JP2021511654A - 撮像アセンブリ及びそのパッケージング方法、レンズモジュール、電子機器 - Google Patents
撮像アセンブリ及びそのパッケージング方法、レンズモジュール、電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021511654A JP2021511654A JP2019568373A JP2019568373A JP2021511654A JP 2021511654 A JP2021511654 A JP 2021511654A JP 2019568373 A JP2019568373 A JP 2019568373A JP 2019568373 A JP2019568373 A JP 2019568373A JP 2021511654 A JP2021511654 A JP 2021511654A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- packaging
- forming
- imaging assembly
- functional element
- chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 title claims abstract description 183
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 115
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 101
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 100
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 97
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 54
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 36
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 6
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 4
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 4
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 claims description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 29
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 31
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 31
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 230000009471 action Effects 0.000 description 6
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 4
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 4
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 3
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005319 bristol blue glass Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 229920006302 stretch film Polymers 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/021—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses for more than one lens
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14618—Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14636—Interconnect structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14683—Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04M—TELEPHONIC COMMUNICATION
- H04M1/00—Substation equipment, e.g. for use by subscribers
- H04M1/02—Constructional features of telephone sets
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04M—TELEPHONIC COMMUNICATION
- H04M1/00—Substation equipment, e.g. for use by subscribers
- H04M1/02—Constructional features of telephone sets
- H04M1/0202—Portable telephone sets, e.g. cordless phones, mobile phones or bar type handsets
- H04M1/026—Details of the structure or mounting of specific components
- H04M1/0264—Details of the structure or mounting of specific components for a camera module assembly
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/54—Mounting of pick-up tubes, electronic image sensors, deviation or focusing coils
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/55—Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/57—Mechanical or electrical details of cameras or camera modules specially adapted for being embedded in other devices
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/328—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by welding
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Blocking Light For Cameras (AREA)
- Studio Devices (AREA)
Abstract
Description
ッケージング方法、レンズモジュール、電子機器に関する。
人々が旅行及び様々な日常生活を記録するのに一般的に使用される手段となっているの
で、撮像機能を備える電子機器(例えば、携帯電話、タブレットPC、カメラなど)は
、人々の日常生活と仕事にますます多く使用されていて、撮像機能を備える電子機器は
、現代の生活の中で必要で重要なツールとなっている。
ジュールの設計レベルは、撮像の品質を決定する重要な要素の1つである。レンズモジ
ュールは、一般的に感光性チップを備える撮像アセンブリ及び前記撮像アセンブリ上方
に固定されて、被写体の映像を形成するためのレンズアセンブリを含む。
積を備える感光性チップを備えなければならず、一般的に前記レンズモジュールには、
レジスタ、コンデンサなどの受動素子及び周辺チップが配置されることもある。
、レンズモジュールの合計の厚さを減少させることができる撮像アセンブリ及びそのパ
ッケージング方法、レンズモジュール、電子機器を提供することである。
ドを備える感光性チップとフィルタを提供することと、前記感光性チップのはんだパッ
ドに対向する前記フィルタを前記感光性チップに装着することと、はんだパッドを備え
る機能素子と前記フィルタを仮ボンディングする第1キャリア基板を提供し、前記機能
素子のはんだパッドは、前記第1キャリア基板に対向することと、前記第1キャリア基
板と機能素子覆い、少なくとも前記感光性チップの一部側壁を覆うパッケージング層を
形成することと、前記第1キャリア基板を除去することと、及び前記第1キャリア基板
を除去した後、前記フィルタに隣接する前記パッケージング層の一側に再配線構造を形
成して、前記感光性チップのはんだパッド及び前記機能素子のはんだパッドを電気的に
接続させることとを含む撮像アセンブリのパッケージング方法を提供する。
層に嵌め込まれた感光性ユニット、機能素子及び再配線構造とを含み、前記感光性ユニ
ットは、感光性チップ及び前記感光性チップに装着されたフィルタを含み、前記パッケ
ージング層の上面に前記フィルタ及び機能素子を露出し、前記パッケージング層の底面
は、前記機能素子より高く、前記パッケージング層は、少なくとも前記感光性チップの
一部側壁を覆い、ここで、前記感光性チップ及び機能素子はいずれも、はんだパッドを
備え、前記感光性チップのはんだパッドは、前記パッケージング層の上面に対向し、前
記機能素子のはんだパッドは、前記パッケージング層の上面に露出され、前記再配線構
造は、前記フィルタに隣接する前記パッケージング層の一側に位置され、前記再配線構
造は、前記はんだパッドに電気的に接続される撮像アセンブリをさらに提供する。
前記パッケージング層の上面に装着され、また前記感光性ユニット及び機能素子を囲む
ホルダーを含み、前記感光性チップ及び機能素子に電気的に接続されるレンズアセンブ
リとを含むレンズモジュールをさらに提供する。
電子機器をさらに提供する。
える。
配線構造を介して電気的接続を実現し、本発明の実施例は、機能素子を周辺マザーボー
ドに装着する解決手段に比べて、感光性チップと機能素子との間の距離を減少させるこ
とができ、相応に感光性チップと機能素子との間の電気的接続距離を減少させることに
より、信号を伝送する速度を向上させて、レンズモジュールの使用性能を向上させる(
例えば、撮像速度及び保存速度を向上させる)。また、前記パッケージング層及び再配
線構造により、回路基板(例えば、PCB)を省略して、レンズモジュールの合計の厚
さを減少させることで、レンズモジュールの小型化、薄型化の要求を満足させる。
レンズモジュールの小型化、薄型化の要求を満足させることができない。その原因を分
析した結果、下記の通りである。
チップ)及びレンズアセンブリで組み立てられ、周辺チップは、一般的に周辺メインボ
ードに装着され、感光性チップと機能素子との間は、互いに分離される。ここで、回路
基板は、感光性チップ、機能素子及びレンズアセンブリに対して支持作用をし、回路基
板を介して前記感光性チップ、機能素子とレンズモジュールとの間の電気的接続を実現
する。
の画像に対する要求もますます高まっており、感光性チップの面積は相応に増加され、
機能素子も相応に多くなって、レンズモジュールのサイズはますます大きくなるので、
レンズモジュールの小型化、薄型化の要求を満足させない。また、感光性チップは、一
般的に、レンズモジュール中のホルダーの内部に設置され、周辺チップは、一般的にホ
ルダーの外部に設置されるので、周辺チップと感光性チップの間には一定の距離がある
ことにより、信号を伝送する速度を減少させる。周辺チップは、一般的に、デジタルシ
グナルプロセッサ(DSP:digital signal processor)チ
ップとメモリチップを含むので、撮像速度と保存速度に対して悪い影響を与えやすいの
で、レンズモジュールの使用性能を低下させる。
パッケージング層に集積させ、また再配線構造を介して電気的接続を実現し、本発明の
実施例は、機能素子を周辺マザーボードに装着する解決手段に比べて、感光性チップと
機能素子との間の距離を減少させることができ、相応に感光性チップと機能素子との間
の電気的接続距離を減少させることにより、信号を伝送する速度を向上させて、レンズ
モジュールの使用性能を向上させる。また、前記パッケージング層及び再配線構造によ
り、回路基板を省略して、レンズモジュールの合計の厚さを減少させることで、レンズ
モジュールの小型化、薄型化の要求を満足させる。
図面を結びつけて、本発明の具体的な実施例を詳細に説明する。
ける各ステップに対応する構造模式図である。
は、図1の1つのフィルタの拡大図である。感光性チップ200及びはんだパッドを備
えるフィルタ400を提供し、前記フィルタ400を前記感光性チップ200のはんだ
パッドに対向する前記感光性チップ200に装着する。
感光性チップ200は、CMOSイメージセンサ(CIS:CMOSimage se
nsor)チップである。他の実施例において、前記感光性チップは、電荷結合素子(
CCD:charge coupled device)イメージセンサチップである
こともできる。
たように)を備え、前記感光性チップ200は、前記光信号受信面201を介して光放
射感知信号を受信する。具体的に、図2に示されたように、前記感光性チップ200は
、感光性領域200C及び前記感光性領域200Cを囲む周辺領域200Eを含み、前
記光信号受信面201は、前記感光性領域200Cに位置される。
0は、複数の半導体感光素子(図示せず)及び半導体感光素子に位置される複数のフィ
ルタコーティング(filter coating)(図示せず)を含み、フィルタコ
ーティングは、光信号受信面201によって受信された光信号を選択的に吸収させたり
通過させる。前記感光性チップ200は、フィルタのコーティングに位置されるマイク
ロレンズ210をさらに含み、マイクロレンズ210は、半導体感光素子と一対一に対
応されることによって、受信された光放射信号光を半導体感光素子に集束させる。前記
光信号受信面201は、相応に、前記マイクロレンズ210の上面である。
技術で製作され、前記感光性チップ200は、感光性チップ200と他のチップまたは
部品の電気的接続を実現するためのはんだパッドを備える。本実施例において、前記感
光性チップ200は、周辺領域200Eに形成される第1チップはんだパッド220を
備える。具体的に、光信号受信面201の同じ側に位置される感光性チップ200の表
面は、第1チップはんだパッド220を露出させる。
ング工程が前記光信号受信面201を汚染させることを防止し、後続的なレンズモジュ
ールの合計の厚さを減少させ、レンズモジュールの小型化、薄型化の要求を満足させる
ことに有利である。
きる。本実施例において、前記フィルタ400は、赤外線フィルタガラス片であり、入
射光のうち赤外線が感光性チップ200の性能への影響を除去する。
具体的に、前記フィルタ400は、赤外線カットフィルター(IRCF:infra
red cut filter)であり、前記赤外線カットフィルターは、青色ガラス
赤外線カットフィルターであることができ、またはガラス及び前記ガラス表面に位置さ
れる赤外線カットコーティング(IR cut coating)を含む。
に)を含む。前記組み立て面401は、感光性チップ200との装着を実現する面であ
り、前記感光性チップ200と対向する面である。
ラス赤外線カットフィルターの1つの表面には反射防止コーティング(refecti
on reducing coating)または反射防止膜(antireflec
tion coating)が塗布され、反射防止コーティングまたは反射防止膜の表
面に後ろ向きの面は、組み立て面401である。フィルタ400がガラス及びガラス表
面に位置される赤外線カットコーティングを含む場合、赤外線カットコーティングに後
ろ向けのガラス表面は、組み立て面401である。他の実施例において、フィルタが全
透過ガラス片である場合、全透過ガラス片のいずれかの1つの表面は、組み立て面であ
る。
400Cを囲むエッジ領域400Eを含む。後続的にレンズモジュールを形成した後、
前記光透過領域400Cは、外部の入射光を透過させるようにすることにより、光信号
受信面201が光信号を受信するようにして、レンズモジュールの正常の使用機能を保
証する。前記エッジ領域400Eは、フィルタ400と感光性チップ200の装着のた
めのスペースの位置を残す。
記フィルタ400と感光性チップ200とが感光性ユニット250を構成する(図1に
示されたように)。
10を介して感光性チップ200に装着され、前記接着構造41は、前記光信号受信面
201を囲む。
。前記フィルタ400、接着構造410及び感光性チップ200は、キャビティ(図示
せず)をなし、フィルタ400と感光性チップ200の直接的な接触を防止することに
より、フィルタ400が感光性チップ200の性能に対して悪い影響を与えることを防
止する。
り、前記光信号受信面201上方のフィルタ400が前記感光性チップ200の感光性
パスに位置するようにする。
ォトリソグラフィ工程により前記接着構造410を形成することができ、これは接着構
造410の形の品質とサイズ精度を向上させ、パッケージ効率及び生産能力を向上させ
ることに有利だけでなく、接着構造410の接着強度への影響を低減させることできる
。本実施例において、前記接着構造410の材料は、フォトリソグラフィ可能なドライ
フィルム(dry film)である。他の実施例において、前記接着構造の材料は、
フォトリソグラフィ可能なポリイミド(polyimide)、フォトリソグラフィ可
能なポリベンゾオキサゾール(PBO)、またはフォトリソグラフィ可能なベンゾシク
ロブテン(BCB)であることもできる。
簡素化し、前記接着構造410の形成工程が光信号受信面201に対する影響を減らす
ために、前記フィルタ400に前記接着構造410を形成する。
提供することと、前記フィルタ400の組み立て面401に後ろ向きの面を前記第3キ
ャリア基板340に仮ボンディングすることと、前記一時的ボンディングステップ後に
、前記フィルタ400のエッジ領域400Eに環状の接着構造410を形成することと
、前記感光性チップ200の光信号受信面201を環状の接着構造410に対向するよ
うに、前記感光性チップ200の周辺領域200E(図2に示されたように)を環状の
接着構造410に装着させることにより前記感光性ユニット250を形成することとを
含む。
提供する。本実施例において、前記第3キャリア基板340は、ウェハキャリア(ca
rrier wafer)である。他の実施例において、前記第3キャリア基板は、他
のタイプの基板であることもできる。
340に仮ボンディングする。前記第1仮ボンディング層345は、剥離層として、後
続のデボンディングを実現する。
対向する微細粘着面と発泡面を含み、発泡膜は、常温で接着性を備え、発泡面は、第3
キャリア基板340に接着されるので、後続的に発泡膜に加熱して、発泡面の接着性を
除去することにより、ボンディングを実現することができる。他の実施例において、前
記第1仮ボンディング層は、ダイアタッチフィルム(DAF:die attach
film)であることもできる。
0の光信号受信面201に後ろ向き面をUVフィルム310に接着させることと、前記
接着ステップ後に、第1デボンディング処理を行い、前記第3キャリア基板340を除
去する(図1に示されたように)ことをさらに含む。
前記接着ステップにより、後続的に感光性ユニット250(図1に示されたように)
を他のキャリア基板に仮ボンディングのために工程準備をし、前記UVフィルム310
は、第3キャリア基板340を除去した後に、感光性ユニット250に対して支持及び
固定作用を提供する。ここで、UVフィルム310は、紫外線の照射で接着力が弱まり
、後続的に前記感光性ユニット250を前記UVフィルム310から容易に取り外す。
ップ200の光信号受信面201に後ろ向きの面に密着し、また直径が比較的に大きい
フレーム315の底部に接着され、前記フレーム315を介してストレッチフィルム作
用することにより、前記感光性ユニット250が前記UVフィルム310に別に固定さ
れるようにする。前記UVフィルム310及びフレーム315の具体的な説明について
、本実施例は、ここでは繰り返して説明しない。
発泡膜であるので、第1デボンディング処理のステップにおいて、第1仮ボンディング
層345に加熱処理を行い、発泡膜の発泡面の接着性を除去することにより、第3キャ
リア基板340を除去する。その後、引き裂き方法で前記第1仮ボンディング層345
を除去する。
0の側壁を覆う応力緩衝層420を形成することをさらに含む。
対して発生する応力を低減して、フィルタ400が破裂する確率を低減することにより
、パッケージング工程の信頼性及び品質を向上させ、相応にレンズモジュールの信頼性
を向上させる。特に、フィルタ400は、赤外線フィルタガラス片または全透過ガラス
片であり、ガラス片は、応力の影響により破裂される可能性が比較的に高いが、応力緩
衝層420を介して、フィルタ400の破裂する確率を顕著に低減することができる。
。本実施例において、前記応力緩衝層420の材料は、エポキシ系接着剤である。エポ
キシ系接着剤は、エポキシ樹脂接着剤(epoxy resin adhesive)
であり、エポキシ系接着剤は、様々な形で有し、組成を変えることで弾性率の異なる材
料を得ることができ、それにより実際の状況に応じて、前記フィルタ400が受ける応
力を調節することができる。
ッケージング層が前記接着構造410に対して発生する応力を低減して、パッケージン
グ工程の信頼性及び品質をさらに向上させる。
前記UVフィルム310に接着させた後、ディスペンス工程を介して前記応力緩衝層4
20を形成する。ディスペンス工程を選択することによって、応力緩衝層420を形成
するステップ及び現在のパッケージング工程の互換性を向上させ、工程が簡単である。
を形成することもできる。
に機能素子(図示せず)と前記フィルタ400を仮ボンディングし、前記機能素子は、
前記第1キャリア基板320に対向するはんだパッド(図示せず)を備える。
により、後続的に機能素子と感光性チップ200のパッケージング集積と電気的集積の
実現ために工程の準備をする。
続的にデボンディングを実現することに便利である。ここで、前記第1キャリア基板3
20はまた、後続的パッケージング層の形成に工程プラットフォームを提供する。
施例において、前記第1キャリア基板は、他のタイプの基板であることもできる。
キャリア基板320に仮ボンディングする。前記第2仮ボンディング層325に対する
具体的な説明は、前述した第1仮ボンディング層345(図1に示されたように)に対
応する相応の説明を参照することができ、ここでは繰り返して説明しない。
後、前記感光性チップ200の第1チップはんだパッド220は、前記第1キャリア基
板320に対向する。
ィルム310(図5に示されたように)に紫外線を照射して、紫外線照射を受けたUV
フィルム310が粘性を失うようにし、指ぬきによって1つの感光性ユニット250を
ジャックアップし、その後吸着機器によって前記感光性ユニット250を上昇させ、前
記感光性ユニット250をUVフィルム310から順次に剥離させ、前記第1キャリア
基板320の予め設定された位置に配置する。前記感光性ユニット250を1つずつ第
1キャリア基板320に配置することによって、感光性ユニット250が前記第1キャ
リア基板320での位置精度を向上させることに有利である。
されたレンズモジュールが二重撮像またはアレイモジュール製品に適用される場合、前
記感光性ユニットの数量は複数個であることもある。
着を実現した後、前記フィルタ400を第1キャリア基板320に仮ボンディングする
。他の実施例において、フィルタを第1キャリア基板に仮ボンディングした後、前記感
光性チップとフィルタとの装着を実現することができる。
であり、周辺チップ230及び受動素子240中の少なくとも1つを含む。
、機能素子を第1キャリア基板320に仮ボンディングした後、前記機能素子のはんだ
パッドは、第1キャリア基板320に対向する。
のはんだパッドが第1キャリア基板320に対向するようにすることにより、感光性チ
ップ200と機能素子との厚さの差がパッケージング層の形成に対する工程への影響を
防止し、後続的にパッケージング層を形成する工程の複雑さを低減することに有利であ
る。
に接続を実現した後、前記感光性チップ200にアナログ電源回路、デジタル電源回路
、電圧緩衝回路、シャッター回路、シャッター駆動回路などのような周辺回路を提供す
る。
メモリチップ中の1つまたは2つを含む。他の実施例において、前記周辺チップは、他
のタイプのチップを含むこともできる。図6は、ただ1つの周辺チップ230を示すが
、周辺チップ230の数は、1つだけに限定されない。
製作され、前記周辺チップ230と他のチップまたは部品の電気的接続を実現するため
のはんだパッドも備える。本実施例において、前記周辺チップ230は、第2チップは
んだパッド235を含み、前記周辺チップ230を第1キャリア基板320に仮ボンデ
ィングした後、前記第2チップはんだパッド235は、第1キャリア基板320に対向
する。
。前記受動素子240は、レジスタ、キャパシタンス、インダクタンス、ダイオード、
三極管、ポテンショメータ、リレーまたはドライバなどの体積が比較的に小さい電子素
子を含むことができる。図6は、ただ1つの受動素子240を示したが、前記受動素子
240の数は、1つだけに限定されない。
を実現するためのはんだパッドも備える。本実施例において、前記受動素子240のは
んだパッドは、電極245である。前記受動素子240を第1キャリア基板320に仮
ボンディングした後、前記電極245は、第1キャリア基板320に対向する。
覆い、また少なくとも前記感光性チップ200の一部側壁を覆うパッケージング層35
0(図8に示されたように)を形成する。
プ230、受動素子240)に対して固定作用をして、感光性チップ200と機能素子
のパッケージング集積を実現するようにする。
ペースを減少させることができ、回路基板(例えば、PCB)を省略することができる
ことにより、後続的に、レンズモジュールを形成する合計の厚さを顕著に減少させ、レ
ンズモジュールの小型化、薄型化の要求を満足させる。また、機能素子を周辺マザーボ
ードに装着する解決手段に比べて、感光性チップと機能素子の両方をパッケージング層
350に集積させる方式は、感光性チップ200と各機能素子の間の距離を減少させる
ことができ、相応に感光性チップと各機能素子との間の電気的接続距離を短縮させるこ
とに有利であることにより、信号を伝送する速度を向上させ、レンズモジュールの使用
性能を向上させる(例えば、撮像速度、保存速度を向上させる)。
るので、レンズモジュールの信頼性を向上させることにも有利である。
本実施例において、前記パッケージング層350の材料は、エポキシ樹脂である。エ
ポキシ樹脂は、低収縮性、優れた接着性、優れた耐食性、優れた電気的性質及び低コス
トなどの利点を有しているので、電子デバイスおよび集積回路用の封止材として広く使
用される。
ケージング層350を形成する。射出成形工程は、生産速度が速く、効率が高く、操作
の自動化が可能などの特徴を備え、生産量を向上させ、工程コストを削減させることに
有利である。他の実施例において、他の成形工程を使用して前記パッケージング層を形
成することができる。
ャリア基板320、機能素子及び感光性チップ200を覆う材料パッケージング層35
5(図7に示されたように)を形成することと、及び前記材料パッケージング層355
に研削(grinding)処理を行って、前記感光性ユニット250と機能素子のう
ち最も高い方と面一にする前記パッケージング層350を形成することとを含む。
されたレンズモジュールの合計の厚さを減少させる。
ッケージング層355を形成する過程において、金型をカスタマイズする必要がなく、
工程が簡単である。
大きいので、前記平坦化処理した後、前記パッケージング層350の第1キャリア基板
320に後ろ向きの面と感光性チップ200の第1キャリア基板320に後ろ向きの面
は面一にし、即ち、前記パッケージング層350は、前記感光性チップ200の側壁を
覆う。
側壁さらに覆うことにより、前記感光性ユニット250のキャビティシール性を向上さ
せ、水蒸気、酸化性ガスなどが前記キャビティ内に入る確率を減らして、感光性チップ
200の性能を保証する。
とにより、レンズモジュールの厚さを減少させる効果を発生するので、感光性チップ2
00及び周辺チップ230の薄化処理を行う必要がなく、それにより前記感光性チップ
200及び周辺チップ230の機械的強度と信頼性を向上させる。他の実施例では、工
程の要求に応じて、前記感光性チップ及び周辺チップの厚さを適切に減少させることが
できるが、その機械的強度及び信頼性に影響を受けないように薄化量が比較的に少ない
。
図8に示されたように)を除去する。
とにより、後続の電気的工程のために工程の準備をする。
板320と第2仮ボンディング層325(図8に示されたように)を順次に除去するこ
とを含む。前記第2デボンディング処理に対する具体的な説明は、前述した前記第1デ
ボンディングに対する処理に関連する説明を参照することができ、ここでは繰り返して
説明しない。
)を除去した後、前記フィルタ400に隣接する前記パッケージング層350の一側に
再配線(RDL:redistribution layer)構造360(図14に
示されたように)を形成し、前記感光性チップ200のはんだパッド及び前記機能素子
(図示せず)のはんだパッド(図示せず)を電気的に接続させる。
、前記パッケージング層350と再配線構造360によって、前記感光性チップ200
との間の距離を減少させ、相応に電気的に接続の距離を減少させることにより、信号伝
送の速度を向上させ、レンズモジュールの使用性能を向上させる。具体的に、前記周辺
チップ230は、デジタルシグナルプロセッサチップとメモリチップ中の1つまたは2
つを含み、相応に撮像速度及び保存速度を向上させることに有利である。
との間の距離を減少させながら、電気的に接続工程の実現可能性を向上させ、ワイヤボ
ンディング工程と比較して、再配線構造360は、大量生産を実現し、パッケージング
効率を向上させる。
造360を形成して、後続的にレンズアセンブリを前記パッケージング層350に組立
てた後に、前記再配線構造360は、相応にレンズアセンブリのホルダーに位置されて
、再配線構造360が保護されるようにし、レンズモジュールの信頼性及び安定性を向
上させることに有利であり、レンズモジュールの後続的パッケージングに便利である。
第2チップはんだパッド235及び電極245に電気的に接続される。ここで、前記パ
ッケージング層350は、前記第2チップはんだパッド235と電極245を露出する
ので、前記再配線構造360を形成する工程は比較的に簡単である。
0(図11に示されたように)を形成して、前記感光性チップ200のはんだパッドに
電気的に接続される。
、前記感光性チップ200の外部電極として使用され、後続的に前記感光性チップ20
0は、前記導電性ピラー280によって機能素子と電気的接続を実現する。ここで、前
記導電性ピラー280は、前記感光性チップ200中の金属相互接続構造と電気的に接
続されることができ、前記感光性チップ200を貫通し、また前記第1チップはんだパ
ッド220と直接に電気的に接続されることもできる。
導電性ピラー280によって、前記感光性チップ200の外部電極と機能素子のはんだ
パッドを前記パッケージング層350の同じ側に位置されるようにすることにより、前
記再配線構造を形成する工程の難易度を低減する。前記導電性ピラー280の上面とは
、前記導電性ピラー280の延長方向に沿って、前記導電性ピラー280の感光性チッ
プ200に後ろ向きの面である。
電性ピラー280の導電性能を恒常させ、前記導電性ピラー280を形成する工程の難
易度を低減させる。他の実施例において、前記導電性ピラーの材料は、タングステンの
ような他の適用可能な導電性材料であることもできる。
をパターン化し、前記パッケージング層350内に前記感光性チップの第1チップはん
だパッド220を露出する導電性ビアホール351(図10に示されたように)を形成
することと、前記導電性ビアホール351内に前記導電性ピラー280を形成すること
とを含む。
具体的に、レーザーエッチング工程により前記パッケージング層350をエッチングし
て、前記導電性ビアホール351を形成する。レーザーエッチング工程の精度は比較的
に高く、前記導電性ビアホール351の形成位置及びサイズを比較的正確に決定するこ
とができる。
導電性ピラー280を形成する。
は、充填方法により前記導電性ビアホール351内に導電性ピラー280を形成し、導
電性ピラー280を形成する工程の難易度を低減し、アライメントの問題を防止し、導
電性ピラー280と第1チップはんだパッド220の電気的接続の信頼性を向上させる
。
350の一側に相互接続線290を形成し、前記導電性ピラー280と機能素子のはん
だパッドを電気的に接続させる。
。
330に前記相互接続線290を形成する。
ボンディング層に第1誘電体層332を形成し、第1誘電体層332をパターン化して
、前記第1誘電体層332内に第1相互接続トレンチ(図示せず)を形成し、前記第1
相互接続トレンチ内に前記相互接続線290を形成する。
、相応に前記相互接続線290を形成する工程の複雑さを低減する。
線290と第2キャリア基板330を容易に分離させることができる。本実施例におい
て、前記第3仮ボンディング層331は、発泡膜であることができ、前記第3仮ボンデ
ィング層331に対する具他的な説明は、前述した第2仮ボンディング層345(図1
に示されたように)の相応する説明を参照することができ、ここでは繰り返して説明し
ない。
、位置及びサイズを定義する。本実施例において、前記第1誘電体層332の材料は、
感光性材料であり、それに対応して、リソグラフィー工程を介してパターン化を実現す
ることができる。具体的に、第1誘電体層332の材料は、感光性ポリイミド、感光性
ベンゾシクロブテンまたは感光性ポリベンゾオキサゾールである。
いて、前記相互接続線290を形成した後、反応性イオンエッチング工程を使用して第
1誘電体層332を除去することにより、後続の電気的接続工程のために工程基盤を提
供する。
ング層を形成する前に、前記第2キャリア基板にパッシベーション層を形成することを
さらに含む。前記パッシベーション層を介して前記第2キャリア基板が汚染される確率
を低減して、前記第2キャリア基板が重複に使用されるようにする。本実施例において
、前記パッシベーション層の材料は、酸化ケイ素または窒化ケイ素であることができる
。
易にパターン化を実現する材料(例えば、アルミニウム)を選択した場合、エッチング
方法によって前記相互接続線を形成することもできる。それに対応して、前記相互接続
線を形成するステップは、前記第3仮ボンディング層に導電層を形成することと、前記
導電層をエッチングして相互接続線を形成することを含む。
14に示されたように)を形成するステップは、前記導電性ピラー280と機能素子の
はんだパッドに導電性バンプ365を形成することと、前記相互接続線290を前記導
電性バンプ365にボンディングさせ、前記導電性バンプ365と電気的に接続するこ
ととをさらに含む。
構造360を構成する。
び電極245から突出され、前記導電性バンプ365により、相互接続線290と導電
性ピラー280、第2チップはんだパッド235及び電極245との間のボンディング
信頼性を向上させる。
バンプ365を形成する方法により、導電性バンプ365の位置精度の向上させ、前記
導電性バンプ365を形成する工程の難易度を低減することに有利である。
前記導電性バンプ365を形成する。バンピング工程を選択することにより、各チップ
及び素子と前記再配線構造360との間の信号伝送の信頼性を向上させることに有利で
ある。具体的に、前記導電性バンプ365の材料は、スズであることができる。
ンプ365にボンディングさせる。
ング工程において、相互接続線290と導電性バンプ365の接触面は、圧力の作用の
下で、塑性変形して、接触面の原子がお互いに接触するようにし、ボンディング温度の
上昇するにつれて、接触面の原子拡散が加速して、クロスボーダー拡散を実現する。あ
るボンディング時間に達すると、接触面の格子が再結合し、それによりボンディングを
実現し、またボンディング強度、導電性及び熱伝導性、エレクトロマイグレーション耐
性及び機械的接続特性が比較的に高い。
ギーを獲得し、原子間の拡散はより明白になり、ボンディング温度の上昇は結晶粒子成
長も促進し、エネルギーを得ることができる結晶粒子はインタフェースを超えて成長す
ることができ、インターフェースを除去し、接触面の材料を一体化するのに有利である
。しかし、ボンディング温度が高すぎると、前記感光性チップ200及び周辺チップ2
30の性能に、特に形成されたアセンブリの敏感素子に、悪影響を及ぼし易い。また工
程温度が高すぎると、アライメント精度の低下、工程コストの増加、生産効率の低下な
どの問題を引き起こす。そのために、本実施例において、前記メタルボンディング工程
は、金属低温ボンディング工程であり、前記メタルボンディング工程のボンディング温
度は、250℃より小さいか等しい。ここで、ボンディング温度の最低値は、ボンディ
ングを実現できればよい。
易にすることにより、前記相互接続線290と導電性バンプ365のボンディング品質
を向上させる。そのために、本実施例において、前記メタルボンディング工程の圧力は
200kPaより大きいか等しい。ここで、前記圧力は、プレスツールによって発生す
る。
ために、本実施例において、前記メタルボンディング工程ボンディング時間は、30m
inより大きいか等しい。
グ時間を合理的に調整することができ、また相互協力することにより、金属ボンディン
グの品質と効率を保証する。また説明すべき点は、接触面の酸化または汚染の可能性を
減らすために、真空環境で前記メタルボンディング工程を実行することができる。
を形成した後、前記相互接続線に前記導電性バンプを形成することもできる。それに対
応して、メタルボンディング工程を利用して、前記導電性バンプを対応する前記導電性
ピラーと機能素子のはんだパッドにボンディングし、前記導電性ピラー、導電性バンプ
及び相互接続線は、前記再配線構造を構成する。
2キャリア基板と相互接続線を覆う第2誘電体層を形成することと、前記第2誘電体層
をパターン化し、前記第2誘電体層内に相互接続ビアホールを形成し、部分的の前記相
互接続線を露出することと、電気メッキ工程を利用して、前記相互接続ビアホール内に
前記導電性バンプを形成することと、及び前記第2誘電体層を除去することとを含む。
と同じであることもできる。
電体層を除去する。
ことができ、ここでは繰り返して説明しない。
行い、前記第2キャリア基板330と第3仮ボンディング層331を除去する。前記第
3デボンディング処理に対する具体的な説明は、前述した第1デボンディング処理に対
する関連する説明を参照することができ、ここでは繰り返して説明しない。
0にダイシング(dicing)処理を行うことをさらに含む。
を形成することにより、後続的にレンズアセンブリを装着するために工程の準備をする
。本実施例において、レーザー切断工程を用いて前記ダイシング処理を行う。
にFPC基板(flexible printed circuit board、フ
レキシブル回路基板)510をボンディングさせることをさらに含む。
続的なレンズアセンブリとの間の電気的に接続、及び形成されたレンズモジュールと他
の素子との間の電気的に接続を実現する。後続的に、レンズモジュールを形成した後、
前記レンズモジュールはまた、前記FPC基板510を介して電子機器中の他の素子と
電気的に接続することにより、電子機器の正常な撮像機能を実現する。
グ工程を介して前記FPC基板510を、前記再配線構造360にボンディングさせる
ことにより、電気的に接続を実現する。具体的に、前記FPC基板510を、前記相互
接続線290にボンディングさせる。
及びダイシング処理した後、前記再配線構造360に前記FPC基板510をボンディ
ングさせる。
を電気的に接続させるコネクタ(connector)520が形成される。レンズモ
ジュールが電子機器に適用される場合には、前記コネクタ520は、前記電子機器のマ
ザーボードに電気的に接続されることにより、前記レンズモジュールと前記電子機器中
の他の素子との間の情報の伝送を実現し、前記レンズモジュールのイメージ情報を前記
電子機器に送信する。具体的に、前記コネクタ520は、ゴールドフィンガーコネクタ
であることができる。
における各ステップに対応する構造模式図である。
と前述した実施例の異なる部分としては、前記再配線構造360aを形成するステップ
は、同じステップにおいて前記導電性ピラー280aと相互接続線290aを形成する
ことを含むことである。
記パッケージング層250a内に前記第1チップはんだパッド220aを露出する導電
性ビアホール351aを形成する。
形成する。前記導電性ビアホール351aを形成するステップに対する具体的な説明は
、前述した実施例中の相応する説明を参照することができ、ここでは繰り返して説明し
ない。
素子(図示せず)を覆う第3誘電体層332aを形成し、前記第3誘電体層332aは
また、導電性ビアホール351a内に位置され、前記第3誘電体層332aをパターン
化し、前記導電性ビアホール351a内の第3誘電体層332a、及び前記パッケージ
ング層350aの上部より高い部分的の領域の第3誘電体層332aを除去し、前記第
3誘電体層332a内に前記第2チップはんだパッド235aと電極245aを露出し
、前記導電性ビアホール351aと連通する第2相互接続トレンチ338aを形成する
。
電体層の相応する説明を参照することができ、ここでは繰り返して説明しない。
)と導電性ビアホール351a(図18に示されたように)内に導電性材料を充填し、
前記導電性ビアホール351a内に導電性ピラー280aを形成し、前記第2相互接続
トレンチ338a内に相互接続線290aを形成し、前記相互接続線290aと導電性
ピラー280aは一体構造の前記再配線構造360aを構成する。
ピラー280aを形成し、前記第2相互接続トレンチ338a内に相互接続線290a
を形成する。
する。
aを除去する。
の相応する説明を参照することができ、ここでは繰り返して説明しない。
それに対応して、本発明の実施例は、撮像アセンブリをさらに提供する。続いて図1
6を参照すると、本発明の撮像アセンブリの一実施例の構造模式図を示す。
層350に嵌め込まれた感光性ユニット250(図1に示されたように)、機能素子(
図示せず)及び再配線構造360とを含み、前記感光性ユニット250は、感光性チッ
プ200及び前記感光性チップ200に装着されたフィルタ400を含み、前記パッケ
ージング層350の上面は、前記フィルタ400及び機能素子を露出し、前記パッケー
ジング層350の底面は、前記機能素子より高く、前記パッケージング層350は、少
なくとも前記感光性チップ200の一部側壁を覆い、ここで、前記感光性チップ200
及び機能素子はすべて、はんだパッドを備え、前記感光性チップ200のはんだパッド
は、前記パッケージング層350の上面に対向し、前記機能素子のはんだパッドは、前
記パッケージング350層の上面に露出され、前記再配線構造360は、前記フィルタ
400に隣接する前記パッケージング層350の一側に位置され、前記再配線構造36
0は、前記はんだパッドに電気的に接続される。
をして、感光性チップ200及び機能素子のパッケージング集積を実現するようにする
。ここで、パッケージング層350を介して、レンズアセンブリのホルダーが占めるス
ペースを減少させることができ、回路基板を省略することもできることにより、レンズ
モジュールの厚さを減少させ、レンズモジュールの小型化、薄型化の要求を満足させる
。
もすることができるので、レンズモジュールの信頼性も向上させることにも有利である
。本実施例において、前記パッケージング層350の材料は、エポキシ樹脂である。
こで、前記パッケージング層350の上面は、レンズアセンブリを装着するための面で
ある。
0と機能素子のうち最も高い方に面一にする。それに対応して、前記パッケージング層
350の形成工程が感光性チップ200と機能素子との間の厚さの差による影響を受け
ることを防止し、前記パッケージング層350の製造過程において、金型をカスタマイ
ズする必要がなく、工程が簡単である。
大きいので、前記パッケージング層350の底面と前記感光性チップ200の前記フィ
ルタ400に後ろ向きの面は面一にし、即ち、前記パッケージング層350は、前記感
光性チップ200の側壁を覆う。
覆うことにより、前記感光性ユニット250のキャビティシール性を向上させ、水蒸気
、酸化性ガスなどが前記キャビティ内に入る確率を減らして、感光性チップ200の性
能を保証する。
感光性チップ200は、CMOSイメージセンサチップである。他の実施例において、
前記感光性チップは、CCDイメージセンサチップであることもできる。
たように)及び前記感光性領域200Cを囲む周辺領域200E(図2に示されたよう
に)を含み、前記感光性チップ200は、前記感光性領域200Cに位置される光信号
受信面201をさらに備える。
00のはんだパッドは、感光性チップ200と他のチップまたは部品との電気的接続を
実現する。本実施例において、前記感光性チップ200は、周辺領域200Eに位置さ
れる第1チップはんだパッド220を備え、第1チップはんだパッド220は、パッケ
ージング層350の上面に対向する。
信号受信面201を汚染させることを防止し、且つレンズモジュールの合計の厚さを減
少させることで、レンズモジュールの小型化、薄型化の要求を満足させる。
ィルタガラス片または全透過ガラス片であることができる。本実施例において、前記フ
ィルタ400は、赤外線フィルタガラス片であり、入射光のうち赤外線が感光性チップ
200の性能への影響を除去し、イメージング効果の向上に有利である。
200に装着し、前記接着構造410は、前記光信号受信面201を囲む。前記接着構
造410は、前記フィルタ400と感光性チップ200との物理接続を実現する。また
フィルタ400と感光性チップ200との直接的な接触を防止することにより、前記感
光性チップ200の性能に対する悪影響を与えることを防止する。
フィルムである。他の実施例において、前記接着構造の材料は、フォトリソグラフィ可
能なポリイミド、フォトリソグラフィ可能なポリベンゾオキサゾール、またはフォトリ
ソグラフィ可能なベンゾシクロブテンであることもできる。
本実施例において、前記接着構造410は、前記光信号受信面201を囲むことによ
り、前記光信号受信面201の上方のフィルタ400が前記感光性チップ200の感光
性パスに位置するようにして、前記感光性チップ200の性能を保証する。
例において、レンズモジュールが二重撮像またはアレイモジュール製品に適用される場
合、感光性ユニットの数量は複数個であることもある。
前記撮像アセンブリ260は、前記パッケージング層350とフィルタ400の側壁と
の間に位置される応力緩衝層420をさらに含む。前記応力緩衝層420は、パッケー
ジング層350がフィルタ400に対して発生する応力低減して、フィルタ400が破
裂する確率を低減することにより、レンズモジュールの信頼性を向上させる。
記接着構造410の側壁との間に位置されることにより、パッケージング層350が前
記接着構造410に発生する応力を減少させて、前記撮像アセンブリ260の信頼性及
び品質をさらに向上させることに有利である。
素子であり、周辺チップ230及び受動素子240の少なくとも1つを含む。
上面に露出されることにより、相互接続構造360を形成する工程の複雑さを低減する
。
、デジタル電源回路、電圧緩衝回路、シャッター回路、シャッター駆動回路などのよう
な周辺回路を提供する。
メモリチップ中の1つまたは2つを含む。他の実施例において、前記周辺チップは、他
のタイプのチップを含むこともできる。図16は、ただ1つの周辺チップ230を示す
が、周辺チップ230の数は、1つだけに限定されない。
0のはんだパッドは、前記周辺チップ230と他のチップまたは部品の電気的接続を実
現する。本実施例において、前記周辺チップ230は、前記パッケージング層350の
上面に露出される第2チップはんだパッド235を含む。
する。前記受動素子240は、レジスタ、キャパシタンス、インダクタンス、ダイオー
ド、三極管、ポテンショメータ、リレーまたはドライバなどの体積が比較的に小さい電
子素子を含むことができる。図16は、ただ1つの受動素子240を示したが、前記受
動素子240の数は、1つだけに限定されない。
の電気的接続を実現する。本実施例において、前記受動素子240のはんだパッドは、
電極245であり、前記電極245は、前記パッケージング層350の上面に露出され
る。
配線構造360とパッケージング層350によって、レンズモジュールの使用性能(例
えば、撮像速度、保存速度を向上させる)を向上させる。また、再配線構造360によ
って、電気的に接続工程の可能性及びパッケージ効率を向上させる。
に位置され、レンズアセンブリをパッケージング層350の上面に装着した後、前記再
配線構造360は、相応にレンズアセンブリのホルダーに位置され、レンズモジュール
の信頼性及び安定性を提供することに有利であり、またレンズモジュールの後続のパッ
ケージングに便利である。
第2チップはんだパッド235及び電極245に電気的に接続される。
即ち、第1チップはんだパッド220は、パッケージング層350の上面に対向し、第
2チップはんだパッド235と電極245は、パッケージング層350の上面に露出さ
れるので、前記再配線構造360は、パッケージング層350内に位置され、第1チッ
プはんだパッド220に電気的に接続される導電性ピラー280と、第2チップはんだ
パッド235、電極245及び導電性ピラー280に位置され、第2チップはんだパッ
ド235、電極245及び導電性ピラー280に電気的に接続される相互接続線290
とを含む。
、感光性チップ200の外部電極と第2チップはんだパッド235及び電極245がパ
ッケージング層350の同じ側に位置されるようにして、感光性チップ200、周辺チ
ップ230と受動素子240との間の電気的接続を実現する。ここで、前記導電性ピラ
ー280は、前記感光性チップ200中の金属相互接続構造と電気的に接続されること
ができ、前記感光性チップ200を貫通し、また前記第1チップはんだパッド220と
直接に電気的に接続されることもできる。
ある。銅材料を選択することにより、再配線構造360の電気的に接続の信頼性及び導
電性を向上させることに有利であり、なお、導電性ピラー280と相互接続線290を
形成する工程の難易度を低減させることもできる。他の実施例において、前記導電性ピ
ラーと相互接続線の材料は、他の適用可能な導電性材料であることもできる。
ップでそれぞれ形成されるので、前記相互接続線290と導電性ピラー280、第2チ
ップはんだパッド235及び電極245との間は、メタルボンディング工程によりボン
ディングされる。
パッド235、電極245及び導電性ピラー280との間にそれぞれ位置される導電性
バンプ365をさらに含む。導電性バンプ365は、導電性ピラー280、第2チップ
はんだパッド235及び電極245から突出されて、相互接続線290と導電性ピラー
280、第2チップはんだパッド235及び電極245との間のボンディングの信頼性
を向上させる。
工程を選択して、各チップ及び素子と再配線構造360との間の信号伝送の信頼性を向
上させることに有利である。具体的に、前記導電性バンプ365の材料は、スズである
ことができる。他の実施例において、前記導電性バンプの材料は、相互接続線の材料と
同じであることができる。
PC基板510をさらに含む。前記FPC基板510は、回路基板を省略した場合、撮
像アセンブリ260とレンズアセンブリとの間の電気的接続を実現し、及びレンズモジ
ュールと他の素子との間の電気的接続を実現し、レンズモジュールは、FPC基板51
0を介して電子機器中の他の素子と電気的に接続させることができ、電子機器の正常な
撮像機能を実現する。
前記FPC基板510は、回路構造を備え、前記FPC基板510と再配線構造360
の電気的接続を実現する。
ンズモジュールが電子機器に適用される場合、前記コネクタ520は、当該電子機器の
マザーボードに電気的に接続されることにより、レンズモジュールと電子機器中の他の
素子との間の情報伝送を実現し、前記レンズモジュールのイメージ情報を前記電子機器
に送信する。具体的に、前記コネクタ520は、ゴールドフィンガーコネクタであるこ
とができる。
よって形成されることができ、他のパッケージング方法によってい形成されることもで
きる。本実施例に係る前記撮像アセンブリに対する具体的な説明は、第1実施例中の相
応する説明を参照することができ、本実施例は、ここでは繰り返して説明しない。
を示す。
と前述した実施例の異なる部分は、前記再配線構造360aは、導電性ピラー280a
及び相互接続線290aのみを含むことである。
されることができ、他のパッケージング方法で形成されることもできる。本実施例に係
る前記撮像アセンブリに対する具体的な説明は、第2実施例中の相応する説明を参照す
ることができ、本実施例は、ここでは繰り返して説明しない。
参照すると、本発明に係るレンズモジュールの一実施例の構造模式図を示す。
21の破線ブロックに示されたように)と、前記パッケージング層(図示せず)の上面
に装着され、前記感光性ユニット(図示せず)及び機能素子を囲む前記ホルダー535
を含むレンズアセンブリ530とを含み、前記レンズアセンブリ530は、前記感光性
チップ(図示せず)と機能素子(図示せず)とを電気的に接続させる。
着されるモーター(図示せず)、及び前記モーターに装着されるレンズシステム(図示
せず)を含み、前記ホルダー535を介して前記レンズアセンブリ530の組み立てを
実現して、レンズシステムが感光性ユニットの感光性パスに位置するようにする。
ンブリ530の厚さを減少し、それにより前記レンズモジュール600の合計の厚さを
減少する。
ー535の内部に設置され、与将機能素子を周辺マザーボードに装着する解決手段に比
べて、本実施例は、レンズモジュール600のサイズを減少させ、また電気的接続の距
離を短縮させることにより、レンズモジュール600の信号を伝送する速度を向上させ
、さらにレンズモジュール600の使用性能を向上させる(例えば、撮像速度、保存速
度を向上させる)。
た前記感光性ユニット、機能素子及び再配線構造はすべて前記ホルダー535の内部に
設置されて、前記感光性ユニット、機能素子及び再配線構造が保護されるようにし、前
記レンズモジュール600の信頼性及び安定性を提供することに有利であり、また前記
レンズモジュール600のイメージング品質を保証することができる。
いるので、前記レンズアセンブリ530中のモーターは、相応に前記FPC基板を介し
て撮像アセンブリ中のそれぞれのチップ及び素子と電気的接続を実現する。
を参照することができ、ここでは繰り返して説明しない。
と、本発明に係る電子機器の一実施例の構造模式図を示す。
600を含む。
700の撮像品質、撮像速度、保存速度を向上させる。
さらに、前記レンズモジュール600の合計の厚さが比較的小さいので、ユーザーの使
用体験を向上させることに有利である。
カメラなどの各種撮像機能を備える機器であることができる。
は、本発明の思想と範囲を逸脱しない前提の下で、すべて様々な変更や修正を行うこと
ができるので、本発明の保護範囲は、特許請求の範囲に限られた範囲を基準にしなけれ
ばならない。
Claims (27)
- 撮像アセンブリのパッケージング方法であって、
はんだパッドを備える感光性チップとフィルタを提供することと、
前記感光性チップのはんだパッドに対向する前記フィルタを前記感光性チップに装着
することと、
はんだパッドを備える機能素子と前記フィルタを仮ボンディングする第1キャリア基
板を提供し、前記機能素子のはんだパッドは、前記第1キャリア基板に対向することと
、
前記第1キャリア基板と機能素子を覆い、少なくとも前記感光性チップの一部側壁を
覆うパッケージング層を形成することと、
前記第1キャリア基板を除去することと、
前記第1キャリア基板を除去した後、前記フィルタに隣接する前記パッケージング層
の一側に再配線構造を形成して、前記感光性チップのはんだパッド及び前記機能素子の
はんだパッドを電気的に接続させることとを含む、
ことを特徴とする撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記再配線構造を形成するステップは、
前記パッケージング層内に導電性ピラーを形成して、前記感光性チップのはんだパッ
ドに電気的に接続させることと、
前記フィルタに隣接する前記パッケージング層の一側に相互接続線を形成し、前記導
電性ピラーと機能素子のはんだパッドを電気的に接続させることとを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記導電性ピラーを形成するステップは、
前記パッケージング層をパターン化し、前記感光性チップのはんだパッドを露出する
導電性ビアホールを、前記パッケージング層内に形成することと、
前記導電性ビアホール内に前記導電性ピラーを形成することとを含む、
ことを特徴とする請求項2に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記相互接続線を形成するステップは、
第2キャリア基板を提供し、前記第2キャリア基板に前記相互接続線を形成すること
を含み、
前記再配線構造を形成するステップは、
前記導電性ピラーと機能素子のはんだパッドに導電性バンプを形成することと、
前記相互接続線を前記導電性バンプにボンディングさせることとをさらに含む、
ことを特徴とする請求項2に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記相互接続線を形成するステップは、
第2キャリア基板を提供し、前記第2キャリア基板に前記相互接続線を形成すること
と、
前記再配線構造を形成するステップは、
前記相互接続線に導電性バンプを形成することと、
前記導電性バンプを、対応する前記導電性ピラーと機能素子のはんだパッドにボンデ
ィングさせることとをさらに含む、
ことを特徴とする請求項2に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記第2キャリア基板に前記相互接続線を形成するステップは、
前記第2キャリア基板に第1誘電体層を形成することと、
前記第1誘電体層をパターン化し、前記第1誘電体層内に第1相互接続トレンチを形
成することと、
前記第1相互接続トレンチ内に前記相互接続線を形成することと、
前記第1誘電体層を除去することとを含む、
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記相互接続線に導電性バンプを形成するステップは、
前記第2キャリア基板と相互接続線とを覆う第2誘電体層を形成することと、
前記第2誘電体層をパターン化し、前記第2誘電体層内に相互接続ビアホールを形成
して、前記相互接続線の一部を露出することと、
前記相互接続ビアホール内に前記導電性バンプを形成することと、
前記第2誘電体層を除去することとを含む、
ことを特徴とする請求項5に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記相互接続線を形成するステップは、
前記導電性ビアホールを形成した後、前記パッケージング層とフィルタとを覆う第3
誘電体層を形成し、前記第3誘電体層は前記導電性ビアホール内に位置することと、
前記第3誘電体層をパターン化し、前記導電性ビアホール内の第3誘電体層、及び前
記パッケージング層の頂部より高い部分領域の第3誘電体層を除去し、前記第3誘電体
層内に前記導電性ビアホールと連通する第2相互接続トレンチを形成して、前記機能素
子のはんだパッドを露出させることと、
前記導電性ビアホール内に前記導電性ピラーを形成するステップにおいて、前記第2
相互接続トレンチ内に前記相互接続線を形成することと、
前記第3誘電体層を除去することとを含む、
ことを特徴とする請求項3に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - レーザーエッチング工程により前記パッケージング層をパターン化する、
ことを特徴とする請求項3に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 電気メッキ工程により前記導電性ビアホール内に前記導電性ピラーを形成する、
ことを特徴とする請求項3に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - バンピング工程(Bumping Process)により前記導電性バンプを形成
する、
ことを特徴とする請求項4に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 電気メッキ工程により前記導電性ビアホール内に前記導電性ピラーを形成し、電気メ
ッキ工程により前記第2相互接続トレンチ内に前記相互接続線を形成する、
ことを特徴とする請求項8に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - メタルボンディング工程により前記ボンディングステップを行う、
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記フィルタを前記感光性チップに装着した後、前記第1キャリア基板に前記フィル
タを仮ボンディングし、
または、前記第1キャリア基板に前記フィルタを仮ボンディングした後、前記フィル
タを前記感光性チップに装着する、
ことを特徴とする請求項1に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記パッケージング層を形成することの前に、前記フィルタの側壁を覆う応力緩衝層
を形成することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記パッケージング層を形成するステップは、
前記第1キャリア基板、機能素子及び感光性チップを覆う材料パッケージング層を形
成することと、
前記材料パッケージング層に平坦化処理を行って、パッケージング層を形成し、前記
パッケージング層は、前記感光性ユニットと機能素子のうち最も高い方と面一にする、
ことを特徴とする請求項1に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記フィルタに隣接する前記パッケージング層の一側に再配線構造を形成した後、前
記再配線構造にFPC基板をボンディングすることをさらに含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 前記メタルボンディング工程は、その工程温度が250℃以下であり、その工程圧力
が200kPa以上であり、その工程時間が30min以上である、
ことを特徴とする請求項13に記載の撮像アセンブリのパッケージング方法。 - 撮像アセンブリであって、
パッケージング層、前記パッケージング層に嵌め込まれた感光性ユニット、機能素子
及び再配線構造を含み、
前記感光性ユニットは、感光性チップ及び前記感光性チップに装着されたフィルタを
含み、前記パッケージング層の上面に前記フィルタ及び機能素子を露出し、前記パッケ
ージング層の底面は、前記機能素子より高く、前記パッケージング層は、少なくとも前
記感光性チップの一部側壁を覆い、前記感光性チップ及び機能素子はいずれもはんだパ
ッドを備え、前記感光性チップのはんだパッドは、前記パッケージング層の上面に対向
し、前記機能素子のはんだパッドは、前記パッケージング層の上面に露出され、
前記再配線構造は、前記フィルタに隣接する前記パッケージング層の一側に位置し、
前記はんだパッドに電気的に接続される、
ことを特徴とする前記撮像アセンブリ。 - 前記再配線構造は、
前記パッケージング層内に位置し、前記感光性チップのはんだパッドに電気的に接続
される導電性ピラーと、
前記機能素子のはんだパッドと前記導電性ピラーに位置し、前記機能素子のはんだパ
ッドと前記導電性ピラーとを電気的に接続する相互接続線とを含む、
ことを特徴とする請求項19に記載の撮像アセンブリ。 - 前記再配線構造は、前記相互接続線と前記機能素子のはんだパッド及び導電性ピラー
との間にそれぞれ位置する導電性バンプをさらに含む、
ことを特徴とする請求項20に記載の撮像アセンブリ。 - 前記パッケージング層の底面は、前記感光性ユニットと機能素子のうちの最も高い方
と面一にする、
ことを特徴とする請求項19に記載の撮像アセンブリ。 - 前記フィルタの側壁と前記パッケージング層との間に位置する応力緩衝層をさらに含
む、
ことを特徴とする請求項19に記載の撮像アセンブリ。 - 前記機能素子は、周辺チップ及び受動素子のうちの少なくとも1つを含み、前記周辺
チップは、デジタルシグナルプロセッサチップ及びメモリチップのうちの1つまたは2
つを含む、
ことを特徴とする請求項19に記載の撮像アセンブリ。 - 再配線構造に位置するFPC基板をさらに含む、
ことを特徴とする請求項19に記載の撮像アセンブリ。 - レンズモジュールであって、
請求項19〜25のいずれか一項に記載の撮像アセンブリと、
前記パッケージング層の上面に装着され、前記感光性ユニット及び機能素子を囲むホ
ルダーを含み、前記感光性チップ及び機能素子に電気的に接続されるレンズアセンブリ
とを含む、
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 電子機器であって、
請求項26に記載のレンズモジュールを含む、
ことを特徴とする電子機器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811385636.7A CN111199984B (zh) | 2018-11-20 | 2018-11-20 | 摄像组件及其封装方法、镜头模组、电子设备 |
CN201811385636.7 | 2018-11-20 | ||
PCT/CN2018/119987 WO2020103214A1 (zh) | 2018-11-20 | 2018-12-10 | 摄像组件及其封装方法、镜头模组、电子设备 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021511654A true JP2021511654A (ja) | 2021-05-06 |
JP6993726B2 JP6993726B2 (ja) | 2022-01-14 |
Family
ID=70746953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019568373A Active JP6993726B2 (ja) | 2018-11-20 | 2018-12-10 | 撮像アセンブリ及びそのパッケージング方法、レンズモジュール、電子機器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6993726B2 (ja) |
KR (1) | KR102249873B1 (ja) |
CN (1) | CN111199984B (ja) |
WO (1) | WO2020103214A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102494691B1 (ko) * | 2020-09-11 | 2023-02-02 | 주식회사 옵트론텍 | 광학 필터 캐리어, 광학 필터를 갖는 이미지 센서 패키지, 및 그것을 제조하는 방법 |
CN114698259B (zh) * | 2020-12-30 | 2024-05-28 | 中芯集成电路(宁波)有限公司 | 射频前端模组板级系统封装结构及其封装方法 |
KR20230007758A (ko) * | 2021-07-06 | 2023-01-13 | 삼성전자주식회사 | 카메라 모듈을 포함하는 전자 장치 |
KR20230040823A (ko) * | 2021-09-16 | 2023-03-23 | 엘지이노텍 주식회사 | 카메라 모듈 및 이를 포함하는 광학기기 |
TWI780979B (zh) * | 2021-11-10 | 2022-10-11 | 力晶積成電子製造股份有限公司 | 指紋感測模組的製造方法 |
CN114220826A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-03-22 | 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司 | 芯片封装结构和芯片封装方法 |
CN117692732A (zh) * | 2022-08-24 | 2024-03-12 | 宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司 | 成像模组及成像模组的制备方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006005612A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 撮像モジュール |
JP2006147921A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Akita Denshi Systems:Kk | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2007141957A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
CN101419921A (zh) * | 2007-10-24 | 2009-04-29 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种图像传感器的芯片尺度封装方法 |
JP2013528318A (ja) * | 2010-06-11 | 2013-07-08 | 日本電気株式会社 | 機能素子の再配線方法 |
CN103456754A (zh) * | 2012-05-31 | 2013-12-18 | 意法半导体有限公司 | 晶片级光学传感器封装和低剖面照相机模块以及制造方法 |
US20140110565A1 (en) * | 2012-10-22 | 2014-04-24 | Stmicroelectronics Asia Pacific Pte Ltd (Singapore) | Image sensor device with ir filter and related methods |
CN104465575A (zh) * | 2013-09-17 | 2015-03-25 | 日月光半导体制造股份有限公司 | 半导体封装及其制造方法 |
CN107507821A (zh) * | 2017-09-05 | 2017-12-22 | 中芯长电半导体(江阴)有限公司 | 集成图像传感器芯片及逻辑芯片的封装结构及封装方法 |
US20180294299A1 (en) * | 2017-04-07 | 2018-10-11 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Fan-out sensor package and optical fingerprint sensor module including the same |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000235989A (ja) * | 1999-02-16 | 2000-08-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | バンプ付き回路基板の製造方法 |
JP2002170921A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP4158714B2 (ja) * | 2004-02-06 | 2008-10-01 | 松下電器産業株式会社 | 電子部品実装済基板の製造方法 |
JP5215587B2 (ja) * | 2007-04-27 | 2013-06-19 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置 |
JP2009176894A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Panasonic Corp | 光学半導体装置 |
TWI608244B (zh) * | 2015-08-07 | 2017-12-11 | 佳能股份有限公司 | 光電轉換設備、測距裝置、及資訊處理系統 |
CN206042171U (zh) * | 2016-10-08 | 2017-03-22 | 杭州海康威视数字技术股份有限公司 | 一种分光机构及其安装座 |
CN107343128A (zh) * | 2017-08-16 | 2017-11-10 | 信利光电股份有限公司 | 一种共用感光芯片的多镜头摄像头模组以及电子设备 |
CN207053633U (zh) * | 2017-08-16 | 2018-02-27 | 信利光电股份有限公司 | 一种摄像模组及摄像装置 |
-
2018
- 2018-11-20 CN CN201811385636.7A patent/CN111199984B/zh active Active
- 2018-12-10 JP JP2019568373A patent/JP6993726B2/ja active Active
- 2018-12-10 KR KR1020197036797A patent/KR102249873B1/ko active IP Right Grant
- 2018-12-10 WO PCT/CN2018/119987 patent/WO2020103214A1/zh active Application Filing
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006005612A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 撮像モジュール |
JP2006147921A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Akita Denshi Systems:Kk | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2007141957A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
CN101419921A (zh) * | 2007-10-24 | 2009-04-29 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种图像传感器的芯片尺度封装方法 |
JP2013528318A (ja) * | 2010-06-11 | 2013-07-08 | 日本電気株式会社 | 機能素子の再配線方法 |
CN103456754A (zh) * | 2012-05-31 | 2013-12-18 | 意法半导体有限公司 | 晶片级光学传感器封装和低剖面照相机模块以及制造方法 |
US20140110565A1 (en) * | 2012-10-22 | 2014-04-24 | Stmicroelectronics Asia Pacific Pte Ltd (Singapore) | Image sensor device with ir filter and related methods |
CN104465575A (zh) * | 2013-09-17 | 2015-03-25 | 日月光半导体制造股份有限公司 | 半导体封装及其制造方法 |
US20180294299A1 (en) * | 2017-04-07 | 2018-10-11 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Fan-out sensor package and optical fingerprint sensor module including the same |
CN107507821A (zh) * | 2017-09-05 | 2017-12-22 | 中芯长电半导体(江阴)有限公司 | 集成图像传感器芯片及逻辑芯片的封装结构及封装方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200063102A (ko) | 2020-06-04 |
JP6993726B2 (ja) | 2022-01-14 |
WO2020103214A1 (zh) | 2020-05-28 |
KR102249873B1 (ko) | 2021-05-12 |
CN111199984B (zh) | 2022-12-02 |
CN111199984A (zh) | 2020-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6993726B2 (ja) | 撮像アセンブリ及びそのパッケージング方法、レンズモジュール、電子機器 | |
CN109274876B (zh) | 感光组件及其封装方法、镜头模组、电子设备 | |
JP6993725B2 (ja) | 撮像アセンブリおよびそのパッケージング方法、レンズモジュール、電子機器 | |
US11430825B2 (en) | Image capturing assembly, lens module and electronic device | |
US20200161356A1 (en) | Camera assembly and packaging method, lens module and electronic device | |
JP7004335B2 (ja) | 撮像アセンブリ及びそのパッケージング方法、レンズモジュール、電子機器 | |
US11296141B2 (en) | Image capturing assembly and packaging method thereof, lens module, and electronic device | |
JP7004334B2 (ja) | 撮像アセンブリおよびそのパッケージング方法、レンズモジュール、電子機器 | |
US11171166B2 (en) | Camera assembly and packaging method thereof, lens module, electronic device | |
JP6993724B2 (ja) | 撮影アセンブリおよびそのパッケージング方法、レンズモジュール、電子機器 | |
CN115020501A (zh) | 芯片封装方法及封装结构 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210406 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210622 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211203 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6993726 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |