JP2021529982A - 補正特徴部を備えた光均質化素子 - Google Patents

Abstract

光均質化素子が記載される。光均質化素子は、光源によって生成される光照射野の均質性を改善するために設計された補正特徴部を備えたレンズアレイを含んでいる。補正特徴部は、レンズアレイ内の選択されたレンズレットの選択された位置に配置されたマスクを含んでいる。補正特徴部は、光源によって生成される光照射野における空間的または角度的な不均質性を補正するために、選択された位置においてレンズアレイを通る光の透過を遮断するか、または減じる。光源に結合された補正されたレンズアレイを含む照明システムは、極めて均質な光照射野を生成する。用途は、マイクロリソグラフィを含んでいる。

Description

関連出願

本願は、２０１８年６月２７日に出願された米国仮出願第６２／６９０３９８号に基づく優先権の利益を主張し、その内容に依拠し、その内容全体を参照することにより本明細書に援用する。

本開示は、照明システム用の光均質化素子に関する。より詳細には、本開示は、照明システムの像面において高度に均質な光の分布をもたらす光均質化素子に関する。最も詳細には、本開示は、複数のレンズレットを備えたレンズアレイを含む光均質化素子であって、レンズアレイにおいて、少なくとも１つのレンズレットの開口が、レンズアレイに入射する光照射野における不均質性を補正するためにマスクされている、光均質化素子に関する。

投影システムおよび詳細にはマイクロリソグラフィ投影システムは、マスクまたは空間光変調器のような対象物を照明するために均質な電磁場を要求する。次いで、このエネルギは、光学系によって伝達されて、ウェハを照明するか、または別の場所において像を形成する。電磁場が均質ではない場合、像の露光は均質でなくなってしまう。

現在のマイクロリソグラフィ照明装置の多くは、３６５ｎｍの光を発生させるために、低圧水銀アークランプを使用する。大型ランプおよびこの大型ランプに関連する実用性は、高価かつ非効率的であり、安全性に関する潜在的な問題をもたらしてしまう。ランプ光源から発光ダイオード（ＬＥＤ）光源へと移すことにより、これら全ての面における改善がみられる。ＬＥＤは、アレイ状に配置することができ、レティクル面において均質な光照射野を形成するために均質化することができる。ＬＥＤダイは、半導体製造プロセスで製造され、その結果、ダイを製造するための繰返し可能な構造およびパターンが生じる。

ＬＥＤを均質化する幾つかの可能な方法がある。最も効率的な２つの方法は、一対のレンズアレイを使用する方法、またはライトトンネルあるいはインテグレータロッドとしても知られるカレイドスコープを使用する方法である。それぞれの方法には、利点と欠点とがある。レンズアレイによるソリューションの欠点は、レンズアレイによるソリューションにおいて奇数次の不均質性を均質化できないことである。従来のレンズアレイまたはライトトンネル照明器において補償することができない、均質性における微細かつ僅かなばらつきを引き起こす製造上のばらつきも存在する。たとえば、レンズ素子上のコーティングにおけるばらつきは、電磁場に依存して透過率を変化させ、これは最終的な均質性に対して強い影響を有している。特にマイクロリソグラフィシステムは、マイクロエレクトロニクス回路をウェハ上に一貫して印刷するために、光照射野の均質性に関して極めて厳しい公差（トレランス）を有している。

ＬＥＤのアレイが光源として使用され、全てのＬＥＤが同一のクロックポジションに配向されている場合、照明システムに、放射照度パターンに対する傾き（tilt）が与えられる。この傾きは奇関数であるので、レンズアレイは、この不均質性を補正することができない。この不均質性は、より小さなより多くのレンズ素子を備えたレンズアレイの形成によって最小にすることができるが、この手段は、極めて高価であり、製造が困難となり得る。より慣用されている光源が使用される場合、照明システムにおける不完全性によって形成された不均質性が依然として存在する。不均質性を補正するために使用されてきた方法の１つに、光学アポダイザ（optical apodizer）の使用がある。光学アポダイザは、均質な面の直前に配置された可変のコーティングを備えた窓である。この可変のコーティングは、より均質な光照射野を形成するために、高いエネルギ領域における透過率を減じる可変の透過機能を有している。このような光学アポダイザは、製造が困難かつ高価であり、通常は回転対称の不均質性を補正するためにのみ使用される。

したがって、投影照明システムにおける光源の異常または製造上のばらつきにより引き起こされる、光照射野に残っている不均質性を調整するための低コストの方法に対する需要が存在している。

光均質化素子が記載される。光均質化素子は、光源によって生成される光照射野の均質性を改善するために設計された補正特徴部を備えたレンズアレイを含んでいる。補正特徴部は、レンズアレイ内の選択されたレンズレットの選択された位置に配置されたマスクを含んでいる。補正特徴部は、光源によって生成される光照射野における空間的または角度的な不均質性を補正するために、選択された位置においてレンズアレイを通る光の透過を遮断するか、または減じる。補正されたレンズアレイから出射する光照射野は、レンズアレイに入射する光照射野よりも大きな均質性を有している。好適なレンズアレイは、フライズアイアレイを含んでいる。光源に結合された補正されたレンズアレイを含む照明システムは、極めて均質な光照射野を生成する。用途は、マイクロリソグラフィを含んでいる。

本開示は、
光均質化素子であって、
動作波長で光を透過させるように構成されたレンズアレイを有しており、レンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、複数のレンズレットが、第１のレンズレットを有しており、第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、第１の開口が、第１の補正特徴部によって規定された補正された部分を備えた表面を有しており、第１の補正特徴部が、第１のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、光均質化素子
に関する。

本開示は、
光照明システムであって、
光源と、
光源に動作結合された第１のレンズアレイと
を有しており、第１のレンズアレイが、動作波長で光を透過させるように構成されており、第１のレンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、複数のレンズレットが、第１のレンズレットを有しており、第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、第１の開口が、第１の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、第１の補正特徴部が、第１のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、光照明システム
に関する。

本開示は、照明システムを補正する方法であって、
照明システムの像面において光照射野を生成するステップであって、照明システムが、動作波長で光を生成する光源を有しており、光源が、第１のレンズアレイに動作結合されており、第１のレンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、複数のレンズレットが、第１のレンズレットおよび第２のレンズレットを有しており、第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、第２のレンズレットが、第２の開口を有している、ステップと、
像面における複数の箇所において光照射野の放射照度を測定することによって像面における光照射野の均質性を特定するステップと、
光照射野の均質性を改善するステップであって、改善するステップが、第１の補正特徴部を含むように第１のレンズレットを変更することを含み、第１の補正特徴部が、第１の開口の第１の補正された部分を規定して、第１のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、ステップと
を含む、照明システムを補正する方法
に関する。

正方形の横断面、屈折力を与えられている面および平坦な面を有するレンズレットを備えたレンズアレイを示す図である。 円形の横断面、屈折力を与えられている面および平坦な面を有するレンズレットを備えたレンズアレイを示す図である。 多角形の横断面、屈折力を与えられている面および平坦な面を有するレンズレットを備えたレンズアレイを示す図である。 ２つのフライズアイアレイを含む照明システムを示す図である。 補正されていないレンズアレイを示す２次元図である。 補正されたレンズアレイを示す２次元図である。 補正されたレンズアレイを示す２次元図である。 穿孔された補正特徴部を示す図である。 像面の２つの領域を示す図である。 補正されていないレンズアレイを備えた照明システムの像面における瞳を示す図である。 ２つの補正特徴部を有するレンズアレイを備えた照明システムの像面における瞳を示す図である。 ４つの補正特徴部を有するレンズアレイを備えた照明システムの像面における瞳を示す図である。 補正特徴部の計算プロパティのためのフローチャートを示す図である。

マイクロリソグラフィは、半導体産業においてシリコンウェハのパターン形成に広く使用されているプロセスである。マイクロリソグラフィでは、レティクル上のパターンをウェハ上のフォトレジストに転写して、マイクロエレクトロニクス回路のパターンを規定する。マイクロリソグラフィを実施するために使用される機器は、照明システムおよび投影システムを含んでいる。照明システムは、光源および光学系を含んでいる。光学系は、光源から光照射野を生成し、光照射野をレティクルに配向する。レティクルの表面は、パターン化された光照射野を生成するために、（たとえば、回折により）光照射野を変更する機能を含んでいる。パターン化された光照射野は、投影システムに配向され、この投影システムは、パターン化された光照射野をフォトレジストに配向する光学素子を含んでいる。光照射野のパターンは、光照射野に露光されるフォトレジストの領域を決定する。フォトレジストのその後の現像は、マイクロエレクトロニクス回路のためのパターンを規定するために、露光された領域と露光されていない領域との間のコントラストを形成する。

マイクロエレクトロニクス回路の微細化に伴い、マイクロリソグラフィプロセスにおけるより高い精度に対する需要が生じている。レティクル面に入射する光照射野の空間的かつ角度的な均質性は、ウェハにレティクルパターンを忠実に転写することを達成するために重要である。光源の出力におけるばらつきは、照明システムによって生成される光照射野における不均質性に大きく寄与する。照明システム内で使用される光源は、ランプ、発光ダイオードおよびレーザを含んでいる。光源におけるばらつきは、光照射野における空間偏差および角度偏差を含んでいる。空間偏差は、光照射野の横断面にわたる光照射野の強度またはパワーにおける不均質性に対応し、角度偏差は、光照射野の横断面にわたる光照射野の発散における不均質性に関する。照明システム内に存在する別の光学素子における製造上のばらつきまたは不完全性ならびにアライメントエラーも、光照射野の不均質性に寄与する。光照射野における不均質性は、レティクルにおいて複製され、最終的にフォトレジストに転写されて、ウェハ上に形成されたパターン化されたマイクロエレクトロニクス回路における不完全性を形成する。

照明システムの光照射野の均質性を改善するための１つのストラテジは、光均質化素子を光学系に組み込むことである。光均質化素子は、照明システムの光源に動作結合されている。光源によって生成された光は、光均質化素子に向けられる。光は、１つ以上の開口において光均質化素子に入り、光均質化素子を通過して、光均質化素子から出る。光均質化素子は、より大きな均質性を有する平均化された空間的かつ角度的な特性を有する均質化された光照射野を提供するために、空間的または角度的に逸脱した光線を混合することにより、光照射野における変動を抑制する光学素子である。一般的な光均質化素子は、インテグレータロッドおよびレンズアレイを含んでいる。光均質化素子を備えた照明システムは、より大きな均質性を有する光照射野を提供する。しかし、照明システムによって生成される光照射野の均質性におけるさらなる改善に対する必要性が存在している。本明細書で使用されているように、光照射野の「均質性」は、結像フィールド面における放射照度における均質性に関し、ここで、放射照度は、単位面積当たりのパワーとして定義され、典型的には、ｍＷ／ｃｍ^２の単位で表される。

本開示は、改善された性能を有するレンズアレイに関する。レンズアレイは、レンズの２次元アレイからなる光学素子である。レンズアレイの個別のレンズは、本明細書ではレンズレットと呼ばれる。光がレンズレットに出入りする表面は、本明細書では開口と呼ばれる。各レンズレットが統合されて、モノリシックなレンズアレイを形成している。モノリシックなレンズアレイは、意図されたパターンまたは構成で個別のレンズレットを形成するために材料を選択的に除去することによって、単一の基板（たとえば、ガラス片）から形成することができる。代替的には、個々のレンズレットを別個に形成し、結合（たとえば、融合）してモノリシックなアセンブリを形成することができる。レンズアレイの実施形態は、フライズアイアレイを含んでいる。レンズアレイは、単一の波長、複数の波長または波長の連続的な範囲を透過させるように設計されている。レンズアレイを透過する波長は、本明細書では、レンズアレイの動作波長と呼ばれる。代表的な動作波長は、赤外波長（７５０ｎｍ〜２０００ｎｍ）、可視波長（４００ｎｍ〜７５０ｎｍ）および紫外波長（１００ｎｍ〜４００ｎｍ）を含んでいる。レンズアレイは、特定の用途にとって必要となる動作波長を透過させるために適した材料で構成されている。レンズアレイのための代表的な材料は、ガラス、シリカガラス、ドープシリカガラス、フッ化物結晶を含んでいる。フッ化物結晶は、ＣａＦ_２およびＭｇＦ_２を含んでいる。

図１〜図３は、代表的なレンズアレイ１００，１３０，１６０を示している。レンズアレイ１００は、互いに反対側に位置する開口１１０，１１５を備えた複数のレンズレット１０５を含んでいる。レンズレット１０５は、正方形の横断面を有していて、開口１１０は、屈折力を与えられていて、開口１１５は、平坦である。レンズアレイ１３０は、互いに反対側に位置する開口１４０，１４５を備えた複数のレンズレット１３５を含んでいる。レンズレット１３５は、円形の横断面を有していて、開口１４０は、屈折力を与えられていて、開口１４５は、平坦である。レンズアレイ１６０は、互いに反対側に位置する開口１７０，１７５を備えた複数のレンズレット１６５を含んでいる。レンズレット１６５は、多角形の横断面を有していて、開口１７０は、屈折力を与えられていて、開口１７５は、平坦である。

種々異なる態様において、レンズレットの横断面は、正方形、方形、円形、楕円形、長円形、丸形または多角形（たとえば、六角形）である。レンズレットの形状は、光照射野の形状を規定し、照明システムの意図された用途に応じて選択される。レンズレット開口は、屈折力を与えられているか、または平坦である表面を有している。屈折力を与えられている開口は、凹状、凸状、球面状、非球面状、またはアナモルフィックである表面を有している。１つのレンズレットの互いに反対側に位置している開口は、形状または屈折力が同じであるか、または互いに異なっている。種々異なる態様において、１つのレンズレットの互いに反対側に位置する開口は、両方とも平坦であるか、両方とも屈折力を与えられているか、または屈折力を与えられている面と平坦な面との組み合わせである。１つの実施形態では、レンズアレイは、フライズアイアレイである。

１つの実施形態では、照明システムは、２つ以上のレンズアレイを含んでいる。たとえば図４は、２つのレンズアレイを有する照明システムを図示している。照明システム２００は、光源２１０、コンデンサレンズ２２０、レンズアレイ２３０、レンズアレイ２４０およびコンバイナレンズ（combining lens）２５０を含んでいる。光源２１０、コンデンサレンズ２２０、レンズアレイ２３０、レンズアレイ２４０およびコンバイナレンズ２５０は、光源２１０から均質化面２８０へと延びる光路に沿って互いに動作結合されている。レンズアレイ２３０は、コンデンサレンズ２２０からの光ビームを受け取り、この光ビームを複数のビームレットに分割する。レンズアレイ２４０は、均質化面２８０において各ビームレットのイメージを重ね合わせるために、コンバイナレンズ２５０と協働する。均質化面２８０における光照射野は、光源２１０から放射する光照射野よりも均質である。マイクロリソグラフィ機器では、均質化面２８０における均質な光照射野は、ウェハへのパターン転写のためのレティクルに配向される。

１つの実施形態では、レンズアレイ２３０は均質化面２８０と共役であり、レンズアレイ２４０は、照明システムの瞳と共役である。好適な１つの実施形態では、レンズアレイ２３０および２４０は、同等である。レンズアレイ２４０の各レンズレットの開口が光源２１０のイメージによって充足されるように、光源２１０が、コンデンサレンズ２２０およびレンズアレイ２３０によって結像される。レンズアレイ２３０の各レンズレットの開口は、拡大されて、均質化面２８０に結像される。均質化面２８０における放射照度は、レンズアレイ２３０の全てのレンズレットからのエネルギの合計である。レンズレットのイメージが重なっているので、極めて均質性の高い放射照度分布が形成される。

均質化面２８０における放射照度分布は、平均放射照度と、最大放射照度と、最小放射照度とを有している。放射照度分布の均質性は、最大放射照度と最小放射照度との差として評価される。最大放射照度と最小放射照度との差は、平均放射照度の２０％未満であるか、平均放射照度の１０％未満であるか、平均放射照度の５％以下であるか、平均放射照度の１％未満である。

図４に描かれた例では、レンズアレイ２３０，２４０は、シリカガラスから形成されており、１１×１１のレンズレットのアレイを含んでいる。レンズレットは、屈折力を与えられた面（曲率半径＝６３．８１ｍｍ）を備えた１つの開口、平坦な面を備えた１つの開口および正方形の横断面（辺長さ＝２３．４５４ｍｍ）を有している。レンズアレイ２３０，２４０間の間隔は、１つのレンズレットの１つの焦点距離とほぼ同一である。

照明システムの光路に１つ以上のレンズを含むことによって改善された光照射野の均質性が生じるが、さらなる改善が必要である。上述したように、製造上のばらつきおよび光学コンポーネント（たとえば、コンデンサレンズ２２０およびコンバイナレンズ２５０）の不完全性は、補正することが困難である局所的な不均質性をもたらす。さらなる問題は、光源におけるばらつきから生じる。空間的にも角度的にも均質である光源の範囲内では、光照射野における不均質性の補正は要求されない。しかし、実際の光源は、空間的にも角度的にも均質ではない。ランプは、数ミリメートルまたは数センチメートルの距離にわたって延びるフィラメントを有していて、その長さにわたる構造や耐久性、出力分布のばらつきは、生成される光照射野におけるばらつきをもたらす。ＬＥＤも、ばらつきを有する有限の光生成領域（light-generating area）を有している。同様に、レーザ光は、完全に平行化されておらず、発散および（角度的かつ空間的な）均質性にばらつきを有している。光源によって引き起こされる光照射野における不均質性は、複数の光デバイスが組み合わせられて、統合されている場合に、より顕著となる。たとえば、より高い放射照度を達成するために、複数のＬＥＤを束ねてＬＥＤアレイを形成し、このＬＥＤアレイを光学系における光源として使用することが一般的である。ＬＥＤの製造における製造上のばらつきは、アレイ内の個別のＬＥＤの特性における差異をもたらす。ＬＥＤダイの放射照度分布における系統的な不均質性もあり得る。動作条件におけるばらつき（例：電力供給における変動またはサポートする電子コンポーネントにおける異常）も、アレイ内の個別のＬＥＤの特性における差異をもたらす。アレイ内の個別のＬＥＤによって生成される光照射野における差異、または各ＬＥＤにおける同様の不均質性によって、ＬＥＤアレイによって生成される光照射野は不均質性を有していて、この不均質性は、ＬＥＤアレイ内の位置に相関している。このような不均質性は、補正することが困難であり、特定のＬＥＤアレイに固有である。たとえば、ＬＥＤアレイが、その動作寿命に達して交換されなければならない場合、交換されたＬＥＤアレイは、元のＬＥＤアレイによって生成された光照射野における不均質性とは、程度、タイプおよび空間位置において異なる不均質性を有する光照射野を生成してしまうだろう。このような変更は、補正を有効にするために、下流側の光学素子において多大かつ高価な調整を要求する。

本開示は、光学系における光照射野の均質性をさらに改善するように設計された補正特徴部を備えたレンズアレイを提供する。補正特徴部は、光照射野における局所的な不均質性を補償するために、レンズアレイ内の局所的な位置に選択的に配置されている。補正特徴部は、好適には、レンズアレイの１つ以上のレンズレットの開口の表面上または表面の近傍に配置された特徴部であり、この表面特徴部は、レンズレットの透過率を減じる。１つの実施形態では、補正特徴部は、開口の表面に直接に接触している。好適な１つの実施形態では、補正特徴部は、開口の表面から離間して、開口の表面に近接して位置決めされている。この実施形態では、補正特徴部と開口の表面との間に隙間が存在するが、補正特徴部は、レンズレットの透過率を減じるために、開口の表面に十分に近接して位置決めされている。補正特徴部を開口の表面に近接して位置決めするためには、機械的なマウントが使用される。１つの実施形態では、開口または表面の補正された部分は、開口または表面に近接して位置決めされた補正特徴部の影である。

補正特徴部を備えたレンズレットは、本明細書では、補正されたレンズレットと呼ばれ、補正特徴部によって覆われたレンズレットまたはレンズアレイの部分は、本明細書では、レンズレットまたはレンズアレイの補正された部分と呼ばれ、少なくとも１つの補正されたレンズレットを備えたレンズアレイは、本明細書では、補正されたレンズアレイと呼ばれる。補正特徴部を有する開口または表面は、それぞれ、本明細書では、補正された開口または補正された表面と呼ばれる。補正特徴部がマスクである場合、本明細書ではマスクされたレンズレット、マスクされたレンズアセンブリおよびマスクされた部分という用語が使用される。補正特徴部を欠いたレンズレットは、本明細書では、補正されていないレンズレットと呼ばれる。補正特徴部を欠いたレンズレットまたはレンズアレイの部分は、本明細書では、補正されていない部分と呼ばれる。補正特徴部を欠いた開口または表面は、それぞれ、本明細書では、補正された開口または補正された表面と呼ばれる。レンズアレイは、１つまたは複数の補正されたレンズレットを含んでいる。レンズアレイは、任意には、１つまたは複数の補正されていないレンズレットを含んでいる。

補正された部分は、補正特徴部により規定されている。補正特徴部がレンズレットに直接に接触している場合、レンズレットの補正された部分は、補正特徴部に一致する。補正特徴部がレンズレットから離間している場合、レンズレットの補正特徴部は、レンズレットの開口の表面上の補正特徴部の影を有しているか、または補正特徴部の影に一致する。

１つの実施形態では、補正特徴部は、レンズアレイを通過する光の波長に対して不透明であるか、または部分的に不透明である材料から形成されたマスクである。不透明な材料は、レンズアレイを通過する光の波長を吸収し、かつ／または反射して、透過率を減じる。マスクのための代表的な材料は、金属（たとえば、アルミニウムやステンレス鋼）と、透過率を制御された程度に減じるように設計された干渉コーティングでコーティングされた透明な基板とを含んでいる。本明細書で使用されるように、透明な基板は、動作波長において少なくとも９０％／ｍｍの透過率を有する基板である。１つの実施形態では、マスクは穿孔されていて、マスクを通る光照射野の部分的な透過を許容するための孔または孔のパターンを含んでいる。孔は、周囲の材料にランダムに、またはパターンで配置されている。周囲の材料は不透明または半透明である。孔のサイズは均質であるか、または可変である。別の実施形態では、マスクは、レンズアレイの動作波長に対して半透明の材料から形成されている。

マスク材料の厚さ、構成および／または構造は、レンズアレイの補正された部分を通過する光を遮断するか（０％の透過率）、または補正されていない部分に対して相対的に補正された部分を通過する透過率を制御された程度に減じるように選択される。レンズアレイの補正された部分を通る動作波長の透過率は、レンズアレイの補正されていない部分を通る動作波長の透過率の５０％未満、または３０％未満、または１０％未満、または５％未満、または１％未満である。レンズアレイの補正されていない部分を通過する動作波長の透過率は、８０％／ｍｍよりも大きく、または９０％／ｍｍよりも大きく、または９５％／ｍｍよりも大きく、ここで、ｍｍは、レンズアレイを通過する動作波長の伝搬の方向における距離のミリメートルに関する。マスクの位置は、レンズアレイの透過率を調節し、光照射野にわたる強度または放射照度の局所的な変動を補償するために選択されている。空間的かつ角度的な不均質性は、存在するレンズアレイで補正可能である。

補正特徴部は、レンズアレイ内の少なくとも１つのレンズレットの少なくとも１つの開口を少なくとも部分的に覆っている。補正特徴部は、レンズレットの開口に、または開口近傍に配置されている。図５は、補正されていないレンズアレイの概略的な２次元図を示している。レンズアレイ３００は、開口３２０を有する複数のレンズレット３１０を含んでいる。レンズアレイ３００は、補正特徴部を欠いている。図６および図７は、図５に示したレンズアレイの補正されたバージョンの例を示している。補正されたレンズアレイ４００は、開口４２０を有する複数のレンズレット４１０を含んでいる。補正されたレンズアレイ４００は、複数のレンズレット４１０のうちの２つのレンズレットに位置決めされた補正特徴部４３０，４４０をさらに含んでいる。補正特徴部４３０，４４０は、これらのレンズレットを異なる程度で部分的に覆っていて、これらのレンズレットの光の透過を遮断するかまたは減じるマスクである。したがって、補正されたレンズアレイ４００を通る光の分布は、変更されているか、または改善されている。補正されたレンズアレイ５００は、開口５２０を有する複数のレンズレット５１０を含んでいる。補正されたレンズアレイ５００は、複数のレンズレット５１０のうちの２つのレンズレットに位置決めされた補正特徴部５３０，５４０，５５０，５６０をさらに含んでいる。補正特徴部５３０，５４０，５５０，５６０は、コーナ位置でレンズレットを部分的に覆っていて、これらのレンズレットのコーナ位置における光の透過を遮断するか、または減じるマスクである。したがって、補正されたレンズアレイ５００を通る光の分布は、変更されているか、または改善されている。

図８は、穿孔されたマスクの形態の補正特徴部を含む補正されたレンズアレイの１つの例を示している。レンズアレイ６００は、レンズレット６０５および補正特徴部６１０，６１５を含んでいる。補正特徴部６１０，６１５は、レンズアレイ６００内の特定の位置に示されており、構造をより詳細に示すために拡大されている。補正特徴部６１０は、孔のパターンを有する穿孔されたマスクである。孔の大きさは均質であり、周期的なパターンで配置されている。孔は、補正特徴部６１０を通る光の部分的な透過を許容する。補正特徴部６１５は、可変のサイズの孔を含む穿孔されたマスクである。

図５〜図８に描かれたレンズアレイは、正方形の横断面および平坦な面を有するレンズレットを含んでいるが、図示した原理および説明された補正特徴部の構成は、任意の横断面形状および／または開口屈折力（屈折力を与えられているか、または平坦な面）の任意の状態のレンズレットを有する、フライズアイアレイを含むレンズアレイに一般的に適用される。

図９は、結像面６２５における光照射野を図示している。図９は、結像面における光照射野の代表的な領域６３０，６４０を示している。光照射野の均質性のために、領域６３０における放射照度は、領域６４０における放射照度と同一であることが望ましい。しかし、上述した理由により、領域６３０，６４０における放射照度は異なっていることがある。領域６３０，６４０における放射照度が互いに異なっている場合、光照射野における補正が必要となる。たとえば、領域６４０が、領域６３０よりも高い放射照度を有している場合、領域６３０の放射照度に影響を与えることなしに、領域６４０の放射照度を減じることが望ましい。本明細書に記載された補正特徴部は、レンズアレイの残りの部分を透過する光の放射照度に影響を与えることなしに、レンズアレイの補正された部分を透過する光の放射照度を減じる。補正特徴部は、レンズアレイの補正された部分の放射照度を選択的に減じ、これにより、結像面内の対応する位置における放射照度の制御を可能にする。

例として図４を参照すると、均質化面２８０は、高い均質性が望まれる結像面であり、図６に示した補正されたレンズアレイ４００は、レンズアレイ２３０として照明システム２００内に組み込まれている。補正特徴部４３０の機能は、光照射野の他の部分の放射照度に影響を与えることなしに、レンズアレイ２３０に入る光照射野の選択された部分の放射照度を減じることである。

レンズアレイ２４０は、照明システム２００の瞳と共役である。瞳は、均質化面２８０へのエネルギの集束時の（当該エネルギの）角度分布となる。いくつかの用途では、角度分布の幾何中心が重要である。補正特徴部によるレンズアレイ２３０の変更は、均質化面２８０における光照射野の角度分布の幾何中心を変更してしまう。補正特徴部によるレンズアレイ２３０の変更に伴う角度分布の幾何中心の変動は、レンズアレイ２３０により補正特徴部４３０に対して相補的な補正特徴部を含むことによって減じることができる。相補的な補正特徴部は、補正特徴部４３０とは向かい合う位置に配置されていて、レンズアレイ４００に入る光照射野の向かい合う側からの放射照度を減じるために作用する。補正特徴部４４０は、補正特徴部４３０に対して相補的である。補正特徴部４４０による放射照度の低減は、レンズアレイ４００に入射する光照射野の幾何中心に近接する、均質化面２８０における幾何中心位置を維持するための補正特徴部４３０によって引き起こされる角度幾何中心の変動に反して作用する。相補的な補正特徴部は、補正特徴部と同一の形状もしくは異なる形状または同一の透過率もしくは異なる透過率を有している。本明細書において定義されるように、相補的な補正特徴部は、補正特徴部に生じる光照射野の角度分布の幾何中心の変動を完全にまたは部分的に補償する特徴部である。１つの実施形態では、補正特徴部の位置と、この補正特徴部に相補的な補性特徴部の位置とは、瞳の中心に関して対称であるか、またはレンズアレイ２４０の中心に関して対称である。

図４を参照しながらさらに説明すると、図１０は、レンズアレイ２３０が補正されていない場合の均質化面２８０における瞳を示している。瞳は、レンズアレイ２４０における光照射野の像であり、レンズアレイ２３０における光照射野によって決定されている。レンズアレイ２３０の補正は、瞳における光照射野の変更につながる。たとえば、図１１は、レンズアレイ２３０の上側のレンズレットおよび下側のレンズレットに反対側に位置する補正特徴部が含まれている場合の瞳を示している。ダークスポットは、減じられた放射照度を有する瞳における光照射野の領域に一致する。瞳における対称位置での放射照度の低減は、光照射野の幾何中心の変動を最小にし、これにより瞳の幾何中心が均質化面２８０にわたって最小の変動を有している。図１２は、レンズアレイ２３０の４つのレンズレットに補正特徴部が組み込まれている場合の光照射野の瞳の例を示している。４つの補正特徴部は、互いに反対側に位置する補正特徴部の２つのペアとして配置されている。ペアの各補正特徴部は、幾何中心に対するペアの他方の補正特徴部の効果に反して作用する。

補正されたレンズレットを形成するために補正特徴部を付加するためのプロセスは、特定のサイズ、形状およびコーティングを有する、（穿孔されているか、または穿孔されていない）マスクの設計と、開口を通過する光照射野の補正を可能にするための、レンズアレイの予め規定された位置における開口に対して近接した機械的なマスクの取付けとを含んでいる。このプロセスは、補正が望まれる各レンズレットのために繰り返すことができる。動作波長の透過率を減じるように構成された干渉膜は、当技術分野で知られている材料および技術（たとえば、ＰＶＤ、ＣＶＤ）を用いて透明な基板上に形成することができる。

補正特徴部の配置を決定するために、光学系を組み立て、光路に沿った特定の点における光照射野の均質性を特徴付け、補正を必要とする光照射野内の位置を決定し、対応して、不均質性を補正するためにレンズアレイの選択された位置に補正特徴部を配置することができる。図４において、たとえば、光照射野の均質性の状態を決定し、補正を必要とする光照射野内の位置を特定するために、均質化面２８０における光照射野を特徴付けることができる。次いで、補償する補正特徴部を、レンズアレイ２３０の選択されたレンズレットの開口の近くに、または開口上に配置することができる。次いで、光照射野の均質性を再度評価することができ、レンズアレイ２３０および／またはレンズアレイ２４０に補正特徴部を施すプロセスを、特定の用途のために必要である光照射野の均質性の程度を達成するために反復的に繰り返すことができる。図１３は、補正特徴部の構成を決定する方法のためのフローチャートを示している。

本明細書の態様１は、光均質化素子であって、動作波長で光を透過させるために構成されたレンズアレイを有しており、該レンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、該複数のレンズレットが、第１のレンズレットを有しており、該第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、該第１の開口が、第１の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第１の補正特徴部が、前記第１のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、光均質化素子に関する。

本明細書の態様２は、前記動作波長が、紫外波長である、態様１記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様３は、前記複数のレンズレットのそれぞれが、正方形の横断面を有している、態様１または２記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様４は、前記第１の開口の前記表面が、屈折力を与えられている、態様１から３までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様５は、前記第１の補正特徴部が、前記第１の開口の前記表面を部分的に覆っている、態様１から４までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様６は、前記第１の補正特徴部が、前記第１の開口の前記表面から離間している、態様１から５までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様７は、前記第１の補正特徴部が、マスクである、態様１から６までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様８は、前記マスクが、ステンレス鋼またはアルミニウムである、態様７記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様９は、前記補正された部分が、前記マスクの影を有している、態様７または８記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１０は、前記マスクが、穿孔されている、態様７から９までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１１は、前記第１の補正特徴部が、半透明である、態様１から７までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１２は、前記第１の補正特徴部が、干渉コーティングでコーティングされた透明な基板を有している、態様１から７までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１３は、前記第１の補正されたレンズレットが、第２の開口を有しており、該第２の開口が、補正されていない表面を有している、態様１から７までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１４は、前記複数のレンズレットが、第２のレンズレットをさらに含んでおり、該第２のレンズレットが、第２の開口を有しており、該第２の開口が、第２の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第２の補正特徴部が、前記第２のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、態様１から１３までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１５は、前記第２の補正特徴部が、前記第１の補正特徴部に対して相補的である、態様１４記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１６は、前記第１の開口の前記補正された部分を通る前記動作波長の透過率が、０％である、態様１から１５までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１７は、前記第１の開口が、補正されていない部分をさらに含んでいる、態様１から１６までのいずれか１つ記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１８は、前記補正された部分を通る前記動作波長の透過率が、前記補正されていない部分を通る前記動作波長の透過率の１０％未満である、態様１７記載の光均質化素子に関する。

本明細書の態様１９は、光照明システムであって、
光源と、
該光源に動作結合された第１のレンズアレイと
を有しており、該第１のレンズアレイが、動作波長において光を透過させるように構成されており、前記第１のレンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、該複数のレンズレットが、第１のレンズレットを含んでおり、該第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、該第１の開口が、第１の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第１の補正特徴部が、前記第１のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、光照明システムに関する。

本明細書の態様２０は、前記光源が、複数の発光ダイオードを有している、態様１９記載の光照明システムに関する。

本明細書の態様２１は、前記第１のレンズアレイに動作結合されている第２のレンズアレイをさらに有しており、該第２のレンズアレイが、補正特徴部を欠いている、態様１９または２０記載の光照明システムに関する。

本明細書の態様２２は、前記第１のレンズアレイが、前記光源と前記第２のレンズアレイとの間に位置決めされている、態様２１記載の光照明システムに関する。

本明細書の態様２３は、前記光照明システムが、結像面において光照射野を生成し、前記光照射野が、前記結像面における放射照度分布を有しており、該分布が、平均放射照度、最大放射照度および最小放射照度を有しており、前記最大放射照度が、前記平均放射照度の１０％未満だけ前記最小放射照度から異なっている、態様１９から２２までのいずれか１つ記載の光照明システムに関する。

本明細書の態様２４は、前記第１のレンズアレイと前記第２のレンズアレイとが、実質的に前記第１のレンズレットの焦点長さだけ分離されている、態様２２または２３記載の光照明システムに関する。

本明細書の態様２５は、前記複数のレンズレットが、第２のレンズレットをさらに有しており、該第２のレンズレットが、第２の開口を有しており、該第２の開口が、第２の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第２の補正特徴部が、前記第２のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、態様２２から２４までのいずれか１つ記載の光照明システムに関する。

本明細書の態様２６は、第１の補正特徴部と第２の補正特徴部とが、光照明システムの瞳の中心に関して対称的に配置されている、態様２５記載の光照明システムに関する。

本明細書の態様２７は、照明システムを補正する方法であって、
照明システムの像面において光照射野を形成するステップであって、前記照明システムが、動作波長で光を生成する光源を有しており、該光源が、第１のレンズアレイに動作結合されており、前記第１のレンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、該複数のレンズレットが、第１のレンズレットおよび第２のレンズレットを有しており、前記第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、前記第２のレンズレットが、第２の開口を有している、ステップと、
前記像面における複数の箇所において前記光照射野の放射照度を測定することによって前記像面における光照射野の均質性を特定するステップと、
前記光照射野の均質性を改善するステップであって、該改善するステップが、第１の補正特徴部を含むように前記第１のレンズレットを変更することを含み、前記第１の補正特徴部が、第１の開口の第１の補正された部分を規定して、前記第１のレンズレットを通る前記動作波長の透過率を減じる、ステップと
を含む、照明システムを補正する方法に関する。

本明細書の態様２８は、前記複数の箇所が、第１の箇所および第２の箇所を含み、前記第１の補正特徴部が、前記第１の箇所における放射照度を減じ、前記第２の箇所における放射照度を減じない、態様２７記載の方法に関する。

本明細書の態様２９は、放射照度分布が、最大放射照度および最小放射照度を含み、前記改善するステップが、前記最大放射照度と前記最小放射照度との間の差を減じることを含む、態様２７または２８記載の方法に関する。

本明細書の態様３０は、第２の補正特徴部を含むように前記第１のレンズレットを変更することをさらに含み、前記第２の補正特徴部が、前記第１の開口の第２の補正された部分を規定し、さらに前記第１のレンズレットを通る前記動作波長の透過率を減じる、態様２７から２９までのいずれか１つ記載の方法に関する。

本明細書の態様３１は、第２の補正特徴部を含むように前記第２のレンズレットを変更することをさらに含み、前記第２の補正特徴部が、前記第２の開口の第１の補正された部分を規定して、前記第２のレンズレットを通る前記動作波長の前記透過率を減じる、態様２７から３０までのいずれか１つ記載の方法に関する。

本明細書の態様３２は、前記第１の補正特徴部が、前記結像面における光照射野の角度分布の幾何中心を変更し、前記第２の補正特徴部が、前記第１の補正特徴部によって生成された前記光照射野の前記角度分布の幾何中心に対する変更に反して作用する、態様３１記載の方法に関する。

当業者であれば、上記の方法および設計が付加的な用途を有し、関連する用途が、上記に具体的に挙げられたものに限定されないことを理解するであろう。また、本発明は、本明細書に記載されているような本質的な特徴から逸脱することなしに、他の特定の形態で実施することができる。上述した実施形態は、あらゆる点で単に例示的に考えられ、いかなる態様においても限定的ではないと考えるべきである。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
光均質化素子であって、動作波長で光を透過させるために構成されたレンズアレイを有しており、該レンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、該複数のレンズレットが、第１のレンズレットを有しており、該第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、該第１の開口が、第１の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第１の補正特徴部が、前記第１のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、光均質化素子。

実施形態２
前記動作波長が、紫外波長である、実施形態１記載の光均質化素子。

実施形態３
前記複数のレンズレットのそれぞれが、正方形の横断面を有している、実施形態１または２記載の光均質化素子。

実施形態４
前記第１の開口の前記表面が、屈折力を与えられている、実施形態１から３までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態５
前記第１の補正特徴部が、前記第１の開口の前記表面を部分的に覆っている、実施形態１から４までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態６
前記第１の補正特徴部が、前記第１の開口の前記表面から離間している、実施形態１から５までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態７
前記第１の補正特徴部が、マスクである、実施形態１から６までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態８
前記マスクが、ステンレス鋼またはアルミニウムである、実施形態７記載の光均質化素子。

実施形態９
前記補正された部分が、前記マスクの影を有している、実施形態７または８記載の光均質化素子。

実施形態１０
前記マスクが、穿孔されている、実施形態７から９までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態１１
前記第１の補正特徴部が、半透明である、実施形態１から７までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態１２
前記第１の補正特徴部が、干渉コーティングでコーティングされた透明な基板を有している、実施形態１から７までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態１３
前記第１の補正されたレンズレットが、第２の開口を有しており、該第２の開口が、補正されていない表面を有している、実施形態１から７までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態１４
前記複数のレンズレットが、第２のレンズレットをさらに含んでおり、該第２のレンズレットが、第２の開口を有しており、該第２の開口が、第２の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第２の補正特徴部が、前記第２のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、実施形態１から１３までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態１５
前記第２の補正特徴部が、前記第１の補正特徴部に対して相補的である、実施形態１４記載の光均質化素子。

実施形態１６
前記第１の開口の前記補正された部分を通る前記動作波長の透過率が、０％である、実施形態１から１５までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態１７
前記第１の開口が、補正されていない部分をさらに含んでいる、実施形態１から１６までのいずれか１つ記載の光均質化素子。

実施形態１８
前記補正された部分を通る前記動作波長の透過率が、前記補正されていない部分を通る前記動作波長の透過率の１０％未満である、実施形態１７記載の光均質化素子。

実施形態１９
光照明システムであって、
光源と、
該光源に動作結合された第１のレンズアレイと
を有しており、該第１のレンズアレイが、動作波長において光を透過させるように構成されており、前記第１のレンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、該複数のレンズレットが、第１のレンズレットを含んでおり、該第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、該第１の開口が、第１の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第１の補正特徴部が、前記第１のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、光照明システム。

実施形態２０
前記光源が、複数の発光ダイオードを有している、実施形態１９記載の光照明システム。

実施形態２１
前記第１のレンズアレイに動作結合されている第２のレンズアレイをさらに有しており、該第２のレンズアレイが、補正特徴部を欠いている、実施形態１９または２０記載の光照明システム。

実施形態２２
前記第１のレンズアレイが、前記光源と前記第２のレンズアレイとの間に位置決めされている、実施形態２１記載の光照明システム。

実施形態２３
前記光照明システムが、結像面において光照射野を生成し、前記光照射野が、前記結像面における放射照度分布を有しており、該分布が、平均放射照度、最大放射照度および最小放射照度を有しており、前記最大放射照度が、前記平均放射照度の１０％未満だけ前記最小放射照度から異なっている、実施形態１９から２２までのいずれか１つ記載の光照明システム。

実施形態２４
前記第１のレンズアレイと前記第２のレンズアレイとが、実質的に前記第１のレンズレットの焦点長さだけ分離されている、実施形態２２または２３記載の光照明システム。

実施形態２５
前記複数のレンズレットが、第２のレンズレットをさらに有しており、該第２のレンズレットが、第２の開口を有しており、該第２の開口が、第２の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第２の補正特徴部が、前記第２のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、実施形態２２から２４までのいずれか１つ記載の光照明システム。

実施形態２６
第１の補正特徴部と第２の補正特徴部とが、光照明システムの瞳の中心に関して対称的に配置されている、実施形態２５記載の光照明システム。

実施形態２７
照明システムを補正する方法であって、
照明システムの像面において光照射野を形成するステップであって、前記照明システムが、動作波長で光を生成する光源を有しており、該光源が、第１のレンズアレイに動作結合されており、前記第１のレンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、該複数のレンズレットが、第１のレンズレットおよび第２のレンズレットを有しており、前記第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、前記第２のレンズレットが、第２の開口を有している、ステップと、
前記像面における複数の箇所において前記光照射野の放射照度を測定することによって前記像面における光照射野の均質性を特定するステップと、
前記光照射野の均質性を改善するステップであって、該改善するステップが、第１の補正特徴部を含むように前記第１のレンズレットを変更することを含み、前記第１の補正特徴部が、前記第１の開口の第１の補正された部分を規定して、前記第１のレンズレットを通る前記動作波長の透過率を減じる、ステップと
を含む、照明システムを補正する方法。

実施形態２８
前記複数の箇所が、第１の箇所および第２の箇所を含み、前記第１の補正特徴部が、前記第１の箇所における放射照度を減じ、前記第２の箇所における放射照度を減じない、実施形態２７記載の方法。

実施形態２９
放射照度分布が、最大放射照度および最小放射照度を含み、前記改善するステップが、前記最大放射照度と前記最小放射照度との間の差を減じることを含む、実施形態２７または２８記載の方法。

実施形態３０
第２の補正特徴部を含むように前記第１のレンズレットを変更することをさらに含み、前記第２の補正特徴部が、前記第１の開口の第２の補正された部分を規定し、さらに前記第１のレンズレットを通る前記動作波長の透過率を減じる、実施形態２７から２９までのいずれか１つ記載の方法。

実施形態３１
第２の補正特徴部を含むように前記第２のレンズレットを変更することをさらに含み、前記第２の補正特徴部が、前記第２の開口の第１の補正された部分を規定して、前記第２のレンズレットを通る前記動作波長の前記透過率を減じる、実施形態２７から３０までのいずれか１つ記載の方法。

実施形態３２
前記第１の補正特徴部が、前記結像面における光照射野の角度分布の幾何中心を変更し、前記第２の補正特徴部が、前記第１の補正特徴部によって生成された前記光照射野の前記角度分布の幾何中心に対する変更に反して作用する、実施形態３１記載の方法。

Claims (10)

1. 光均質化素子であって、動作波長で光を透過させるために構成されたレンズアレイを有しており、該レンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、該複数のレンズレットが、第１のレンズレットを有しており、該第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、該第１の開口が、第１の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第１の補正特徴部が、前記第１のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、光均質化素子。
2. 前記第１の補正特徴部が、前記第１の開口の前記表面を部分的に覆っている、請求項１記載の光均質化素子。
3. 前記第１の補正特徴部が、前記第１の開口の前記表面から離間している、請求項１または２記載の光均質化素子。
4. 前記第１の補正特徴部が、半透明である、請求項１から３までのいずれか１項記載の光均質化素子。
5. 前記複数のレンズレットが、第２のレンズレットをさらに含んでおり、該第２のレンズレットが、第２の開口を有しており、該第２の開口が、第２の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第２の補正特徴部が、前記第２のレンズレットを通る前記動作波長の透過率を減じ、
   前記第２の補正特徴部が、前記第１の補正特徴部に対して相補的である、請求項１から４までのいずれか１項記載の光均質化素子。
6. 光照明システムであって、
   光源と、
   該光源に動作結合された第１のレンズアレイと
   を有しており、該第１のレンズアレイが、動作波長において光を透過させるように構成されており、前記第１のレンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、該複数のレンズレットが、第１のレンズレットを含んでおり、該第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、該第１の開口が、第１の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第１の補正特徴部が、前記第１のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じる、光照明システム。
7. 前記光源が、複数の発光ダイオードを有している、請求項６記載の光照明システム。
8. 前記複数のレンズレットが、第２のレンズレットをさらに有しており、該第２のレンズレットが、第２の開口を有しており、該第２の開口が、第２の補正特徴部により規定された補正された部分を備えた表面を有しており、前記第２の補正特徴部が、前記第２のレンズレットを通る動作波長の透過率を減じ、
   前記第１の補正特徴部と前記第２の補正特徴部とが、前記光照明システムの瞳の中心に関して対称的に配置されている、請求項６または７記載の光照明システム。
9. 照明システムを補正する方法であって、
   照明システムの像面において光照射野を形成するステップであって、前記照明システムが、動作波長で光を生成する光源を有しており、該光源が、第１のレンズアレイに動作結合されており、前記第１のレンズアレイが、複数のレンズレットを有しており、該複数のレンズレットが、第１のレンズレットおよび第２のレンズレットを有しており、前記第１のレンズレットが、第１の開口を有しており、前記第２のレンズレットが、第２の開口を有している、ステップと、
   前記像面における複数の箇所において前記光照射野の放射照度を測定することによって前記像面における光照射野の均質性を特定するステップと、
   前記光照射野の均質性を改善するステップであって、該改善するステップが、第１の補正特徴部を含むように前記第１のレンズレットを変更することを含み、前記第１の補正特徴部が、前記第１の開口の第１の補正された部分を規定して、前記第１のレンズレットを通る前記動作波長の透過率を減じる、ステップと
   を含む、照明システムを補正する方法。
10. 第２の補正特徴部を含むように前記第２のレンズレットを変更することをさらに含み、前記第２の補正特徴部が、前記第２の開口の第１の補正された部分を規定して、前記第２のレンズレットを通る前記動作波長の透過率を減じ、
    第１の補正特徴部が、結像面における光照射野の角度分布の幾何中心を変更し、前記第２の補正特徴部が、前記第１の補正特徴部によって生成された前記光照射野の前記角度分布の幾何中心の変更に反して作用する、請求項９記載の方法。

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