JP6157093B2 - 露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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- 複数の基板を順次露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
前記基板のショット領域の高さを計測する計測部と、
前記複数の基板のそれぞれの露光を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記複数の基板のうち先頭からn枚目(nは自然数)までの基板を露光する場合には、予め取得した前記n枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれの高さの第1計測値に基づいて前記n枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれに対して前記ステージでフォーカス調整し露光すると共に当該複数のショット領域のそれぞれの高さを前記計測部で計測して第2計測値を取得し、
前記複数の基板のうちn+1枚目以降の基板を露光する場合には、前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のうち1つのショット領域の高さを前記計測部で計測して第3計測値を取得し、前記第1計測値に含まれる前記1つのショット領域に対応するショット領域の高さの計測値と前記第3計測値との差分、前記第1計測値、及び、前記第2計測値に基づいて前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のそれぞれに対して前記ステージでフォーカス調整し露光することを特徴とする露光装置。 - 前記計測部は、前記基板のショット領域の高さとして、当該ショット領域と前記フォーカス調整の基準となる基準位置との差分を計測することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記n+1枚目以降の基板を露光する場合には、前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のそれぞれに対して前記ステージでフォーカス調整し露光すると共に、当該複数のショット領域のそれぞれの高さを前記計測部で計測して第4計測値を取得することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、i枚目(i>n+1)の基板を露光する場合には、前記i枚目の基板の複数のショット領域のうち1つのショット領域の高さを前記計測部で計測して第5計測値を取得し、前記第1計測値に含まれる前記1つのショット領域に対応するショット領域の高さの計測値と前記第5計測値との差分、前記第1計測値、及び、前記n+1枚目までの基板について取得された前記第4計測値と前記第2計測値との平均値に基づいて前記i枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれに対して前記ステージでフォーカス調整し露光することを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記制御部は、i枚目(i>n+1)の基板を露光する場合には、前記i枚目の基板の複数のショット領域のうち1つのショット領域の高さを前記計測部で計測して第5計測値を取得し、前記第1計測値に含まれる前記1つのショット領域に対応するショット領域の高さの計測値と前記第5計測値との差分、前記第1計測値、及び、前記i−1枚目の基板について取得された前記第4計測値に基づいて前記i枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれに対して前記ステージでフォーカス調整し露光することを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記n+1枚目以降の基板を露光する場合には、露光前に、前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のうち一部のショット領域の高さを前記計測部で計測して第6計測値を取得し、前記n枚目の基板の複数のショット領域のうち一部のショット領域の高さの第7計測値と前記第6計測値との差分が許容範囲を超えていれば、当該基板の露光を中止することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記第6計測値を取得するための前記計測部による計測は、露光対象のショット領域を露光するための露光準備位置で行われることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記第1計測値は、前記n枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれの高さを前記計測部で計測することで取得されることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 複数の基板を順次露光する露光方法であって、
前記複数の基板のうち先頭からn枚目(nは自然数)までの基板を露光する場合には、予め取得した前記n枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれの高さの第1計測値に基づいて前記n枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれに対してフォーカス調整し露光すると共に当該複数のショット領域のそれぞれの高さを計測して第2計測値を取得し、
前記複数の基板のうちn+1枚目以降の基板を露光する場合には、前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のうち1つのショット領域の高さを計測して第3計測値を取得し、前記第1計測値に含まれる前記1つのショット領域に対応するショット領域の高さの計測値と前記第3計測値との差分、前記第1計測値、及び、前記第2計測値に基づいて前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のそれぞれに対してフォーカス調整し露光することを特徴とする露光方法。 - 請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。 - 前記複数の基板のうち先頭からn枚目(nは自然数)までの基板及び前記複数の基板のうちn+1枚目以降の基板を露光する場合、フォーカス調整しながら走査露光することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記複数の基板のうち先頭からn枚目(nは自然数)までの基板及び前記複数の基板のうちn+1枚目以降の基板を露光する場合、フォーカス調整しながら走査露光することを特徴とする請求項9に記載の露光方法。
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