JP2022007537A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022007537A5 JP2022007537A5 JP2020110570A JP2020110570A JP2022007537A5 JP 2022007537 A5 JP2022007537 A5 JP 2022007537A5 JP 2020110570 A JP2020110570 A JP 2020110570A JP 2020110570 A JP2020110570 A JP 2020110570A JP 2022007537 A5 JP2022007537 A5 JP 2022007537A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mask
- alignment
- measuring
- positional deviation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 82
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 13
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020110570A JP7440355B2 (ja) | 2020-06-26 | 2020-06-26 | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 |
| CN202110645453.XA CN113846305B (zh) | 2020-06-26 | 2021-06-10 | 对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法及存储介质 |
| KR1020210077251A KR102582574B1 (ko) | 2020-06-26 | 2021-06-15 | 얼라인먼트 장치, 성막 장치, 얼라인먼트 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 프로그램, 및 기억 매체 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020110570A JP7440355B2 (ja) | 2020-06-26 | 2020-06-26 | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022007537A JP2022007537A (ja) | 2022-01-13 |
| JP2022007537A5 true JP2022007537A5 (enExample) | 2023-06-01 |
| JP7440355B2 JP7440355B2 (ja) | 2024-02-28 |
Family
ID=78973034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020110570A Active JP7440355B2 (ja) | 2020-06-26 | 2020-06-26 | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7440355B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102582574B1 (enExample) |
| CN (1) | CN113846305B (enExample) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2024024464A (ja) * | 2022-08-09 | 2024-02-22 | キヤノントッキ株式会社 | アライメント装置、成膜装置、制御方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3795820B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2006-07-12 | 株式会社東芝 | 基板のアライメント装置 |
| KR100785420B1 (ko) * | 2006-06-13 | 2007-12-13 | 주식회사 에스에프에이 | 압흔 검사기 |
| JP5874900B2 (ja) * | 2011-09-09 | 2016-03-02 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置用のアライメント装置 |
| JP6455176B2 (ja) | 2015-01-23 | 2019-01-23 | コニカミノルタ株式会社 | 光書き込み装置、画像形成装置及び光書き込み装置の製造方法 |
| JP6212507B2 (ja) * | 2015-02-05 | 2017-10-11 | Towa株式会社 | 切断装置及び切断方法 |
| JP2018072541A (ja) * | 2016-10-28 | 2018-05-10 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法、基板の位置決め方法、位置決め装置、パターン形成装置、及び、物品の製造方法 |
| KR101893309B1 (ko) * | 2017-10-31 | 2018-08-29 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 얼라인먼트 장치, 얼라인먼트 방법, 성막장치, 성막방법, 및 전자 디스바이스 제조방법 |
| KR20190124610A (ko) * | 2018-04-26 | 2019-11-05 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 기판 반송 시스템, 전자 디바이스 제조장치 및 전자 디바이스 제조방법 |
| KR102355418B1 (ko) * | 2018-04-26 | 2022-01-24 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 기판 반송 시스템, 전자 디바이스 제조장치 및 전자 디바이스 제조방법 |
| KR102405438B1 (ko) * | 2018-06-25 | 2022-06-03 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 마스크 위치조정장치, 성막장치, 마스크 위치조정방법, 성막방법, 및 전자디바이스의 제조방법 |
| KR102374037B1 (ko) * | 2018-06-29 | 2022-03-11 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 기판 검사 시스템, 전자 디바이스 제조 시스템, 기판 검사 방법, 및 전자 디바이스 제조 방법 |
| KR102132433B1 (ko) * | 2018-10-25 | 2020-07-09 | 주식회사 에스에프에이 | 반도체 디바이스 정렬상태 검사장치 |
| KR102634162B1 (ko) * | 2018-10-30 | 2024-02-05 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 마스크 교환시기 판정장치, 성막장치, 마스크 교환시기 판정방법, 성막방법 및 전자 디바이스의 제조방법 |
| JP7170524B2 (ja) * | 2018-12-14 | 2022-11-14 | キヤノントッキ株式会社 | 基板載置方法、成膜方法、成膜装置、有機elパネルの製造システム |
| KR102128888B1 (ko) * | 2019-02-19 | 2020-07-01 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스 제조방법 |
-
2020
- 2020-06-26 JP JP2020110570A patent/JP7440355B2/ja active Active
-
2021
- 2021-06-10 CN CN202110645453.XA patent/CN113846305B/zh active Active
- 2021-06-15 KR KR1020210077251A patent/KR102582574B1/ko active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100480867C (zh) | 一种基于图像技术的对准系统及对准方法 | |
| JP2022007538A5 (enExample) | ||
| JP6250999B2 (ja) | アライメント方法並びにアライメント装置 | |
| KR102504473B1 (ko) | 노광 장치, 노광 장치의 얼라인먼트 방법, 및 프로그램 | |
| US6927854B2 (en) | Projection exposure device and position alignment device and position alignment method | |
| CN102288108A (zh) | 位置测定系统 | |
| KR101711726B1 (ko) | Ldi 노광장치의 스테이지 보정장치 및 이를 이용한 보정방법 | |
| JP2019082610A5 (enExample) | ||
| TWI654484B (zh) | Photoetching device and method | |
| TW201802622A (zh) | 測量方法、測量設備、微影設備及製造物品的方法 | |
| JP2022007537A5 (enExample) | ||
| CN105467771A (zh) | 检测装置、测量装置、曝光装置、物品制造方法和测量方法 | |
| US10429744B2 (en) | Image improvement for alignment through incoherent illumination blending | |
| US20220299317A1 (en) | Method for positioning substrate | |
| JP6157093B2 (ja) | 露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法 | |
| CN104076611B (zh) | 用于光刻设备的拼接物镜成像测校方法 | |
| JP2017009434A (ja) | 画像検査装置及び画像検査方法 | |
| JP2022007536A5 (enExample) | ||
| JP2020190654A5 (enExample) | ||
| CN106707691A (zh) | 曝光装置及方法 | |
| CN108693719A (zh) | 曝光装置及曝光方法 | |
| WO2019047005A1 (zh) | 对位装置和测试设备 | |
| JP2022074800A5 (enExample) | ||
| JP2015224940A5 (ja) | 計測装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法、及び計測方法 | |
| KR102711897B1 (ko) | 비전 얼라인먼트 시스템 및 이를 이용한 스테이지 이동시 진동 및 흔들림에 대한 오차보정방법 |