JP7259285B2 - エナメル線の皮膜異常検出装置、エナメル線の製造装置、エナメル線の皮膜異常の検出方法、及びエナメル線の製造方法 - Google Patents
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Description
前記接触部材が変位した量を取得する変位計と、
を備える、エナメル線の皮膜異常検出装置。
[2]前記一定の方向を第1の方向とした場合に、
前記接触部材は、前記第1の方向と略垂直な第2の方向に変位する第1の接触部材と、前記第2の方向において固定的に保持され、前記エナメル線の前記第1の接触部材側の第1の面と反対側の第2の面側に配置された第2の接触部材とを備える、
前記[1]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[3]前記第1の接触部材は、該第1の接触部材よりも前記第1の方向の前方に設けられた支軸を支点として回転可能に支持されている、
前記[2]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[4]前記第1の接触部材に接続され、該第1の接触部材の前記第2の方向の変位を増幅する増幅部材と、
前記増幅部材の前記第1の方向の後方側の先端部に対向する位置で前記変位計を固定的に支持する固定部材と、
をさらに備え、
固定された前記変位計は、前記増幅部材によって増幅された前記先端部の前記第2方向の変位の量を測定することによって前記接触部材が変位した量を取得する、
前記[3]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[5]前記第1の接触部材及び前記第2の接触部材はともに、略円柱形状の形状を有する回転体からなる、
前記[1]から[4]のいずれか1つに記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[6]前記第2の接触部材は、前記エナメル線を前記第2の方向において挟んで前記第1の接触部材と対向する位置に設けられており、
前記第1の接触部材と前記第2の接触部材とで前記エナメル皮膜の一対の対向する面を挟むことにより、前記一対の対向する面に発生した皮膜異常を検出する、
前記[5]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[7]前記第1の接触部材及び前記第2の接触部材はともに、中心軸が前記第1の方向と直交するように配置されているとともに、互いに略平行に配置されている、
前記[6]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[8]前記第1の接触部材及び前記第2の接触部材は、前記エナメル線を厚み方向に挟んで対向する位置において、前記エナメル皮膜の上面及び下面と略平行に設けられており、
前記第1の接触部材と前記第2の接触部材とが前記上面及び前記下面にそれぞれ接触することにより、前記上面又は前記下面に発生した皮膜異常を検出する、
前記[6]又は[7]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[9]前記第1の接触部材及び前記第2の接触部材は、前記エナメル線を幅方向に挟んで対向する位置において、前記エナメル皮膜の側面のうち前記第1の方向に沿った一対の側面と略平行に設けられており、
前記第1の接触部材と前記第2の接触部材とが前記一対の側面にそれぞれ接触することにより、前記一対の側面のいずれかに発生した皮膜異常を検出する、
前記[6]又は[7]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[10]前記第1の接触部材は、略円柱状の形状の側面に、側面視において略V字型の形状を有する溝部が形成された第3の接触部材からなる、
前記[1]から[9]のいずれか1つに記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[11]前記第2の接触部材は、前記第3の接触部材と略同一の形状を有する第4の接触部材及び第5の接触部材とからなり、
前記第3の接触部材、前記第4の接触部材及び前記第5の接触部材は、前記エナメル線を挟んで互い違いに配置されており、
前記第3の接触部材と、前記第4の接触部材及び前記第5の接触部材のうち少なくともいずれか一方とで前記エナメル線を挟むことにより、前記エナメル皮膜の角部に発生した皮膜異常を検出する、
前記[10]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[12]前記第3の接触部材、前記第4の接触部材及び前記第5の接触部材は、前記エナメル線を厚み方向に挟んで互い違いに配置されている、
前記[11]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[13]前記第3の接触部材、前記第4の接触部材及び前記第5の接触部材は、前記エナメル線を幅方向に挟んで互い違いに配置されている、
前記[11]に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[14]導体にエナメル塗料を塗布する塗料塗布部と、
前記エナメル塗料の焼付けを行ってエナメル皮膜を形成する焼鈍炉と、
形成された前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常を検出する、請求項1から10に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置と、
を備える、エナメル線の製造装置。
[15]エナメル線を所定の速度で一定の方向へ線状に移動する工程と、
接触部材を用いて移動中の前記エナメル線のエナメル皮膜に接触する工程と、
前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常と接触することにより前記皮膜異常の高さに応じて前記接触部材が変位する工程と、
前記接触部材の変位を増幅する工程と、
増幅した前記変位を出力電圧に変換して前記変位の量を測定する工程と、
前記出力電圧が所定の閾値を超えたときに前記皮膜異常が発生していると判定する工程と、
を含む、エナメル線の皮膜異常の検出方法。
[16]導体にエナメル塗料を塗布する工程と、
前記エナメル塗料の焼付けを行ってエナメル皮膜を形成する工程と、
前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常を検出する、前記[15]に記載の工程と、
を含む、エナメル線の製造方法。
図1は、本発明の実施の形態に係るエナメル線の製造装置の一例を示す概略図である。なお、以下では、エナメル線12用に供給される心線として、断面が平角形状の導体10を用いる場合を例に挙げて説明する。また、本実施の形態において使用される導体10の素材には、例えば、銅、銅合金等を使用することができる。また、説明の便宜上、エナメル線の製造装置1を構成する各種機器を横型に配置するタイプのものを例に挙げて説明するが、縦型に配置するタイプでもよい。
[第1の実施の形態]
次に、図2を参照して第1の実施の形態に係る皮膜異常検出装置4について説明する。図2は、皮膜異常検出装置4の構成の一例を概略的に示す図であり、(a)は、側面図、(b)は、(a)のA-A‘断面図である。第1の実施の形態に係る皮膜異常検出装置4は、主として、エナメル皮膜12aの上面12aa、下面12ab、及び側面12bに発生する皮膜異常120を検出する。
図2(a)及び図2(b)に示すように、皮膜異常検出装置4は、一定の方向(以下、「進行方向」ともいう。矢印「B」参照。図2(a)では右方向とする。)に線状に搬送されるエナメル線12を一定の方向に対して略垂直な方向(単に「厚み方向」ともいう。)において挟んで互いに対向する位置に設けられ、エナメル皮膜12aの上面12aa及び下面12abにそれぞれ接触する一対の接触部材41と、これら一対の接触部材41のうち一方の接触部材(以下、「第1の接触部材41A」ともいう。)に接続し、第1の接触部材41Aのエナメル線12の厚み方向の変位を増幅する第1のアーム部材42と、第1のアーム部材42がエナメル線12の厚み方向に変位した量を測定する変位計43と、皮膜異常検出装置4に対して変位計43を固定的に支持する第2のアーム部材44とを有して構成されている。進行方向は、第1の方向の一例である。第1のアーム部材42は、増幅部材の一例である。第2のアーム部材44は、固定部材の一例である。エナメル線12の厚み方向は、第2の方向の一例である。
第1の接触部材41A、及び一対の接触部材41のうち他方の接触部材(以下、「第2の接触部材41B」ともいう。)は、例えば、略円柱又は略円筒状の形状を有し、それぞれの中心軸O1,O2を回転軸として自転する回転体からなる平ロールである。第1の接触部材41A及び第2の接触部材41Bは、好ましくは、エナメル線12の幅以上の長さを有する。
第1のアーム部材42は、ピックアップ部材46の底部46bに接続されている。第1のアーム部材42は、例えば、棒状の形状を有する。好ましくは、第1のアーム部材42は、多角形状の断面を有する、略平坦状の形状を有する側面に囲まれた部材である。
h=(L1+L2)/L1・・・(1)
第2のアーム部材44は、上述したように、皮膜異常検出装置4に固定される。また、第2のアーム部材44のエナメル線12の進行方向の後方側に位置する先端部には、変位計43が取り付けられている。
変位計43は、対象物の変位に関する情報を電圧に変換して変位の量を測定するセンサである。変位計43には、例えば、超音波センサや、リニア近接センサ等の公知の技術を採用してよい。ただし、変位計43には、非接触式のタイプのものを採用するのが好ましい。一例として、変位計43には、光学式のセンサを用いてよい。
側面12bの皮膜異常120の検出する第2の構成について説明する。なお、上述した第1の構成と相違する点を中心に説明し、実質的に同一の内容については説明の詳細は省略する。第2の構成では、第1の接触部材41A及び第2の接触部材41Bをエナメル線12の側面12bに接触するように配置する。この場合、第1の接触部材41Aは、エナメル線12のいずれかの側面12bに発生した皮膜異常120の大きさに応じてエナメル線12の幅方向(進行方向および厚み方向の両方に対して垂直な方向)に変位する。
次に、図4を参照して第2の実施の形態に係る皮膜異常検出装置4を説明する。図4は、第2の実施の形態に係る皮膜異常検出装置4の構成の一例を概略的に示す図である。第2の実施の形態に係る皮膜異常検出装置4は、主として、エナメル皮膜12aの4つの角部12r(図5参照)に発生する皮膜異常を検出する。
R3+R4>L3+L4・・・(2)
R3+R5>L3+L5・・・(3)
上述した第1のアーム部材42を設けることは、必須ではない。第1のアーム部材42を備えない皮膜異常検出装置4の変形例について図7及び図8を参照して説明する。図7は、皮膜異常検出装置4の一変形例を概略的に示す図である。図8は、第1の実施の形態に係る皮膜異常検出装置4の他の変形例を概略的に示す図である。
本発明にかかる皮膜異常120の検出方法は、例えば、上述した皮膜異常検出装置4を用いて実行する。本発明にかかる皮膜異常120の検出方法は、エナメル線12が所定の速度で一定の方向へ線状に移動する工程と、接触部材41が移動中のエナメル線12のエナメル皮膜12aの上面12aa、下面12ab、及び4つの角部12rのうち少なくとも1つ以上に接触する工程と、エナメル皮膜12a上に発生した凸状の皮膜異常120と接触部材41とが接触することにより皮膜異常120の高さに応じて接触部材41がエナメル皮膜12aに対して変位する工程と、変位を増幅する工程と、増幅した変位を出力電圧に変換して検出することによって接触部材41の変位の量を測定する工程と、出力電圧が所定の閾値を超えたときに皮膜異常120が発生していると判定する工程と、を含む。なお、上記実施の形態のフローにおいて、他の工程の追加、削除、変更、上記の工程の入替え等が可能である。
本発明の実施の形態によれば、エナメル線12の皮膜異常120の検出感度を向上させることができる。
Claims (16)
- 一定の方向へ線状に移動するエナメル線のエナメル皮膜の表面に接触し、前記エナメル皮膜の表面に発生した皮膜異常の高さに応じて変位する接触部材と、
前記接触部材が変位した量を取得する変位計と、
を備え、
前記エナメル線は、断面が平角形状からなる導体の外周に前記エナメル皮膜を有し、
前記接触部材は、略円柱状の形状の側面に、側面視においてV字型の形状を有する溝部が形成されており、前記溝部が前記エナメル線の角部における前記エナメル皮膜に接触する、
エナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記一定の方向を第1の方向とした場合に、
前記接触部材は、前記第1の方向と略垂直な第2の方向に変位する第1の接触部材と、
前記第2の方向において固定的に保持され、前記エナメル線の前記第1の接触部材側の第1の面と反対側の第2の面側に配置された第2の接触部材とを備える、
請求項1に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第1の接触部材は、該第1の接触部材よりも前記第1の方向の前方に設けられた支軸を支点として回転可能に支持されている、
請求項2に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第1の接触部材に接続され、該第1の接触部材の前記第2の方向の変位を増幅する増幅部材と、
前記増幅部材の前記第1の方向の後方側の先端部に対向する位置で前記変位計を固定的に支持する固定部材と、
をさらに備え、
固定された前記変位計は、前記増幅部材によって増幅された前記先端部の前記第2方向の変位の量を測定することによって前記接触部材が変位した量を取得する、
請求項3に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第1の接触部材及び前記第2の接触部材はともに、略円柱形状の形状を有する回転体からなる、
請求項2から4のいずれか1項に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第2の接触部材は、前記エナメル線を前記第2の方向において挟んで前記第1の接触部材と対向する位置に設けられており、
前記第1の接触部材と前記第2の接触部材とで前記エナメル皮膜の一対の対向する面を挟むことにより、前記一対の対向する面に発生した皮膜異常を検出する、
請求項5に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第1の接触部材及び前記第2の接触部材はともに、中心軸が前記第1の方向と直交するように配置されているとともに、互いに略平行に配置されている、
請求項6に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第1の接触部材及び前記第2の接触部材は、前記エナメル線を厚み方向に挟んで対向する位置において、前記エナメル皮膜の上面及び下面と略平行に設けられており、
前記第1の接触部材と前記第2の接触部材とが前記上面及び前記下面にそれぞれ接触することにより、前記上面又は前記下面に発生した皮膜異常を検出する、
請求項6又は7に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第1の接触部材及び前記第2の接触部材は、前記エナメル線を幅方向に挟んで対向する位置において、前記エナメル皮膜の側面のうち前記第1の方向に沿った一対の側面と略平行に設けられており、
前記第1の接触部材と前記第2の接触部材とが前記一対の側面にそれぞれ接触することにより、前記一対の側面のいずれかに発生した皮膜異常を検出する、
請求項6又は7に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第1の接触部材は、略円柱状の形状の側面に、側面視において略V字型の形状を有する溝部が形成された第3の接触部材からなる、
請求項2から9のいずれか1項に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第2の接触部材は、前記第3の接触部材と略同一の形状を有する第4の接触部材及び第5の接触部材とからなり、
前記第3の接触部材、前記第4の接触部材及び前記第5の接触部材は、前記エナメル線を挟んで互い違いに配置されており、
前記第3の接触部材と、前記第4の接触部材及び前記第5の接触部材のうち少なくともいずれか一方とで前記エナメル線を挟むことにより、前記エナメル皮膜の角部に発生した皮膜異常を検出する、
請求項10に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第3の接触部材、前記第4の接触部材及び前記第5の接触部材は、前記エナメル線を厚み方向に挟んで互い違いに配置されている、
請求項11に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 前記第3の接触部材、前記第4の接触部材及び前記第5の接触部材は、前記エナメル線を幅方向に挟んで互い違いに配置されている、
請求項11に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。 - 導体にエナメル塗料を塗布する塗料塗布部と、
前記エナメル塗料の焼付けを行ってエナメル皮膜を形成する焼鈍炉と、
形成された前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常を検出する、請求項1から10に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置と、
を備える、エナメル線の製造装置。 - 断面が平角形状からなる導体の外周にエナメル皮膜を有するエナメル線を所定の速度で一定の方向へ線状に移動する工程と、
略円柱状の形状の側面に、側面視においてV字型の形状を有する溝部が形成された接触部材を用いて、前記溝部が移動中の前記エナメル線の角部における前記エナメル皮膜に接触する工程と、
前記エナメル皮膜の表面に発生した皮膜異常と接触することにより前記異常の高さに応じて前記接触部材が変位する工程と、
前記接触部材の変位を増幅する工程と、
増幅した前記変位を出力電圧に変換して前記変位の量を測定する工程と、
前記出力電圧が所定の閾値を超えたときに前記皮膜異常が発生していると判定する工程と、
を含む、エナメル線の皮膜異常の検出方法。 - 導体にエナメル塗料を塗布する工程と、
前記エナメル塗料の焼付けを行ってエナメル皮膜を形成する工程と、
前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常を検出する、請求項15に記載の工程と、
を含む、エナメル線の製造方法。
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