JP2022001827A - 表面計測装置、導線製造装置、表面計測方法および導線製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】接触部材を用いて皮膜異常を検出する表面計測に関して、皮膜異常の検出感度の感度を向上しやすくする技術を提供する。【解決手段】表面計測装置は、接触部材と、表面変位計と、接触部材の変位量における周期的なノイズであるロールノイズを検出するノイズ検出部と、ノイズ低減部と、を備える。接触部材は、所定の搬送方向へ移動する導線の皮膜の表面に接触し、皮膜の表面の形状に応じて変位する。表面変位計は、皮膜の表面の形状に応じた接触部材の変位量を計測する。ノイズ検出部は、接触部材の変位量における周期的なノイズであるロールノイズを検出する。ノイズ低減部は、表面変位計により計測された接触部材の変位量から、ノイズ検出部により検出されたロールノイズの成分を低減する。【選択図】図２

Description

本開示は、導線の皮膜の表面を計測する表面計測装置、導線を製造する導線製造装置、導線の皮膜の表面を計測する表面計測方法および導線を製造する導線製造方法に関する。

従来、光源などの光学式センサを用いて導線など長尺物の外観を検査する方法が提供されている。
特許文献１では、長尺物の表面に向かって所定の光源から線状光を照射するとともに、光源と長尺物とを長尺物の長手方向に相対的に移動させながら、線状光が長尺物の外周面に照射されて成る照射線を、所定時間ごとに撮像する工程と、撮像データ内における照射線の位置に基づき、撮像データ幅方向の複数の所定位置ごとに照射線の高さ方向の位置データを求めることにより成る照射線位置データ群を撮像データごとに作製する工程とを含む長尺物の外観検査方法が記載されている。

特開２０１０−１９７１０６号公報

エナメル線などの導線において、導体の周囲に設けられた皮膜の高さの異常（以下、単に「皮膜異常」ともいう。）を検出することが検討されている。ここで、皮膜異常を検出する方法には、例えば、特許文献１に記載の方法を用いることが考えられる。

しかし、特許文献１に記載の方法によれば、例えば、エナメル線などの導線が搬送される際にエナメル線に傾斜や捻れが生じているような場合、一定の大きさを有しない、小さい皮膜異常がエナメル線の影に隠れてしまうことによって検出感度の低下を招く可能性がある。

一方、エナメル線に生じる傾斜や捻れによる検出感度の低下を抑制するように接触部材を設け、当該設けられた接触部材を接触させることにより皮膜異常を検出方法では、接触部材そのものによるノイズが生じる可能性がある。

本開示の一局面は、接触部材そのものにより生じ、検出されるノイズを低減させ、ノイズを低減させたデータに基づいて、皮膜異常を検出することにより、皮膜異常の検出感度を向上しやすくする技術を提供することを目的とする。

本開示の一態様は、表面計測装置であって、少なくとも１つの接触部材と、表面変位計と、少なくとも１つのノイズ検出部と、ノイズ低減部と、を備える。接触部材は、所定の搬送方向へ移動する導線の皮膜の表面に接触し、皮膜の表面の形状に応じて変位する。表面変位計は、皮膜の表面の形状に応じた接触部材の変位量を計測する。少なくとも１つのノイズ検出部は、接触部材の変位量における周期的なノイズであるロールノイズを検出する。ノイズ低減部は、表面変位計により計測された接触部材の変位量から、ノイズ検出部により検出されたロールノイズの成分を低減するように構成される。

また、本開示の一態様は、表面計測方法であって、表面変位計測工程と、ノイズ検出工
程と、ノイズ低減工程と、を有する。表面変位計測工程では、所定の搬送方向へ移動する導線の皮膜の表面に接触し、皮膜の表面の形状に応じて変位する少なくとも１つの接触部材の、皮膜の表面の形状に応じた変位量を計測する。ノイズ検出工程では、少なくとも１つの接触部材に周期的なノイズであるロールノイズを検出する。ノイズ低減工程では、表面変位計測工程により計測された接触部材の変位量から、ノイズ検出工程により検出されたロールノイズの成分を低減するように構成される。

このような構成によれば、接触部材により生じるロールノイズを低減することができる。
これにより、ノイズを低減させたデータに基づいて、皮膜異常を検出することにより、皮膜異常の検出感度を向上しやすくすることができる。

エナメル線製造装置の構成の概略を表した概略図である。 実施形態において側面視における表面計測装置の構成の一例を表す側面概略図である。 図２のＡ−Ａ‘断面の断面概略図である。 第１接触部材の変位の一例を表す図である。 ロールノイズにより生じる変位の例を表した図である。 ロールノイズの発生メカニズムを表した説明図である。 エナメル皮膜の位置と、第１ロールノイズと、第２ロールノイズと、第１ロールノイズおよび第２ロールノイズを合成した合成ロールノイズの測定結果の例を表した図である。 ノイズ除去処理前のエナメル皮膜の位置に相当する電圧の測定結果の例を表した図である。 ノイズ除去処理後のエナメル皮膜の位置に相当する電圧の測定結果の例を表した図である。

［１．構成］
以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下に説明する実施形態は、本開示を実施する上で好適な具体例として示すものであり、技術的に好ましい種々の事項を具体的に例示している部分もあるが、本開示の技術的範囲は、その具体的態様に限定されるものではない。

＜エナメル線２００の製造装置および製造方法＞
図１は、本開示の実施形態に係るエナメル線を製造する導線製造装置１の一例を示す概略図である。

なお、以下では、エナメル線２００用に供給される芯線として、当該芯線の長尺方向に対して直交する断面が平角形状の導体１００を用いる場合を例に挙げて説明する。なお、以下では、当該平角形状の断面において、短辺方向を厚み方向、長辺方向を幅方向とも表記する。また、芯線がエナメル塗装されることによりエナメル皮膜２００ａが周面に形成されたエナメル線２００の長尺方向に対して直交する断面が平角形状である場合を例に挙げて説明する。また、厚み方向が搬送方向Ｄｄに対して上下、幅方向が搬送方向Ｄｄに対して左右を向く向きに搬送される例に適用して説明する。さらに、本実施の形態において、使用される導体１００の素材には、例えば、銅または銅合金などを使用することができる。また、説明の便宜上、エナメル線２００を製造する導線製造装置１を構成する各種機器を横型に配置する例に適用して説明するが、縦型に配置するものであってもよい。

図１に示すように、導線製造装置１は、供給部１０と、塗装部２０と、焼付炉３０と、第１ターンプーリ４０ａと、第２ターンプーリ４０ｂと、表面計測装置５０と、を備える。
供給部１０は、導体１００を供給する。塗装部２０は供給された導体１００の外周面にエナメル塗料を塗装する。焼付炉３０は、供給された導体１００を加熱する。第１ターンプーリ４０ａ及び第２ターンプーリ４０ｂは、導体１００を所定の方向に誘導する。表面計測装置５０は、表面計測装置５０は導体１００に塗装されたエナメル塗料により形成されたエナメル皮膜２００ａの膜厚や、エナメル皮膜２００ａの表面の凹凸を計測する。

導線製造装置１の各構成の詳細を、以下に示す。
供給部１０から供給された導体１００は、塗装部２０に搬送され、導体１００の外周面に皮膜塗料であるエナメル塗料が塗装される。なお、エナメル塗料としては、エナメル皮膜２００ａを形成するために使用可能であれば、特に限定されない。

また、エナメル塗料中の溶剤としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、シクロヘキサノン等が挙げられる。また、エナメル塗料中の樹脂としては、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエステルイミド等が挙げられる。また、導体１００は、あらかじめ焼鈍処理がされたものを用いられてもよい。

エナメル塗料が塗布された導体１００は、焼付炉３０内を搬送される。焼付炉３０内を搬送されることにより、エナメル塗料の乾燥およびエナメル塗料中の樹脂の硬化が行われる。すなわち、エナメル塗料中の溶媒の蒸発と、エナメル皮膜２００ａの焼付が行われる。なお、エナメル塗料中の溶剤の蒸発およびエナメル塗料中の樹脂の硬化の方法は特に限定されるものではなく、例えば、熱風などを吹き付け、加熱することにより行うことができる。また、エナメル塗料中の溶剤の蒸発と、エナメル塗料中の樹脂の硬化とは、別々の装置で行ってもよい。

導体１００は、下流側の第１ターンプーリ４０ａを介して上流側の第２ターンプーリ４０ｂに戻り、塗装部２０によるエナメル塗料の塗布、および焼付炉３０によるエナメル塗料の乾燥および焼付が行われる。当該エナメル塗料の塗布、乾燥および焼付は、所望の厚さのエナメル皮膜２００ａが形成されるまで、繰り返し行われる。このように外周に塗布されたエナメル塗料の乾燥および焼付が行われることによって、導体１００はその外周に所望の厚さを有するエナメル皮膜２００ａを有するエナメル線２００となる。

乾燥および焼付が終了したエナメル線２００は、表面計測装置５０へと搬送される。ここで、表面計測装置５０はエナメル皮膜２００ａの膜厚や、エナメル皮膜２００ａの表面の凹凸を計測する。また、表面計測装置５０によりエナメル皮膜２００ａの膜厚やエナメル皮膜２００ａの表面の凹凸を計測することにより、例えば、エナメル皮膜２００ａの皮膜異常２００ｘを検出することができる。ここでいう皮膜異常２００ｘとは、例えば、塗装部２０へ搬入された導体１００の周辺に浮遊する固形状や繊維状の塵埃などの異物が導体１００の外周面に塗装されたエナメル塗料中に取り込まれること、導体１００あるいはエナメル皮膜２００ａの表面に発生する傷によってエナメル皮膜２００ａの表面に空隙が発生すること、または、エナメル塗料中に発泡などが生じることなどに起因して、エナメル皮膜２００ａの表面に発生した凸状の形状をいう。なお、エナメル皮膜２００ａの表面とは、エナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａ、下面２００Ｂａ、側面および角部を含める。

表面計測装置５０は、皮膜異常２００ｘのうち、特にエナメル皮膜２００ａの外側に突出し、所定の高さ以上の凸状の形状を有する皮膜異常２００ｘを検出する。なお、皮膜異
常２００ｘの高さとは、皮膜異常２００ｘが発生していないエナメル皮膜２００ａの表面からエナメル皮膜の突出した皮膜異常２００ｘの頂部までの距離である。以下では、皮膜異常２００ｘとして凸状の形状を有するものを例に挙げて説明する。

なお、所定の高さ以上の皮膜異常２００ｘが検出された場合、例えば、レーザマーカなどのマーキング装置を使用して検出された皮膜異常２００ｘの位置にマーキングを施す構成を更に有してもよい。また、皮膜異常２００ｘのエナメル皮膜状の位置情報を記録しておき、検査後に皮膜異常２００ｘおよび皮膜異常２００ｘが生じている周囲の皮膜を切断するなど所望の処理を行う装置を更に備えてもよい。

＜表面計測装置５０の詳細＞
次に、図２を参照して、本実施形態に係る表面計測装置５０について説明する。図２は、側面視における表面計測装置５０の構成の一例を表す側面概略図である。

なお、以下では、表面計測装置５０が設置された際に、表面計測装置５０の中心に対して設置面が位置する側を下方向とし、反対側を上方向とする。また、表面計測装置５０の内部をエナメル線２００が搬送される方向である搬送方向Ｄｄに沿った方向を前後方向とする。また、搬送方向Ｄｄにおいて、上流側を前側、下流側を後ろ側とも表記する。上下方向および前後方向に垂直な方向を左右方向とし、上流側を手前側、下流側を奥側にみた場合を基準として、左方向および右方向を規定する。

本実施形態における表面計測装置５０はエナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａおよび下面２００Ｂａに発生する皮膜異常２００ｘを検出する。
エナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａおよび下面２００Ｂａは対向する一対の面を構成する。

図２に示すように、表面計測装置５０は、一対の接触部材５１と、第１アーム部材５２と、表面変位計５３と第２アーム部材５４と一対のロールノイズセンサ５７とを備える。
＜一対の接触部材５１＞
一対の接触部材５１は、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂを有する。第１接触部材５１Ａがエナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａと平行に配置され、第２接触部材５１Ｂがエナメル皮膜２００ａの下面２００Ｂａと平行に配置される。また、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、エナメル線２００を挟んで互いに反対側に配置される。言い換えると、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは搬送方向Ｄｄに沿って線上に搬送されるエナメル線２００を当該搬送方向Ｄｄに略垂直な方向である厚み方向に挟んで互いに対向する位置に設けられる。第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、エナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａおよび下面２００Ｂａにそれぞれ接触する。これにより、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、上面２００Ａａまたは下面２００Ｂａに発生した皮膜異常２００ｘを検出する。

第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、例えば、略円柱または略円筒状の形状を有する。また、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、それぞれの中心軸Ｏ１，Ｏ２を回転軸として自転する回転体である、いわゆる平ロールである。第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、エナメル線２００の幅以上の長さを有することが好ましい。

第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは共に、それぞれの中心軸Ｏ１および中心軸Ｏ２とエナメル線２００の搬送方向Ｄｄとが互いに直交するように配置される。また、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、互いに高さ方向が平行となるように配置される。さらに第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、共にエナメル線２
００の上面２００Ａａおよび下面２００Ｂａに略平行に配置される。

第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの素材は特に限定されない。
第２接触部材５１Ｂは、長手方向における両端部で、表面計測装置５０に固定された台座部材５５に連結されている。また、第２接触部材５１Ｂは、エナメル線２００の厚み方向においてエナメル線２００に対して固定的に保持されている。具体的には第２接触部材５１Ｂは台座部材５５を介して表面計測装置５０に対して固定的に保持されている。

台座部材５５は、例えば、略Ｌ字型の形状を有する一対のベースフレームである。台座部材５５は、第２接触部材５１Ｂと連結する上腕部５５１と、上腕部５５１と直交して連続する前腕部５５２とを備える。台座部材５５は、例えば、第２アーム部材５４に固定されてもよい。

第１接触部材５１Ａは、エナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａおよび下面２００Ｂａの凹凸形状に応じてエナメル線２００の厚み方向に可動するように構成される。具体的には、第１接触部材５１Ａは、皮膜異常２００ｘの高さに応じてエナメル線２００の厚み方向に変位するように構成されている。なお、厚み方向とは、搬送方向Ｄｄに交差する交差方向であり、例えば、導線製造装置１の上下方向に沿った方向である。第１接触部材５１Ａは、中心軸Ｏ１の長手方向における両端部で、ピックアップ部材５６と接続されている。ピックアップ部材５６は、表面計測装置５０に対して回転可能に支持される。

図２のＡ−Ａ’断面概略図を図３に示す。なお、Ａ−Ａ’断面は、表面計測装置５０の中心軸Ｏ１を通る水平面を、表面計測装置５０の上方向からみた断面である。図３に示すように、ピックアップ部材５６は、所定の厚みを有する平板状の部材の両端を同一の方向に略直角に折り曲げて構成される。ピックアップ部材５６は、平面視において、略Ｕ字型の形状を有している。ピックアップ部材５６は、底部５６ｂがエナメル線２００の搬送方向Ｄｄの後方側に位置すると共に、開口端側がエナメル線２００の搬送方向Ｄｄの前方側に位置するように設けられる。また、ピックアップ部材５６の内側には、第１接触部材５１Ａが連結されている。

また、ピックアップ部材５６の内側には、エナメル線２００の搬送方向Ｄｄにおいて第１接触部材５１Ａよりも前方の位置に第１接触部材５１Ａと略平行に配置され、ピックアップ部材５６の開口端側の両端部５６ａを貫通する支軸５６１が設けられる。

支軸５６１は一対の台座部材５５の内の一方の台座部材５５の上腕部５５１と、他方の台座部材５５の上腕部５５１とを共に貫通している。すなわち、ピックアップ部材５６の開口端側の両端部５６ａは支軸５６１によって一対の台座部材５５の内側にそれぞれ回転可能に設置される。なお、台座部材５５とピックアップ部材５６との位置関係は、このような位置関係に限定されるものではない。例えば、ピックアップ部材５６を台座部材５５の外側に設置したものであってもよい。

ピックアップ部材５６は支軸５６１の中心軸Ｏ３を支点として回転可能に支持される。言い換えると、ピックアップ部材５６は、台座部材５５に対して相対的に回転可能に支持されている。

第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、互いの中心軸Ｏ１および中心軸Ｏ２がエナメル線２００の長手方向に略同一の位置になるように配置されることが好ましい。言い換えると、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、第１接触部材５１Ａの中心軸Ｏ１および第２接触部材５１Ｂの中心軸Ｏ２を結ぶ線分がエナメル線２００の長手方向と略直交するように配置される。

また、第１接触部材５１Ａは、表面５１Ａａがエナメル線２００の上面２００Ａａに接するように配置される。また、第２接触部材５１Ｂは、表面５１Ｂａがエナメル線２００の下面２００Ｂａに接するように配置される。具体的には、例えば、第１接触部材５１Ａの半径Ｒ１および第２接触部材５１Ｂの半径Ｒ２は適宜調整されてもよい。また、ピックアップ部材５６を台座部材５５に固定する支軸５６１の、エナメル線２００の厚み方向における位置が適宜調整されてもよい。

第１接触部材５１Ａの表面５１Ａａが皮膜異常２００ｘに接触した際の第１接触部材５１Ａの変位の一例を図４に示す。
図４に示すように、第１接触部材５１Ａの表面５１Ａａが皮膜異常２００ｘに接触すると、第１接触部材５１Ａには、接触した皮膜異常２００ｘの大きさに応じた変位が加えられる。変位の量は、皮膜異常２００ｘの大きさに応じて決まる。なお、変位の量とは、エナメル線２００の厚み方向において、第１接触部材５１Ａの中心軸Ｏ１が移動した量をいい、具体的にはエナメル線２００の高さの一例に相当する値である。

第１接触部材５１Ａは、第１接触部材５１Ａが支軸５６１の中心軸Ｏ３を支点とすると共にエナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａと接する点を作用点とする回転をする。このような構成により、第１接触部材５１Ａを略水平の状態でエナメル線２００の厚み方向に持ち上げるよりも容易に第１接触部材５１Ａの高さを変位させることができる。

＜第１アーム部材５２＞
第１アーム部材５２は、ピックアップ部材５６の底部５６ｂに接続される。第１アーム部材５２は、第１接触部材５１Ａのエナメル線２００の厚み方向の変位を増幅する。第１アーム部材５２は、例えば、棒状の形状を有する。第１アーム部材５２は、多角形状の断面を有し、略平坦状の形状を有する測面に囲まれた部材であることが好ましい。

第１アーム部材５２は、略平坦な一側面が表面変位計５３側を向くように、すなわち、略平坦な一側面が上向きになるように配置されることが好ましい。
ここで、第１接触部材５１Ａの中心軸Ｏ１と支軸５６１の中心軸Ｏ３との間の距離を第１距離Ｌ１とし、第１接触部材５１Ａの中心軸Ｏ１と、第１アーム部材５２のエナメル線２００の搬送方向Ｄｄの後方側に位置する端面５２ａとの間の距離を第２距離Ｌ２として、第１接触部材５１Ａのエナメル線２００の厚み方向の変位の増幅率ｈは、ｈ＝（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｌ１で表すことができる。

ここで、第１距離Ｌ１および第２距離Ｌ２は、表面計測装置５０のサイズ、機械部品の配置、所望の検出感度を勘案して適宜設定してもよい。例えば、第１距離Ｌ１と第２距離Ｌ２との比はＬ１：Ｌ２＝１：４となるように設定されてもよい。この場合、増幅率ｈは５倍となる。

なお、上述した第１アーム部材５２の長さは特に限定されるものではないが、第１アーム部材５２の長さが長いほど、第２距離Ｌ２が大きくなるため、第１接触部材５１Ａのエナメル線２００の厚み方向の変位を増幅する増幅率ｈを大きくする点では、第１アーム部材５２の長さはより長い方が好ましい。

＜第２アーム部材５４＞
第２アーム部材５４は表面計測装置５０に対して表面変位計５３を固定的に支持する。
第２アーム部材５４は、表面計測装置５０に固定される。また第２アーム部材５４のエナメル線２００の搬送方向Ｄｄの後方側に位置する先端部には、表面変位計５３が取り付けられる。

＜表面変位計５３＞
表面変位計５３は、第１アーム部材５２がエナメル線２００の厚み方向に変位した量を測定するセンサである。表面変位計５３は、例えば、対象物の変位に関する情報を電圧に変換して変位の量を測定するセンサである。なお、表面変位計５３に用いられるセンサの種類としては、特に限定されるものではなく、超音波センサや、リニア近接センサなどが用いられてもよい。表面変位計５３として用いられるセンサとしては、接触式である場合、測定の際に第１アーム部材５２に力が加わる可能性があるため、非接触式であることが好ましい。例えば、表面変位計５３には、光学式センサが用いられてもよい。

表面変位計５３は、第２アーム部材５４を介して、表面計測装置５０に固定されている。具体的には、表面変位計５３は、図２，図３および図４に示すように、第２アーム部材５４の搬送方向Ｄｄの後方側の先端部において、第１アーム部材５２のエナメル線２００の搬送方向Ｄｄの後方側の先端部と対向する位置に固定される。

表面変位計５３は、導体１００の搬送方向Ｄｄに対して後方側に位置する第１アーム部材５２の先端部における、エナメル線２００の厚み方向の変位の量を測定する。すなわち、表面変位計５３は増幅された第１接触部材５１Ａの変位量を測定する。これにより、表面変位計５３は、第１接触部材５１Ａの変位の量、すなわちエナメル線２００の高さの情報を取得できる。ここでいう、導体１００の搬送方向Ｄｄに対して後方側に位置する第１アーム部材５２の先端部における、エナメル線２００の厚み方向の変位の量とは、導体１００の搬送方向Ｄｄに対して後方側に位置する第１アーム部材５２の先端部がエナメル線２００の厚み方向において移動した量をいう。
＜一対のロールノイズセンサ５７＞
図２および図４に示すように一対のロールノイズセンサ５７は、第１ロールノイズセンサ５７Ａおよび第２ロールノイズセンサ５７Ｂを有する。

一対のロールノイズセンサ５７を構成する第１ロールノイズセンサ５７Ａおよび第２ロールノイズセンサ５７Ｂはいずれも、例えば、対象物の変位に関する情報を電圧に変換して変位の量を測定するセンサである。なお、第１ロールノイズセンサ５７Ａおよび第２ロールノイズセンサ５７Ｂに用いられるセンサの種類としては、特に限定されるものではなく、超音波センサや、リニア近接センサなどが用いられてもよい。第１ロールノイズセンサ５７Ａおよび第２ロールノイズセンサ５７Ｂとして用いられるセンサとしては、非接触式であることが好ましい。例えば、第１ロールノイズセンサ５７Ａおよび第２ロールノイズセンサ５７Ｂとしては、光学式センサが用いられてもよい。

第１ロールノイズセンサ５７Ａは、第１接触部材５１Ａのロールノイズを測定する。また、第２ロールノイズセンサ５７Ｂは、第２接触部材５１Ｂのロールノイズを測定する。
具体的には、第１ロールノイズセンサ５７Ａは、中心軸Ｏ１を中心とした第１接触部材５１Ａの回転に対して、中心軸Ｏ１との相対的な距離が変化しないように配置される。第１ロールノイズセンサ５７Ａは、例えば、第１接触部材５１Ａの中心軸Ｏ１が接続されているピックアップ部材５６と固定的に保持される。具体的には、第１ロールノイズセンサ５７Ａは、第１支柱５７Ａａを介してピックアップ部材５６に固定される。例えば、第１支柱５７Ａａは、略Ｌ字型の形状を有し、第１端部５７Ａｂが中心軸Ｏ１の上側に位置するように、第２端部５７Ａｃがピックアップ部材５６に固定的に保持される。そして、中心軸Ｏ１の上側に配置された第１端部５７Ａｂに第１ロールノイズセンサ５７Ａが配置される。第１ロールノイズセンサ５７Ａは、第１端部５７Ａｂにおいて、中心軸Ｏ１の方向を向くように配置される。第１ロールノイズセンサ５７Ａは、第１端部５７Ａｂにおいて、中心軸Ｏ１の直上に配置されることが好ましい。

具体的には、第２ロールノイズセンサ５７Ｂは、中心軸Ｏ２を中心とした第２接触部材５１Ｂの回転に対して、中心軸Ｏ２との相対的な距離が変化しないように配置される。第２ロールノイズセンサ５７Ｂは、例えば、第２接触部材５１Ｂの中心軸Ｏ２が接続されている台座部材５５と固定的に保持される。また、第２ロールノイズセンサ５７Ｂが保持される位置は、台座部材５５の前腕部５５２であってもよい。具体的には、第２ロールノイズセンサ５７Ｂは、第１支柱５７Ｂａを介して台座部材５５の前腕部５５２に固定される。例えば、第１支柱５７Ｂａは、略Ｌ字型の形状を有し、第１端部５７Ｂｂが中心軸Ｏ２の下側に位置するように、第２端部５７Ｂｃが台座部材５５に固定的に保持される。そして、中心軸Ｏ２の下側に配置された第１端部５７Ｂｂに第２ロールノイズセンサ５７Ｂが配置される。第２ロールノイズセンサ５７Ｂは、第１端部５７Ｂｂにおいて、中心軸Ｏ２の方向を向くように配置される。第２ロールノイズセンサ５７Ｂは、第１端部５７Ｂｂにおいて、中心軸Ｏ２の直下に配置されることが好ましい。

［２．作用］
＜エナメル線２００の皮膜異常検出方法＞
ここで、搬送方向Ｄｄに向かってエナメル線２００を搬送した際に、表面変位計５３により検出される測定電圧の例を図５に示す。

ここで、測定電圧の単位はＶで表し、測定電圧が高いほど、測定対象である対象物までの距離が短いことを表す。すなわち、測定電圧が対象物までの距離に対応する。そして、測定電圧の値の変動が対象物の変位に対応する。ここでいう測定対象である対象物とは、具体的には、第１アーム部材５２である。

また、表面変位計５３の測定結果は、検出される測定電圧が高いほど、表面変位計５３と第１アーム部材５２との間の距離が短いことを表す。すなわち、表面変位計５３において検出される測定電圧が高いほど、エナメル線２００のエナメル皮膜２００ａの高さが高いことを表す。

図５に示した例では、２つの皮膜異常２００ｘに対応したピークをそれぞれピークＰ１、ピークＰ２と表す。
図５に示した、表面変位計５３による測定電圧の例では、搬送方向Ｄｄに沿ったエナメル線２００の搬送に伴い、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの回転周期に応じた周期Ｔの周期的なノイズが生じている。当該ノイズをここではロールノイズと表記する。なお、周期Ｔは、一例として示したものであり、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの大きさや、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの回転周期などにより変動する。

ここで、ロールノイズが含まれるノイズのピークよりも大きい閾値ＴｈＡを設定する。
この閾値ＴｈＡよりも大きいものを皮膜異常２００ｘに対応したピークとして、検出する場合、閾値ＴｈＡよりも大きいピークＰ１については検出できるものの、閾値ＴｈＡよりも小さいピークＰ２については検出できない。

ロールノイズの発生メカニズムについて図６を用いて説明する。
一対の接触部材５１を構成する第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、それぞれ中心軸Ｏ１および中心軸Ｏ２を有する。理想的には、中心軸Ｏ１および中心軸Ｏ２は、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの円柱形状または円筒形状の中心の軸方向と一致していることが好ましい。

しかしながら、実際には、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの製造過程や、組み立て工程などにより、中心軸Ｏ１および中心軸Ｏ２が第１接触部材５１Ａおよび第
２接触部材５１Ｂの中心のからずれて配置され、いわゆる偏心が発生することがある。また、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの周面が不均一に摩耗した場合にも同様に、偏心が発生する可能性がある。この偏心が発生した場合にロールノイズが発生する。

ここでは、第１ロールノイズセンサ５７Ａによる第１接触部材５１Ａのロールノイズの測定例について説明する。
例えば、第１接触部材５１Ａの中心に対して中心軸Ｏ１が、図６左図に示すように、第１ロールノイズセンサ５７Ａと遠い側、すなわち第１接触部材５１Ａの中心に対して中心軸Ｏ１が下方向に偏心していた場合には、第１接触部材５１Ａの回転に伴って、図６右図に示すように第１ロールノイズセンサ５７Ａにより測定される第１ロールノイズセンサ５７Ａと第１接触部材５１Ａとの距離が変動する。

具体的には、中心軸Ｏ１の中心の鉛直上方向に第１接触部材５１Ａの中心が位置する時刻をｔ０ａとして、中心軸Ｏ１を中心として時計回りに第１接触部材５１Ａを一定の回転速度で回転させる。中心軸Ｏ１から上方向の表面５１Ａａまでの距離は回転に伴って減少する。そして、時刻ｔ０ａにおける位置から、中心軸Ｏ１に対して第１接触部材５１Ａが１８０°回転した時刻ｔ１において、中心軸Ｏ１の中心の鉛直下方向に第１接触部材５１Ａの中心が位置する。その後、さらに回転することにより中心軸Ｏ１から上方向の表面５１Ａａまでの距離は増加し、時刻ｔ０ｂにおいて、再び中心軸Ｏ１の中心の鉛直上方向に第１接触部材５１Ａの中心が位置する。当該、時刻ｔ０ａから時刻ｔ０ｂまでの時間を周期ＴＡとする。当該周期ＴＡで周期的に発生するノイズが第１接触部材５１Ａのロールノイズである。なお、第１接触部材５１Ａのロールノイズを第１ロールノイズＲＡとも表記する。

なお、第２ロールノイズセンサ５７Ｂについても第１ロールノイズセンサ５７Ａと同様に第２接触部材５１Ｂのロールノイズが測定される。なお、第２接触部材５１Ｂのロールノイズを第２ロールノイズＲＢとも表記する。また、第２接触部材５１Ｂのロールノイズの周期を周期ＴＢとも表記する。

次に、ノイズ除去の例を示した図７を用いてノイズの除去について説明する。
図７は、表面変位計５３により測定されたエナメル皮膜２００ａの位置のデータ、第１ロールノイズセンサ５７Ａにより検出された第１接触部材５１Ａの第１ロールノイズＲＡ、第２ロールノイズセンサ５７Ｂにより検出された第２接触部材５１Ｂの第２ロールノイズＲＢ、第１ロールノイズＲＡと第２ロールノイズＲＢとの和の測定結果の例を表したものである。なお、第１ロールノイズＲＡと第２ロールノイズＲＢとの和は、ピークの位置を合わせた上で合算したものであってもよい。

なお、図７の横軸は測定点を表す。ここで、横軸の測定点の測定間隔は適宜設定されてもよい。
表面変位計５３により測定されたエナメル皮膜２００ａの位置のデータのピークに対して、第１ロールノイズセンサ５７Ａおよび第２ロールノイズセンサ５７Ｂにより測定されたロールノイズである、第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢのデータのピークの位置を合わせる。すなわち、それぞれ最大となっている位置で、それぞれのデータを合わせる。そして、エナメル皮膜２００ａの位置のデータから、第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢのデータを減算する。

なお、測定されたエナメル皮膜２００ａの位置のデータから、第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢのそれぞれを減算するものに限定されず、それぞれを合算した上で測定されたエナメル皮膜２００ａの位置のデータから減算してもよい。

ノイズ除去前のエナメル皮膜２００ａの位置のデータを図８に示し、ノイズ除去後のエナメル皮膜２００ａの位置のデータを図９に示す。
なお、図８および図９では、それぞれ、エナメル皮膜２００ａの位置は、それぞれ位置に相当する測定電圧の値で表され、各測定電圧の単位はＶを用いて表す。図８および図９の縦軸は、測定電圧（Ｖ）を表し、横軸は測定点を表す。ここで、横軸の測定点の測定間隔は適宜設定されてもよい。

ここで、閾値を設定し、設定された閾値よりも大きい値をエナメル皮膜２００ａの皮膜異常２００ｘとして検出する場合、当該設定される閾値はノイズの大きさよりも大きい値となる。

ここで、図８に示すようなロールノイズ除去前のノイズと図９に示すようにロールノイズ除去後のノイズとを比較すると、図９の方がロールノイズを除去することによりノイズを低減できる。

これにより、それぞれのノイズの大きさよりも大きい値に閾値を設定した場合、ロールノイズ除去前のデータに基づき設定した閾値ＴｈＡに比べて、ロールノイズ除去後のデータに基づき設定した閾値ＴｈＢの方が小さい値に設定することができる。

これにより、例えば、図８と図９に示した例で比較すると、ロールノイズ除去前のデータに基づき閾値ＴｈＡを設定すると、閾値ＴｈＡよりも小さいピークであるピークＰａ１およびピークＰａ２は皮膜異常２００ｘとして検出されない。これに対して、ロールノイズ除去後のデータに基づき閾値ＴｈＢを設定すると、閾値ＴｈＢよりも大きく、閾値ＴｈＡよりも小さいピークであるピークＰａ１およびピークＰａ２を皮膜異常２００ｘとして検出することができる。

つまり、閾値をより低く設定することが可能であるため、皮膜異常２００ｘを検出する感度を向上できる。
これにより、ロールノイズ除去前の閾値ＴｈＡに比べて、ロールノイズ除去後の閾値ＴｈＢの方が、閾値ＴｈＡよりも小さくすることができる。

これにより、ピークＰａ１およびピークＰａ２の一例に相当するロールノイズ除去後のピークＰｂ１およびピークＰｂ２を閾値ＴｈＢよりも大きくすることができるため、皮膜異常２００ｘを表すピークを検出することができる。

なお、エナメル皮膜２００ａの位置のデータのピークと第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢのピークとの位置合わせおよびノイズ除去については、各データを取得したコンピュータなどにより実行されてもよい。なお、ここでいう、コンピュータはＣＰＵ、メモリを備え、ロールノイズのピークの位置合わせを行う工程およびロールノイズを減算することによりノイズを除去する工程を行うプログラムが実行できるように構成される。また、ノイズの除去は、単純に位置合わせおよびノイズの減算を行うものに限定されず、例えば、適宜係数を加算または乗算した上で、エナメル皮膜２００ａのデータから第１ロールノイズＲＡのデータおよび第２ロールノイズＲＢのデータを減算することにより除去するものであってもよい。具体的には、例えば、第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢのそれぞれに係数１．２を乗算した上で、エナメル皮膜２００ａの位置のデータを減算してもよい。なお、ここで乗算する係数については適宜調整されてもよい。

本実施形態における、一対のロールノイズセンサ５７がノイズ検出部としての構成の一
例に相当し、第１ロールノイズセンサ５７Ａが第１ノイズ検出部の一例に相当し、第２ロールノイズセンサ５７Ｂが第２ノイズ検出部の一例に相当する。また、エナメル皮膜２００ａが形成された導体１００であるエナメル線２００が導体１００の周面が皮膜された導線の一例に相当する。なお、搬送方向Ｄｄと交差する厚み方向が交差方向の一例に相当する。また、上面２００Ａａが第１面の一例に相当し、下面２００Ｂａが第２面の一例に相当する。また、ピックアップ部材５６が第１保持部材の一例に相当し、台座部材５５および台座部材５５に含まれる前腕部５５２が第２保持部材の一例に相当する。また、本実施形態における中心軸Ｏ３が、第１接触部材５１Ａよりも搬送方向Ｄｄに沿って下流側に移動した位置に配置された支軸に相当する。また、第１アーム部材５２が増幅部材の一例に相当し、第２アーム部材５４が固定部材の一例に相当する。

［３．効果］
（１）本実施形態の表面計測装置５０は、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂと、表面変位計５３と、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの変位量における周期的なノイズである第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢを検出する一対のロールノイズセンサ５７と、ノイズ低減部と、を備える。一対の接触部材５１は、所定の搬送方向Ｄｄへ移動する導線の皮膜の表面に接触し、皮膜の表面の形状に応じて変位する。表面変位計は、皮膜の表面の形状に応じた接触部材の変位量を計測する。少なくとも１つのノイズ検出部は、接触部材の変位量における周期的なノイズであるロールノイズを検出する。ノイズ低減部は、表面変位計により計測された接触部材の変位量から、ノイズ検出部により検出されたロールノイズの成分を低減するように構成される。

また、本実施形態の表面計測装置５０が実行する皮膜異常２００ｘを検出する表面計測方法は、表面変位計５３により搬送方向Ｄｄへ移動するエナメル線２００のエナメル皮膜２００ａに接触し、エナメル皮膜２００ａの形状に応じて変位する第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの、エナメル皮膜２００ａの表面の形状に応じた変位量を計測する表面変位計測工程と、一対のロールノイズセンサ５７により、一対の接触部材５１の変位量における周期的なノイズであるロールノイズを検出するノイズ検出工程と、表面変位計５３による表面変位計測工程により計測された第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの変位量から、一対のロールノイズセンサ５７によるノイズ検出工程により検出された第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢの成分を低減するように構成されたノイズ低減工程と、を有する。

このような構成によれば、一対の接触部材５１により生じる第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢを低減することにより、一対の接触部材５１により生じるノイズを低減することができ、その結果、エナメル線２００の皮膜異常２００ｘの検出感度を向上させることができる。

（２）本実施形態の表面計測装置５０は、一対の接触部材５１として、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂを備える。第１接触部材５１Ａは、搬送方向Ｄｄと交差する厚み方向に変位する。第２接触部材５１Ｂは、交差方向に対して固定的に保持され、エナメル線２００において第１接触部材５１Ａが接触する側である上面２００Ａａの一例に相当する上面２００Ａａとは反対側の面である下面２００Ｂａと接触する。一対のロールノイズセンサ５７は、第１ロールノイズセンサ５７Ａと、第２ロールノイズセンサ５７Ｂと、を備える。第１ロールノイズセンサ５７Ａは、第１接触部材５１Ａのロールノイズである第１ロールノイズＲＡを検出する。第２ロールノイズセンサ５７Ｂは、第２接触部材５１Ｂのロールノイズである第２ロールノイズＲＢを検出する。

このような構成によれば、第１接触部材５１Ａと第２接触部材５１Ｂとのそれぞれで生じる第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢを検出し、検出したロールノイズ
を除去または低減することにより、皮膜異常２００ｘの検出感度を向上させることができる。

（３）本実施形態の表面計測装置５０は、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、円柱形状または円筒形状を有する回転体である。第１ロールノイズセンサ５７Ａは、第１接触部材５１Ａの回転周期と対応した周期で発生する第１ロールノイズＲＡを検出する。第２ロールノイズセンサ５７Ｂは、第２接触部材５１Ｂの回転周期と対応した周期で発生する第２ロールノイズＲＢを検出する。

このような構成によれば、第１ロールノイズＲＡと第２ロールノイズＲＢとはそれぞれ第１接触部材５１Ａと第２接触部材５１Ｂとの回転周期に対応して周期的に発生する。このため、当該周期的に生じる第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢを低減することにより、皮膜異常２００ｘの検出感度を向上させることができる。

（４）本実施形態の表面計測装置５０では、第１ロールノイズセンサ５７Ａは、第１接触部材５１Ａが回転可能に保持されているピックアップ部材５６に配置され、第２ロールノイズセンサ５７Ｂは、第２接触部材５１Ｂが回転可能に保持されている台座部材５５に配置される。

このような構成によれば、皮膜異常２００ｘに対する変位に対する一対の接触部材５１の動きに対して、第１ロールノイズセンサ５７Ａおよび第２ロールノイズセンサ５７Ｂもそれぞれ動くため、皮膜異常２００ｘによる一対の接触部材５１の変位の影響が打ち消され、第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢを検出する検出感度を向上させることができる。

（５）本実施形態の表面計測装置５０では、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、それぞれの円柱形状または円筒形状の円周面で、エナメル線２００の搬送方向Ｄｄに沿った面を挟み込むように、互いに対向する位置に設けられる。

このような構成によれば、第１接触部材５１Ａと第２接触部材５１Ｂとが互いに対向する位置に設けられることにより、第１接触部材５１Ａと第１接触部材５１Ａとの間に生じた皮膜異常２００ｘを検出することができる。

（６）本実施形態の表面計測装置５０では、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、それぞれの中心軸Ｏ１および中心軸Ｏ２の方向が、搬送方向Ｄｄおよび厚み方向に対して直交し、互いに平行となる向きになるように配置される。

このような構成によれば、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、それぞれの中心軸Ｏ１および中心軸Ｏ２の方向が、搬送方向Ｄｄおよび交差方向に対して直交し、互いに平行となる向きになるように配置される。これにより、皮膜異常２００ｘが生じた場合に、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂの中心軸Ｏ１および中心軸Ｏ２に対して直交する向きに力が加わる。このため、皮膜異常２００ｘの検出感度を向上させることができる。

（７）本実施形態の表面計測装置５０では、エナメル線２００は、平角形状を有し、当該平角形状の厚み方向が搬送方向Ｄｄに対して上下方向に沿うように搬送され、第１接触部材５１Ａがエナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａと平行に配置され、第２接触部材５１Ｂがエナメル皮膜２００ａの下面２００Ｂａと平行に配置される。また、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、エナメル線２００を挟んで互いに反対側に配置される。そして、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、上面２００Ａａまたは下
面２００Ｂａに発生した皮膜異常２００ｘを検出する。

このような構成によれば、厚み方向に生じる皮膜異常２００ｘを検出しやすくなる。
（８）本実施形態の表面計測装置５０は、第１接触部材５１Ａは、当該第１接触部材５１Ａよりも搬送方向Ｄｄに沿って下流側に移動した位置に配置された中心軸Ｏ３を支点として回転可能に支持されている。

このような構成によれば、第１接触部材５１Ａを、当該下流側の位置に配置された中心軸Ｏ３を支点として回転可能に支持することができる。
（９）本実施形態の表面計測装置５０は、第１アーム部材５２と第２アーム部材５４とを備える。

第１アーム部材５２第１保持部材の一例に相当するピックアップ部材５６に配置され、当該第１接触部材５１Ａの交差方向の変位を増幅させる。第２アーム部材５４は、第１アーム部材５２の第１接触部材５１Ａよりも搬送方向Ｄｄの上流側の位置と対向する位置に表面変位計５３を固定する。そして、第２アーム部材５４により固定された表面変位計５３は、第１アーム部材５２により増幅された第１接触部材５１Ａの厚み方向の変位の量を測定する。

このような構成によれば、第１アーム部材５２により増幅された第１接触部材５１Ａの厚み方向の変位の量が測定される。このため、第１接触部材５１Ａの変位の量の測定精度を向上させることができる。

（１０）本実施形態の導線製造装置１は、塗装部２０と、皮膜形成部の一例に相当する焼付炉３０と、上述した表面計測装置と、を備える。塗装部２０は、導体１００に皮膜塗料を塗布する。焼付炉３０は、皮膜塗料の焼き付けを行って皮膜を形成する。上述した表面計測装置５０は、形成された皮膜の表面を計測する。

また、本実施形態の導線製造装置１が実行する導線製造方法は、塗装部２０が実行する塗装工程と、皮膜形成部の一例に相当する焼付炉３０が実行する皮膜形成工程と、を有する。塗装工程では、導体１００に皮膜塗料を塗布する。皮膜形成工程では、皮膜塗料の焼き付けを行って皮膜の一例に相当するエナメル皮膜２００ａを形成する。上述した工程では、皮膜形成工程により形成されたエナメル皮膜２００ａの表面を計測する。

このような構成によれば、第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢを低減した表面計測装置５０によって、エナメル線２００のエナメル皮膜２００ａの表面を計測し、エナメル皮膜２００ａが形成された導体１００であるエナメル線２００を製造することができる。

［４．他の実施形態］
（１）上記実施形態では、表面計測装置５０は、エナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａおよび下面２００Ｂａに生じている皮膜異常２００ｘを検出する例に適用して説明した。

しかし、表面計測装置５０により検出する皮膜異常２００ｘは、エナメル皮膜２００ａの上面２００Ａａおよび下面２００Ｂａに生じているものに限定されるものではない。例えば、当該平角形状の幅方向が搬送方向Ｄｄに対して左右に沿うように搬送され、第１接触部材５１Ａがエナメル皮膜２００ａの右側面と平行に配置され、第２接触部材５１Ｂがエナメル皮膜２００ａの左側面と平行に配置されてもよい。また、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、エナメル線２００を挟んで互いに反対側に配置されてもよい
。そして、第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂは、エナメル線２００の右側面または左側面に発生した皮膜異常２００ｘを検出してもよい。

このような構成によれば、エナメル線２００のエナメル皮膜２００ａにおいて、側面方向、すなわち幅方向に生じる皮膜異常２００ｘを検出しやすくなる。
エナメル皮膜２００ａの右側面または左側面に生じている皮膜異常２００ｘを検出する場合には、右側面及び左側面にローラが接触するように配置され、皮膜異常２００ｘの凸状形状の部分にローラが押され、変位した場合に、押される前の元の位置に戻るような構成を備えてもよい。

（２）上記実施形態では、表面計測装置５０が備える第１接触部材５１Ａおよび第２接触部材５１Ｂはそれぞれ第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢを算出した。しかしながら、第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢはそれぞれ別々に算出されるものに限定されない。すなわち、第１ロールノイズＲＡおよび第２ロールノイズＲＢのそれぞれのノイズ成分を合成したノイズを合成ロールノイズとして算出してもよい。また、ノイズ低減部は、一対の接触部材５１の変位量から合成ロールノイズの成分を低減するように構成されてもよい。

このような構成によれば、第１ロールノイズＲＡと第２ロールノイズＲＢとを合成した合成ロールノイズの成分を低減することができる。
（３）上記実施形態における１つの構成要素が有する複数の機能を、複数の構成要素によって実現したり、１つの構成要素が有する１つの機能を、複数の構成要素によって実現したりしてもよい。また、複数の構成要素が有する複数の機能を、１つの構成要素によって実現したり、複数の構成要素によって実現される１つの機能を、１つの構成要素によって実現したりしてもよい。また、上記実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加または置換してもよい。

（４）上述した導線製造装置１および表面計測装置５０の他、当該導線製造装置１および表面計測装置５０を構成要素とするシステム、当該導線製造装置１および表面計測装置５０としてコンピュータを機能させるためのプログラム、このプログラムを記録した半導体メモリ等の非遷移的実態的記録媒体、導線製造方法および表面計測方法など、種々の形態で本開示を実現することもできる。

１…導線製造装置、１０…供給部、２０…塗装部、３０…焼付炉、４０ａ…第１ターンプーリ、４０ｂ…第２ターンプーリ、５０…表面計測装置、５１…一対の接触部材、５１Ａ…第１接触部材、５１Ｂ…第２接触部材、５１Ａａ，５１Ｂａ…表面、５２…第１アーム部材、５２ａ…端面、５４…第２アーム部材、５５…台座部材、５６…ピックアップ部材、５６ａ…両端部、５６ｂ…底部、５７…一対のロールノイズセンサ、５７Ａ…第１ロールノイズセンサ、５７Ａａ，５７Ｂａ…第１支柱、５７Ａｂ，５７Ｂｂ…第１端部、５７Ａｃ，５７Ｂｃ…第２端部、５７Ｂ…第２ロールノイズセンサ、１００…導体、２００…エナメル線、２００Ａａ…上面、２００Ｂａ…下面、２００ａ…エナメル皮膜、２００ｘ…皮膜異常、５５１…上腕部、５５２…前腕部、５６１…支軸、Ｏ１，Ｏ２，Ｏ３…中心軸、Ｐ１，Ｐ２，Ｐａ１，Ｐａ２，Ｐｂ１，Ｐｂ２…ピーク、ＲＡ…第１ロールノイズ、ＲＢ…第２ロールノイズ、Ｔ，ＴＡ，ＴＢ…周期、ｔ０ａ，ｔ０ｂ，ｔ１…時刻。

Claims (14)

1. 所定の搬送方向へ移動する導線の皮膜の表面に接触し、前記皮膜の表面の形状に応じて変位する少なくとも１つの接触部材と、
   前記皮膜の表面の形状に応じた前記接触部材の変位量を計測する表面変位計と、
   前記少なくとも１つの接触部材の変位量における周期的なノイズであるロールノイズを検出する少なくとも１つのノイズ検出部と、
   前記表面変位計により計測された前記接触部材の変位量から、前記ノイズ検出部により検出された前記ロールノイズの成分を低減するように構成されたノイズ低減部と、
   を備える、表面計測装置。
2. 請求項１に記載の表面計測装置であって、
   前記少なくとも１つの接触部材は、前記搬送方向と交差する交差方向に変位する第１接触部材と、
   前記交差方向に対して固定的に保持され、前記導線において前記第１接触部材が接触する側である第１面とは反対側の面である第２面と接触する第２接触部材と、
   を備え、
   前記ノイズ検出部は、
   前記第１接触部材の前記ロールノイズである第１ロールノイズを検出する、第１ノイズ検出部と、
   前記第２接触部材の前記ロールノイズである第２ロールノイズを検出する、第２ノイズ検出部と、
   を備える、表面計測装置。
3. 請求項２に記載の表面計測装置であって、
   前記第１接触部材および前記第２接触部材は、円柱形状または円筒形状を有する回転体であり、
   前記第１ノイズ検出部は、前記第１接触部材の回転周期と対応した周期で発生する前記第１ロールノイズを検出し、
   前記第２ノイズ検出部は、前記第２接触部材の回転周期と対応した周期で発生する前記第２ロールノイズを検出する、表面計測装置。
4. 請求項２または請求項３に記載の表面計測装置であって、
   前記第１ノイズ検出部は、前記第１接触部材を回転可能に保持する第１保持部材に配置され、
   前記第２ノイズ検出部は、前記第２接触部材を回転可能に保持する第２保持部材に配置された、表面計測装置。
5. 請求項２から請求項４までのいずれか１項に記載の表面計測装置であって、
   前記第１接触部材および前記第２接触部材は、それぞれの円柱形状の円周面で前記導線の前記搬送方向に沿った面を挟み込むように、互いに対向する位置に設けられた、表面計測装置。
6. 請求項５に記載の表面計測装置であって、
   前記第１接触部材および前記第２接触部材は、それぞれの中心軸の方向が前記搬送方向および前記交差方向に対して直交し、互いに平行となる向きになるように配置された、表面計測装置。
7. 請求項５または請求項６に記載の表面計測装置であって、
   前記導線は、平角形状を有し、当該平角形状の短辺に沿った方向を厚み方向として、当
   該厚み方向が前記搬送方向に対して上下方向に沿うように搬送され、
   前記第１接触部材および前記第２接触部材は、一方が前記皮膜の上面と平行に配置され、他方が前記皮膜の下面と平行となるように、前記導線を挟んで互いに反対側に配置され、前記上面または前記下面に発生した皮膜異常を検出する、表面計測装置。
8. 請求項５または請求項６に記載の表面計測装置であって、
   前記導線は、平角形状を有し、当該平角形状の長辺に沿った方向を幅方向として、当該幅方向が前記搬送方向に対して側面方向を向くように搬送され、
   前記第１接触部材および前記第２接触部材は、一方が前記皮膜の右側面と平行に配置され、他方が前記皮膜の左側面と平行となるように、前記導線を挟んで互いに反対側に配置され、前記左側面及び前記右側面の少なくとも一方に発生した皮膜異常を検出する、表面計測装置。
9. 請求項２から請求項８までのいずれか１項に記載の表面計測装置であって、
   前記ノイズ検出部は、前記第１ロールノイズおよび前記第２ロールノイズの前記ロールノイズのノイズ成分を合成した合成ロールノイズを算出し、
   前記ノイズ低減部は、前記接触部材の変位量から前記合成ロールノイズの成分を低減するように構成された、表面計測装置。
10. 請求項２から請求項９までのいずれか１項に記載の表面計測装置であって、
    前記第１接触部材は、当該第１接触部材よりも前記搬送方向に沿って下流側に移動した位置に配置された支軸を支点として回転可能に支持されている、表面計測装置。
11. 請求項４に記載の表面計測装置であって、
    前記第１保持部材に配置され、当該第１接触部材の前記交差方向の変位を増幅させる増幅部材と、
    前記増幅部材の前記第１接触部材よりも前記搬送方向の上流側の位置と対向する位置に前記表面変位計を固定する固定部材と、
    を備え、
    前記固定部材により固定された前記表面変位計は、前記増幅部材により増幅された前記第１接触部材の前記交差方向の変位の量を測定するように構成された、表面計測装置。
12. 導体に皮膜塗料を塗布する塗装部と、
    前記皮膜塗料の焼き付けを行って皮膜を形成する皮膜形成部と、
    形成された前記皮膜の表面を計測する請求項１から請求項１１までのいずれか１項に記載の表面計測装置と、
    を備える導線製造装置。
13. 所定の搬送方向へ移動する導線の皮膜の表面に接触し、前記皮膜の表面の形状に応じて変位する少なくとも１つの接触部材の、前記皮膜の表面の形状に応じた変位量を計測する表面変位計測工程と、
    前記少なくとも１つの接触部材の変位量における周期的なノイズであるロールノイズを検出するノイズ検出工程と、
    前記表面変位計測工程により計測された前記接触部材の変位量から、前記ノイズ検出工程により検出された前記ロールノイズの成分を低減するように構成されたノイズ低減工程と、
    を有する、表面計測方法。
14. 導体に皮膜塗料を塗布する塗装工程と、
    前記皮膜塗料の焼き付けを行って皮膜を形成する皮膜形成工程と、
    前記皮膜形成工程により形成された前記皮膜の表面を計測する、請求項１３に記載の工程と、
    を有する、導線製造方法。

Images