゥベリシブ、ゲダトリシブ、ネラチニブ、パヌリシブ、ペリホシン、ピクチリシブ、ピララリシブ、プキチニブメシル酸塩、リゴセルチブ、リゴセルチブナトリウム、ソノリシブ、タセリシブ、AMG-319、AZD-8186、BAY-1082439、CLR-1401、CLR-457、CUDC-907、DS-7423、EN-3342、GSK-2126458、GSK-2269577、GSK-2636771、INCB-040093、LY-3023414、MLN-1117、PQR-309、RG-7666、RP-6530、RV-1729、SAR-245409、SAR-260301、SF-1126、TGR-1202、UCB-5857、VS-5584、XL-765、およびZSTK-474が挙げられる。
アルファ-4/ベータ-7アンタゴニスト
アルファ-4/ベータ-7アンタゴニスト
インテグリンアルファ-4/ベータ-7アンタゴニストの例として、PTG-100、TRK-170、アブリルマブ、エトロリズマブ、カロテグラストメチル、およびベドリズマブが挙げられる。
HIV抗体、二重特異性抗体、および「抗体様」治療タンパク質
HIV抗体、二重特異性抗体、および「抗体様」治療タンパク質
HIV抗体、二重特異性抗体、および「抗体様」治療タンパク質の例として、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、bnABs(広域中和HIV-1抗体)、BMS-936559、TMB-360、およびHIV gp120またはgp41を標的とするもの、HIVを標的とする抗体動員分子、抗CD63モノクローナル抗体、抗GBウイルスC抗体、抗GP120/CD4、CCR5二重特異性抗体、抗nef単一ドメイン抗体、抗Rev抗体、ラクダ由来抗CD18抗体、ラクダ由来抗ICAM-1抗体、DCVax-001、gp140標的化抗体、gp41系HIV治療抗体、ヒト組換えmAbs(PGT-121)、イバリズマブ、Immuglo、MB-66が挙げられる。
このような方式でHIVを標的とするものの例として、バビツキシマブ、UB-421、C2F5、C2G12、C4E10、C2F5+C2G12+C4E10、3-BNC-117、PGT145、PGT121、MDX010(イピリムマブ)、VRC01、A32、7B2、10E8、VRC-07-523、VRC-HIVMAB080-00-AB、MGD-014およびVRC07が挙げられる。
薬物動態増強剤
薬物動態増強剤
薬物動態増強剤の例として、コビシスタットおよびリトナビルが挙げられる。
追加の治療剤
追加の治療剤
追加の治療剤の例として、WO2004/096286(Gilead Sciences)、WO2006/015261(Gilead Sciences)、WO2006/110157(Gilead Sciences)、WO2012/003497(Gilead Sciences)、WO2012/003498(Gilead Sciences)、WO2012/145728(Gilead Sciences)、WO2013/006738(Gilead Sciences)、WO2013/159064(Gilead Sciences)、WO2014/100323(Gilead Sciences)、US2013/0165489(University of
Pennsylvania)、US2014/0221378(日本たばこ産業株式会社)、US2014/0221380(日本たばこ産業株式会社)、WO2009/062285(Boehringer Ingelheim)、WO2010/130034(Boehringer Ingelheim)、WO2013/006792(Pharma Resources)、US20140221356(Gilead Sciences)、US20100143301(Gilead Sciences)およびWO2013/091096(Boehringer Ingelheim)に開示されている化合物が挙げられる。
HIVワクチン
Pennsylvania)、US2014/0221378(日本たばこ産業株式会社)、US2014/0221380(日本たばこ産業株式会社)、WO2009/062285(Boehringer Ingelheim)、WO2010/130034(Boehringer Ingelheim)、WO2013/006792(Pharma Resources)、US20140221356(Gilead Sciences)、US20100143301(Gilead Sciences)およびWO2013/091096(Boehringer Ingelheim)に開示されている化合物が挙げられる。
HIVワクチン
HIVワクチンの例としては、ペプチドワクチン、組換えサブユニットタンパク質ワクチン、生ベクターワクチン、DNAワクチン、CD4由来ペプチドワクチン、ワクチンの組合せ、rgp120(AIDSVAX)、ALVAC HIV(vCP1521)/AIDSVAX B/E(gp120)(RV144)、モノマーgp120 HIV-1サブタイプCワクチン、Remune、ITV-1、Contre Vir、Ad5-ENVA-48、DCVax-001(CDX-2401)、Vacc-4x、Vacc-C5、VAC-3S、マルチクレード(multiclade)DNA組換えアデノウイルス-5(rAd5)、Pennvax-G、Pennvax-GP、HIV-TriMix-mRNAワクチン、HIV-LAMP-vax、Ad35、Ad35-GRIN、NAcGM3/VSSP ISA-51、ポリICLCアジュバント化ワクチン、TatImmune、GTU-multiHIV(FIT-06)、gp140[デルタ]V2.TV1+MF-59、rVSVIN HIV-1 gagワクチン、SeV-Gagワクチン、AT-20、DNK-4、ad35-Grin/ENV、TBC-M4、HIVAX、HIVAX-2、NYVAC-HIV-PT1、NYVAC-HIV-PT4、DNA-HIV-PT123、rAAV1-PG9DP、GOVX-B11、GOVX-B21、TVI-HIV-1、Ad-4(Ad4-env Clade C+Ad4-mGag)、EN41-UGR7C、EN41-FPA2、PreVaxTat、AE-H、MYM-V101、CombiHIVvac、ADVAX、MYM-V201、MVA-CMDR、DNA-Ad5 gag/pol/nef/nev(HVTN505)、MVATG-17401、ETV-01、CDX-1401、rcAD26.MOS1.HIV-Env、Ad26.Mod.HIVワクチン、AGS-004、AVX-101、AVX-201、PEP-6409、SAV-001、ThV-01、TL-01、TUTI-16、VGX-3300、IHV-001、およびウイルス様粒子ワクチン、例えば、偽ビリオンワクチン、CombiVICHvac、LFn-p24 B/C融合ワクチン、GTU系DNAワクチン、HIV gag/pol/nef/env DNAワクチン、抗TAT HIVワクチン、コンジュゲートポリペプチドワクチン、樹状細胞ワクチン、gag系DNAワクチン、GI-2010、gp41 HIV-1ワクチン、HIVワクチン(PIKAアジュバント)、Ii-key/MHCクラスIIエピトープハイブ
リッドペプチドワクチン、ITV-2、ITV-3、ITV-4、LIPO-5、マルチクレードEnvワクチン、MVAワクチン、Pennvax-GP、pp71欠損HCMVベクターHIV gagワクチン、組換えペプチドワクチン(HIV感染)、NCI、rgp160 HIVワクチン、RNActive HIVワクチン、SCB-703、Tat Oyiワクチン、TBC-M4、治療HIVワクチン、UBI HIV gp120、Vacc-4x + ロミデプシン、バリアントgp120ポリペプチドワクチン、rAd5 gag-pol env A/B/Cワクチンが挙げられる。
HIV併用療法
リッドペプチドワクチン、ITV-2、ITV-3、ITV-4、LIPO-5、マルチクレードEnvワクチン、MVAワクチン、Pennvax-GP、pp71欠損HCMVベクターHIV gagワクチン、組換えペプチドワクチン(HIV感染)、NCI、rgp160 HIVワクチン、RNActive HIVワクチン、SCB-703、Tat Oyiワクチン、TBC-M4、治療HIVワクチン、UBI HIV gp120、Vacc-4x + ロミデプシン、バリアントgp120ポリペプチドワクチン、rAd5 gag-pol env A/B/Cワクチンが挙げられる。
HIV併用療法
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ATRIPLA(登録商標)(エファビレンツ、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン);COMPLERA(登録商標)(EVIPLERA(登録商標);リルピビリン、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン);STRIBILD(登録商標)(エルビテグラビル、コビシスタット、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン);TRUVADA(登録商標)(テノホビルジソプロキシルフマル酸塩およびエムトリシタビン;TDF+FTC);DESCOVY(登録商標)(テノホビルアラフェナミドおよびエムトリシタビン);ODEFSEY(登録商標)(テノホビルアラフェナミド、エムトリシタビン、およびリルピビリン);GENVOYA(登録商標)(テノホビルアラフェナミド、エムトリシタビン、コビシスタット、およびエルビテグラビル);アデホビル;アデホビルジピボキシル
;コビシスタット;エムトリシタビン;テノホビル;テノホビルジソプロキシル;テノホビルジソプロキシルフマル酸塩;テノホビルアラフェナミド;テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩;TRIUMEQ(登録商標)(ドルテグラビル、アバカビル、およびラミブジン);ドルテグラビル、アバカビル硫酸塩、およびラミブジン;ラルテグラビル;ラルテグラビルおよびラミブジン;マラビロク;エンフビルチド;ALUVIA(登録商標)(KALETRA(登録商標);ロピナビルおよびリトナビル);COMBIVIR(登録商標)(ジドブジンおよびラミブジン;AZT+3TC);EPZICOM(登録商標)(LIVEXA(登録商標);アバカビル硫酸塩およびラミブジン;ABC+3TC);TRIZIVIR(登録商標)(アバカビル硫酸塩、ジドブジン、およびラミブジン;ABC+AZT+3TC);リルピビリン;リルピビリン塩酸塩;アタザナビル硫酸塩およびコビシスタット;アタザナビルおよびコビシスタット;ダルナビルおよびコビシスタット;アタザナビル;アタザナビル硫酸塩;ドルテグラビル;エルビテグラビル;リトナビル;アタザナビル硫酸塩およびリトナビル;ダルナビル;ラミブジン;プロラスチン;ホスアンプレナビル;ホスアンプレナビルカルシウムエファビレンツ;エトラビリン;ネルフィナビル;ネルフィナビルメシル酸塩;インターフェロン;ジダノシン;スタブジン;インジナビル;インジナビル硫酸塩;テノホビルおよびラミブジン;ジドブジン;ネビラピン;サキナビル;サキナビルメシル酸塩;アルデスロイキン;ザルシタビン;チプラナビル;アンプレナビル;デラビルジン;デラビルジンメシル酸塩;Radha-108(receptol);ラミブジンおよびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩;エファビレンツ、ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩;ホスファジド;ラミブジン、ネビラピン、およびジドブジン;アバカビル;ならびにアバカビル硫酸塩から選択される、1、2、3、4つ、またはそれより多い追加の治療剤と組み合わされる。
;コビシスタット;エムトリシタビン;テノホビル;テノホビルジソプロキシル;テノホビルジソプロキシルフマル酸塩;テノホビルアラフェナミド;テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩;TRIUMEQ(登録商標)(ドルテグラビル、アバカビル、およびラミブジン);ドルテグラビル、アバカビル硫酸塩、およびラミブジン;ラルテグラビル;ラルテグラビルおよびラミブジン;マラビロク;エンフビルチド;ALUVIA(登録商標)(KALETRA(登録商標);ロピナビルおよびリトナビル);COMBIVIR(登録商標)(ジドブジンおよびラミブジン;AZT+3TC);EPZICOM(登録商標)(LIVEXA(登録商標);アバカビル硫酸塩およびラミブジン;ABC+3TC);TRIZIVIR(登録商標)(アバカビル硫酸塩、ジドブジン、およびラミブジン;ABC+AZT+3TC);リルピビリン;リルピビリン塩酸塩;アタザナビル硫酸塩およびコビシスタット;アタザナビルおよびコビシスタット;ダルナビルおよびコビシスタット;アタザナビル;アタザナビル硫酸塩;ドルテグラビル;エルビテグラビル;リトナビル;アタザナビル硫酸塩およびリトナビル;ダルナビル;ラミブジン;プロラスチン;ホスアンプレナビル;ホスアンプレナビルカルシウムエファビレンツ;エトラビリン;ネルフィナビル;ネルフィナビルメシル酸塩;インターフェロン;ジダノシン;スタブジン;インジナビル;インジナビル硫酸塩;テノホビルおよびラミブジン;ジドブジン;ネビラピン;サキナビル;サキナビルメシル酸塩;アルデスロイキン;ザルシタビン;チプラナビル;アンプレナビル;デラビルジン;デラビルジンメシル酸塩;Radha-108(receptol);ラミブジンおよびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩;エファビレンツ、ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩;ホスファジド;ラミブジン、ネビラピン、およびジドブジン;アバカビル;ならびにアバカビル硫酸塩から選択される、1、2、3、4つ、またはそれより多い追加の治療剤と組み合わされる。
上に列挙された追加の治療剤は、上に列挙されたクラスのうちの1つより多くに含まれる場合もあることを当業者は理解されたい。特定のクラスは、これらのクラスに列挙された化合物の機能性を限定することを意図するものではない。
具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤およびHIVの
逆転写酵素の非ヌクレオシド阻害剤と組み合わされる。別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、およびHIVプロテーゼ阻害化合物と組み合わされる。追加の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、HIVの逆転写酵素の非ヌクレオシド阻害剤、および薬物動態増強剤と組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、少なくとも1つのHIVの逆転写酵素のヌクレオシド阻害剤、インテグラーゼ阻害剤、および薬物動態増強剤と組み合わされる。別の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、2つのHIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤と組み合わされる。
逆転写酵素の非ヌクレオシド阻害剤と組み合わされる。別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、およびHIVプロテーゼ阻害化合物と組み合わされる。追加の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、HIVの逆転写酵素の非ヌクレオシド阻害剤、および薬物動態増強剤と組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、少なくとも1つのHIVの逆転写酵素のヌクレオシド阻害剤、インテグラーゼ阻害剤、および薬物動態増強剤と組み合わされる。別の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、2つのHIVの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アバカビル硫酸塩、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、テノホビルアラフェナミド、またはテノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルアラフェナミド、またはテノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アバカルビル硫酸塩、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルアラフェナミド、およびテノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩からなる群から選択される第1の追加の治療剤、ならびにエムトリシタビンおよびラミブジンからなる群から選択される第2の追加の治療剤と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルアラフェナミド、およびテノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩からなる群から選択される第1の追加の治療剤、ならびに第2の追加の治療剤と組み合わされ、第2の追加の治療剤は、エムトリシタビンである。
本明細書に開示されている化合物(例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶)は、本明細書に記載の化合物の任意の投薬量で(例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の1mgから500mg)1つまたは複数の追加の治療剤と組み合わされてもよい。
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、5~30mgのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミド、および200mgのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、5~10、5~15、5~20、5~25、25~30、20~30、15~30、または10~30mgのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミド、および200mgのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、10mgのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミド、および200mgのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特
定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、25mgのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミド、および200mgのエムトリシタビンと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物(例えば、式(I)の化合物)は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で(例えば、1mgから500mgの化合物)、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、25mgのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミド、および200mgのエムトリシタビンと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物(例えば、式(I)の化合物)は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で(例えば、1mgから500mgの化合物)、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、200~400mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシル、および200mgのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、200~250、200~300、200~350、250~350、250~400、350~400、300~400、または250~400mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシル、および200mgのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、300mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシル、および200mgのエムトリシタビンと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物(例えば、式(I)の化合物)は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で(例えば、1mgから500mgの化合物)、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
一実施形態では、1つまたは複数(例えば、1、2、3、1もしくは2、または1から3つ)の追加の治療剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含むキットが提供される。
産児調節(避妊薬)併用療法
産児調節(避妊薬)併用療法
産児調節(避妊薬)に使用される治療剤として、酢酸シプロテロン、デソゲストレル、ジエノゲスト、ドロスピレノン、吉草酸エストラジオール、エチニルエストラジオール、エチノジオール、エトノゲストレル、レボメフォレート(levomefolate)、レボノルゲストレル、リネストレノール、酢酸メドロキシプロゲステロン、メストラノール、ミフェプリストン、ミソプロストール、酢酸ノメゲストロール、ノルエルゲストロミン、ノルエチンドロン、ノルエチノドレル、ノルゲスチメート、オルメロキシフェン、酢酸セゲステルソン(segestersone acetate)、酢酸ウリプリスタル、およびこれらの任意の組合せが挙げられる。
一実施形態では、1つまたは複数(例えば、1、2、3、1もしくは2、または1から3つ)の追加の治療剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含むキットが提供される。
遺伝子療法および細胞療法
遺伝子療法および細胞療法
遺伝子をサイレンシングする遺伝子修飾;感染細胞を直接死滅させる遺伝的手法;感染細胞への免疫応答を増強する患者自身の免疫系のほとんどを置き換えるか、または感染細胞を死滅させる患者自身の免疫系を活性化するか、または感染細胞を見つけて死滅させるよう設計された免疫細胞の注入;感染に対する内因性免疫応答をさらに変更するよう細胞の活性を改変する遺伝的手法を含む遺伝子療法および細胞療法。
樹状細胞療法の例はAGS-004を含む。
遺伝子編集剤
遺伝子編集剤
ゲノム編集系は、CRISPR/Cas9系、ジンクフィンガーヌクレアーゼ系、TALEN系、ホーミングエンドヌクレアーゼ系、およびメガヌクレアーゼ系からなる群から選択される。
HIVを標的とするCRISPR/Cas9系の例として、EBT101が挙げられる。
CAR-T細胞療法
CAR-T細胞療法
免疫エフェクター細胞の集団を操作して、HIV抗原結合ドメインを含むキメラ抗原受容体(CAR)を発現させる。HIV抗原として、HIVエンベロープタンパク質またはその一部、gp120またはその一部、gp120のCD4結合部位、gp120のCD4誘導結合部位、gp120のNグリカン、gp120のV2、gp41の膜近位領域が挙げられる。免疫エフェクター細胞は、T細胞またはNK細胞である。一部の実施形態では、T細胞は、CD4+ T細胞、CD8+ T細胞、またはそれらの組合せである。
HIV CAR-Tの例として、VC-CAR-Tが挙げられる。
TCR-T細胞療法
TCR-T細胞療法
TCR-T細胞を操作して、ウイルス感染細胞の表面に存在するHIV由来ペプチドを標的とする。
HBV組合せ
HBV組合せ
ある特定の実施形態では、感染を有するかまたは感染を有するリスクのあるヒトのHBV感染を処置または防止するための方法であって、治療有効量の1つまたは複数(例えば、1、2、3、4、1もしくは2、1から3、または1から4つ)の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、ヒトに投与することを含む、方法が提供される。一実施形態では、感染を有するかまたは感染を有するリスクのあるヒトのHBV感染を処置するための方法であって、治療有効量の1つまたは複数(例えば、1、2、3、4、1もしくは2、1から3、または1から4つ)の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、ヒトに投与することを含む、方法が提供される。
ある特定の実施形態では、本開示は、HBV感染を処置するための方法であって、HBV感染を処置するために適切な、治療有効量の1つまたは複数(例えば、1、2、3、4、1もしくは2、1から3、または1から4つ)の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、それを必要とする患者に投与することを含む、方法を提供する。
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、1、2、3、4つ、またはそれより多い追加の治療剤と組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、2つの追加の治療剤と組み合わされる。他の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、3つの追加の治療剤と組み合わされる。さらなる実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、4つの追加の治療剤と組み合わされる。1、2、3、4つ、またはそれより多い追加の治療剤は、同じクラスの治療剤から選択される異なる治療剤であってもよく、および/またはこれらは、異なるクラスの治療剤から選択されてもよい。
HBV併用療法の投与
HBV併用療法の投与
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物を、上記の1つまたは複数の追加の治療剤と組み合わせる場合、組成物の構成成分は、同時または逐次的レジメンとして投与される。逐次的に投与される場合、組合せは、2回またはそれより多い投与で投与されてもよい。
本明細書に開示されている化合物の1つまたは複数の追加の治療剤との共投与は、一般的に、各薬剤の治療有効量が患者の体内に存在するような、本明細書に開示されている化合物および1つまたは複数の追加の治療剤の同時または逐次的投与を指す。
共投与は、単位投薬量の1つまたは複数の追加の治療剤の投与前後の、単位投薬量の本明細書に開示されている化合物の投与を含む。本明細書に開示されている化合物は、1つまたは複数の追加の治療剤の投与から数秒、数分、または数時間以内に投与されてもよい。例えば、一部の実施形態では、本明細書に開示されている化合物の単位用量が最初に投与された後、数秒または数分以内に、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が投与される。あるいは、他の実施形態では、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が最初に投与された後、数秒または数分以内に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。一部の実施形態では、本明細書に開示されている化合物の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間(例えば、1~12時間)後に、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が投与される。他の実施形態では、1つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間(例えば、1~12時間)後に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物は、患者への同時投与のための単位剤形で、例えば、経口投与用の固体剤形として、1つまたは複数の追加の治療剤と組み合わされる。
ある特定の実施形態では、本明細書に記載されている化合物は、HBVを処置するために有用な1つまたは複数の他の化合物を必要に応じて含有してもよい錠剤として製剤化される。ある特定の実施形態では、錠剤は、HBVを処置するための別の有効成分を含有してもよい。
ある特定の実施形態では、このような錠剤は、毎日1回投薬するために適切である。
HBV併用療法
HBV併用療法
上記実施形態では、追加の治療剤は、抗HBV剤であってもよい。例えば、追加の治療剤は、HBV併用薬、HBVを処置するための他の薬物、3-ジオキシゲナーゼ(IDO)阻害剤、ウイルスmRNAを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド、アポリポタンパク質A1モジュレーター、アルギナーゼ阻害剤、BおよびTリンパ球アテニュエーター阻害剤、Bruton型チロシンキナーゼ(BTK)阻害剤、CCR2ケモカインアンタゴニスト、CD137阻害剤、CD160阻害剤、CD305阻害剤、CD4アゴニストおよびモジュレーター、HBcAgを標的とする化合物、B型肝炎コア抗原(HBcAg)を標的とする化合物、共有結合閉環状DNA(cccDNA)阻害剤、シクロフィリン阻害剤、サイトカイン、細胞傷害性Tリンパ球関連タンパク質4(ipi4)阻害剤、DNAポリメラーゼ阻害剤、エンドヌクレアーゼモジュレーター、エピジェネティック改変剤、ファルネソイドX受容体アゴニスト、遺伝子改変剤または編集剤、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBV抗体、HBV DNAポリメラーゼ阻害剤、HBV複製阻害剤、HBV RNAse阻害剤、HBVワクチン、HBVウイルス侵入阻害剤、HBx阻害剤、B型肝炎ラージエンベロープタンパク質モジュレーター
、B型肝炎ラージエンベロープタンパク質刺激剤、B型肝炎構造タンパク質モジュレーター、B型肝炎表面抗原(HBsAg)阻害剤、B型肝炎表面抗原(HBsAg)分泌またはアセンブリー阻害剤、B型肝炎ウイルスE抗原阻害剤、B型肝炎ウイルス複製阻害剤、肝炎ウイルス構造タンパク質阻害剤、HIV-1逆転写酵素阻害剤、ヒアルロニダーゼ阻害剤、IAP阻害剤、IL-2アゴニスト、IL-7アゴニスト、免疫グロブリンアゴニスト、免疫グロブリンGモジュレーター、免疫モジュレーター、インドールアミン-2、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、インターフェロンアゴニスト、インターフェロンアルファ1リガンド、インターフェロンアルファ2リガンド、インターフェロンアルファ5リガンドモジュレーター、インターフェロンアルファリガンド、インターフェロンアルファリガンドモジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、インターフェロンベータリガンド、インターフェロンリガンド、インターフェロン受容体モジュレーター、インターロイキン-2リガンド、ipi4阻害剤、リシンデメチラーゼ阻害剤、ヒストンデメチラーゼ阻害剤、KDM5阻害剤、KDM1阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーGメンバー1阻害剤、リンパ球活性化遺伝子3阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、マイクロRNA(miRNA)遺伝子療法剤、Axlのモジュレーター、B7-H3のモジュレーター、B7-H4のモジュレーター、CD160のモジュレーター、CD161のモジュレーター、CD27のモジュレーター、CD47のモジュレーター、CD70のモジュレーター、GITRのモジュレーター、HEVEMのモジュレーター、ICOSのモジュレーター、Merのモジュレーター、NKG2Aのモジュレーター、NKG2Dのモジュレーター、OX40のモジュレーター、SIRPアルファのモジュレーター、TIGITのモジュレーター、Tim-4のモジュレーター、Tyroのモジュレーター、Na+-タウロコール酸共輸送ポリペプチド(NTCP)阻害剤、ナチュラルキラー細胞受容体2B4阻害剤、NOD2遺伝子刺激剤、核タンパク質阻害剤、核タンパク質モジュレーター、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、PEG-インターフェロンラムダ、ペプチジルプロリルイソメラーゼ阻害剤、ホスファチジルイノシトール-3キナーゼ(PI3K)阻害剤、組換えスカベンジャー受容体A(SRA)タンパク質、組換えチモシンアルファ-1、レチノイン酸誘導性遺伝子1刺激剤、逆転写酵素阻害剤、リボヌクレアーゼ阻害剤、RNA DNAポリメラーゼ阻害剤、低分子干渉RNA(siRNA)、短鎖合成ヘアピンRNA(sshRNA)、SLC10A1遺伝子阻害剤、SMAC模倣体、Srcチロシンキナーゼ阻害剤、インターフェロン遺伝子刺激剤(STING)アゴニスト、NOD1の刺激剤、T細胞表面糖タンパク質CD28阻害剤、T細胞表面糖タンパク質CD8モジュレーター、チモシンアゴニスト、チモシンアルファ1リガンド、Tim-3阻害剤、TLR-3アゴニスト、TLR-7アゴニスト、TLR-9アゴニスト、TLR9遺伝子刺激剤、toll様受容体(TLR)モジュレーター、ウイルスリボヌクレオチドレダクターゼ阻害剤、ジンクフィンガーヌクレアーゼまたは合成ヌクレアーゼ(TALEN)、ならびにこれらの組合せからなる群から選択されてもよい。
、B型肝炎ラージエンベロープタンパク質刺激剤、B型肝炎構造タンパク質モジュレーター、B型肝炎表面抗原(HBsAg)阻害剤、B型肝炎表面抗原(HBsAg)分泌またはアセンブリー阻害剤、B型肝炎ウイルスE抗原阻害剤、B型肝炎ウイルス複製阻害剤、肝炎ウイルス構造タンパク質阻害剤、HIV-1逆転写酵素阻害剤、ヒアルロニダーゼ阻害剤、IAP阻害剤、IL-2アゴニスト、IL-7アゴニスト、免疫グロブリンアゴニスト、免疫グロブリンGモジュレーター、免疫モジュレーター、インドールアミン-2、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、インターフェロンアゴニスト、インターフェロンアルファ1リガンド、インターフェロンアルファ2リガンド、インターフェロンアルファ5リガンドモジュレーター、インターフェロンアルファリガンド、インターフェロンアルファリガンドモジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、インターフェロンベータリガンド、インターフェロンリガンド、インターフェロン受容体モジュレーター、インターロイキン-2リガンド、ipi4阻害剤、リシンデメチラーゼ阻害剤、ヒストンデメチラーゼ阻害剤、KDM5阻害剤、KDM1阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーGメンバー1阻害剤、リンパ球活性化遺伝子3阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、マイクロRNA(miRNA)遺伝子療法剤、Axlのモジュレーター、B7-H3のモジュレーター、B7-H4のモジュレーター、CD160のモジュレーター、CD161のモジュレーター、CD27のモジュレーター、CD47のモジュレーター、CD70のモジュレーター、GITRのモジュレーター、HEVEMのモジュレーター、ICOSのモジュレーター、Merのモジュレーター、NKG2Aのモジュレーター、NKG2Dのモジュレーター、OX40のモジュレーター、SIRPアルファのモジュレーター、TIGITのモジュレーター、Tim-4のモジュレーター、Tyroのモジュレーター、Na+-タウロコール酸共輸送ポリペプチド(NTCP)阻害剤、ナチュラルキラー細胞受容体2B4阻害剤、NOD2遺伝子刺激剤、核タンパク質阻害剤、核タンパク質モジュレーター、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、PEG-インターフェロンラムダ、ペプチジルプロリルイソメラーゼ阻害剤、ホスファチジルイノシトール-3キナーゼ(PI3K)阻害剤、組換えスカベンジャー受容体A(SRA)タンパク質、組換えチモシンアルファ-1、レチノイン酸誘導性遺伝子1刺激剤、逆転写酵素阻害剤、リボヌクレアーゼ阻害剤、RNA DNAポリメラーゼ阻害剤、低分子干渉RNA(siRNA)、短鎖合成ヘアピンRNA(sshRNA)、SLC10A1遺伝子阻害剤、SMAC模倣体、Srcチロシンキナーゼ阻害剤、インターフェロン遺伝子刺激剤(STING)アゴニスト、NOD1の刺激剤、T細胞表面糖タンパク質CD28阻害剤、T細胞表面糖タンパク質CD8モジュレーター、チモシンアゴニスト、チモシンアルファ1リガンド、Tim-3阻害剤、TLR-3アゴニスト、TLR-7アゴニスト、TLR-9アゴニスト、TLR9遺伝子刺激剤、toll様受容体(TLR)モジュレーター、ウイルスリボヌクレオチドレダクターゼ阻害剤、ジンクフィンガーヌクレアーゼまたは合成ヌクレアーゼ(TALEN)、ならびにこれらの組合せからなる群から選択されてもよい。
ある特定の実施形態では、本明細書に記載の化合物は、HBVを処置するために有用な1つまたは複数の他の化合物を必要に応じて含有してもよい錠剤として製剤化される。ある特定の実施形態では、錠剤は、HBVを処置するための別の有効成分、例えば、3-ジオキシゲナーゼ(IDO)阻害剤、アポリポタンパク質A1モジュレーター、アルギナーゼ阻害剤、BおよびTリンパ球アテニュエーター阻害剤、Bruton型チロシンキナーゼ(BTK)阻害剤、CCR2ケモカインアンタゴニスト、CD137阻害剤、CD160阻害剤、CD305阻害剤、CD4アゴニストおよびモジュレーター、HBcAgを標的とする化合物、B型肝炎コア抗原(HBcAg)を標的とする化合物、コアタンパク質アロステリックモジュレーター、共有結合閉環状DNA(cccDNA)阻害剤、シクロフィリン阻害剤、細胞傷害性Tリンパ球関連タンパク質4(ipi4)阻害剤、DNAポリメラーゼ阻害剤、エンドヌクレアーゼモジュレーター、エピジェネティック改変剤、ファルネソイドX受容体アゴニスト、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリ
ー阻害剤、HBV DNAポリメラーゼ阻害剤、HBV複製阻害剤、HBV RNAse阻害剤、HBVウイルス侵入阻害剤、HBx阻害剤、B型肝炎ラージエンベロープタンパク質モジュレーター、B型肝炎ラージエンベロープタンパク質刺激剤、B型肝炎構造タンパク質モジュレーター、B型肝炎表面抗原(HBsAg)阻害剤、B型肝炎表面抗原(HBsAg)分泌またはアセンブリー阻害剤、B型肝炎ウイルスE抗原阻害剤、B型肝炎ウイルス複製阻害剤、肝炎ウイルス構造タンパク質阻害剤、HIV-1逆転写酵素阻害剤、ヒアルロニダーゼ阻害剤、IAP阻害剤、IL-2アゴニスト、IL-7アゴニスト、免疫モジュレーター、インドールアミン-2阻害剤、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、インターロイキン-2リガンド、ipi4阻害剤、リシンデメチラーゼ阻害剤、ヒストンデメチラーゼ阻害剤、KDM1阻害剤、KDM5阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーGメンバー1阻害剤、リンパ球活性化遺伝子3阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、Axlのモジュレーター、B7-H3のモジュレーター、B7-H4のモジュレーター、CD160のモジュレーター、CD161のモジュレーター、CD27のモジュレーター、CD47のモジュレーター、CD70のモジュレーター、GITRのモジュレーター、HEVEMのモジュレーター、ICOSのモジュレーター、Merのモジュレーター、NKG2Aのモジュレーター、NKG2Dのモジュレーター、OX40のモジュレーター、SIRPアルファのモジュレーター、TIGITのモジュレーター、Tim-4のモジュレーター、Tyroのモジュレーター、Na+-タウロコール酸共輸送ポリペプチド(NTCP)阻害剤、ナチュラルキラー細胞受容体2B4阻害剤、NOD2遺伝子刺激剤、核タンパク質阻害剤、核タンパク質モジュレーター、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、ペプチジルプロリルイソメラーゼ阻害剤、ホスファチジルイノシトール-3キナーゼ(PI3K)阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1刺激剤、逆転写酵素阻害剤、リボヌクレアーゼ阻害剤、RNA DNAポリメラーゼ阻害剤、SLC10A1遺伝子阻害剤、SMAC模倣体、Srcチロシンキナーゼ阻害剤、インターフェロン遺伝子刺激剤(STING)アゴニスト、NOD1の刺激剤、T細胞表面糖タンパク質CD28阻害剤、T細胞表面糖タンパク質CD8モジュレーター、チモシンアゴニスト、チモシンアルファ1リガンド、Tim-3阻害剤、TLR-3アゴニスト、TLR-7アゴニスト、TLR-9アゴニスト、TLR9遺伝子刺激剤、toll様受容体(TLR)モジュレーター、ウイルスリボヌクレオチドレダクターゼ阻害剤、ならびにこれらの組合せを含有することができる。
ー阻害剤、HBV DNAポリメラーゼ阻害剤、HBV複製阻害剤、HBV RNAse阻害剤、HBVウイルス侵入阻害剤、HBx阻害剤、B型肝炎ラージエンベロープタンパク質モジュレーター、B型肝炎ラージエンベロープタンパク質刺激剤、B型肝炎構造タンパク質モジュレーター、B型肝炎表面抗原(HBsAg)阻害剤、B型肝炎表面抗原(HBsAg)分泌またはアセンブリー阻害剤、B型肝炎ウイルスE抗原阻害剤、B型肝炎ウイルス複製阻害剤、肝炎ウイルス構造タンパク質阻害剤、HIV-1逆転写酵素阻害剤、ヒアルロニダーゼ阻害剤、IAP阻害剤、IL-2アゴニスト、IL-7アゴニスト、免疫モジュレーター、インドールアミン-2阻害剤、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、インターロイキン-2リガンド、ipi4阻害剤、リシンデメチラーゼ阻害剤、ヒストンデメチラーゼ阻害剤、KDM1阻害剤、KDM5阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーGメンバー1阻害剤、リンパ球活性化遺伝子3阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、Axlのモジュレーター、B7-H3のモジュレーター、B7-H4のモジュレーター、CD160のモジュレーター、CD161のモジュレーター、CD27のモジュレーター、CD47のモジュレーター、CD70のモジュレーター、GITRのモジュレーター、HEVEMのモジュレーター、ICOSのモジュレーター、Merのモジュレーター、NKG2Aのモジュレーター、NKG2Dのモジュレーター、OX40のモジュレーター、SIRPアルファのモジュレーター、TIGITのモジュレーター、Tim-4のモジュレーター、Tyroのモジュレーター、Na+-タウロコール酸共輸送ポリペプチド(NTCP)阻害剤、ナチュラルキラー細胞受容体2B4阻害剤、NOD2遺伝子刺激剤、核タンパク質阻害剤、核タンパク質モジュレーター、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、ペプチジルプロリルイソメラーゼ阻害剤、ホスファチジルイノシトール-3キナーゼ(PI3K)阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1刺激剤、逆転写酵素阻害剤、リボヌクレアーゼ阻害剤、RNA DNAポリメラーゼ阻害剤、SLC10A1遺伝子阻害剤、SMAC模倣体、Srcチロシンキナーゼ阻害剤、インターフェロン遺伝子刺激剤(STING)アゴニスト、NOD1の刺激剤、T細胞表面糖タンパク質CD28阻害剤、T細胞表面糖タンパク質CD8モジュレーター、チモシンアゴニスト、チモシンアルファ1リガンド、Tim-3阻害剤、TLR-3アゴニスト、TLR-7アゴニスト、TLR-9アゴニスト、TLR9遺伝子刺激剤、toll様受容体(TLR)モジュレーター、ウイルスリボヌクレオチドレダクターゼ阻害剤、ならびにこれらの組合せを含有することができる。
ある特定の実施形態では、本開示の化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HBV併用薬、HBVワクチン、HBV DNAポリメラーゼ阻害剤、免疫モジュレーター toll様受容体(TLR)モジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、ヒアルロニダーゼ阻害剤、b型肝炎表面抗原(HBsAg)阻害剤、細胞傷害性Tリンパ球関連タンパク質4(ipi4)阻害剤、シクロフィリン阻害剤、HBVウイルス侵入阻害剤、ウイルスmRNAを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド、低分子干渉RNA(siRNA)およびddRNAiエンドヌクレアーゼモジュレーター、リボヌクレオチド(ribonucelotide)レダクターゼ阻害剤、HBV E抗原阻害剤、共有結合閉環状DNA(cccDNA)阻害剤、ファルネソイドX受容体アゴニスト、HBV抗体、CCR2ケモカインアンタゴニスト、チモシンアゴニスト、サイトカイン、核タンパク質モジュレーター、レチノイン酸誘導性遺伝子1刺激剤、NOD2刺激剤、ホスファチジルイノシトール3-キナーゼ(PI3K)阻害剤、インドールアミン-2,3-ジオキシゲナーゼ(IDO)経路阻害剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、組換えチモシンアルファ-1、bruton型チロシンキナーゼ(BTK)阻害剤、KDM阻害剤、HBV複製阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、ならびに他のHBV薬から選択される、1、2、3、4つまたはそれより多い追加の治療剤と組み合わされる。
HBV併用薬
HBV併用薬
HBVの処置のための併用薬の例として、TRUVADA(登録商標)(テノホビルジ
ソプロキシルフマル酸塩およびエムトリシタビン);ABX-203、ラミブジン、およびPEG-IFN-アルファ;ABX-203アデホビル、およびPEG-IFNアルファ;およびINO-1800(INO-9112およびRG7944)が挙げられる。
他のHBV薬
ソプロキシルフマル酸塩およびエムトリシタビン);ABX-203、ラミブジン、およびPEG-IFN-アルファ;ABX-203アデホビル、およびPEG-IFNアルファ;およびINO-1800(INO-9112およびRG7944)が挙げられる。
他のHBV薬
HBVの処置のための他の薬物の例として、アルファ-ヒドロキシトロポロン、アムドキソビル、ベータ-ヒドロキシシトシンヌクレオシド、CCC-0975、エルブシタビン、エゼチミブ、シクロスポリンA、ゲンチオピクリン(ゲンチオピクロシド)、JNJ-56136379、ニタゾキサニド、ビリナパント、NOV-205(molixan、BAM-205)、オリゴチド、ミボチレート(mivotilate)、フエロン、GST-HG-131、レバミソール、Ka Shu Ning、アロフェロン、WS-007、Y-101(Ti Fen Tai)、rSIFN-co、PEG-IIFNm、KW-3、BP-Inter-014、オレアノール酸、HepB-nRNA、cTP-5(rTP-5)、HSK-II-2、HEISCO-106-1、HEISCO-106、Hepbarna、IBPB-006IA、Hepuyinfen、DasKloster 0014-01、ISA-204、Jiangantai(Ganxikang)、MIV-210、OB-AI-004、PF-06、ピクロシド、DasKloster-0039、ヘプランタイ(hepulantai)、IMB-2613、TCM-800B、還元グルタチオン、RO-6864018、RG-7834、UB-551、およびZH-2N、ならびにUS20150210682(Roche)、US2016/0122344(Roche)、WO2015173164、WO2016023877、US2015252057A(Roche)、WO16128335A1(Roche)、WO16120186A1(Roche)、US2016237090A(Roche)、WO16107833A1(Roche)、WO16107832A1(Roche)、US2016176899A(Roche)、WO16102438A1(Roche)、WO16012470A1(Roche)、US2016220586A(Roche)、およびUS2015031687A(Roche)に開示された化合物が挙げられる。
HBVワクチン
HBVワクチン
HBVワクチンは、予防および治療ワクチンの両方を含む。HBV予防ワクチンの例として、Vaxelis、Hexaxim、Heplisav、Mosquirix、DTwP-HBVワクチン、Bio-Hep-B、D/T/P/HBV/M(LBVP-0101;LBVW-0101)、DTwP-Hepb-Hib-IPVワクチン、Heberpenta L、DTwP-HepB-Hib、V-419、CVI-HBV-001、Tetrabhay、B型肝炎予防ワクチン(Advax Super D)、Hepatrol-07、GSK-223192A、ENGERIX B(登録商標)、組換えB型肝炎ワクチン(筋肉内、Kangtai Biological Products)、組換えB型肝炎ワクチン(Hansenual polymorpha酵母、筋肉内、Hualan Biological Engineering)、組換えB型肝炎表面抗原ワクチン、Bimmugen、Euforavac、Eutravac、anrix-DTaP-IPV-Hep B、HBAI-20、Infanrix-DTaP-IPV-Hep B-Hib、Pentabio Vaksin DTP-HB-Hib、Comvac 4、Twinrix、Euvax-B、Tritanrix HB、Infanrix Hep B、Comvax、DTP-Hib-HBVワクチン、DTP-HBVワクチン、Yi Tai、Heberbiovac HB、Trivac HB、GerVax、DTwP-Hep B-Hibワクチン、Bilive、Hepavax-Gene、SUPERVAX、Comvac5、Shanvac-B、Hebsulin、Recombivax HB、Revac B mcf、Revac B+、Fendrix、DTwP-HepB-Hib、DNA-001、Shan6、rhHBsAG
ワクチン、およびDTaP-rHB-Hibワクチンが挙げられる。
ワクチン、およびDTaP-rHB-Hibワクチンが挙げられる。
HBV治療ワクチンの例として、HBsAG-HBIG複合体、ARB-1598、Bio-Hep-B、NASVAC、abi-HB(静脈内)、ABX-203、Tetrabhay、GX-110E、GS-4774、ペプチドワクチン(epsilonPA-44)、Hepatrol-07、NASVAC(NASTERAP)、IMP-321、BEVAC、Revac B mcf、Revac B+、MGN-1333、KW-2、CVI-HBV-002、AltraHepB、VGX-6200、FP-02、FP-02.2、TG-1050、NU-500、HBVax、im/TriGrid/抗原ワクチン、Mega-CD40L-アジュバントワクチン、HepB-v、RG7944(INO-1800)、組換えVLP系治療ワクチン(HBV感染、VLP Biotech)、AdTG-17909、AdTG-17910 AdTG-18202、ChronVac-B、TG-1050、およびLm HBVが挙げられる。
HBV DNAポリメラーゼ阻害剤
HBV DNAポリメラーゼ阻害剤
HBV DNAポリメラーゼ阻害剤の例として、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、エムトリシタビン(EMTRIVA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、テノホビルジピボキシル(tenofovir dipivoxil)、テノホビルジピボキシルフマル酸塩、テノホビルオクタデシルオキシエチルエステル、CMX-157、ベシフォビル(besifovir)、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、エンテカビルマレエート、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、プラデホビル(pradefovir)、クレブジン、リバビリン、ラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))、フォスファジド、ファムシクロビル、フソリン、メタカビル、SNC-019754、FMCA、AGX-1009、AR-II-04-26、HIP-1302、テノホビルジソプロキシルアスパラギン酸塩、テノホビルジソプロキシルオロテート、およびHS-10234が挙げられる。
免疫モジュレーター
免疫モジュレーター
免疫モジュレーターの例として、リンタトリモド、イミドール塩酸塩、インガロン、dermaVir、プラケニル(ヒドロキシクロロキン)、プロロイキン、ヒドロキシウレア、ミコフェノール酸モフェチル(MPA)およびそのエステル誘導体であるミコフェノール酸モフェチル(MMF)、WF-10、リバビリン、IL-12、INO-9112、ポリマーポリエチレンイミン(PEI)、Gepon、VGV-1、MOR-22、BMS-936559、RO-7011785、RO-6871765、およびIR-103が挙げられる。
toll様受容体(TLR)モジュレーター
toll様受容体(TLR)モジュレーター
TLRモジュレーターとして、TLR1、TLR2、TLR3、TLR4、TLR5、TLR6、TLR7、TLR8、TLR9、TLR10、TLR11、TLR12、およびTLR13のモジュレーターが挙げられる。TLR3モジュレーターの例として、リンタトリモド、ポリ-ICLC、RIBOXXON(登録商標)、Apoxxim、RIBOXXIM(登録商標)、IPH-33、MCT-465、MCT-475、およびND-1.1が挙げられる。
TLR7モジュレーターの例として、GS-9620、GSK-2245035、イミキモド、レシキモド、DSR-6434、DSP-3025、IMO-4200、MCT-465、MEDI-9197、3M-051、SB-9922、3M-052、Limtop、TMX-30X、TMX-202、RG-7863、RG-7795、ならびに
US20100143301(Gilead Sciences)、US20110098248(Gilead Sciences)、およびUS20090047249(Gilead Sciences)に開示された化合物が挙げられる。
US20100143301(Gilead Sciences)、US20110098248(Gilead Sciences)、およびUS20090047249(Gilead Sciences)に開示された化合物が挙げられる。
TLR8モジュレーターの例として、モトリモド、レシキモド、3M-051、3M-052、MCT-465、IMO-4200、VTX-763、VTX-1463、ならびにUS20140045849(Janssen)、US20140073642(Janssen)、WO2014/056953(Janssen)、WO2014/076221(Janssen)、WO2014/128189(Janssen)、US20140350031(Janssen)、WO2014/023813(Janssen)、US20080234251(Array Biopharma)、US20080306050(Array Biopharma)、US20100029585(Ventirx Pharma)、US20110092485(Ventirx Pharma)、US20110118235(Ventirx Pharma)、US20120082658(Ventirx Pharma)、US20120219615(Ventirx Pharma)、US20140066432(Ventirx Pharma)、US20140088085(Ventirx Pharma)、US20140275167(Novira Therapeutics)、およびUS20130251673(Novira Therapeutics)に開示された化合物が挙げられる。
TLR9モジュレーターの例として、BB-001、BB-006、CYT-003、IMO-2055、IMO-2125、IMO-3100、IMO-8400、IR-103、IMO-9200、アガトリモド、DIMS-9054、DV-1079、DV-1179、AZD-1419、レフトリモド(MGN-1703)、リテニモド、およびCYT-003-QbG10が挙げられる。
インターフェロンアルファ受容体リガンド
インターフェロンアルファ受容体リガンド
インターフェロンアルファ受容体リガンドの例として、インターフェロンアルファ-2b(INTRON A(登録商標))、ペグ化インターフェロンアルファ-2a(PEGASYS(登録商標))、PEG化インターフェロンアルファ-1b、インターフェロンアルファ1b(HAPGEN(登録商標))、Veldona、Infradure、Roferon-A、YPEG-インターフェロンアルファ-2a(YPEG-rhIFNアルファ-2a)、P-1101、Algeron、Alfarona、Ingaron(インターフェロンガンマ)、rSIFN-co(組換えスーパー化合物インターフェロン)、Yペグインターフェロンアルファ-2b(YPEG-rhIFNアルファ-2b)、MOR-22、ペグインターフェロンアルファ-2b(PEG-INTRON(登録商標))、Bioferon、Novaferon、Inmutag(Inferon)、MULTIFERON(登録商標)、インターフェロンアルファ-n1(HUMOFERON(登録商標))、インターフェロンベータ-1a(AVONEX(登録商標))、Shaferon、インターフェロンアルファ-2b(Axxo)、Alfaferone、インターフェロンアルファ-2b(BioGeneric Pharma)、インターフェロン-アルファ2(CJ)、Laferonum、VIPEG、BLAUFERON-A、BLAUFERON-B、Intermax Alpha、Realdiron、Lanstion、Pegaferon、PDferon-B PDferon-B、インターフェロンアルファ-2b(IFN、Laboratorios Bioprofarma)、アルファインターフェロナ(alfainterferona)2b、Kalferon、Pegnano、Feronsure、PegiHep、インターフェロンアルファ2b(Zydus-Cadila)、インターフェロンアルファ2a、Optipeg A、Realfa 2B、Reliferon、インターフェロンアルファ-2
b(Amega)、インターフェロンアルファ-2b(Virchow)、ロペグインターフェロンアルファ-2b、rHSA-IFNアルファ-2a(組換えヒト血清アルブミンインターフェロンアルファ2a融合タンパク質)、rHSA-IFNアルファ2b、組換えヒトインターフェロンアルファ-(1b、2a、2b)、ペグインターフェロンアルファ-2b(Amega)、ペグインターフェロンアルファ-2a、Reaferon-EC、Proquiferon、Uniferon、Urifron、インターフェロンアルファ-2b(Changchun Institute of Biological Products)、Anterferon、Shanferon、Layfferon、Shang Sheng Lei Tai、INTEFEN、SINOGEN、Fukangtai、Pegstat、rHSA-IFNアルファ-2b、およびInterapo(Interapa)が挙げられる。
ヒアルロニダーゼ阻害剤
b(Amega)、インターフェロンアルファ-2b(Virchow)、ロペグインターフェロンアルファ-2b、rHSA-IFNアルファ-2a(組換えヒト血清アルブミンインターフェロンアルファ2a融合タンパク質)、rHSA-IFNアルファ2b、組換えヒトインターフェロンアルファ-(1b、2a、2b)、ペグインターフェロンアルファ-2b(Amega)、ペグインターフェロンアルファ-2a、Reaferon-EC、Proquiferon、Uniferon、Urifron、インターフェロンアルファ-2b(Changchun Institute of Biological Products)、Anterferon、Shanferon、Layfferon、Shang Sheng Lei Tai、INTEFEN、SINOGEN、Fukangtai、Pegstat、rHSA-IFNアルファ-2b、およびInterapo(Interapa)が挙げられる。
ヒアルロニダーゼ阻害剤
ヒアルロニダーゼ阻害剤の例として、アストドリマーが挙げられる。
B型肝炎表面抗原(HBsAg)阻害剤
B型肝炎表面抗原(HBsAg)阻害剤
HBsAg阻害剤の例として、HBF-0259、PBHBV-001、PBHBV-2-15、PBHBV-2-1、REP-9AC、REP-9C、REP-9、REP-2139、REP-2139-Ca、REP-2165、REP-2055、REP-2163、REP-2165、REP-2053、REP-2031およびREP-006、およびREP-9AC’が挙げられる。
HBsAg分泌阻害剤の例として、BM601が挙げられる。
細胞傷害性Tリンパ球関連タンパク質4(ipi4)阻害剤
細胞傷害性Tリンパ球関連タンパク質4(ipi4)阻害剤
細胞傷害性Tリンパ球関連タンパク質4(ipi4)阻害剤の例として、AGEN-2041、AGEN-1884、イピルミマブ、ベラタセプト、PSI-001、PRS-010、Probody mAb、トレメリムマブ、およびJHL-1155が挙げられる。
シクロフィリン阻害剤
シクロフィリン阻害剤
シクロフィリン阻害剤の例として、CPI-431-32、EDP-494、OCB-030、SCY-635、NVP-015、NVP-018、NVP-019、STG-175、ならびにUS8513184(Gilead Sciences)、US20140030221(Gilead Sciences)、US20130344030(Gilead Sciences)、およびUS20130344029(Gilead
Sciences)に開示された化合物が挙げられる。
HBVウイルス侵入阻害剤
Sciences)に開示された化合物が挙げられる。
HBVウイルス侵入阻害剤
HBVウイルス侵入阻害剤の例として、Myrcludex Bが挙げられる。
ウイルスmRNAを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド
ウイルスmRNAを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド
ウイルスmRNAを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチドの例として、ISIS-HBVRx、IONIS-HBVRx、IONIS-GSK6-LRx、GSK-3389404が挙げられる。
低分子干渉RNA(siRNA)およびddRNAi
低分子干渉RNA(siRNA)およびddRNAi
siRNAの例として、TKM-HBV(TKM-HepB)、ALN-HBV、SR-008、HepB-nRNA、およびARC-520、ARC-521、ARB-1740、ARB-1467が挙げられる。
DNA指向RNA干渉(ddRNAi)の例として、BB-HB-331が挙げられる。
エンドヌクレアーゼモジュレーター
エンドヌクレアーゼモジュレーター
エンドヌクレアーゼモジュレーターの例として、PGN-514が挙げられる。
リボヌクレオチドレダクターゼ阻害剤
リボヌクレオチドレダクターゼ阻害剤
リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤の例として、Trimidoxが挙げられる。HBV E抗原阻害剤
HBV E抗原阻害剤の例として、オウゴニンが挙げられる。
共有結合閉環状DNA(cccDNA)阻害剤
共有結合閉環状DNA(cccDNA)阻害剤
cccDNA阻害剤の例として、BSBI-25、およびCHR-101が挙げられる。
ファルネソイドX受容体アゴニスト
ファルネソイドX受容体アゴニスト
EYP-001などのファルネソイドx受容体アゴニストの例。
HBV抗体
HBV抗体
B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体の例として、GC-1102、XTL-17、XTL-19、KN-003、IV Hepabulin SN、および完全ヒトモノクローナル抗体療法(B型肝炎ウイルス感染、Humabs BioMed)が挙げられる。
モノクローナル抗体およびポリクローナル抗体を含むHBV抗体の例として、Zutectra、Shang Sheng Gan Di、Uman Big(Hepatitis B Hyperimmune)、Omri-Hep-B、Nabi-HB、Hepatect CP、HepaGam B、イガンチベ(igantibe)、Niuliva、CT-P24、B型肝炎免疫グロブリン(静脈内、pH4、HBV感染、Shanghai RAAS Blood Products)、およびFovepta(BT-088)が挙げられる。
HBC-34などの完全ヒトモノクローナル抗体。
CCR2ケモカインアンタゴニスト
CCR2ケモカインアンタゴニスト
CCR2ケモカインアンタゴニストの例として、プロパゲルマニウムが挙げられる。
チモシンアゴニスト
チモシンアゴニスト
チモシンアゴニストの例として、Thymalfasin、組換えチモシンアルファ1(GeneScience)が挙げられる。
サイトカイン
サイトカイン
サイトカインの例として、組換えIL-7、CYT-107、インターロイキン-2(IL-2、Immunex)、組換えヒトインターロイキン-2(Shenzhen Neptunus)、IL-15、IL-21、IL-24、およびセルモロイキンが挙げられる。
核タンパク質モジュレーター
核タンパク質モジュレーター
核タンパク質モジュレーターは、HBVコアまたはカプシドタンパク質阻害剤のいずれかであってもよい。核タンパク質モジュレーターの例として、AT-130、GLS4、NVR-1221、NVR-3778、BAY 41-4109、メシル酸モルホチアジン、JNJ-379、およびDVR-23が挙げられる。AB-423などのカプシドアセンブリー阻害剤。
カプシド阻害剤の例として、US20140275167(Novira Therapeutics)、US20130251673(Novira Therapeutics)、US20140343032(Roche)、WO2014037480(Roche)、US20130267517(Roche)、WO2014131847(Janssen)、WO2014033176(Janssen)、WO2014033170(Janssen)、WO2014033167(Janssen)、WO2015/059212(Janssen)、WO2015118057(Janssen)、WO2015011281(Janssen)、WO2014184365(Janssen)、WO2014184350(Janssen)、WO2014161888(Janssen)、WO2013096744(Novira)、US20150225355(Novira)、US20140178337(Novira)、US20150315159(Novira)、US20150197533(Novira)、US20150274652(Novira)、US20150259324(Novira)、US20150132258(Novira)、US9181288(Novira)、WO2014184350(Janssen)、WO2013144129(Roche)に開示された化合物が挙げられる。
レチノイン酸誘導性遺伝子1刺激剤
レチノイン酸誘導性遺伝子1刺激剤
レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤の例として、SB-9200、SB-40、SB-44、ORI-7246、ORI-9350、ORI-7537、ORI-9020、ORI-9198、およびORI-7170、RGT-100が挙げられる。
NOD2刺激剤
NOD2刺激剤
NOD2の刺激剤の例として、SB-9200が挙げられる。
ホスファチジルイノシトール3-キナーゼ(PI3K)阻害剤
ホスファチジルイノシトール3-キナーゼ(PI3K)阻害剤
PI3K阻害剤の例として、イデラリシブ、ACP-319、AZD-8186、AZD-8835、ブパルリシブ、CDZ-173、CLR-457、ピクチリシブ、ネラチニブ、リゴセルチブ、リゴセルチブナトリウム、EN-3342、TGR-1202、アルペリシブ、デュベリシブ、IPI-549、UCB-5857、タセリシブ、XL-765、ゲダトリシブ、ME-401、VS-5584、コパンリシブ、CAIオロテート、ペリホシン、RG-7666、GSK-2636771、DS-7423、パヌリシブ、GSK-2269557、GSK-2126458、CUDC-907、PQR-309、INCB-40093、ピララリシブ、BAY-1082439、プキチニブメシル酸塩、SAR-245409、AMG-319、RP-6530、ZSTK-474、MLN-1117、SF-1126、RV-1729、ソノリシブ、LY-3023414、SAR-260301、TAK-117、HMPL-689、テナリシブ、ボクスタリシブ、およびCLR-1401が挙げられる。
インドールアミン-2,3-ジオキシゲナーゼ(IDO)経路阻害剤
インドールアミン-2,3-ジオキシゲナーゼ(IDO)経路阻害剤
IDO阻害剤の例として、エパカドスタット(INCB24360)、レスミノスタット(4SC-201)、インドキシモド、F-001287、SN-35837、NLG-919、GDC-0919、GBV-1028、GBV-1012、NKTR-218、ならびにUS20100015178(Incyte)、US2016137652(
Flexus Biosciences,Inc.)、WO2014073738(Flexus Biosciences,Inc.)、およびWO2015188085(Flexus Biosciences,Inc.)に開示された化合物が挙げられる。
PD-1阻害剤
Flexus Biosciences,Inc.)、WO2014073738(Flexus Biosciences,Inc.)、およびWO2015188085(Flexus Biosciences,Inc.)に開示された化合物が挙げられる。
PD-1阻害剤
PD-1阻害剤の例として、ニボルマブ、ペンブロリズマブ、ピディリズマブ、BGB-108、SHR-1210、PDR-001、PF-06801591、IBI-308、GB-226、STI-1110、およびmDX-400が挙げられる。
PD-L1阻害剤
PD-L1阻害剤
PD-L1阻害剤の例として、アテゾリズマブ、アベルマブ、AMP-224、MEDI-0680、RG-7446、GX-P2、デュルバルマブ、KY-1003、KD-033、MSB-0010718C、TSR-042、ALN-PDL、STI-A1014、CX-072、およびBMS-936559が挙げられる。
組換えチモシンアルファ-1
組換えチモシンアルファ-1
組換えチモシンアルファ-1の例として、NL-004およびPEG化チモシンアルファ-1が挙げられる。
Bruton型チロシンキナーゼ(BTK)阻害剤
Bruton型チロシンキナーゼ(BTK)阻害剤
BTK阻害剤の例として、ABBV-105、アカラブルチニブ(ACP-196)、ARQ-531、BMS-986142、ダサチニブ、イブルチニブ、GDC-0853、PRN-1008、SNS-062、ONO-4059、BGB-3111、ML-319、MSC-2364447、RDX-022、X-022、AC-058、RG-7845、スペブルチニブ、TAS-5315、TP-0158、TP-4207、HM-71224、KBP-7536、M-2951、TAK-020、AC-0025、ならびにUS20140330015(Ono Pharmaceutical)、US20130079327(Ono Pharmaceutical)、およびUS20130217880(Ono Pharmaceutical)に開示された化合物が挙げられる。
KDM阻害剤
KDM阻害剤
KDM5阻害剤の例として、WO2016057924(Genentech/Constellation Pharmaceuticals)、US20140275092(Genentech/Constellation Pharmaceuticals)、US20140371195(Epitherapeutics)およびUS20140371214(Epitherapeutics)、US20160102096(Epitherapeutics)、US20140194469(Quanticel)、US20140171432、US20140213591(Quanticel)、US20160039808(Quanticel)、US20140275084(Quanticel)、WO2014164708(Quanticel)に開示された化合物が挙げられる。
KDM1阻害剤の例として、US9186337B2(Oryzon Genomics)に開示された化合物、およびGSK-2879552、RG-6016、ORY-2001が挙げられる。
HBV複製阻害剤
HBV複製阻害剤
B型肝炎ウイルス複製阻害剤の例として、イソチアフルジン(isothiafludine)、IQP-HBV、RM-5038、およびXingantieが挙げられる。
アルギナーゼ阻害剤
アルギナーゼ阻害剤
アルギナーゼ阻害剤の例として、CB-1158、C-201、およびレスミノスタットが挙げられる。
HBV併用療法
HBV併用療法
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される1、2、3、または4つの追加の治療剤と組み合わされる。特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤と組み合わされる。一実施形態では、1つまたは複数(例えば、1、2、3、4、1もしくは2、または1から3、または1から4つ)の追加の治療剤および薬学的に許容される担体、希釈剤、または賦形剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む医薬組成物が提供される。
HBV DNAポリメラーゼ阻害剤併用療法
HBV DNAポリメラーゼ阻害剤併用療法
具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HBV DNAポリメラーゼ阻害剤と組み合わされる。別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HBV DNAポリメラーゼ阻害剤ならびに免疫モジュレーター、TLRモジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、ヒアルロニダーゼ阻害剤、組換えIL-7、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBcAgを標的とする化合物、シクロフィリン阻害剤、HBVワクチン、HBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、ウイルスmRNAを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、エンドヌクレアーゼモジュレーター、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、B型肝炎ウイルスE抗原阻害剤、組換えSRAタンパク質、srcキナーゼ阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、sshRNA、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、またはTCR様抗体)を含むHBV抗体、CCR2ケモカインアンタゴニスト、チモシンアゴニスト、サイトカイン、核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、NOD2の刺激剤、NOD1の刺激剤、アルギナーゼ阻害剤、STINGアゴニスト、PI3K阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、ナチュラルキラー細胞受容体2B4阻害剤、リンパ球活性化遺伝子3阻害剤、CD160阻害剤、細胞傷害性Tリンパ球関連タンパク質4(ipi4)阻害剤、CD137阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーGメンバー1阻害剤、TIM-3阻害剤、BおよびTリンパ球アテニュエーター阻害剤、CD305阻害剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、PEG-インターフェロンラムダ、組換えチモシンアルファ-1、BTK阻害剤、TIGITのモジュレータ
ー、CD47のモジュレーター、SIRPアルファのモジュレーター、ICOSのモジュレーター、CD27のモジュレーター、CD70のモジュレーター、OX40のモジュレーター、エピジェネティック改変剤、NKG2Dのモジュレーター、Tim-4のモジュレーター、B7-H4のモジュレーター、B7-H3のモジュレーター、NKG2Aのモジュレーター、GITRのモジュレーター、CD160のモジュレーター、HEVEMのモジュレーター、CD161のモジュレーター、Axlのモジュレーター、Merのモジュレーター、Tyroのモジュレーター、CRISPR(CRISPR Cas9を含む)、ジンクフィンガーヌクレアーゼまたは合成ヌクレアーゼ(TALEN)などの遺伝子改変剤または編集剤、IAP阻害剤、SMAC模倣体、KDM5阻害剤、IDO阻害剤、およびB型肝炎ウイルス複製阻害剤からなる群から選択される少なくとも1つの追加の治療剤と組み合わされる。
ー、CD47のモジュレーター、SIRPアルファのモジュレーター、ICOSのモジュレーター、CD27のモジュレーター、CD70のモジュレーター、OX40のモジュレーター、エピジェネティック改変剤、NKG2Dのモジュレーター、Tim-4のモジュレーター、B7-H4のモジュレーター、B7-H3のモジュレーター、NKG2Aのモジュレーター、GITRのモジュレーター、CD160のモジュレーター、HEVEMのモジュレーター、CD161のモジュレーター、Axlのモジュレーター、Merのモジュレーター、Tyroのモジュレーター、CRISPR(CRISPR Cas9を含む)、ジンクフィンガーヌクレアーゼまたは合成ヌクレアーゼ(TALEN)などの遺伝子改変剤または編集剤、IAP阻害剤、SMAC模倣体、KDM5阻害剤、IDO阻害剤、およびB型肝炎ウイルス複製阻害剤からなる群から選択される少なくとも1つの追加の治療剤と組み合わされる。
別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HBV DNAポリメラーゼ阻害剤;免疫モジュレーター、TLRモジュレーター、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBV治療ワクチン、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、またはTCR様抗体)を含むHBV抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、PI3K阻害剤、IDO阻害剤、およびNOD2の刺激剤からなる群から選択される1つまたは2つの追加の治療剤;ならびにHBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、sshRNA、KDM5阻害剤、および核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)からなる群から選択される1つまたは2つの追加の治療剤と組み合わされる。
別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HBV DNAポリメラーゼ阻害剤ならびに免疫モジュレーター、TLRモジュレーター、HBsAg阻害剤、HBV治療ワクチン、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、またはTCR様抗体)を含むHBV抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、PI3K阻害剤、IDO阻害剤、およびNOD2の刺激剤からなる群から選択される少なくとも第2の追加の治療剤と組み合わされる。
別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、HBV DNAポリメラーゼ阻害剤ならびにHBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、sshRNA、KDM5阻害剤、および核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質阻害剤)からなる群から選択される少なくとも第2の追加の治療剤と組み合わされる。
HBV薬併用療法
HBV薬併用療法
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビ
ルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤、ならびに免疫モジュレーター、TLRモジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、ヒアルロニダーゼ阻害剤、組換えIL-7、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBcAgを標的とする化合物、シクロフィリン阻害剤、HBVワクチン、HBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、ウイルスmRNAを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、エンドヌクレアーゼモジュレーター、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、B型肝炎ウイルスE抗原阻害剤、組換えSRAタンパク質、srcキナーゼ阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、sshRNA、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、およびTCR様抗体)を含むHBV抗体、CCR2ケモカインアンタゴニスト、チモシンアゴニスト、サイトカイン、核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、NOD2の刺激剤、NOD1の刺激剤、IDO阻害剤、組換えチモシンアルファ-1、アルギナーゼ阻害剤、STINGアゴニスト、PI3K阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、ナチュラルキラー細胞受容体2B4阻害剤、リンパ球活性化遺伝子3阻害剤、CD160阻害剤、ipi4阻害剤、CD137阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーGメンバー1阻害剤、TIM-3阻害剤、BおよびTリンパ球アテニュエーター阻害剤、エピジェネティック改変剤、CD305阻害剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、PEG-インターフェロンラムダ、BTK阻害剤、TIGITのモジュレーター、CD47のモジュレーター、SIRPアルファのモジュレーター、ICOSのモジュレーター、CD27のモジュレーター、CD70のモジュレーター、OX40のモジュレーター、NKG2Dのモジュレーター、Tim-4のモジュレーター、B7-H4のモジュレーター、B7-H3のモジュレーター、NKG2Aのモジュレーター、GITRのモジュレーター、CD160のモジュレーター、HEVEMのモジュレーター、CD161のモジュレーター、Axlのモジュレーター、Merのモジュレーター、Tyroのモジュレーター、CRISPR(CRISPR Cas9を含む)、ジンクフィンガーヌクレアーゼまたは合成ヌクレアーゼ(TALEN)などの遺伝子改変剤または編集剤、IAP阻害剤、SMAC模倣体、KDM5阻害剤、およびB型肝炎ウイルス複製阻害剤からなる群から選択される少なくとも第2の追加の治療剤と組み合わされる。
ルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤、ならびに免疫モジュレーター、TLRモジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、ヒアルロニダーゼ阻害剤、組換えIL-7、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBcAgを標的とする化合物、シクロフィリン阻害剤、HBVワクチン、HBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、ウイルスmRNAを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、エンドヌクレアーゼモジュレーター、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、B型肝炎ウイルスE抗原阻害剤、組換えSRAタンパク質、srcキナーゼ阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、sshRNA、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、およびTCR様抗体)を含むHBV抗体、CCR2ケモカインアンタゴニスト、チモシンアゴニスト、サイトカイン、核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、NOD2の刺激剤、NOD1の刺激剤、IDO阻害剤、組換えチモシンアルファ-1、アルギナーゼ阻害剤、STINGアゴニスト、PI3K阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、ナチュラルキラー細胞受容体2B4阻害剤、リンパ球活性化遺伝子3阻害剤、CD160阻害剤、ipi4阻害剤、CD137阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーGメンバー1阻害剤、TIM-3阻害剤、BおよびTリンパ球アテニュエーター阻害剤、エピジェネティック改変剤、CD305阻害剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、PEG-インターフェロンラムダ、BTK阻害剤、TIGITのモジュレーター、CD47のモジュレーター、SIRPアルファのモジュレーター、ICOSのモジュレーター、CD27のモジュレーター、CD70のモジュレーター、OX40のモジュレーター、NKG2Dのモジュレーター、Tim-4のモジュレーター、B7-H4のモジュレーター、B7-H3のモジュレーター、NKG2Aのモジュレーター、GITRのモジュレーター、CD160のモジュレーター、HEVEMのモジュレーター、CD161のモジュレーター、Axlのモジュレーター、Merのモジュレーター、Tyroのモジュレーター、CRISPR(CRISPR Cas9を含む)、ジンクフィンガーヌクレアーゼまたは合成ヌクレアーゼ(TALEN)などの遺伝子改変剤または編集剤、IAP阻害剤、SMAC模倣体、KDM5阻害剤、およびB型肝炎ウイルス複製阻害剤からなる群から選択される少なくとも第2の追加の治療剤と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤、ならびにペグインターフェロンアルファ-2b(PEG-INTRON(登録商標))、MULTIFERON(登録商標)、インターフェロンアルファ1b(HAPGEN(登録商標))、インターフェロンアルファ-2b(INTRON A(登録商標))、ペグ化インターフェロンアルファ-2a(PEGASYS(登録商標))、インターフェロンアルファ-n1(HUMOFERON(登録商標))、リバビリン、インターフェロンベータ-1a(AVONEX(登録商標))、Bioferon、Ingaron、Inmutag(Inferon)、Algeron、Roferon-A、Oligotide、Zutectra、Shaferon、インターフェロンアルファ-2b(AXXO)、Alfaferone、インターフェロン
アルファ-2b(BioGeneric Pharma)、Feron、インターフェロン-アルファ2(CJ)、BEVAC、Laferonum、VIPEG、BLAUFERON-B、BLAUFERON-A、Intermax Alpha、Realdiron、Lanstion、Pegaferon、PDferon-B、インターフェロンアルファ-2b(IFN、Laboratorios Bioprofarma)、アルファインターフェロナ2b、Kalferon、Pegnano、Feronsure、PegiHep、インターフェロンアルファ2b(Zydus-Cadila)、Optipeg A、Realfa 2B、Reliferon、インターフェロンアルファ-2b(Amega)、インターフェロンアルファ-2b(Virchow)、ペグインターフェロンアルファ-2b(Amega)、Reaferon-EC、Proquiferon、Uniferon、Urifron、インターフェロンアルファ-2b(Changchun Institute of Biological Products)、Anterferon、Shanferon、MOR-22、インターロイキン-2(IL-2、Immunex)、組換えヒトインターロイキン-2(Shenzhen Neptunus)、Layfferon、Ka Shu Ning、Shang Sheng Lei Tai、INTEFEN、SINOGEN、Fukangtai、Alloferon、およびセルモロイキンからなる群から選択される少なくとも第2の追加の治療剤と組み合わされる。
アルファ-2b(BioGeneric Pharma)、Feron、インターフェロン-アルファ2(CJ)、BEVAC、Laferonum、VIPEG、BLAUFERON-B、BLAUFERON-A、Intermax Alpha、Realdiron、Lanstion、Pegaferon、PDferon-B、インターフェロンアルファ-2b(IFN、Laboratorios Bioprofarma)、アルファインターフェロナ2b、Kalferon、Pegnano、Feronsure、PegiHep、インターフェロンアルファ2b(Zydus-Cadila)、Optipeg A、Realfa 2B、Reliferon、インターフェロンアルファ-2b(Amega)、インターフェロンアルファ-2b(Virchow)、ペグインターフェロンアルファ-2b(Amega)、Reaferon-EC、Proquiferon、Uniferon、Urifron、インターフェロンアルファ-2b(Changchun Institute of Biological Products)、Anterferon、Shanferon、MOR-22、インターロイキン-2(IL-2、Immunex)、組換えヒトインターロイキン-2(Shenzhen Neptunus)、Layfferon、Ka Shu Ning、Shang Sheng Lei Tai、INTEFEN、SINOGEN、Fukangtai、Alloferon、およびセルモロイキンからなる群から選択される少なくとも第2の追加の治療剤と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤、ならびに免疫モジュレーター、TLRモジュレーター、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBV治療ワクチン、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、またはTCR様抗体)を含むHBV抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、アルギナーゼ阻害剤、PI3K阻害剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、IDO阻害剤、およびNOD2の刺激剤からなる群から選択される少なくとも第2の追加の治療剤と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤、ならびにHBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、sshRNA、KDM5阻害剤、および核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)からなる群から選択される少なくとも第2の追加の治療剤と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル
酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤;免疫モジュレーター、TLRモジュレーター、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBV治療ワクチン、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、またはTCR様抗体)を含むHBV抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、PI3K阻害剤、IDO阻害剤、およびNOD2の刺激剤からなる群から選択される1、2、または3つの追加の治療剤;ならびにHBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、sshRNA、KDM5阻害剤、および核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)からなる群から選択される1または2つの追加の治療剤と組み合わされる。
酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤;免疫モジュレーター、TLRモジュレーター、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBV治療ワクチン、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、またはTCR様抗体)を含むHBV抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、PI3K阻害剤、IDO阻害剤、およびNOD2の刺激剤からなる群から選択される1、2、または3つの追加の治療剤;ならびにHBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、sshRNA、KDM5阻害剤、および核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)からなる群から選択される1または2つの追加の治療剤と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤;免疫モジュレーター、TLRモジュレーター、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBV治療ワクチン、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、またはTCR様抗体)を含むHBV抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、PI3K阻害剤、IDO阻害剤、およびNOD2の刺激剤からなる群から選択される1または2つの追加の治療剤;ならびにHBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、sshRNA、KDM5阻害剤、および核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)からなる群から選択される1または2つの追加の治療剤と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル(HEPSERA(登録商標))、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩(VIREAD(登録商標))、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル(BARACLUDE(登録商標))、テルビブジン(TYZEKA(登録商標))、またはラミブジン(EPIVIR-HBV(登録商標))からなる群から選択される第1の追加の治療剤;ならびに免疫モジュレーター、TLR7モジュレーター、TLR8モジュレーター、HBsAg阻害剤、HBsAg分泌またはアセンブリー阻害剤、HBV治療ワクチン、B型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするHBV抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質(例えば、DARTs(登録商
標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、またはTCR様抗体)を含むHBV抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、PI3K阻害剤、IDO阻害剤、NOD2の刺激剤 HBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、sshRNA、KDM5阻害剤、および核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)からなる群から選択される1、2、3、または4つの追加の治療剤と組み合わされる。
標)、DUOBODIES(登録商標)、BITES(登録商標)、XmAbs(登録商標)、TandAbs(登録商標)、Fab誘導体、またはTCR様抗体)を含むHBV抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子1の刺激剤、RIG-I様受容体の刺激剤、PD-1阻害剤、PD-L1阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、PI3K阻害剤、IDO阻害剤、NOD2の刺激剤 HBVウイルス侵入阻害剤、NTCP阻害剤、HBx阻害剤、cccDNA阻害剤、siRNA、miRNA遺伝子療法剤、sshRNA、KDM5阻害剤、および核タンパク質モジュレーター(HBVコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター)からなる群から選択される1、2、3、または4つの追加の治療剤と組み合わされる。
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、米国特許出願公開第2010/0143301号(Gilead Sciences)、米国特許出願公開第2011/0098248号(Gilead Sciences)、米国特許出願公開第2009/0047249号(Gilead Sciences)、米国特許第8722054号(Gilead Sciences)、米国特許出願公開第2014/0045849号(Janssen)、米国特許出願公開第2014/0073642号(Janssen)、WO2014/056953(Janssen)、WO2014/076221(Janssen)、WO2014/128189(Janssen)、米国特許出願公開第2014/0350031号(Janssen)、WO2014/023813(Janssen)、米国特許出願公開第2008/0234251号(Array Biopharma)、米国特許出願公開第2008/0306050号(Array Biopharma)、米国特許出願公開第2010/0029585号(Ventirx Pharma)、米国特許出願公開第2011/0092485号(Ventirx Pharma)、US2011/0118235(Ventirx Pharma)、米国特許出願公開第2012/0082658号(Ventirx Pharma)、米国特許出願公開第2012/0219615号(Ventirx Pharma)、米国特許出願公開第2014/0066432号(Ventirx
Pharma)、米国特許出願公開第2014/0088085号(Ventirx Pharma)、米国特許出願公開第2014/0275167号(Novira Therapeutics)、米国特許出願公開第2013/0251673号(Novira Therapeutics)、米国特許第8513184号(Gilead Sciences)、米国特許出願公開第2014/0030221号(Gilead Sciences)、米国特許出願公開第2013/0344030号(Gilead Sciences)、米国特許出願公開第2013/0344029号(Gilead Sciences)、US20140275167(Novira Therapeutics)、US20130251673(Novira Therapeutics)、米国特許出願公開第2014/0343032号(Roche)、WO2014037480(Roche)、米国特許出願公開第2013/0267517号(Roche)、WO2014131847(Janssen)、WO2014033176(Janssen)、WO2014033170(Janssen)、WO2014033167(Janssen)、WO2015/059212(Janssen)、WO2015118057(Janssen)、WO2015011281(Janssen)、WO2014184365(Janssen)、WO2014184350(Janssen)、WO2014161888(Janssen)、WO2013096744(Novira)、US20150225355(Novira)、US20140178337(Novira)、US20150315159(Novira)、US20150197533(Novira)、US20150274652(Novira)、US20150259324(Novira)、US20150132258(Novira)、US9181288(Novira)、WO2014184350(Janssen)、WO2013144129(Roche)、US20100015178(Incyte)、US201
6137652(Flexus Biosciences,Inc.)、WO2014073738(Flexus Biosciences,Inc.)、WO2015188085(Flexus Biosciences,Inc.)、米国特許出願公開第2014/0330015号(Ono Pharmaceutical)、米国特許出願公開第2013/0079327号(Ono Pharmaceutical)、米国特許出願公開第2013/0217880号(Ono pharmaceutical)、WO2016057924(Genentech/Constellation Pharmaceuticals)、US20140275092(Genentech/Constellation Pharmaceuticals)、US20140371195(Epitherapeutics)およびUS20140371214(Epitherapeutics)、US20160102096(Epitherapeutics)、US20140194469(Quanticel)、US20140171432、US20140213591(Quanticel)、US20160039808(Quanticel)、US20140275084(Quanticel)、WO2014164708(Quanticel)、US9186337B2(Oryzon Genomics)に開示されたものなどの化合物、ならびにHBVを処置するための他の薬物、ならびにそれらの組合せと組み合わされる。
Pharma)、米国特許出願公開第2014/0088085号(Ventirx Pharma)、米国特許出願公開第2014/0275167号(Novira Therapeutics)、米国特許出願公開第2013/0251673号(Novira Therapeutics)、米国特許第8513184号(Gilead Sciences)、米国特許出願公開第2014/0030221号(Gilead Sciences)、米国特許出願公開第2013/0344030号(Gilead Sciences)、米国特許出願公開第2013/0344029号(Gilead Sciences)、US20140275167(Novira Therapeutics)、US20130251673(Novira Therapeutics)、米国特許出願公開第2014/0343032号(Roche)、WO2014037480(Roche)、米国特許出願公開第2013/0267517号(Roche)、WO2014131847(Janssen)、WO2014033176(Janssen)、WO2014033170(Janssen)、WO2014033167(Janssen)、WO2015/059212(Janssen)、WO2015118057(Janssen)、WO2015011281(Janssen)、WO2014184365(Janssen)、WO2014184350(Janssen)、WO2014161888(Janssen)、WO2013096744(Novira)、US20150225355(Novira)、US20140178337(Novira)、US20150315159(Novira)、US20150197533(Novira)、US20150274652(Novira)、US20150259324(Novira)、US20150132258(Novira)、US9181288(Novira)、WO2014184350(Janssen)、WO2013144129(Roche)、US20100015178(Incyte)、US201
6137652(Flexus Biosciences,Inc.)、WO2014073738(Flexus Biosciences,Inc.)、WO2015188085(Flexus Biosciences,Inc.)、米国特許出願公開第2014/0330015号(Ono Pharmaceutical)、米国特許出願公開第2013/0079327号(Ono Pharmaceutical)、米国特許出願公開第2013/0217880号(Ono pharmaceutical)、WO2016057924(Genentech/Constellation Pharmaceuticals)、US20140275092(Genentech/Constellation Pharmaceuticals)、US20140371195(Epitherapeutics)およびUS20140371214(Epitherapeutics)、US20160102096(Epitherapeutics)、US20140194469(Quanticel)、US20140171432、US20140213591(Quanticel)、US20160039808(Quanticel)、US20140275084(Quanticel)、WO2014164708(Quanticel)、US9186337B2(Oryzon Genomics)に開示されたものなどの化合物、ならびにHBVを処置するための他の薬物、ならびにそれらの組合せと組み合わされる。
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物(例えば、テノホビルアラフェナミドの任意の塩および/または共結晶)は、本明細書に開示されている化合物の任意の投薬量(例えば、10mgから1000mgのテノホビルアラフェナミドの任意の塩および/または共結晶)で、1つまたは複数(例えば、1、2、3、4、1もしくは2、1から3、または1から4つ)の追加の治療剤と組み合わされてもよい。
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、5~30mgのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミドと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、5~10;5~15;5~20;5~25;25~30;20~30;15~30;または10~30mgのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミドと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、10mgのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミドと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、25mgのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミドと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物(例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶)は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で(例えば、50mgから500mgの化合物)、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、100~400mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、100~150;100~200、100~250;100~300;100~350;150~200;150~250;150~300;150~350;150~400;200~250;200~300;200~350;200~400;250~350;250~400;350~400または300~400mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプ
ロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、300mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、250mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、150mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物(例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶)は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で(例えば、50mgから500mgの化合物)、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
ロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、300mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、250mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、150mgのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物(例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶)は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で(例えば、50mgから500mgの化合物)、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
一実施形態では、1つまたは複数(例えば、1、2、3、4、1もしくは2、または1から3、または1から4つ)の追加の治療剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含むキットが提供される。
XRPDデータ
XRPDデータ
ある特定の実施形態では、結晶形態は、X線粉末回折パターン(XRPD)によって決定される格子面間隔によって特徴付けられる。XRPDのディフラクトグラムは、典型的には、ピークの強度 対 ピークの位置、すなわち、度単位の回折角2θ(2シータ)をプロットする図によって表される。所与のXRPDの特徴的ピークをピーク位置とその相対強度に従って選択して、この結晶構造を他の結晶構造と都合よく区別することができる。
XRPDパターンを、以下の実験設定:45KV、40mA、Kα1=1.5406Å、スキャン範囲2から40°、ステップサイズ0.0084または0.0167°、測定時間:5分で、周囲条件にて、PANanalytical XPERT-PRO回折計で収集した。
当業者は、同じ化合物の所与の結晶形態についてのXRPDピーク位置および/または強度の測定値が、誤差の限度(margin of error)内で変動することを認識する。度2
θの値によって適当な誤差限度(error margin)が与えられる。典型的には、誤差限度
は「±」で表される。例えば、約「8.7±0.3」の度2θは、約8.7+0.3、すなわち、約9.0から約8.7-0.3、すなわち、約8.4の範囲を示す。試料の調製技術、機器に適用される較正技術、ヒトの操作のばらつきなどに応じて、当業者は、XRPDに関する適当な限度の誤差(error of margin)が、±0.5;±0.4;±0.
3;±0.2;±0.1;±0.05;またはそれより小さい場合があることを認識する
。本発明のある特定の実施形態では、XRPDの誤差の限度は、±0.05である。本発明のある特定の実施形態では、XRPDの誤差の限度は、±0.1である。本発明のある特定の実施形態では、XRPDの誤差の限度は、±0.2である。本発明のある特定の実施形態では、XRPDの誤差の限度は、±0.5である。
θの値によって適当な誤差限度(error margin)が与えられる。典型的には、誤差限度
は「±」で表される。例えば、約「8.7±0.3」の度2θは、約8.7+0.3、すなわち、約9.0から約8.7-0.3、すなわち、約8.4の範囲を示す。試料の調製技術、機器に適用される較正技術、ヒトの操作のばらつきなどに応じて、当業者は、XRPDに関する適当な限度の誤差(error of margin)が、±0.5;±0.4;±0.
3;±0.2;±0.1;±0.05;またはそれより小さい場合があることを認識する
。本発明のある特定の実施形態では、XRPDの誤差の限度は、±0.05である。本発明のある特定の実施形態では、XRPDの誤差の限度は、±0.1である。本発明のある特定の実施形態では、XRPDの誤差の限度は、±0.2である。本発明のある特定の実施形態では、XRPDの誤差の限度は、±0.5である。
XRPD分析に関して使用される方法および装置のさらなる詳細は、実施例のセクションに記載される。
テノホビルアラフェナミドを合成する1つの方法は、2001年7月20日に出願されたPCT公開第WO2002/008241号に以前より記載されている。この参照文献は、参照によりその全体として、具体的にはテノホビルアラフェナミドの合成に関して、本明細書に組み込まれる。
例えば、一態様では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の1つまたは複数の結晶形態を含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶を適切な溶媒または適切な溶媒の混合物と組み合わせて、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の1つまたは複数の結晶形態を含む組成物を生成することを含む、方法が提供される。別の態様では、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の1つまたは複数の結晶形態を含む組成物を生成する別の方法であって、テノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶を適切な溶媒または適切な溶媒の混合物と組み合わせることを含む、方法が提供される。
特定の溶媒もしくは溶媒の組合せまたは溶媒を組み合わせる方法の選択により、別のものよりも好ましいテノホビルアラフェナミドの1つの結晶形態の形成に影響が及ぼされる。結晶の形成に適切な溶媒として、例えば、テトラヒドロフラン、アセトン、エタノール、アセトニトリル、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、2-メチルテトラヒドロフラン、酢酸エチル、メチルtert-ブチルエーテル、トルエン、水、およびそれらの任意の混合物が挙げられ得る。
不純物の存在によって、別のものよりも好ましいテノホビルアラフェナミドの1つの結晶形態の形成に影響が及ぼされる場合がある。一部の実施形態では、形態は、不純物を有するテノホビルアラフェナミドを含むプロセスによって調製される。別の実施形態では、形態は、実質的に純粋なテノホビルアラフェナミドを含むプロセスによって調製される。
別の態様では、本明細書に記載の方法のいずれかに従って生成されたテノホビルアラフェナミドの1つまたは複数の結晶形態も提供される。別の態様では、本明細書に記載の方法のいずれかに従って生成されたテノホビルアラフェナミドの塩および/または共結晶の1つまたは複数の結晶形態も提供される。
本明細書に記載の結晶形態を調製するための方法は、実験室スケールで生成されるテノホビルアラフェナミドを調製するための方法と比較して、量および質の差を生じる場合があることを理解されたい。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエート(Hemipanoate)を調
製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをパモ酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをパモ酸およびテトラヒドロフランと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを調製する方法であって、約50から60℃で、テノホビルアラフェナミドをパモ酸およびテトラヒドロフランと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを調製する方法であって、自然蒸発する開放バイアル内で、約50から60℃で、テノホビルアラフェナミドをパモ酸およびテトラヒドロフランと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態I
製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをパモ酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをパモ酸およびテトラヒドロフランと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを調製する方法であって、約50から60℃で、テノホビルアラフェナミドをパモ酸およびテトラヒドロフランと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを調製する方法であって、自然蒸発する開放バイアル内で、約50から60℃で、テノホビルアラフェナミドをパモ酸およびテトラヒドロフランと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態I
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを、水、エタノール、アセトニトリル、アセトン、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、2-メチルテトラヒドロフラン、酢酸エチル、メチルtert-ブチルエーテル、およびトルエン、ならびにこれらの任意の混合物から選択される溶媒と組み合わせることを含む。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートと溶媒を組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iが提供される。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートと溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iであって、溶媒が、水、エタノール、アセトニトリル、アセトン、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、2-メチルテトラヒドロフラン、酢酸エチル、メチルtert-ブチルエーテル、およびトルエン、ならびにこれらの任意の混合物から選択される、結晶のテノホビルアラフェ
ナミドヘミパモエートの形態Iが提供される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態II
ナミドヘミパモエートの形態Iが提供される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態II
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートをジクロロメタンと組み合わせることを含む。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートと溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIが提供される。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートとジクロロメタンとを組み合わせることによって生成される、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIが提供される。
テノホビルアラフェナミドセバケート
テノホビルアラフェナミドセバケート
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをセバシン酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをセバシン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートを調製する方法であって、自然蒸発する開放バイアル中で、テノホビルアラフェナミドをセバシン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態I
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態I
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドセバケートを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドセバケートを、テトラヒドロフランおよびヘプタン、ならびにこれらの任意の混合物から選択される溶媒と組み合わせることを含む。
テノホビルアラフェナミドセバケートと溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iが提供される。テノホビルアラフェナミドセバケートと、テトラヒドロフランおよびヘプタン、ならびにこれらの任意の混合物から選択される溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iが提供される。
テノホビルアラフェナミドナプシレート
テノホビルアラフェナミドナプシレート
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドナプシレートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドを2-ナフタレンスルホン酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドナプシレートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドを2-ナフタレンスルホン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態I
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態I
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iを含む組成物を生成する方法であって、自然蒸発する開放バイアル中で、テノホビルアラフェナミドを2-ナフタレンスルホン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
自然蒸発する開放バイアル中で、テノホビルアラフェナミドを2-ナフタレンスルホン酸およびアセトンと組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iが提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテート
テノホビルアラフェナミドオロテート
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをオロト酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをオロト酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態I
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態I
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドをオロト酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドをオロト酸およびアセトンと組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iが提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン、またはこれらの組合せから選択される溶媒と組み合わせることを含む。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iをイソプロピルアルコールである溶媒と組み合わせることを含む。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iをテトラヒドロフランである溶媒と組み合わせることを含む。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを酢酸エチルである溶媒と組み合わせることを含む。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを、トルエンである溶媒と組み合わせることを含む。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iと溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iと、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン、またはこれらの組合せから選択される溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iと、イソプロピルアルコールである溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iと、テトラヒドロフランである溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iと、酢酸エチルである溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iと、トルエンである溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノ
ホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II
ホビルアラフェナミドオロテートの形態IIが提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを、水である溶媒と組み合わせることを含む。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを溶媒と組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを、水である溶媒と組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIが提供される。
テノホビルアラフェナミドバニレート
テノホビルアラフェナミドバニレート
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートを調製する方法であって、約50℃の温度で、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドバニレート
テノホビルアラフェナミドバニレート
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸および溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドをバニリン酸およびアセトンと組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートが本明細書において提供される。
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドを、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸および溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン中で、テノホビルアラフェナミドを、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸と組み合わせることを含む(comprises combining tenofovir alafenamide 1-hydroxy-2-naphthoic acid)、方法
が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン中で、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸と組み合わせることを含み、テトラヒドロフランを蒸発させて第2の溶媒と置き換える、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン中で、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸と組み合わせることを含み、テトラヒドロフランを蒸発させてジクロロメタンと置き換える、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン(THF)中で、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸と組み合わせることを含み、テトラヒドロフランを蒸発させてジクロロメタンと
置き換え、ジクロロメタンを蒸発させる、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン中で、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸と組み合わせることを含み、テトラヒドロフランを蒸発させて第2の溶媒と置き換える、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン中で、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸と組み合わせることを含み、テトラヒドロフランを蒸発させてジクロロメタンと置き換える、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン(THF)中で、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸と組み合わせることを含み、テトラヒドロフランを蒸発させてジクロロメタンと
置き換え、ジクロロメタンを蒸発させる、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸および溶媒または溶媒の混合物と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸およびTHFと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸およびTHFと組み合わせた後、THFを蒸発させることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸およびTHFと組み合わせることと、THFを蒸発させることと、ジクロロメタンを添加することと、ジクロロメタンを蒸発させることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸およびTHFと組み合わせる第1のステップ、THFを蒸発させる第2のステップ、ジクロロメタンを添加する第3のステップ、ならびにジクロロメタンを蒸発させる第4のステップを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、THF中で、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸と組み合わせることによって、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートの種晶を作出することを含み、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートの種晶を次いで使用して(seed crystal is then use)、メタノール、エタノール、アセトン、イソプロパノール、メチルイソブチルケトン(MIBK)、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、トルエン、またはこれらの混合物から選択される溶媒中の、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の溶液に播種する、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸およびアセトンと組み合わせた後、アセトンを蒸発させることを含む、方法が提供される。
薬物製品の製造における使用
薬物製品の製造における使用
薬物製品の製造における本明細書に記載の結晶形態の使用も提供される。本明細書に記載の1つまたは複数の結晶形態(例えば、本明細書に記載の化合物)は、薬物製品を生成するための製造プロセスにおいて使用されてもよい。本明細書に記載の1つまたは複数の結晶形態(例えば、本明細書に記載の化合物)は、薬物製品を生成するための製造プロセスにおいて中間体として使用されてもよい。
ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの結晶の塩および/または共結晶は、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iは、活性
医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、活性医薬成分の製造において使用される。
医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIは、活性医薬成分の製造において使用される。
ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートは、活性医薬成分の製造において使用される。
製造品およびキット
製造品およびキット
本明細書に記載の1つまたは複数の結晶形態(例えば、本明細書に記載の化合物)を含み、1つまたは複数の薬学的に許容される賦形剤または他の成分中で製剤化される組成物を調製し、適当な容器中に配置し、表記の状態の処置のためにラベルを貼ることができる。したがって、本明細書に記載の1つまたは複数の結晶形態の剤形および化合物(複数可)の使用のための指示を含有するラベルを含む容器などの製造品も企図される。
一部の実施形態では、製造品は、本明細書に記載の1つまたは複数の結晶形態の剤形と、1つまたは複数の薬学的に許容される賦形剤または他の成分とを含む容器である。本明細書に記載の製造品の一部の実施形態では、剤形は液剤である。
キットも企図される。例えば、キットは、医薬組成物の剤形と、医学的状態の処置における組成物の使用のための指示を含有する添付文書を含むことができる。別の実施形態では、キットは、複数の個別の剤形を含んでもよく、それぞれは、治療有効量の本明細書に記載の化合物、およびそれらの投与を必要とするヒトへのそれらの投与のための指示を含んでもよい。個別の剤形のそれぞれは、少なくとも1つの薬学的に有効な賦形剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に記載の化合物を含んでもよい。個々の剤形は、例として、液剤、錠剤、丸剤、カプセル剤、サシェ剤、舌下医薬、凍結乾燥粉末、噴霧乾燥粉末、または経口、非経口、もしくは局所投与用の液体組成物の形態であってもよい。キットにおける使用のための指示は、HIVウイルス感染を処置するためのものであってもよい。指示は、本明細書に記載のウイルス感染および方法のいずれかを対象としてもよい。指示は、既存のウイルス感染の予防または処置のためのものであってもよい。
ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態または塩形態は、潜在的に、改善された特性を示し得る。例えば、ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態または塩形態は、潜在的に、改善された安定性を示し得る。このような改善された安定性は、ここで記載される化合物の製造に関する潜在的に有益な効果、例えば、プロセス中間体を長期間貯蔵する能力を付与することなどを有することができる。改善された安定性によって、本明細書に記載の化合物の組成物または医薬組成物に潜在的に利益をもたらすこともできる。ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶または塩はまた、本明細書に記載の化合物の収率の改善を潜在的にもたらすか、または本明細書に記載の化合物の質の改善を潜在的にもたらす場合がある。ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態、塩形態および溶媒和物形態は、改善された薬物動態特性および/または潜在的に改善されたバイオアベイラビリティを呈する場合もある。
方法
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態I
方法
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態I
約50から60℃で、テノホビルアラフェナミド(約1g)を、パモ酸(約0.4g)およびテトラヒドロフラン(約10mL)と混合した。溶液を、蓋の開いたガラスバイアルに入れ、蒸発させた。試料を、オーブン内でさらに乾燥させた。固体をアセトニトリルと混合した。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iを単離し、以下で論じる
ように特徴付けた。アセトニトリルをエタノール、アセトン、酢酸イソプロピル、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、またはトルエンと置き換えて、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iを形成することができることも見出した。
ように特徴付けた。アセトニトリルをエタノール、アセトン、酢酸イソプロピル、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、またはトルエンと置き換えて、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iを形成することができることも見出した。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iを生成するための別の方法では、テノホビルアラフェナミド(約10g)、パモ酸(約4g)およびテトラヒドロフラン(約150mL)を、約70℃で合わせた。溶液を濾過し、蒸発させた。約40℃で、固体をアセトン(約100mL)中に溶解させ、約室温に冷却した。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iの種を添加した。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態II
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態II
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態I(約100mg)をジクロロメタン(約1mL)と混合した。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態I
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態I
テノホビルアラフェナミド(約1g)をセバシン酸(約0.4g)およびアセトン(約10mL)と混合した。溶液を、蓋の開いたガラスバイアルに入れ、蒸発させた。テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態I
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態I
テノホビルアラフェナミド(約1g)を2-ナフタレンスルホン酸(約0.4g)およびアセトン(約10mL)と混合した。溶液を、蓋の開いたガラスバイアルに入れ、蒸発させた。テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態I
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態I
テノホビルアラフェナミド(約1g)をオロト酸(約0.3g)およびアセトン(約10mL)と混合した。溶液を、蓋の開いたガラスバイアルに入れ、蒸発させた。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態II
約室温で、12時間以上、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを酢酸イソプロピルと混合した。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIを単離し、以下で論じるように特徴付けた。酢酸イソプロピルを、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、またはトルエンと置き換えて、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIを形成することができることも見出した。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態III
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態III
約室温で、12時間以上、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iを水と混合した。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドバニレート
テノホビルアラフェナミドバニレート
1gのテノホビルアラフェナミド遊離塩基を、50℃のアセトン10mL中に溶解させ、濾過し、0.35g(1当量)のバニリン酸と混合して、溶液を得た。溶液を、約21℃で終夜撹拌して、スラリーを形成した。スラリーを濾過により単離し、50℃にて、真空下で乾燥させた。
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート
4gのテノホビルアラフェナミド遊離塩基を、10mLのTHF中で、1.5当量の1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸と混合して溶液を形成し、これを、約50℃の回転式エバポレーター(rotovapor)中で乾燥させて、泡状物とした。200mgから500mgの結果として得られた固体を、約21℃で、1mLのDCM中で撹拌した。試料を、蓋を開けて蒸発させると、濃いシロップになった。シロップを、57℃でさらに蒸発させ、16時間の間に結晶化させた。この結晶材料を使用して、メタノール、エタノール、アセトン、イソプロパノール、MIBK、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、トルエンなどの溶媒中の、1.5当量の1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸を含むテノホビルアラフェナミドの溶液に播種し、これらをすべて、同じ形態として結晶化させた。
あるいは、4gのテノホビルアラフェナミド遊離塩基を、50℃で、40mLのアセトン中に溶解させ、濾過し、3.16gの1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸(2当量)を投入して溶液を形成した。溶液を、50℃のロータリーエバポレーター内で乾燥させて泡状物とし、40mLのIPAc(酢酸イソプロピル)中に再度溶解させた。溶液にテノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートの結晶を播種し、超音波処理し、その後まもなく濃いスラリーが形成された。スラリーを、16mLのIPAcで希釈し、濾過し、50℃にて、3日間、真空オーブンで乾燥させた。
本発明の結晶形態は、以下に記載の手順を使用して、X線粉末回折(XRPD)、示差走査熱量測定(DSC)、および熱重量分析(TGA)を含む種々の分析技術によって特徴付けた。
X線粉末回折(XRPD):XRPDパターンを、以下の実験設定:45KV、40mA、Kα1=1.5406Å、スキャン範囲2から40°、ステップサイズ0.0084または0.0167°、測定時間:5分で、周囲条件にて、PANanalytical
XPERT-PRO回折計で収集した。
XPERT-PRO回折計で収集した。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iに関するXRPDパターンを図1に表す。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIに関するXRPDパターンを図3に表す。
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iに関するXRPDパターンを図5に表す。
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iに関するXRPDパターンを図7に表す。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iに関するXRPDパターンを図9に表す。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIに関するXRPDパターンを図11に表す。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIに関するXRPDパターンを図13に表す。
テノホビルアラフェナミドバニレートに関するXRPDパターンを図15に表す。
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートに関するXRPDパターンを図17に表す。
示差走査熱量測定(DSC):50ポジションオートサンプラーを備えたTA Instruments Q2000システムでDSCサーモグラムを収集した。エネルギーおよび温度の較正は、認定されたインジウムを使用して行った。典型的には、ピンホールアルミニウムパン内で、1~5mgの各試料を、10℃/分で、25℃から300℃まで加熱した。測定全体を通して、試料に対して、50mL/分の乾燥窒素のパージを維持した。融解吸熱の発生を、融点として報告した。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iに関するDSCを図2に表す。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIに関するDSCを図4に表す。
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iに関するDSCを図6に表す。
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iに関するDSCを図8に表す。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iに関するDSCを図10に表す。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIに関するDSCを図12に表す。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIに関するDSCを図14に表す。
テノホビルアラフェナミドバニレートに関するDSCを図16に表す。
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートに関するDSCを図18に表す。
溶解度のスクリーニング
溶解度のスクリーニング
予め秤量した量の固体を含有するバイアル中に、およそ22℃で、脱イオン水を少しずつ添加した。固体/液体混合物を、ボルテックスミキサーでかき混ぜ、室温で保持した。脱イオン水の添加を続け、固体が完全に溶解するまで混合を繰り返した。種々の塩の溶解度を、先の手順で測定し、値を以下の表2に反映する。
溶解度のより低い塩形態(ヘミフマル酸塩と比較して)によって、長時間作用型製剤に対応する放出の持続時間の延長がもたらされる。
本出願で引用したすべての特許、特許出願および刊行物を含む参照文献はそれぞれ、そのそれぞれが個別に組み込まれている場合と同様に、参照によりその全体として本明細書に組み込まれる。さらに、本発明の上記教示において、当業者が、本発明にある特定の変更または修正を行うことができ、これらの均等物が、依然として本出願に添付の特許請求の範囲によって定義された本発明の範囲内にあることが理解されるであろう。本出願で引用したすべての特許、特許出願および刊行物を含む参照文献はそれぞれ、そのそれぞれが個別に組み込まれている場合と同様に、参照によりその全体として本明細書に組み込まれる。さらに、本発明の上記教示において、当業者が、本発明にある特定の変更または修正を行うことができ、これらの均等物が、依然として本出願に添付の特許請求の範囲によって定義された本発明の範囲内にあることが理解されるであろう。
本発明の好ましい実施形態によれば、例えば、以下が提供される。
(項1)
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート、
テノホビルアラフェナミドセバケート、
テノホビルアラフェナミドナプシレート、または
テノホビルアラフェナミドオロテート。
(項2)
上記項1に記載のテノホビルアラフェナミドヘミパモエート。
(項3)
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iである、上記項2に記載の結晶形態。
(項4)
約7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、および22.3° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項3に記載の結晶形態。
(項5)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約17.4°、19.0°、20.1°、23.8°、および25.7° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項4に記載の結晶形態。
(項6)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約11.2°、13.1°、13.8°、15.8°、21.0°、および28.8° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項5に記載の結晶形態。
(項7)
図1に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項3から5のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項8)
図2に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項3から6のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項9)
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIである、上記項2に記載の結晶形態。
(項10)
約5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、および23.2° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項9に記載の結晶形態。
(項11)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約24.1° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項9に記載の結晶形態。
(項12)
図3に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項9から11のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項13)
図4に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項9から12のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項14)
上記項1に記載のテノホビルアラフェナミドセバケート。
(項15)
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iである、上記項14に記載の結晶形態。(項16)
約5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、および19.8° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項15に記載の結晶形態。
(項17)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、および22.1° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項16に記載の結晶形態。
(項18)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項17に記載の結晶形態。
(項19)
図5に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項15から18のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項20)
図6に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる
、上記項15から19のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項21)
上記項1に記載のテノホビルアラフェナミドナプシレート。
(項22)
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iである、上記項21に記載の結晶形態。
(項23)
約3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、および19.2° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項22に記載の結晶形態。
(項24)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約19.4°、19.8°、20.6°、23.8°、および27.2° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項23に記載の結晶形態。
(項25)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0° 2-θ±0.2°
2-θでさらなるピークを有する、上記項24に記載の結晶形態。
(項26)
図7に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項22から25のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項27)
図8に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項23から26のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項28)
上記項1に記載のテノホビルアラフェナミドオロテート。
(項29)
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iである、上記項28に記載の結晶形態。(項30)
約3.0°、5.9°、8.9°、および11.8° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項29に記載の結晶形態。
(項31)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約14.8°、16.0°、17.7°、18.7°、および21.5° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項30に記載の結晶形態。
(項32)
図9に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項29から31のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項33)
図10に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項29から32のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項34)
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIである、上記項28に記載の結晶形態。
(項35)
約3.4°、6.9°、10.3°、および13.8° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項34に記載の結晶形態。
(項36)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約15.4°、17.3°、19.0°、22.8°、および29.0° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項35に記載の結晶形態。
(項37)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約18.4°、および21.6° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項36に記載の結晶形態。
(項38)
図11に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項34から37のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項39)
図12に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項34から38のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項40)
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIである、上記項28に記載の結晶形態。
(項41)
約3.8°、9.4°、12.4°、15.7°、および19.0° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項40に記載の結晶形態。
(項42)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約8.3°、16.4°、24.5°、26.6°、および28.9° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項41に記載の結晶形態。
(項43)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約6.9°、22.8°、および27.6° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項42に記載の結晶形態。
(項44)
図13に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項40から43のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項45)
図14に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項40から43のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項46)
治療有効量の、上記項1から45のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
(項47)
1から3つの追加の治療剤をさらに含む、上記項46に記載の医薬組成物。
(項48)
前記追加の治療剤が、それぞれ、HIVに対して活性である、上記項47に記載の医薬組成物。
(項49)
単位剤形である、上記項46から48のいずれか一項に記載の医薬組成物。
(項50)
前記単位剤形が、皮下注射剤である、上記項49に記載の医薬組成物。
(項51)
治療有効量の、上記項1から45のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
(項52)
HIV感染を処置するための、上記項1から45のいずれか一項に記載の形態の使用。
(項53)
治療有効量の、上記項1から47のいずれか一項に記載の形態を、それを必要とするヒトに投与することを含む、ヒトのウイルス感染を処置するための方法。
(項54)
前記ウイルス感染が、HIVによって引き起こされる、上記項53に記載のヒトのウイルス感染を処置するための方法。
(項55)
HIVによって引き起こされる感染を処置するための方法において使用するための、上記項1から45のいずれか一項に記載の形態。
(項56)
テノホビルアラフェナミドバニレート、または
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート。
(項57)
テノホビルアラフェナミドバニレートである、上記項56に記載の結晶形態。
(項58)
約6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折パターンによって特徴付けられる、上記項57に記載の結晶形態。
(項59)
約10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折パターンによって特徴付けられる、上記項57に記載の結晶形態。
(項60)
図15に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項56から59のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項61)
図16に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項56から60のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項62)
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートである、上記項56に記載の結晶形態。
(項63)
約4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、21.7°、および25.5° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折パターンによって特徴付けられる、上記項62に記載の結晶形態。
(項64)
約7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折パターンによって特徴付けられる、上記項62に記載の結晶形態。
(項65)
図17に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項62から64のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項66)
図18に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項62から65のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項67)
治療有効量の、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
(項68)
1から3つの追加の治療剤をさらに含む、上記項67に記載の医薬組成物。
(項69)
前記追加の治療剤が、それぞれ、HIVに対して活性である、上記項68に記載の医薬組成物。
(項70)
単位剤形である、上記項56から66のいずれか一項に記載の医薬組成物。
(項71)
前記単位剤形が、皮下注射剤である、上記項70に記載の医薬組成物。
(項72)
治療有効量の、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
(項73)
HIV感染を処置するための、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態の使用。
(項74)
治療有効量の、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態を、それを必要とするヒトに投与することを含む、ヒトのウイルス感染を処置するための方法。
(項75)
前記ウイルス感染が、HIVによって引き起こされる、上記項74に記載のヒトのウイルス感染を処置するための方法。
(項76)
HIVによって引き起こされる感染を処置するための方法において使用するための、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態。
(項1)
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート、
テノホビルアラフェナミドセバケート、
テノホビルアラフェナミドナプシレート、または
テノホビルアラフェナミドオロテート。
(項2)
上記項1に記載のテノホビルアラフェナミドヘミパモエート。
(項3)
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Iである、上記項2に記載の結晶形態。
(項4)
約7.4°、8.4°、10.6°、14.8°、および22.3° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項3に記載の結晶形態。
(項5)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約17.4°、19.0°、20.1°、23.8°、および25.7° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項4に記載の結晶形態。
(項6)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約11.2°、13.1°、13.8°、15.8°、21.0°、および28.8° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項5に記載の結晶形態。
(項7)
図1に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項3から5のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項8)
図2に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項3から6のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項9)
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態IIである、上記項2に記載の結晶形態。
(項10)
約5.5°、10.9°、16.2°、22.1°、および23.2° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項9に記載の結晶形態。
(項11)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約24.1° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項9に記載の結晶形態。
(項12)
図3に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項9から11のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項13)
図4に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項9から12のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項14)
上記項1に記載のテノホビルアラフェナミドセバケート。
(項15)
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Iである、上記項14に記載の結晶形態。(項16)
約5.3°、6.6°、9.4°、9.6°、および19.8° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項15に記載の結晶形態。
(項17)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約14.8°、15.7°、18.7°、19.3°、および22.1° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項16に記載の結晶形態。
(項18)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約11.7°、12.6°、20.9°、23.4°、23.8°、26.2°、28.2°、および29.0° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項17に記載の結晶形態。
(項19)
図5に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項15から18のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項20)
図6に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる
、上記項15から19のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項21)
上記項1に記載のテノホビルアラフェナミドナプシレート。
(項22)
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Iである、上記項21に記載の結晶形態。
(項23)
約3.9°、7.8°、13.6°、15.3°、および19.2° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項22に記載の結晶形態。
(項24)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約19.4°、19.8°、20.6°、23.8°、および27.2° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項23に記載の結晶形態。
(項25)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約9.8°、13.2°、15.5°、16.5°、17.8°、23.0°、24.1°、および26.0° 2-θ±0.2°
2-θでさらなるピークを有する、上記項24に記載の結晶形態。
(項26)
図7に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項22から25のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項27)
図8に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項23から26のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項28)
上記項1に記載のテノホビルアラフェナミドオロテート。
(項29)
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Iである、上記項28に記載の結晶形態。(項30)
約3.0°、5.9°、8.9°、および11.8° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項29に記載の結晶形態。
(項31)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約14.8°、16.0°、17.7°、18.7°、および21.5° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項30に記載の結晶形態。
(項32)
図9に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項29から31のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項33)
図10に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項29から32のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項34)
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIである、上記項28に記載の結晶形態。
(項35)
約3.4°、6.9°、10.3°、および13.8° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項34に記載の結晶形態。
(項36)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約15.4°、17.3°、19.0°、22.8°、および29.0° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項35に記載の結晶形態。
(項37)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約18.4°、および21.6° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項36に記載の結晶形態。
(項38)
図11に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項34から37のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項39)
図12に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項34から38のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項40)
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態IIIである、上記項28に記載の結晶形態。
(項41)
約3.8°、9.4°、12.4°、15.7°、および19.0° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項40に記載の結晶形態。
(項42)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約8.3°、16.4°、24.5°、26.6°、および28.9° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項41に記載の結晶形態。
(項43)
前記X線粉末回折(XRPD)パターンが、約6.9°、22.8°、および27.6° 2-θ±0.2° 2-θでさらなるピークを有する、上記項42に記載の結晶形態。
(項44)
図13に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項40から43のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項45)
図14に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項40から43のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項46)
治療有効量の、上記項1から45のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
(項47)
1から3つの追加の治療剤をさらに含む、上記項46に記載の医薬組成物。
(項48)
前記追加の治療剤が、それぞれ、HIVに対して活性である、上記項47に記載の医薬組成物。
(項49)
単位剤形である、上記項46から48のいずれか一項に記載の医薬組成物。
(項50)
前記単位剤形が、皮下注射剤である、上記項49に記載の医薬組成物。
(項51)
治療有効量の、上記項1から45のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
(項52)
HIV感染を処置するための、上記項1から45のいずれか一項に記載の形態の使用。
(項53)
治療有効量の、上記項1から47のいずれか一項に記載の形態を、それを必要とするヒトに投与することを含む、ヒトのウイルス感染を処置するための方法。
(項54)
前記ウイルス感染が、HIVによって引き起こされる、上記項53に記載のヒトのウイルス感染を処置するための方法。
(項55)
HIVによって引き起こされる感染を処置するための方法において使用するための、上記項1から45のいずれか一項に記載の形態。
(項56)
テノホビルアラフェナミドバニレート、または
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエート。
(項57)
テノホビルアラフェナミドバニレートである、上記項56に記載の結晶形態。
(項58)
約6.6°、9.3°、14.2°、15.2°、19.0°、および22.8° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折パターンによって特徴付けられる、上記項57に記載の結晶形態。
(項59)
約10.8°、12.3°、18.4°、19.8°、22.1°、25.0°、および32.4° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折パターンによって特徴付けられる、上記項57に記載の結晶形態。
(項60)
図15に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項56から59のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項61)
図16に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項56から60のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項62)
テノホビルアラフェナミドビス-キシナホエートである、上記項56に記載の結晶形態。
(項63)
約4.5°、8.9°、11.2°、14.4°、15.4°、18.8°、21.7°、および25.5° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折パターンによって特徴付けられる、上記項62に記載の結晶形態。
(項64)
約7.7°、14.7°、21.9°、25.9°、32.9°、33.8°、および36.5° 2-θ±0.2° 2-θでピークを有するX線粉末回折パターンによって特徴付けられる、上記項62に記載の結晶形態。
(項65)
図17に実質的に示されるX線粉末回折(XRPD)パターンによって特徴付けられる、上記項62から64のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項66)
図18に実質的に示される示差走査熱量測定(DSC)パターンによって特徴付けられる、上記項62から65のいずれか一項に記載の結晶形態。
(項67)
治療有効量の、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
(項68)
1から3つの追加の治療剤をさらに含む、上記項67に記載の医薬組成物。
(項69)
前記追加の治療剤が、それぞれ、HIVに対して活性である、上記項68に記載の医薬組成物。
(項70)
単位剤形である、上記項56から66のいずれか一項に記載の医薬組成物。
(項71)
前記単位剤形が、皮下注射剤である、上記項70に記載の医薬組成物。
(項72)
治療有効量の、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
(項73)
HIV感染を処置するための、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態の使用。
(項74)
治療有効量の、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態を、それを必要とするヒトに投与することを含む、ヒトのウイルス感染を処置するための方法。
(項75)
前記ウイルス感染が、HIVによって引き起こされる、上記項74に記載のヒトのウイルス感染を処置するための方法。
(項76)
HIVによって引き起こされる感染を処置するための方法において使用するための、上記項56から66のいずれか一項に記載の形態。
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- 明細書に記載の発明。
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